JPH04146655A - 半導体整流素子及びそれを使った全波整流装置 - Google Patents
半導体整流素子及びそれを使った全波整流装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、車両用交流発電機の出力を整流するに使用さ
れる半導体整流素子及びそれを使った全波整流装置に関
する。
れる半導体整流素子及びそれを使った全波整流装置に関
する。
車両用交流発電機の三相全波整流装置は、直流側端子と
なる一対の放熱板と、それぞれの放熱板に放熱板内では
整流方向を揃え放熱板間では整流方向が異なるように3
個づつ固着した半導体整流素子と、異なる放熱板に固着
された半導体整流素子相互を接続する3個の交流側端子
とから構成されている。そして半導体整流素子としては
、安定化技術の進歩により従来の缶封止型に代って樹脂
封止型が使用されている。この半導体整流素子は、エン
ジンの近傍に配置されて過酷な条件で使用されることか
ら、封止用の樹脂としてはこれまでに種々の改良が加え
られ現在に至っている。封止用樹脂の代表例としては、
特開昭59−172749号公報に記載されている(1
)シリコーン樹脂、及び(2)シリコーン樹脂とSi○
2パウダを添加したエポキシ樹脂との組合せが知られて
いる。
なる一対の放熱板と、それぞれの放熱板に放熱板内では
整流方向を揃え放熱板間では整流方向が異なるように3
個づつ固着した半導体整流素子と、異なる放熱板に固着
された半導体整流素子相互を接続する3個の交流側端子
とから構成されている。そして半導体整流素子としては
、安定化技術の進歩により従来の缶封止型に代って樹脂
封止型が使用されている。この半導体整流素子は、エン
ジンの近傍に配置されて過酷な条件で使用されることか
ら、封止用の樹脂としてはこれまでに種々の改良が加え
られ現在に至っている。封止用樹脂の代表例としては、
特開昭59−172749号公報に記載されている(1
)シリコーン樹脂、及び(2)シリコーン樹脂とSi○
2パウダを添加したエポキシ樹脂との組合せが知られて
いる。
シリコーン樹脂は耐熱性、耐湿性及び金属との接着性が
優れていることから、半導体整流素子の封止用樹脂とし
て広く使用されている。しかしながら、シリコーン樹脂
は熱膨張係数が大きいこと及び硬化収縮が大きいことに
原因して、金属との接着界面の剥離が生じ易く、半導体
整流素子の電気的特性不良を招くおそれがある。また、
シリコーン樹脂は塩害耐性が低いという問題を持ってい
る。これは本発明者らによって確認されたことであるが
、半導体整流素子を塩水試験するとき電気分解によって
アルカリが発生し、このアルカリがシリコーン樹脂と金
属との接着に寄与しているシロキサン結合を切断して、
金属とシリコン樹脂との接着界面の剥離を招くのである
。これは海浜地帯及び積雪地帯で使用される車両に搭載
される半導体整流素子にとって重大な問題である。
優れていることから、半導体整流素子の封止用樹脂とし
て広く使用されている。しかしながら、シリコーン樹脂
は熱膨張係数が大きいこと及び硬化収縮が大きいことに
原因して、金属との接着界面の剥離が生じ易く、半導体
整流素子の電気的特性不良を招くおそれがある。また、
シリコーン樹脂は塩害耐性が低いという問題を持ってい
る。これは本発明者らによって確認されたことであるが
、半導体整流素子を塩水試験するとき電気分解によって
アルカリが発生し、このアルカリがシリコーン樹脂と金
属との接着に寄与しているシロキサン結合を切断して、
金属とシリコン樹脂との接着界面の剥離を招くのである
。これは海浜地帯及び積雪地帯で使用される車両に搭載
される半導体整流素子にとって重大な問題である。
上述の問題は、シリコーン樹脂とエポキシ樹脂との組合
せ即ちシリコーン樹脂層上にエポキシ樹脂層を積層する
構成としても依然として存在している。即ち、シリコー
ン樹脂はエポキシ樹脂より熱膨張係数が大きいことから
、温度サイクルが加わるとシリコーン樹脂の膨張収縮に
よってエポキシ樹脂と金属との密着界面に剥離が生じ、
その下のシリコーン樹脂と金属との接着界面はシリコー
ン樹脂単体の場合と略同様の状態に置かれるからである
。
せ即ちシリコーン樹脂層上にエポキシ樹脂層を積層する
構成としても依然として存在している。即ち、シリコー
ン樹脂はエポキシ樹脂より熱膨張係数が大きいことから
、温度サイクルが加わるとシリコーン樹脂の膨張収縮に
よってエポキシ樹脂と金属との密着界面に剥離が生じ、
その下のシリコーン樹脂と金属との接着界面はシリコー
ン樹脂単体の場合と略同様の状態に置かれるからである
。
このように、封止用樹脂として従来から知られている樹
脂を使用する限り、耐塩害性の優れ半導体整流素子を実
