JPH04154832A - フェノール系樹脂の製造方法 - Google Patents

フェノール系樹脂の製造方法

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JPH04154832A
JPH04154832A JP27790690A JP27790690A JPH04154832A JP H04154832 A JPH04154832 A JP H04154832A JP 27790690 A JP27790690 A JP 27790690A JP 27790690 A JP27790690 A JP 27790690A JP H04154832 A JPH04154832 A JP H04154832A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はフェノール系樹脂の製造方法に関するものであ
る。
本発明のフェノール系樹脂は、電気的特性、耐熱性等に
優れ、成形材、摩擦材、封止材、塗料等の基材として有
用される。
〔従来の技術〕
フェノール化合物とアラルキル化合物の反応生成物であ
るフェノール系樹脂の製造方法は従来より多数の方法が
開示されている。
例えば、特公昭47−15111号公報及び、特公昭5
2−14280号公報では、 フェノール、p−キシリレングリコールジメチルエーテ
ル(以下PXDMと略称する)および触媒をコンデンサ
ー付き反応フラスコに一括して仕込み、混合物をかきま
ぜながら130℃〜200℃で一定時間反応させ、後処
理を行いフェノール系樹脂が得られている。
熱可塑或いは熱硬化性樹脂の製造に於いては、とりわけ
、重縮合系の高分子の製造に際しては、反応化合物のモ
ル比が生成物の物性、即ち分子量、粘度等を規制する大
きな要因であることは公知である。
しかし、上記特公昭47−15111号公報、特公昭5
2−14280号公報等の原料−括仕込みの製造方法で
は、留出するメタノールと共に原料フェノール及びPX
DMの一部が系外に抜き出されてしまうためにモル比管
理を充分行えない欠点がある。
また留出メタノールの純度も一定に保ごとも出来ない。
さらに安全且つ効率的な反応を行うことができない。
即ち、反応は発熱を伴うため、−旦反応が始まるとPχ
D’Mが完全に無くなるまで激しく発熱が続く。反応に
より発生するメタノールは反応系では反応温度が高いた
めガス状になる。このガスには反応温度、反応液の組成
の影響によって濃度の規制を受ける多量のフェノールガ
スと少量のPXDMを含んでいる。反応条件にもよるが
、通常メタノール中のフェノール量は重量で数%から数
lO%に及ぶ。PXDM量はフェノールのおよそ10%
である。特公昭52−14280号公報の実施例ではコ
ンデンサーの記載はあるものの、その効果には全く触れ
られていない。また系外に抜き出されたメタノール中の
フェノール量も不明である。そのため、有効に反応しポ
リマー成分となった反応原料のモル比、すなわち、(仕
込みフェノールのモル数−メタノールと一緒に抜は出た
フェノールのモル数)/(pxDMの仕込みモル数−メ
タノールと一緒に抜は出たPXDMのモル数)が全く不
明である。
本反応においては、仕込みモル比はあまり重要ではなく
、反応系のモル比が最も重要であり、製品の物性を決定
してしまう要素である。反応途中に系外に抜き出される
原料はその後の反応には関与しない。
また、特公昭6]−15882号公報でも同様な製造方
法が開示されている。前記のフェノール系樹脂の硬化特
性を改良するための製造方法であり、フェノール化合物
、アラルキル化合物、触媒等の原料は殆ど同じである。
硬化特性改良のためアルカリ土類金属の酸化物、水酸化
物、炭酸塩を前記原料と共存させ混合、反応させること
が特徴づけられている。
一方原料以外の特徴としては、反応成分の添加順序、添
加方法に関して、反応の進行に伴い例えば、アラルキル
化合物を2回以上に分割して添加する方法が提唱されて
いる。この方法で製造すれば原料を一括で仕込んだ時に
比べ、反応温度が安定し、留出アルコール中のフェノー
ル化合物の量も安定するとは考えられるが、反応系のモ
ル比を管理するには未だ不充分である。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的はフェノール系樹脂を製造するに際し、反
応系のモル比を安定させ、反応速度を安定させて、品質
の一定したフェノール系樹脂を収率良く、安全な製造方
法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは上記課題につき鋭意検討を重ねた結果、フ
ェノール化合物、触媒を仕込み、所望する反応温度に昇
温させた反応器中ヘアラルキルエーテルを連続的に装入
して反応温度を安定させること、且つ副生するアルコー
ルを主成分とし、原料のフェノール化合物、およびアラ
ルキルエーテルを含有する蒸発物を凝縮器で副生アルコ
ールの沸点〜150℃の温度で管理し、発生してきた副
