JPH04152125A - 写真感光材料用支持体の製造方法 - Google Patents

写真感光材料用支持体の製造方法

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JPH04152125A
JPH04152125A JP27529390A JP27529390A JPH04152125A JP H04152125 A JPH04152125 A JP H04152125A JP 27529390 A JP27529390 A JP 27529390A JP 27529390 A JP27529390 A JP 27529390A JP H04152125 A JPH04152125 A JP H04152125A
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瀬戸 國平
Hiroshi Nakajima
浩 中嶋
Tadahiro Tsujimoto
忠宏 辻本
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は写真感光材料用支持体の製造方法に関し、さら
に詳しくは溶液流延製膜法におけるフィルムの平面性を
改良する製造方法である。
〔従来の技術〕
セルローストリアセテートフィルムの製膜方法の一つに
バンドまたはドラムの流延面上にドープを流延して剥ぎ
取り、これを乾燥する溶液流延製膜法がある。この溶液
流延製膜法の乾燥方法としては、一般的には第4図に示
すように流延面3から剥ぎ取ったフィルム1 (以後、
ウェブという)を乾燥室5内に設けられた多数のロール
7の間に掛は渡して、その間を移動する間に(ロール搬
送方式という)熱風6、赤外線などで乾燥する方法があ
る(例えば米国特許第2.319.053号明細書参照
)、又該ウェブの両側縁部をテンタークリップなどで保
持しながら延伸させることなく搬送しつつ乾燥する方法
(特開昭62−46625号、特開昭62−46626
号各公報)がある。
これは流延面から剥ぎ取ったウェブの残留溶媒が非常に
多く、直接ロール搬送するとロール表面の接触によりフ
ィルムの表面が損なわれる場合に効果がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、溶液流延製膜法は製膜速度が遅いことが
大きな問題点になっており、乾燥工程においても乾燥速
度を上げることは工業上大きな効果である。そのために
流延面上から剥ぎ取ったウェブをできるだけ高温で乾燥
するために、セルローストリアセテートフィルムの場合
流延面からの剥ぎ取りを早めるためのゲル化剤、例えば
ブタノールなどの高沸点溶剤を含ませたり(米国特許第
2.607,704号、米国特許第2,739゜069
号各明細書など)、さらに乾燥温度を高くしたりする。
ところが、高温になるに従ってウェブの弾性率が低下し
て、搬送過程においてその平面性を良好に保つことは困
難になる。主な平面性故障は搬送方向に発生する小さな
シワである。そのピッチは0.3〜4.0閣、凹凸の高
さは1〜6μmである。このフィルムに写真乳剤を塗布
すると乳剤層の厚みムラ(塗布ムラ)を生して重大な故
障となる。
又更に、写真乳荊塗布後、スリット及び穿孔などの加工
を行うが、その際、加工端面に加工屑が比較的多く発生
することになる。この加工屑はフィルム表面などに付着
しているいろ故障を引き起こす。この加工屑の出易さに
対しては刃の切れ味をよくする必要があり、又フィルム
の物理的性質としては加工時にフィルムが脆性破壊しに
くい性質をもたせることも重要である。
本発明の目的は上記問題点に対処し、 第一に、高温乾燥による高速製膜してもフィルムの平面
性が損なわれないセルローストリアセテートフィルムの
製造方法を提供することである。
第二に、高温、高速で製膜してもフィルムの加工屑によ
る問題が少ないセルローストリアセテートフィルムの製
造方法を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは鋭意研究の結果、セルローストリアセテー
トフィルムの溶液製膜工程において、その最終工程でフ
ィルムを幅方向に2%〜6%延伸させることによって達
成されることを見いだした。
即ち、本発明の上記目的は セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製膜方法
において、残留溶媒が10%以下となる乾燥の最終工程
で、該フィルムを幅方向に2%〜6%延伸させることを
特徴とする写真感光材料用支持体の製造方法。
によって達成される。
本発明の一実施態様を第1図に示す。セルローストリア
セテートドープが流延口2から流延面3上に流延され、
それによって形成されたフィルム1が剥ぎ取り部4で剥
ぎ取られ、乾燥室5内のロール7間を走行する間に熱風
6により乾燥される。
次いで写真感光材料用の下塗を行い、さらに乾燥室で乾
燥する。残留溶媒が約10%以下の時点で幅規制装置9
に導き幅方向に2%〜6%延伸させ、さらに緊張状態の
まま冷却した後巻取られる。
幅規制装置9としてはポリエステルフィルムなどの延伸
に使用されるテンターを用いることができる。テンター
の機構の例を第2図に示す。エンドレスの二組のチェー
ン15がいくつかの節を持つ中方向に可動なレール16
に組み込まれている。
