JPH04152125A - 写真感光材料用支持体の製造方法 - Google Patents
写真感光材料用支持体の製造方法Info
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- JPH04152125A JPH04152125A JP27529390A JP27529390A JPH04152125A JP H04152125 A JPH04152125 A JP H04152125A JP 27529390 A JP27529390 A JP 27529390A JP 27529390 A JP27529390 A JP 27529390A JP H04152125 A JPH04152125 A JP H04152125A
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- cellulose triacetate
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Landscapes
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は写真感光材料用支持体の製造方法に関し、さら
に詳しくは溶液流延製膜法におけるフィルムの平面性を
改良する製造方法である。
に詳しくは溶液流延製膜法におけるフィルムの平面性を
改良する製造方法である。
セルローストリアセテートフィルムの製膜方法の一つに
バンドまたはドラムの流延面上にドープを流延して剥ぎ
取り、これを乾燥する溶液流延製膜法がある。この溶液
流延製膜法の乾燥方法としては、一般的には第4図に示
すように流延面3から剥ぎ取ったフィルム1 (以後、
ウェブという)を乾燥室5内に設けられた多数のロール
7の間に掛は渡して、その間を移動する間に(ロール搬
送方式という)熱風6、赤外線などで乾燥する方法があ
る(例えば米国特許第2.319.053号明細書参照
)、又該ウェブの両側縁部をテンタークリップなどで保
持しながら延伸させることなく搬送しつつ乾燥する方法
(特開昭62−46625号、特開昭62−46626
号各公報)がある。
バンドまたはドラムの流延面上にドープを流延して剥ぎ
取り、これを乾燥する溶液流延製膜法がある。この溶液
流延製膜法の乾燥方法としては、一般的には第4図に示
すように流延面3から剥ぎ取ったフィルム1 (以後、
ウェブという)を乾燥室5内に設けられた多数のロール
7の間に掛は渡して、その間を移動する間に(ロール搬
送方式という)熱風6、赤外線などで乾燥する方法があ
る(例えば米国特許第2.319.053号明細書参照
)、又該ウェブの両側縁部をテンタークリップなどで保
持しながら延伸させることなく搬送しつつ乾燥する方法
(特開昭62−46625号、特開昭62−46626
号各公報)がある。
これは流延面から剥ぎ取ったウェブの残留溶媒が非常に
多く、直接ロール搬送するとロール表面の接触によりフ
ィルムの表面が損なわれる場合に効果がある。
多く、直接ロール搬送するとロール表面の接触によりフ
ィルムの表面が損なわれる場合に効果がある。
しかしながら、溶液流延製膜法は製膜速度が遅いことが
大きな問題点になっており、乾燥工程においても乾燥速
度を上げることは工業上大きな効果である。そのために
流延面上から剥ぎ取ったウェブをできるだけ高温で乾燥
するために、セルローストリアセテートフィルムの場合
流延面からの剥ぎ取りを早めるためのゲル化剤、例えば
ブタノールなどの高沸点溶剤を含ませたり(米国特許第
2.607,704号、米国特許第2,739゜069
号各明細書など)、さらに乾燥温度を高くしたりする。
大きな問題点になっており、乾燥工程においても乾燥速
度を上げることは工業上大きな効果である。そのために
流延面上から剥ぎ取ったウェブをできるだけ高温で乾燥
するために、セルローストリアセテートフィルムの場合
流延面からの剥ぎ取りを早めるためのゲル化剤、例えば
ブタノールなどの高沸点溶剤を含ませたり(米国特許第
2.607,704号、米国特許第2,739゜069
号各明細書など)、さらに乾燥温度を高くしたりする。
ところが、高温になるに従ってウェブの弾性率が低下し
て、搬送過程においてその平面性を良好に保つことは困
難になる。主な平面性故障は搬送方向に発生する小さな
シワである。そのピッチは0.3〜4.0閣、凹凸の高
さは1〜6μmである。このフィルムに写真乳剤を塗布
すると乳剤層の厚みムラ(塗布ムラ)を生して重大な故
障となる。
て、搬送過程においてその平面性を良好に保つことは困
難になる。主な平面性故障は搬送方向に発生する小さな
シワである。そのピッチは0.3〜4.0閣、凹凸の高
さは1〜6μmである。このフィルムに写真乳剤を塗布
すると乳剤層の厚みムラ(塗布ムラ)を生して重大な故
障となる。
又更に、写真乳荊塗布後、スリット及び穿孔などの加工
を行うが、その際、加工端面に加工屑が比較的多く発生