生アルコール中に含まれる原料成分を分縮させて反応系
に戻し、凝縮されなかった副生アルコール分を反応系外
に抜き出す方法を見出し本発明を完成した。
即ち本発明は、フェノール化合物とアラルキルエーテル
を反応させるに際し、予め反応器にフェノール化合物と
触媒を装入し、反応させる温度に昇温した後アラルキル
化合物をを連続的に装入して反応させること及び、反応
中副生ずるアルコールを主成分とする蒸発物を、その副
生アルコールの沸点〜150℃の温度範囲で凝縮させ反
応系へ戻すことを特徴とするフェノール系樹脂の製造方
法である。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明で使用するフェノール化合物は、芳香核に結合し
た1個ないし3個、好ましくは1個ないし2個の水酸基
を含有するが、芳香核の炭素原子に結合した置換基が全
体で3個より多くない芳香族化合物またはそれらの混合
物である。例えば、フェノール、0−クレゾール、トク
レゾール、p−クレゾール、2.6−キシレノール、レ
ゾルシン、カテコール、p−エチルフェノール、p−t
ett−ブチルフェノール、p−フェニルフェノール、
p−アミノフェノール、ピロガロール、α−ナフトール
、β−ナフトール等が挙げられる。特に好ましいフェノ
ール化合物はフェノール、0−クレゾール等である。
本発明で使用するアラルキルエーテルは、下記一般式(
1)で表される。
(上式中、Rは炭素数が1〜6のアルキル基を示し、n
は1または2の整数である。) 例えば、α、α“−ジメトキシ−p−キシレン(PXD
M)、α、α゛−ジェトキシーp−キシレン、α1α9
−ジメトキシ−0−キシレン、α、α゛−ジメトキシー
トキシレン、α、α、α1−トリメトキシーp−キシレ
ン等である。特に好ましいアラルキルエーテルはPXD
Mである。
また工業的に得られるPXDMには反応性不純物として
α−メトキシ−p−キシレン、α、α−ジメトキシーp
−キシレン、p−メチルベンズアルデヒド等を含有して
いるが少量なら問題なく使用できる。
本発明の方法においてフェノール化合物のアラルキルエ
ーテルに対する使用比率は広範囲に変化させることがで
きるが、好ましくは反応系の最終モル比が1.3以上で
実施される。1.3未満ではゲル化する為である。
本発明の方法においては、上記原料成分のほかに、触媒
として、塩化第二錫、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第二
銅、硫酸第二銅、硫酸第二水銀、硫酸第一水銀、塩化第
二水銀、塩化第一水銀、硫酸銀、塩化銀、硫酸水素ナト
リウム、硫酸等の無機化合物、モノエチル硫酸、ジエチ
ル硫酸、ジメチル硫酸、p−トルエンスルホン酸、p−
フェノールスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機スル
ホン酸類を用いることが好ましく、反応には少なくとも
一種類が使用される。特に好ましい触媒は、塩化第二錫
、ジエチル硫酸、p−フェノールスルホン酸である。
触媒の使用量に特に制限はなく、フェノール化合物とア
ラルキルエーテルの重量和の0.001〜5重量%の範
囲で使用されるが、安全且つ速やかに反応を完結させる
には0.01〜0.5%の範囲が好ましい。
本発明の方法を実施する際の特徴は、予め最適の反応温
度としたフェノール化合物と触媒の混合液中にアラルキ
ルエーテルを連続的に装入、反応させることである。ま
た、多量のフェノール化合物と少量のアラルキルエーテ
ルを伴って発生する副生アルコールを凝縮器で凝縮し大
部分のフェノール化合物とアラルキルエーテルを反応系
に還流させることである。
反応温度は通常120〜200℃の範囲で行われるが好
ましくは130〜160″Cである。120″C以下で
は極端に反応が遅くなり、200℃以上では反応中に発
生するアルコールの温度が高く、圧力も高くなり凝縮器
の負担が増すとともに安全な反応ができなくなる。
また、反応中発生ずる副生アルコールを主成分とする蒸
発物を凝縮器で原料物質を凝縮させ反応系に還流させる
(以下、分縮と略称)温度は副生アルコールの沸点〜1
50″Cの範囲であるが、好ましくは65〜100℃で
ある。最も好ましい温度は発生する副生アルコールの沸
点+5℃以内の温度である。副生アルコールの沸点未満
では副生アルコールの蓄積がおこり、反応温度の低下、
未反応物の蓄積をきたす。150℃を超えると高濃度の
フェノール化合物を含有したアルコールが反応系外に抜
き出されてしまう。
アラルキルエーテルの連続装入時間は反応のスケール、
凝縮器の能力にもよるが、通常30分〜10時間である
。好ましくは、1〜5時間である。30分未満では、発
生する副生アルコールを主成分とする蒸発物を分縮させ
ることが困難となる。また未反応のアラルキルエーテル
が多くなり、実質的に熟成反応が長時間必要となる。1
0時間以上では特に問題はないが生産性が悪く現実的で
はない。
反応は加圧、常圧、減圧のいずれでも良いが、常圧か1
000m100O以下の僅かな加圧が好ましい。