現することはできないのである。
脂を使用する限り、耐塩害性の優れ半導体整流素子を実
現することはできないのである。
本発明の目的は、耐塩害性の優れた半導体整流素子及び
それを使った全波整流装置を提供することにある。
それを使った全波整流装置を提供することにある。
本発明の目的を具体的に言えば、シリコーン樹脂本来の
耐熱性及び耐湿性を損うことなく、シリコーン樹脂の弱
点であるアルカリによるシロキサン結合の切断及び大き
い硬化収縮によって生じる電気的特性不良を除去した半
導体整流素子及びそれを使った全波整流装置を提供する
ことにある。
耐熱性及び耐湿性を損うことなく、シリコーン樹脂の弱
点であるアルカリによるシロキサン結合の切断及び大き
い硬化収縮によって生じる電気的特性不良を除去した半
導体整流素子及びそれを使った全波整流装置を提供する
ことにある。
上記目的を奏する本発明半導体整流素子の特徴とすると
ころは、金属製の容器部分と、容器部分の底部に一方の
主面が接着されたpn接合を有する半導体チップと、半
導体チップの他方の主面に接着されたリードと、半導体
チップの露出面を被覆するシリカ粉末を含むシリコーン
樹脂層とを具備する点にある。ここで容器部分とは、わ
ん形の容器、及び平板の一部に設けた凹部を意味する。
ころは、金属製の容器部分と、容器部分の底部に一方の
主面が接着されたpn接合を有する半導体チップと、半
導体チップの他方の主面に接着されたリードと、半導体
チップの露出面を被覆するシリカ粉末を含むシリコーン
樹脂層とを具備する点にある。ここで容器部分とは、わ
ん形の容器、及び平板の一部に設けた凹部を意味する。
シリコーン樹脂としては、−成分系と二成分系とに大別
され、更にそれぞれが白金付加方式と室部下湿気により
脱アルコール縮合し架橋する方式に分けられるが、本発
明はいずれのシリコーン樹脂でも使用することができる
。好ましくは、硬化収縮が少なくかつ硬化時間の短いも
のが使用される。
され、更にそれぞれが白金付加方式と室部下湿気により
脱アルコール縮合し架橋する方式に分けられるが、本発
明はいずれのシリコーン樹脂でも使用することができる
。好ましくは、硬化収縮が少なくかつ硬化時間の短いも
のが使用される。
シリカ粉末としては、シラン化合物例えば5iC14を
燃焼して得られる噴霧シリカ、シリコン化合物例えば5
iC1,を加水分解して得られる沈降シリカ、珪石を粉
砕して得られる結晶シリカ、珪石を粉砕した後熔融して
更に粉砕して得られる熔融シリカ等が使用できる。半導
体整流素子の逆方向洩れ電流を小さくするという点から
は、Na及びKの含有率がそれぞれ10ppm以下好ま
しくは5ppm以下の高純度シリカを使用することが望
ましい。また、シリカ粉末の添加量としてはシリコーン
樹脂100重量部に対し40〜120重量部以上とする
ことが必要であるが、好ましくは80〜100重量部で
ある。またシリカ粉末の平均粒径としては2〜6μmが
それぞれ望ましい。
燃焼して得られる噴霧シリカ、シリコン化合物例えば5
iC1,を加水分解して得られる沈降シリカ、珪石を粉
砕して得られる結晶シリカ、珪石を粉砕した後熔融して
更に粉砕して得られる熔融シリカ等が使用できる。半導
体整流素子の逆方向洩れ電流を小さくするという点から
は、Na及びKの含有率がそれぞれ10ppm以下好ま
しくは5ppm以下の高純度シリカを使用することが望
ましい。また、シリカ粉末の添加量としてはシリコーン
樹脂100重量部に対し40〜120重量部以上とする
ことが必要であるが、好ましくは80〜100重量部で
ある。またシリカ粉末の平均粒径としては2〜6μmが
それぞれ望ましい。
シリコーン樹脂には、必要に応じて種々の添加剤を含有
させることができる。例えば、着色の目的で酸化チタン
、カーボンブラック及び有機系の染料を、接着性の付与
または向上の目的でアルコキシシリコーン系化合物を、
耐熱性向上の目的で金属化合物及び有機系の酸化防止剤
をそれぞれ添加することができる。
させることができる。例えば、着色の目的で酸化チタン
、カーボンブラック及び有機系の染料を、接着性の付与
または向上の目的でアルコキシシリコーン系化合物を、
耐熱性向上の目的で金属化合物及び有機系の酸化防止剤
をそれぞれ添加することができる。
シリコーン樹脂層は、それ単独で十分使用することがで
きるが、その上側に他の樹脂層を重ねること及び半導体
チップとの間に他の樹脂層を介在させることも可能であ
る。
きるが、その上側に他の樹脂層を重ねること及び半導体
チップとの間に他の樹脂層を介在させることも可能であ
る。
次に、本発明全波整流装置の特徴とするところは、直流
側端子となる一対の放熱板と、それぞれの放熱板に放熱
板内では整流方向を揃え放熱板間では整流方向が異なる