各チェーンにはウェブの両側縁部を固持するために第3
図に示す様なりリンズ11が列状にとりつけられており
、ウェブの両縁部を固定アゴ12の上にシュー14で押
さえている。スプロケット17を駆動することによりウ
ェブを連続的に巾方向に延伸させることが出来る。
本発明の好ましい実施態様は、幅規制装置9に入るウェ
ブの残留溶媒が10重量%以下、好ましくは2重量%以
下である。とくに下限はない。
10重量%以上では最終製品中の残留溶媒が多くなり好
ましくない。残留溶媒は次ぎのように定義する。
残留溶媒41%) = (A−B) x 100/AA
=試料フイルムの重量(g) B:110°C11時間、熱風乾燥後の試料フィルムの
重量(g) 巾規制装置9に入る前の残留溶媒量のコントロールは熱
風6の温度及び風量で行うことが出来る。
流延速度を増加させると乾燥室内を通過させるときの乾
燥時間が短縮するので、残留溶媒量は増加する方向とな
る。幅規制装置9の延伸温度は115°C〜145°C
1好ましくは125℃〜135°Cである。115°C
以下ではフィルムが破断しやすく、145 ”C以上で
はウェブ中の可塑剤が幅規制装置9内に多量に揮発して
問題を引き起こす。
幅方向延伸倍率は2%〜6%、好ましくは3%〜5%で
ある。延伸倍率2%以下では平面性の改良が充分でなく
、6%以上ではフィルムを加工する際、加工屑の発生が
多くなり問題を生ずる。
〔作  用〕
セルローストリアセテートフィルムの乾燥工程で高温乾
燥するとウェブの表面に小さなシワが発生する。その主
な原因を推定すると、高温乾燥によってウェブの弾性率
が低下して搬送方向に作用する搬送テンションによって
その方向に延伸されやすくなる。この時ウェブをミクロ
的に見れば膜厚みの不均一、乾燥の不均一がら弾性率の
不均一な分布が発生していると考えられる。一方、幅方
向には圧縮力が働くのでウェブに小さな不均一な挫屈が
生じこれが平面性を悪化させているものと考えられる。
従って、平面性が悪化したウェブを幅方向に加熱延伸し
、さらに冷却固定すれば平面性を回復することができる
。しかし過度に延伸するとウェブの高分子面配向度が強
くなり、加工時に屑が発生しやすくなるので好ましくな
い。
〔実 施 例] セルローストリアセテート21重量%、トリフェニルホ
スフェート3重量%、メチレンクロライド65重量%、
メタノール7重量%、及びブタノール4重量%からなる
ドープを調製し、第1図に示すようなバンド流延機で流
延した。ロール搬送方式の乾燥工程の途中では下塗機を
用いて写真乳剤用の下塗を行った。乾燥温度は最高14
0°Cである。最終工程の幅規制装置(テンター)に入
る直前のウェブの残留溶媒は2%であった。又別に流延
速度を巾規制装置に入る直前の残留溶媒を7%及び比較
例として12%になるように調節したサンプルを作製し
た。テンターにおける延伸温度延伸倍率は第1表に記載
した条件にして約120μmのセルローストリアセテー
トフィルムを得た。
更に比較例としては、テンターを通さず直接巻取ったも
のを作製した。
次いで各上記フィルムの平面性評価を行った。
測定装置は株式会社キーエンス製のレーザー変位計を用
いた0次ぎに写真乳剤を塗布して塗布ムラを評価した。
評価方法は現像処理後、透過光を用いて色ムラを肉眼で
判定した。更に、これらのフィルムをスリッター機で3
5閣幅にスリットし、さらに穿孔機で穿孔して加工屑の
発生量を評価した0以上の評価結果を第1表にまとめた
第   1   表 $1 製品フィルムの残留溶媒が多い。
第1表に示すように本発明になるセルローストリアセテ
ートフィルムは高温乾燥したにもがかわらず、フィルム
表面の凹凸が小さく、写真乳剤の塗布ムラは殆どなく良
好であった。また加工屑も少なく、写真フィルム製品と
して何ら問題を生しなかった。
〔発明の効果〕
本発明の写真感光材料用支持体の製造方法により、セル
ローストリアセテートの溶液製膜法において、従来、平
面性が悪化するため不可能であった高温、高速乾燥が可
能となり製膜速度を著しく高めることができる。該セル
ローストリアセテートフィルムの支持体に写真乳剤を塗
布した後写真フィルム製品に加工する際にも加工屑によ
る問題は何ら発生しなかった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による溶液製膜工程を示す。第2図は幅
規制装置(テンター)の機構の1実施例の概略平面図、
第3図は幅規制装置(テンター)のクリップの側面図、
第4図は従来の溶液製膜法の概略側面図である。 1・・・ウェブ   2・・・流延口 3・・・流延面   4・・・剥ぎ取り部5・・・乾燥
室   6・・・熱風 7・・・ロール   8・・・塗布機 9・・・幅規制装置 10・・・冷却風11・・・クリ
ップ 12・・・固定アゴ13・・・レバー  14・
・・シュー15・・・チェーン 16・・・レール17
・・・スプロケット (他 3名) 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製
    膜方法において、残留溶媒が10%以下となる乾燥の最
    終工程で該フィルムを幅方向に2%〜6%延伸させるこ
    とを特徴とする写真感光材料用支持体の製造方法。
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