減圧、加圧下の反応では、反応条件を安定させることが
困難となる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を説明する。
以下に示す濃度(%)はすべて重量パーセントである。
実施例1〜5、及び比較例1において使用したPXDM
の純度は99.0%で、不純物はα、α−ジメトキシー
p−キシレンが0.8%、α、α、α゛−トリメトキシ
ーp−キシレンが0.2%である。実施例6〜9はガス
クロマトグラフ分析で実質的に不純物の無いものを使用
した。
実施例1 94.1g(1モル)のフェノールと0.26gのジエ
チル硫酸を、70℃の冷却水を通した凝縮器を備えた反
応器に仕込み攪拌した。オイルハスに浸けて昇温し、液
温が140℃に達したところでPXDMの装入を開始し
た。液温を140 ’Cに調節しながら、118g(0
,71モル)のPXDMを連続的に2時間かけて装入し
た後、更に140℃で2時間熟成反応を行った。次いで
液温を160℃に昇温しで、減圧下で未反応のフェノー
ルを除去し、樹脂148g8得た。
又留出メタノールは41gであった。得られた樹脂の軟
化点、遊離フェノールの含有量、留出メタノール中のフ
ェノールの含有量及び反応系の終了モル比を第1表に示
す。
実施例2 凝縮器の冷却水温だけを90℃に変更した他は実施例1
と同様に実施した。結果を第1表に示す。
実施例3 615g(6,536モル)のフェノールと0.72g
のジエチル硫酸を、80″Cの冷却水を通した凝縮器を
備えた反応器に仕込み攪拌した。オイルハスに浸けて昇
温し、液温が145℃に達したところでPXDMの装入
を開始した。液温を145℃に調節しながら、800g
(4,813モル> (D P X D Mを連続的に
3時間かけて装入した後、更に145℃で90分熟成反
応を行った。次いで液温を160℃に昇温しで、減圧下
で未反応フェノールを除去し、樹脂1000gを得た。
又留出メタノールは304gであった。得られた樹脂の
軟化点、遊離フェノールの含有量、留出メタノール中の
フェノールの含有量及び反応系の終了モル比を第1表に
示す。
実施例4 触媒としてジエチル硫酸のかわりにp−フェノールスル
ホン酸を使用した他は実施例3と同様に実施した。結果
を第1表に示す。
実施例5 触媒としてジエチル硫酸のかわりに硫酸水素ナトリウム
を使用した他は実施例3と同様に実施した。結果を第1
表にしめす。
実施例6 615g(6,536モル)のフェノールと0.72g
のジエチル硫酸を、80゛Cの冷却水を通した凝縮器を
備えた反応器に仕込み攪拌した。オイルバスに浸けて昇
温し、液温が145℃に達したところでPXDMの装入
を開始した。液温を145℃に調節しながら750g(
4,513モル)のPXDMを連続的に3時間かけて装
入した後、更に145“Cで90分熟成反応を行った。
次いで液温を160“Cに昇温して、減圧下で未反応の
フェノールを除去し、樹脂940gを得た。
又留出メタノールは280gであった。得られた樹脂の
軟化点、遊離フェノールの含有量、留出メタノール中の
フェノールの含有量及び反応系の終了モル比を第1表に
示す。
実施例7 615g (6,536モル)のフェノールと0.36
gのジエチル硫酸を、80℃の冷却水を通した凝縮器を
備えた反応器に仕込み攪拌した。オイルバスに浸けて昇
温し、液温か150℃に達したところでPXDMの装入
を開始した。液温を150℃に調節しながら543g(
3,267モル)のPXDMを連続的に4時間かけて装
入した後、更に150℃で2時間熟成反応を行った。
次いで液温を160℃に昇温して、減圧下で未反応のフ
ェノールを除去し、樹脂705gを得た。
又留出メタノールは200gであった。得られた樹脂の
軟化点、遊離フェノールの含有量、留出メタノール中の
フェノールの含有量及び反応系の終了モル比を第1表に
示す。
実施例8 500g(5,313モル)のフェノールと3.OOg
のジエチル硫酸を、80℃の冷却水を通した凝縮器を備
えた反応器に仕込み攪拌した。オイルバスに浸けて昇温
し、液温が135℃に達したところでPXDMの装入を
開始した。液温を135℃に調節しながら181g(1
,089モル)のPXDMを連続的に1時間がけて装入
した後、1時間そのまま放置した。その後362g(2
,178モル)のPXDMを2時間かけて追加連続装入
した。更に135℃で1時間熟成反応を行った。
次いで液温を160℃に昇温しで、減圧下で未反応のフ
ェノールを除去し、樹脂696gを得た。
又留出メタノールは200gであった。得られた樹脂の
軟化点、遊離フェノールの含有量、留出メタノール中の
フェノールの含有量及び反応系の終了モル比を第1表に
示す。
実施例9 183.8g(1,7モル)の0−クレゾールと0.3
9gのジエチル硫酸を、80℃の冷却水を通した凝縮器
を備えた反応器に仕込み攪拌した。オイルバスに浸けて
昇温し、液温が140℃に達したところでPXDMの装
入を開始した。液温を140℃に調節しながら204.