することになる。この加工屑はフィルム表面などに付着
しているいろ故障を引き起こす。この加工屑の出易さに
対しては刃の切れ味をよくする必要があり、又フィルム
の物理的性質としては加工時にフィルムが脆性破壊しに
くい性質をもたせることも重要である。
を行うが、その際、加工端面に加工屑が比較的多く発生
することになる。この加工屑はフィルム表面などに付着
しているいろ故障を引き起こす。この加工屑の出易さに
対しては刃の切れ味をよくする必要があり、又フィルム
の物理的性質としては加工時にフィルムが脆性破壊しに
くい性質をもたせることも重要である。
本発明の目的は上記問題点に対処し、
第一に、高温乾燥による高速製膜してもフィルムの平面
性が損なわれないセルローストリアセテートフィルムの
製造方法を提供することである。
性が損なわれないセルローストリアセテートフィルムの
製造方法を提供することである。
第二に、高温、高速で製膜してもフィルムの加工屑によ
る問題が少ないセルローストリアセテートフィルムの製
造方法を提供することである。
る問題が少ないセルローストリアセテートフィルムの製
造方法を提供することである。
本発明者らは鋭意研究の結果、セルローストリアセテー
トフィルムの溶液製膜工程において、その最終工程でフ
ィルムを幅方向に2%〜6%延伸させることによって達
成されることを見いだした。
トフィルムの溶液製膜工程において、その最終工程でフ
ィルムを幅方向に2%〜6%延伸させることによって達
成されることを見いだした。
即ち、本発明の上記目的は
セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製膜方法
において、残留溶媒が10%以下となる乾燥の最終工程
で、該フィルムを幅方向に2%〜6%延伸させることを
特徴とする写真感光材料用支持体の製造方法。
において、残留溶媒が10%以下となる乾燥の最終工程
で、該フィルムを幅方向に2%〜6%延伸させることを
特徴とする写真感光材料用支持体の製造方法。
によって達成される。
本発明の一実施態様を第1図に示す。セルローストリア
セテートドープが流延口2から流延面3上に流延され、
それによって形成されたフィルム1が剥ぎ取り部4で剥
ぎ取られ、乾燥室5内のロール7間を走行する間に熱風
6により乾燥される。
セテートドープが流延口2から流延面3上に流延され、
それによって形成されたフィルム1が剥ぎ取り部4で剥
ぎ取られ、乾燥室5内のロール7間を走行する間に熱風
6により乾燥される。
次いで写真感光材料用の下塗を行い、さらに乾燥室で乾
燥する。残留溶媒が約10%以下の時点で幅規制装置9
に導き幅方向に2%〜6%延伸させ、さらに緊張状態の
まま冷却した後巻取られる。
燥する。残留溶媒が約10%以下の時点で幅規制装置9
に導き幅方向に2%〜6%延伸させ、さらに緊張状態の
まま冷却した後巻取られる。
幅規制装置9としてはポリエステルフィルムなどの延伸
に使用されるテンターを用いることができる。テンター
の機構の例を第2図に示す。エンドレスの二組のチェー
ン15がいくつかの節を持つ中方向に可動なレール16
に組み込まれている。
に使用されるテンターを用いることができる。テンター
の機構の例を第2図に示す。エンドレスの二組のチェー
ン15がいくつかの節を持つ中方向に可動なレール16
に組み込まれている。
各チェーンにはウェブの両側縁部を固持するために第3
図に示す様なりリンズ11が列状にとりつけられており
、ウェブの両縁部を固定アゴ12の上にシュー14で押
さえている。スプロケット17を駆動することによりウ
ェブを連続的に巾方向に延伸させることが出来る。
図に示す様なりリンズ11が列状にとりつけられており
、ウェブの両縁部を固定アゴ12の上にシュー14で押
さえている。スプロケット17を駆動することによりウ
ェブを連続的に巾方向に延伸させることが出来る。
本発明の好ましい実施態様は、幅規制装置9に入るウェ
ブの残留溶媒が10重量%以下、好ましくは2重量%以
下である。とくに下限はない。
ブの残留溶媒が10重量%以下、好ましくは2重量%以
下である。とくに下限はない。
10重量%以上では最終製品中の残留溶媒が多くなり好
ましくない。残留溶媒は次ぎのように定義する。
ましくない。残留溶媒は次ぎのように定義する。
残留溶媒41%) = (A−B) x 100/AA
=試料フイルムの重量(g) B:110°C11時間、熱風乾燥後の試料フィルムの
重量(g) 巾規制装置9に入る前の残留溶媒量のコントロールは熱
風6の温度及び風量で行うことが出来る。
=試料フイルムの重量(g) B:110°C11時間、熱風乾燥後の試料フィルムの
重量(g) 巾規制装置9に入る前の残留溶媒量のコントロールは熱
風6の温度及び風量で行うことが出来る。
流延速度を増加させると乾燥室内を通過させるときの乾
燥時間が短縮するので、残留溶媒量は増加する方向とな
る。幅規制装置9の延伸温度は115°C〜145°C
1好ましくは125℃〜135°Cである。115°C