ように複数個づつ固着した半導体整流素子と、異なる放
熱板に固着された半導体整流素子相互を接続する交流側
の相数と同数の交流側端子とを具備し、各半導体整流素
子が放熱板に一方の主面が接着されたpn接合を有する
半導体チップ、半導体チップの他方の主面に接着された
リード、半導体チップの露出面を被覆するシリカ粉末を
含むシリコーン樹脂から構成されている点にある。半導
体チップは放熱板に凹部を形成しておき凹部の底面に接
着するか、予かしめ容器に接着したものを放熱板に接着
するかの二連りによって放熱板に固着される。シリコー
ン樹脂及びシリカ粉末については前述の通りである。
側端子となる一対の放熱板と、それぞれの放熱板に放熱
板内では整流方向を揃え放熱板間では整流方向が異なる
ように複数個づつ固着した半導体整流素子と、異なる放
熱板に固着された半導体整流素子相互を接続する交流側
の相数と同数の交流側端子とを具備し、各半導体整流素
子が放熱板に一方の主面が接着されたpn接合を有する
半導体チップ、半導体チップの他方の主面に接着された
リード、半導体チップの露出面を被覆するシリカ粉末を
含むシリコーン樹脂から構成されている点にある。半導
体チップは放熱板に凹部を形成しておき凹部の底面に接
着するか、予かしめ容器に接着したものを放熱板に接着
するかの二連りによって放熱板に固着される。シリコー
ン樹脂及びシリカ粉末については前述の通りである。
シリカはアルカリに対して安定であり、シリコーン樹脂
より熱膨張係数が小さい。このためシリコーン樹脂にシ
リカ粉末を添加すると、シリコーン樹脂本来の耐熱性及
び耐湿性に優れた点はそのままで、■シリコーン樹脂の
アルカリに対し安定性を向上する、■シリコーン樹脂の
熱膨張係数を小さくする、■シリコーン樹脂の熱収縮量
を低減する、等の特性改善が図れる。そこで車両に搭載
する半導体整流素子の封止用樹脂としてシリカ粉末を添
加したシリコーン樹脂を使用すると、■熱膨張係数が小
さくかつ熱収縮量が少ないことから、金属との接着界面
の剥離が生じにくく半導体整流素子の電気的特性不良が
発生するおそれがなくなる、■アルカリに対して安定即
ちアルカリによってシロキサン結合を切断される確率が
大幅に低下することから、金属との接着界面の剥離が更
に生じにくくなり、耐塩害性の向上が図れる、等の効果
を奏し、信頼性の高い車両に搭載するに適した半導体整
流素子を実現することができる。また、かかる半導体整
流素子を使用した全波整流装置においても同様効果を奏
する。
より熱膨張係数が小さい。このためシリコーン樹脂にシ
リカ粉末を添加すると、シリコーン樹脂本来の耐熱性及
び耐湿性に優れた点はそのままで、■シリコーン樹脂の
アルカリに対し安定性を向上する、■シリコーン樹脂の
熱膨張係数を小さくする、■シリコーン樹脂の熱収縮量
を低減する、等の特性改善が図れる。そこで車両に搭載
する半導体整流素子の封止用樹脂としてシリカ粉末を添
加したシリコーン樹脂を使用すると、■熱膨張係数が小
さくかつ熱収縮量が少ないことから、金属との接着界面
の剥離が生じにくく半導体整流素子の電気的特性不良が
発生するおそれがなくなる、■アルカリに対して安定即
ちアルカリによってシロキサン結合を切断される確率が
大幅に低下することから、金属との接着界面の剥離が更
に生じにくくなり、耐塩害性の向上が図れる、等の効果
を奏し、信頼性の高い車両に搭載するに適した半導体整
流素子を実現することができる。また、かかる半導体整
流素子を使用した全波整流装置においても同様効果を奏
する。
以下、本発明半導体整流素子及びそれを使った全波整流
装置を実施例として示した図面により詳述する。
装置を実施例として示した図面により詳述する。
第1図は本発明半導体整流素子の代表的な実施例を示す
。図において、1はわん形の金属容器、2はpnn接合
を有し一方の主面21が接着層3を介して金属容器1の
底面に接着された半導体チップ、4は半導体チップ2の
他方の主面22に接着層5を介して接着されたヘッダ一
部41と、ヘッダ一部41からヘッダ一部41に対して
垂直方向に延びる第1のリード部42と、第1のリード
部42に連らなる扁平の彎曲部43と、彎曲部43に連
らなる第2のリード部44とからなるリード、6は金属
容器1内に充填され、その表面が第1のリード部42に
達するシリカ粉末を添加したシリコーン樹脂層である。
。図において、1はわん形の金属容器、2はpnn接合
を有し一方の主面21が接着層3を介して金属容器1の
底面に接着された半導体チップ、4は半導体チップ2の
他方の主面22に接着層5を介して接着されたヘッダ一
部41と、ヘッダ一部41からヘッダ一部41に対して
垂直方向に延びる第1のリード部42と、第1のリード
部42に連らなる扁平の彎曲部43と、彎曲部43に連