1g(1,23モル)のPXDMを連続的に3時間かけ
て装入した後、更に140″Cで2時間熟成反応を行っ
た。次いで液温を170℃に昇温しで、減圧下で未反応
のクレゾールを除去し、軟化点92℃の樹脂287gを
得た。又留出メタノールは85.5gであった。得られ
た樹脂の軟化点、遊離クレゾールの含有量、留出メタノ
ール中のクレゾールの含有量及び反応系の終了モル比を
第1表に示す。
実施例IO PXDMの変わりにトキシリレングリコールジメチルエ
ーテル(MXDM)を使用した他は実施例1と同様に実
施し、樹脂147gを得た。又留出メタノールは39g
であった。得られた樹脂の軟化点、遊離フェノールの含
有量、留出メタノール中のフェノールの含有量及び反応
系の終了モル比を第1表に示す。
比較例1 94.1g(1モル)のフェノールと0.26gのジエ
チ−15へ 弗硫酸を、空冷凝縮器を備えた反応器に仕込み攪拌した
。オイルバスに浸けて昇温し液温が140℃に達したと
ころでPXDMの装入を開始した。液温を140“Cに
調節しながら、118g(0,71モル)のPXDMを
連続的に2時間かけて装入した。装入終了10分後ゲル
化し目的とする樹脂が得られなかった。その時点までに
留出したメタノール中のフェノール濃度は15.1%で
あり、反応系の終了モル比は1.29未満であった。
〔発明の効果〕
本発明による効果は大きく、反応系のモル比を厳密にコ
ントロール出来、従って所望の品質の樹脂を安定して得
ることができる。
また、反応温度の制御が容易となり暴走反応を回避でき
る。特に何らかの事情で反応を停止したい場合、途中で
止めたい場合アラルキルエーテルの装入を中止すること
のみで目的は達せられる。
停止後再び反応を行う場合もアラルキルエーテルを装入
することで容易に再開出来る。
更には、フェノール化合物及びアラルキルニーチルが反
応系外に抜は出る量が少ないため仕込んだ量が有効に使
われる。
これらの効果以外にも、留出アルコールの高純度化が可
能であり、高純度で得られたアルコールは各種の溶剤と
して使用可能であり、また、該アラルキルエーテルの原
料としても使用できる。また反応条件が容易にコントロ
ール出来ることから1バツチ当たりの生産量が大幅に増
加できる。
本発明の方法で得られる樹脂は通常のフェノール樹脂(
ノボラック樹脂)に比べ耐熱性、耐摩耗−性、耐薬品性
、電気特性等に優れ広範囲の分野に使用できる。特に電
気、電子材料、摩擦材、成形材、ゴム配合用等としては
フェノール樹脂と全く同し硬化方法で使用できる性能を
持った熱硬化性樹脂である。
手続主甫正書(自発) 平成2年12月2i日 特許庁長官 植 松  敏  殿 1、事件の表示 平成2年特許願第277906号 26発明の名称 フェノール系樹脂の製造方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京都千代田区霞が間圧丁目2番5号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第7頁第10〜13行目に[し、nは1ま
たは2の整数である。)」とあるのを[ (−L式中、Rは炭素数が1〜6のアルキル基を示し、
n、mは1または2の整数であり、nが1の時mは2で
あり、nが2の時mは1である=)」と訂正する。
(2)明細書第11頁第2行目の記載[減圧、加圧下の
反応では、」とあるのを[著しい減圧、加jL下の反応
では、」と訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フェノール化合物とアラルキルエーテルを反応させ
    るに際し、予め反応器にフェノール化合物と触媒を装入
    し、反応させる温度に昇温した後アラルキルエーテルを
    連続的に装入して反応させることを特徴とするフェノー
    ル系樹脂の製造方法。 2、請求項1記載の製造方法において、反応中副生する
    アルコールを主成分とする蒸発物を、その副生アルコー
    ルの沸点〜150℃の温度範囲で凝縮させ反応系へ戻す
    ことを特徴とする請求項1記載のフェノール系樹脂の製
    造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6115882A (ja) * 1984-07-02 1986-01-23 Hokuriku Seiyaku Co Ltd N−アシル−2,6−キシリジン誘導体

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6115882A (ja) * 1984-07-02 1986-01-23 Hokuriku Seiyaku Co Ltd N−アシル−2,6−キシリジン誘導体

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