以下ではフィルムが破断しやすく、145 ”C以上で
はウェブ中の可塑剤が幅規制装置9内に多量に揮発して
問題を引き起こす。
燥時間が短縮するので、残留溶媒量は増加する方向とな
る。幅規制装置9の延伸温度は115°C〜145°C
1好ましくは125℃〜135°Cである。115°C
以下ではフィルムが破断しやすく、145 ”C以上で
はウェブ中の可塑剤が幅規制装置9内に多量に揮発して
問題を引き起こす。
幅方向延伸倍率は2%〜6%、好ましくは3%〜5%で
ある。延伸倍率2%以下では平面性の改良が充分でなく
、6%以上ではフィルムを加工する際、加工屑の発生が
多くなり問題を生ずる。
ある。延伸倍率2%以下では平面性の改良が充分でなく
、6%以上ではフィルムを加工する際、加工屑の発生が
多くなり問題を生ずる。
セルローストリアセテートフィルムの乾燥工程で高温乾
燥するとウェブの表面に小さなシワが発生する。その主
な原因を推定すると、高温乾燥によってウェブの弾性率
が低下して搬送方向に作用する搬送テンションによって
その方向に延伸されやすくなる。この時ウェブをミクロ
的に見れば膜厚みの不均一、乾燥の不均一がら弾性率の
不均一な分布が発生していると考えられる。一方、幅方
向には圧縮力が働くのでウェブに小さな不均一な挫屈が
生じこれが平面性を悪化させているものと考えられる。
燥するとウェブの表面に小さなシワが発生する。その主
な原因を推定すると、高温乾燥によってウェブの弾性率
が低下して搬送方向に作用する搬送テンションによって
その方向に延伸されやすくなる。この時ウェブをミクロ
的に見れば膜厚みの不均一、乾燥の不均一がら弾性率の
不均一な分布が発生していると考えられる。一方、幅方
向には圧縮力が働くのでウェブに小さな不均一な挫屈が
生じこれが平面性を悪化させているものと考えられる。
従って、平面性が悪化したウェブを幅方向に加熱延伸し
、さらに冷却固定すれば平面性を回復することができる
。しかし過度に延伸するとウェブの高分子面配向度が強
くなり、加工時に屑が発生しやすくなるので好ましくな
い。
、さらに冷却固定すれば平面性を回復することができる
。しかし過度に延伸するとウェブの高分子面配向度が強
くなり、加工時に屑が発生しやすくなるので好ましくな
い。
〔実 施 例]
セルローストリアセテート21重量%、トリフェニルホ
スフェート3重量%、メチレンクロライド65重量%、
メタノール7重量%、及びブタノール4重量%からなる
ドープを調製し、第1図に示すようなバンド流延機で流
延した。ロール搬送方式の乾燥工程の途中では下塗機を
用いて写真乳剤用の下塗を行った。乾燥温度は最高14
0°Cである。最終工程の幅規制装置(テンター)に入
る直前のウェブの残留溶媒は2%であった。又別に流延
速度を巾規制装置に入る直前の残留溶媒を7%及び比較
例として12%になるように調節したサンプルを作製し
た。テンターにおける延伸温度延伸倍率は第1表に記載
した条件にして約120μmのセルローストリアセテー
トフィルムを得た。
スフェート3重量%、メチレンクロライド65重量%、
メタノール7重量%、及びブタノール4重量%からなる
ドープを調製し、第1図に示すようなバンド流延機で流
延した。ロール搬送方式の乾燥工程の途中では下塗機を
用いて写真乳剤用の下塗を行った。乾燥温度は最高14
0°Cである。最終工程の幅規制装置(テンター)に入
る直前のウェブの残留溶媒は2%であった。又別に流延
速度を巾規制装置に入る直前の残留溶媒を7%及び比較
例として12%になるように調節したサンプルを作製し
た。テンターにおける延伸温度延伸倍率は第1表に記載
した条件にして約120μmのセルローストリアセテー
トフィルムを得た。
更に比較例としては、テンターを通さず直接巻取ったも
のを作製した。
のを作製した。
次いで各上記フィルムの平面性評価を行った。
測定装置は株式会社キーエンス製のレーザー変位計を用
いた0次ぎに写真乳剤を塗布して塗布ムラを評価した。
いた0次ぎに写真乳剤を塗布して塗布ムラを評価した。
評価方法は現像処理後、透過光を用いて色ムラを肉眼で
判定した。更に、これらのフィルムをスリッター機で3
5閣幅にスリットし、さらに穿孔機で穿孔して加工屑の
発生量を評価した0以上の評価結果を第1表にまとめた
。
判定した。更に、これらのフィルムをスリッター機で3
5閣幅にスリットし、さらに穿孔機で穿孔して加工屑の
発生量を評価した0以上の評価結果を第1表にまとめた
。
第 1 表
$1
製品フィルムの残留溶媒が多い。
第1表に示すように本発明になるセルローストリアセテ
ートフィルムは高温乾燥したにもがかわらず、フィルム
表面の凹凸が小さく、写真乳剤の塗布ムラは殆どなく良
好であった。また加工屑も少なく、写真フィルム製品と
して何ら問題を生しなかった。
ートフィルムは高温乾燥したにもがかわらず、フィルム
表面の凹凸が小さく、写真乳剤の塗布ムラは殆どなく良
好であった。また加工屑も少なく、写真フィルム製品と
して何ら問題を生しなかった。
本発明の写真感光材料用支持体の製造方法により、セル