らなる第2のリード部44とからなるリード、6は金属
容器1内に充填され、その表面が第1のリード部42に
達するシリカ粉末を添加したシリコーン樹脂層である。
金属容器1の材料としては、例えば銅、鉄ニツケル合金
、銅−鉄ニツケル合金−クラツド材が使用され、その表
面は防錆の目的で銀めっき又はニッケルめっきで被覆す
るのが望ましい。リード4の材料としては銅で一体に形
成し、表面に防錆用の銀めっき又はニッケルめっきを施
したものが望ましい。また、ヘッダー部41をモリブデ
ン、タングステン、鉄ニツケル合金で作り、これに銅で
作った第1のリード部42、彎曲部43及び第2のリー
ド部44を接着したものでも使用することができる。接
着層3,5はPb−8n半田又はP b −A g −
S n半田が使用される。シリコーン樹脂層6に添加さ
れているシリカ粉末は、Na及びKの含有率がそれぞれ
10ppm以下の高純度シリカで、平均粒径が2〜6μ
mの粉末状態で、シリコーン樹脂100重量部に対し4
0〜120重量部の範囲で含まれている。高純度シリカ
を使用する理由は、Na、Kが多く含まれると半導体整
流素子を逆バイアス状態としたとき、封止用樹脂層を介
して流れる電流即ち逆方向洩れ電流が大きくなり、半導
体整流素子としての特性をそこなうためである。この観
点からは5ppm以下にするのが理想的である。また、
シリカ粉末の平均粒径は、小さすぎするとシリコーン樹
脂へ本発明の目的を達成するに必要な量を添加するのが
難しくなり、大きすぎるとシリコーン樹脂を硬化する前
に沈降して樹脂内のシリカ粉末の分布が不均一となり本
発明の目的を達成することができなくなることから、本
発明の目的を達成する範囲を定めたものである。更に、
シリカ粉末の添加量については、金属容器1とシリコー
ン樹脂層6との接着界面の剥離を防止するに十分な量が
40重量部以上好ましくは80重量部以上であるが、こ
の添加量が多すぎるとシリコーン樹脂の粘度が上昇して
充填作業が難しくなったり、内部の気泡が抜けにくくな
って封止用樹脂として使用できなくなる場合があるので
、120重量部以下、好ましくは100重量部以下にす
る。
、銅−鉄ニツケル合金−クラツド材が使用され、その表
面は防錆の目的で銀めっき又はニッケルめっきで被覆す
るのが望ましい。リード4の材料としては銅で一体に形
成し、表面に防錆用の銀めっき又はニッケルめっきを施
したものが望ましい。また、ヘッダー部41をモリブデ
ン、タングステン、鉄ニツケル合金で作り、これに銅で
作った第1のリード部42、彎曲部43及び第2のリー
ド部44を接着したものでも使用することができる。接
着層3,5はPb−8n半田又はP b −A g −
S n半田が使用される。シリコーン樹脂層6に添加さ
れているシリカ粉末は、Na及びKの含有率がそれぞれ
10ppm以下の高純度シリカで、平均粒径が2〜6μ
mの粉末状態で、シリコーン樹脂100重量部に対し4
0〜120重量部の範囲で含まれている。高純度シリカ
を使用する理由は、Na、Kが多く含まれると半導体整
流素子を逆バイアス状態としたとき、封止用樹脂層を介
して流れる電流即ち逆方向洩れ電流が大きくなり、半導
体整流素子としての特性をそこなうためである。この観
点からは5ppm以下にするのが理想的である。また、
シリカ粉末の平均粒径は、小さすぎするとシリコーン樹
脂へ本発明の目的を達成するに必要な量を添加するのが
難しくなり、大きすぎるとシリコーン樹脂を硬化する前
に沈降して樹脂内のシリカ粉末の分布が不均一となり本
発明の目的を達成することができなくなることから、本
発明の目的を達成する範囲を定めたものである。更に、
シリカ粉末の添加量については、金属容器1とシリコー
ン樹脂層6との接着界面の剥離を防止するに十分な量が
40重量部以上好ましくは80重量部以上であるが、こ
の添加量が多すぎるとシリコーン樹脂の粘度が上昇して
充填作業が難しくなったり、内部の気泡が抜けにくくな
って封止用樹脂として使用できなくなる場合があるので
、120重量部以下、好ましくは100重量部以下にす
る。
次に、第1図に示す半導体整流素子の製法について説明
する。まず、金属容器1の底面上に半田箔、半導体チッ
プ2、半田箔、リード4を積層した状態で加熱して、金
属容器1、半導体チップ2及びリード4が一体となった
サブアセンブリを作る。このサブアセンブリの金属容器
1に、ビニル基含有ポリシロキサンオイル、水素含有ポ
リシロキサン架橋剤、アルコキシラン系接着剤、白金系
触媒を主成分とするベースオイル100重量部に対し、
平均粒径2〜6μmの高純度シリカ粉末を40〜120
重量部含有するように調合精製した液状のシリコーン樹
脂を充填する。液状のシリコーン樹脂は、大気雰囲気或
いはN2ガス雰囲気で50℃前後で2時間以上加熱する
一次硬化工程で硬化され、更に同雰囲気、150〜20
0℃で2時間以上加熱する二次硬化工程で金属容器、半
導体チップ及びリードとの接着を強化するための硬化が
行なわれ、半導体整流素子が完成する。
する。まず、金属容器1の底面上に半田箔、半導体チッ
プ2、半田箔、リード4を積層した状態で加熱して、金
属容器1、半導体チップ2及びリード4が一体となった
サブアセンブリを作る。このサブアセンブリの金属容器
1に、ビニル基含有ポリシロキサンオイル、水素含有ポ
リシロキサン架橋剤、アルコキシラン系接着剤、白金系
触媒を主成分とするベースオイル100重量部に対し、
平均粒径2〜6μmの高純度シリカ粉末を40〜120
重量部含有するように調合精製した液状のシリコーン樹
脂を充填する。液状のシリコーン樹脂は、大気雰囲気或
いはN2ガス雰囲気で50℃前後で2時間以上加熱する
一次硬化工程で硬化され、更に同雰囲気、150〜20
0℃で2時間以上加熱する二次硬化工程で金属容器、半
導体チップ及びリードとの接着を強化するための硬化が
行なわれ、半導体整流素子が完成する。
かかる構成の半導体整流素子が車両に搭載して過酷な条
件での使用に耐える点は、次のような評価試験により確
認した。その評価試験は、■ 素子を逆バイアス状態で
、塩水噴霧雰囲気中に所定時間置く第1工程、 ■ 素子を無バイアス状態で、高温中に所定時間置く第
2工程、 ■ 素子を逆バイアス状態で、高温多湿雰囲気中に所定
時間置く第3工程、 ■ 素子を無バイアス状態で、大気雰囲気中に所定時間
置く第4工程。
件での使用に耐える点は、次のような評価試験により確
認した。その評価試験は、■ 素子を逆バイアス状態で
、塩水噴霧雰囲気中に所定時間置く第1工程、 ■ 素子を無バイアス状態で、高温中に所定時間置く第
2工程、 ■ 素子を逆バイアス状態で、高温多湿雰囲気中に所定
時間置く第3工程、 ■ 素子を無バイアス状態で、大気雰囲気中に所定時間
置く第4工程。
を1サイクルとして、これを所定サイクル繰返し、素子
の逆方向特性が劣化するまでのサイクル数によって良否
を判別する方法で実施した。評価試験の結果は次表の通
りであった。
の逆方向特性が劣化するまでのサイクル数によって良否
を判別する方法で実施した。評価試験の結果は次表の通
りであった。
この表で、結果のx印は劣化までのサイクル数が極めて
少なく塩害の予測される所では使用できないもの、Δ印
はサイクル数が少なく塩害の予測される所で使用を避け
た方がよいもの、O印はサイクル数が多く塩害の予測さ
れる所で使用できるもの、◎印はO印より更に良好なも
のを意味する。
少なく塩害の予測される所では使用できないもの、Δ印
はサイクル数が少なく塩害の予測される所で使用を避け
た方がよいもの、O印はサイクル数が多く塩害の予測さ
れる所で使用できるもの、◎印はO印より更に良好なも
のを意味する。
第2図から第7図は本発明半導体整流素子の異なる実施
例を示すものである。
例を示すものである。
第2図はシリコーン樹脂層6と金属容器1の底面、半導
体チップ2及びリード4のヘッダ一部41との間にポリ
イミド樹脂層7を介在させた実施例、第3図はシリコー
ン樹脂層6上にエポキシ樹脂層8を形成した実施例を示
している。他の構成は第1図と同じである。第2図及び
第3図の構成は、いずれも封止用樹脂の気密封止機能を
向上させるものでる。
体チップ2及びリード4のヘッダ一部41との間にポリ
イミド樹脂層7を介在させた実施例、第3図はシリコー
ン樹脂層6上にエポキシ樹脂層8を形成した実施例を示
している。他の構成は第1図と同じである。第2図及び
第3図の構成は、いずれも封止用樹脂の気密封止機能を
向上させるものでる。
第4図は半導体チップ2とリード4のヘッダー部41と
の間に、第5図は半導体チップ2と金属容器1との間に
金属板9,10を介在した実施例を示している。これら
金属板9,10は、半導体チップ2と、ラダ一部41又
は金属容器lとの間の熱応力の緩和を目的として介在さ
れる。従って、金属板9,10としては、例えばモリブ
デン、タングステン、鉄ニツケル合金、銅−鉄ニツケル
合金−銅クラツド材が使用される。第4図は金属容器1
が、第5図はヘッダー材41がそれぞれ半導体チップ2
に近似した熱膨張係数をもつ材料である場合を示してお
り、金属容器1及びヘッダ一部41が共に網であれば、
半導体チップ2の両側に金属板9,10を配置するのが
望ましくなる。
の間に、第5図は半導体チップ2と金属容器1との間に
金属板9,10を介在した実施例を示している。これら
金属板9,10は、半導体チップ2と、ラダ一部41又
は金属容器lとの間の熱応力の緩和を目的として介在さ