ローストリアセテートの溶液製膜法において、従来、平
面性が悪化するため不可能であった高温、高速乾燥が可
能となり製膜速度を著しく高めることができる。該セル
ローストリアセテートフィルムの支持体に写真乳剤を塗
布した後写真フィルム製品に加工する際にも加工屑によ
る問題は何ら発生しなかった。
ローストリアセテートの溶液製膜法において、従来、平
面性が悪化するため不可能であった高温、高速乾燥が可
能となり製膜速度を著しく高めることができる。該セル
ローストリアセテートフィルムの支持体に写真乳剤を塗
布した後写真フィルム製品に加工する際にも加工屑によ
る問題は何ら発生しなかった。
第1図は本発明による溶液製膜工程を示す。第2図は幅
規制装置(テンター)の機構の1実施例の概略平面図、
第3図は幅規制装置(テンター)のクリップの側面図、
第4図は従来の溶液製膜法の概略側面図である。 1・・・ウェブ 2・・・流延口 3・・・流延面 4・・・剥ぎ取り部5・・・乾燥
室 6・・・熱風 7・・・ロール 8・・・塗布機 9・・・幅規制装置 10・・・冷却風11・・・クリ
ップ 12・・・固定アゴ13・・・レバー 14・
・・シュー15・・・チェーン 16・・・レール17
・・・スプロケット (他 3名) 第1図
規制装置(テンター)の機構の1実施例の概略平面図、
第3図は幅規制装置(テンター)のクリップの側面図、
第4図は従来の溶液製膜法の概略側面図である。 1・・・ウェブ 2・・・流延口 3・・・流延面 4・・・剥ぎ取り部5・・・乾燥
室 6・・・熱風 7・・・ロール 8・・・塗布機 9・・・幅規制装置 10・・・冷却風11・・・クリ
ップ 12・・・固定アゴ13・・・レバー 14・
・・シュー15・・・チェーン 16・・・レール17
・・・スプロケット (他 3名) 第1図
Claims (1)
- (1)セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製
膜方法において、残留溶媒が10%以下となる乾燥の最
終工程で該フィルムを幅方向に2%〜6%延伸させるこ
とを特徴とする写真感光材料用支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27529390A JP2554553B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 写真感光材料用支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27529390A JP2554553B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 写真感光材料用支持体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04152125A true JPH04152125A (ja) | 1992-05-26 |
JP2554553B2 JP2554553B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=17553415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27529390A Expired - Fee Related JP2554553B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 写真感光材料用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2554553B2 (ja) |
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EP1936431A2 (en) | 2006-12-21 | 2008-06-25 | FUJIFILM Corporation | Liquid crystal display device |
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EP2130855A1 (en) | 2008-05-15 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Cellulose ester film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device |
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-
1990
- 1990-10-16 JP JP27529390A patent/JP2554553B2/ja not_active Expired - Fee Related
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