れる。従って、金属板9,10としては、例えばモリブ
デン、タングステン、鉄ニツケル合金、銅−鉄ニツケル
合金−銅クラツド材が使用される。第4図は金属容器1
が、第5図はヘッダー材41がそれぞれ半導体チップ2
に近似した熱膨張係数をもつ材料である場合を示してお
り、金属容器1及びヘッダ一部41が共に網であれば、
半導体チップ2の両側に金属板9,10を配置するのが
望ましくなる。
第6図は金属容器1の外周面にリード4の伸びる方向と
同方向にローレット加工1aを施した実施例を示してい
る。これは全波整流装置を組立てるときに接着を不要に
するものである。
同方向にローレット加工1aを施した実施例を示してい
る。これは全波整流装置を組立てるときに接着を不要に
するものである。
第7図は金属容器の代りに金属板11の一部に形成した
凹部11aを使用する実施例を示している。
凹部11aを使用する実施例を示している。
第8図及び第9図は本発明半導体整流素子を使った全波
整流装置の一実施例を示す。
整流装置の一実施例を示す。
図において、801及び802は弧状でそれぞれ3個の
凹部801a、802bを有する第1及び第2の放熱板
で、各放熱板の各凹部には第7図に示すと同様に底面に
半導体チップ2が接着され、半導体チップ2上にリード
4が接着され、凹部内にシリカ粉末製含有するシリコー
ン樹脂6が半導体チップ2を被覆するに十分な量充填さ
れている。
凹部801a、802bを有する第1及び第2の放熱板
で、各放熱板の各凹部には第7図に示すと同様に底面に
半導体チップ2が接着され、半導体チップ2上にリード
4が接着され、凹部内にシリカ粉末製含有するシリコー
ン樹脂6が半導体チップ2を被覆するに十分な量充填さ
れている。
これによって、第1及び第2の半導体整流素子が形成さ
れる。第1の放熱板801の凹部801aに案内される
半導体チップはp層が底面側に位置し、第2の放熱板8
02の凹部802aに案内される半導体チップはn層が
底面側に位置している。
れる。第1の放熱板801の凹部801aに案内される
半導体チップはp層が底面側に位置し、第2の放熱板8
02の凹部802aに案内される半導体チップはn層が
底面側に位置している。
803は環状の一部が開放した絶縁部材で、ビス804
により第1及び第2の放熱板801,802の弧状の外
縁側に固着され、第1及び第2の放熱板801,802
の位置関係を一定に保持している。805及び806は
絶縁部材803上に所定の間隔を有して、リベット80
7により止められた第1及び第2の長片状リード端子で
、それぞれ放熱板801,802の凹部801a、80
2aに対応する位置に設けられている。長片状り一ド端
子805,806はその長平方向を絶縁部材803が作
る円の半径方向と同方向とし、かつその両端に切込み8
05a、806aが設けられている。第1の長片状リー
ド805の一端(内端)は第1の放熱板801に形成さ
れた第1の半導体整流素子のリードと切込み805aに
おいて半田付けされ、第2の長片状リード806の一端
(内端)は第2の放熱板802に形成された第2の半導
体整流素子のリードと切込み806aにおいて半田付け
されている。第1及び第2の長片状リード端子805.
806の他端(外端)は相互に第1、第2及び第3の端
子808,8ob、810により接続される。以上によ
り、第1及び第2の放熱板801,802を直流側端子
、第1.第2及び第3の端子を交流側端子とする三相全
波整流装置が構成される。この全波整流装置は、車両の
エンジンルーム内の交流発電機の外側に固着されて使用
される。半導体整流素子は、全波整流装置に組立てられ
た状態においも、封止用樹脂は外気に露出しており、耐
塩害性が依然として要求されるのである。従って、全波
整流装置においても、本発明は効果を発揮する。
により第1及び第2の放熱板801,802の弧状の外
縁側に固着され、第1及び第2の放熱板801,802
の位置関係を一定に保持している。805及び806は
絶縁部材803上に所定の間隔を有して、リベット80
7により止められた第1及び第2の長片状リード端子で
、それぞれ放熱板801,802の凹部801a、80
2aに対応する位置に設けられている。長片状り一ド端
子805,806はその長平方向を絶縁部材803が作
る円の半径方向と同方向とし、かつその両端に切込み8
05a、806aが設けられている。第1の長片状リー
ド805の一端(内端)は第1の放熱板801に形成さ
れた第1の半導体整流素子のリードと切込み805aに
おいて半田付けされ、第2の長片状リード806の一端
(内端)は第2の放熱板802に形成された第2の半導
体整流素子のリードと切込み806aにおいて半田付け
されている。第1及び第2の長片状リード端子805.
806の他端(外端)は相互に第1、第2及び第3の端
子808,8ob、810により接続される。以上によ
り、第1及び第2の放熱板801,802を直流側端子
、第1.第2及び第3の端子を交流側端子とする三相全
波整流装置が構成される。この全波整流装置は、車両の
エンジンルーム内の交流発電機の外側に固着されて使用
される。半導体整流素子は、全波整流装置に組立てられ
た状態においも、封止用樹脂は外気に露出しており、耐
塩害性が依然として要求されるのである。従って、全波
整流装置においても、本発明は効果を発揮する。
第8図及び第9図の全波整流装置は種々の変形が可能で
ある。
ある。
(1)第1及び第2の放熱板を絶縁スペーサを介して重
ねた構造。
ねた構造。
(2)第1及び第2の放熱板を弧状にしないで矩形状し
た構造。
た構造。
(3)第1及び第2の放熱板の凹部に第1図から第5図
に示す半導体整流素子を案内した構造。
に示す半導体整流素子を案内した構造。
(4)第1及び第2の放熱板を平板状として、第1図か
ら第5図に示す半導体整流素子をそれに接着した構造。
ら第5図に示す半導体整流素子をそれに接着した構造。
(5)第1及び第2の放熱板に貫通孔を設け、貫通孔に
第6図の半導体整流素子を圧入した構造。
第6図の半導体整流素子を圧入した構造。
以上は本発明を代表的な実施例について説明したが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではなく、本発明
の技術的思想の範囲内で種々の変形が可能である。
発明はこれら実施例に限定されるものではなく、本発明
の技術的思想の範囲内で種々の変形が可能である。
本発明によれば、封止用樹脂としてシリカ粉末を含有す
るシリコーン樹脂を使用するので、耐塩害性に優れ、車
両に搭載するに適した半導体整流素子及びそれを使った
全波整流装置を実現することができる。
るシリコーン樹脂を使用するので、耐塩害性に優れ、車
両に搭載するに適した半導体整流素子及びそれを使った
全波整流装置を実現することができる。
第1図は本発明半導体整流素子の一実施例を示す断面図
、第2図から第7図は本発明半導体整流素子の他の実施
例を示す断面図、第8図は本発明全波整流装置の一実施
例を示す概略平面図、第9図は第8図の■−■線に沿う
断面図である。 1・・・金属容器、2・・・半導体チップ、4・・・リ
ード、6・・・シリコーン樹脂層
、第2図から第7図は本発明半導体整流素子の他の実施
例を示す断面図、第8図は本発明全波整流装置の一実施
例を示す概略平面図、第9図は第8図の■−■線に沿う
断面図である。 1・・・金属容器、2・・・半導体チップ、4・・・リ
ード、6・・・シリコーン樹脂層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、わん形の金属容器と、金属容器の底部に一方の主面
が接着されたpn接合を有する半導体チップと、半導体
チップの他方の主面に接着されたリードと、半導体チッ
プの露出面を被覆するシリカ粉末を含むシリコーン樹脂
層とを具備することを特徴とする半導体整流素子。 2、請求項1において、シリコーン樹脂層がシリコーン
樹脂100重量部に対しシリカ粉末を40〜120重量
部含有することを特徴とする半導体整流素子。 3、請求項1或いは2において、シリカ粉末の平均粒径
が2〜6μmであることを特徴とする半導体整流素子。 4、わん形の金属容量と、金属容器の底部に一方の主面
が接着されたpn接合を有する半導体チップと、半導体
チップの他方の主面に接着されたリードと、半導体チッ
プの露出面を被覆するシリカ粉末を含むシリコーン樹脂
層と、シリコン樹脂層上に積層されたエポキシ樹脂装置
とを具備することを特徴とする半導体整流素子。 5、請求項4において、シリコーン樹脂層がシリコーン
樹脂100重量部に対しシリカ粉末を40〜120重量
部含有することを特徴とする半導体整流素子。 6、請求項4或いは5において、シリカ粉末の平均粒径
が2〜6μmであることを特徴とする半導体整流素子。 7、わん形の金属容量と、金属容器の底部に一方の主面
が接着されたpn接合を有する半導体チップと、半導体
チップの他方の主面に接着されたリードと、半導体チッ
プの露出部を被覆するポリイミド樹脂層と、ポリイミド
樹脂層上に積層されシリカ粉末を含むシリコーン樹脂層
とを具備することを特徴とする半導体整流素子。 8、請求項7において、シリコーン樹脂層がシリコーン
樹脂100重量部に対しシリカ粉末を40〜120重量
部含有することを特徴とする半導体整流素子。 9、請求項7或いは8において、シリカ粉末の平均粒径
が2〜6μmであることを特徴とする半導体整流素子。 10、電気的に絶縁され、直流側端子となる第1及び第
2の放熱板と、 わん形の金属容器、連続したp層及びn層を有しp層側
が金属容器の底部に接着された半導体チップ、半導体チ
ップのn層側に接着されたリード、半導体チップの露出
面を被覆するシリカ粉末を含むシリコーン樹脂層からな
り、金属容器が第1の放熱板に支持された複数個の第1
の半導体整流素子と、 わん形の金属容器、連続したp層及びn層を有しn層側
が金属容器の底部に接着された半導体チップ、半導体チ
ップのp層側に接着されたリード、半導体チップの露出
面を被覆するシリカ粉末を含むシリコーン樹脂層からな
り、金属容器が第2の放熱板に支持された複数個の第2
の半導体整流素子と、 相数と同数で、それぞれ第1の半導体整流素子のリード
と第2の半導体整流素子のリードとを接続する複数個の
交流側端子と、を具備することを特徴とする全波整流装
置。 11、請求項10において、第1及び第2の半導体整流
素子のシリコーン樹脂層がシリコーン樹脂100重量部
に対しシリカ粉末を40〜120重量部含有することを
特徴とする全波整流装置。 12、請求項10或いは11において、第1及び第2の
半導体整流素子のシリコーン樹脂層が含有するシリカ粉
末の平均粒径が2〜6μmであることを特徴とする全波
整流装置。13、請求項10、11或いは12において
、第1及び第2の半導体整流素子のシリコーン樹脂層に
エポキシ樹脂層が積層されていることを特徴とする全波
整流装置。 14、請求項10、11或いは12において、第1及び
第2の半導体整流素子のシリコーン樹脂層と半導体チッ
プとの間にポリイミド樹脂層が介在していることを特徴
とする全波整流装置。 15、凹部を有する金属製放熱板と、金属製放熱板の凹
部の底面に一方の主面が接着されたpn接合を有する半
導体チップと、半導体チップの他方の主面に接着された
リードと、半導体チップの露出面を被覆するシリカ粉末
を含むシリコーン樹脂層とを具備することを特徴とする
半導体整流素子。 16、請求項15において、シリコーン樹脂層がシリコ
ーン樹脂100重量部に対しシリカ粉末を40〜120
重量部含有することを特徴とする半導体整流素子。 17、請求項15或いは16において、シリカ粉末の平
均粒径が2〜6μmであることを特徴とする半導体整流
素子。 18、請求項15、16或いは17において、シリコー
ン樹脂層上にエポキシ樹脂層を設けたことを特徴とする
半導体整流素子。 19、請求項15、16或いは17において、シリコー
ン樹脂層と半導体チップとの間にポリイミド樹脂層を設
けたことを特徴とする半導体整流素子。 20、電気的に絶縁され、それぞれ複数個の凹部を有し
、直流側端子となる金属製の第1及び第2の放熱板と、 連続したp層及びn層を有し、p層側が第1の放熱板の
各凹部の底部に接着された複数個の第1の半導体チップ
と、 連続したp層及びn層を有し、n層側が第2の放熱板の
各凹部の底面に接着された複数個の第2の半導体チップ
と、 第1の半導体チップのn層側に接着された第1のリード
と、 第2の半導体チップのp層側に接着された第2のリード
と、 第1の半導体チップ及び第2の半導体チップの露出面を
被覆するシリカ粉末を含むシリコーン樹脂層と、 相数と同数で、それぞれ第1のリードと第2のリードを
接続する複数個の交流側端子と、を具備することを特徴
とする全波整流装置。 21、請求項20において、シリコーン樹脂層がシリコ
ーン樹脂100重量部に対しシリカ粉末を40〜120
重量部含有することを特徴とする全波整流装置。 22、請求項20或いは21において、シリコーン樹脂
層が含有するシリカ粉末の平均粒径が2〜6μmである
ことを特徴とする全波整流装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2270188A JP2858166B2 (ja) | 1990-10-08 | 1990-10-08 | 半導体整流素子及びそれを使った全波整流装置 |
EP91117134A EP0480372B1 (en) | 1990-10-08 | 1991-10-08 | Semiconductor rectifying device and full-wave rectifier fabricated using the same |
DE69120366T DE69120366T2 (de) | 1990-10-08 | 1991-10-08 | Halbleiter-Gleichrichteranordnung und Vollweggleichrichter mit dieser Anordnung |
KR1019910017579A KR100193161B1 (ko) | 1990-10-08 | 1991-10-08 | 반도체 정류장치와 그것을 이용하여 만든 전파정류기 |
US07/772,871 US5302856A (en) | 1990-10-08 | 1991-10-08 | Semiconductor rectifying device and full-wave rectifier fabricated using the same |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2270188A JP2858166B2 (ja) | 1990-10-08 | 1990-10-08 | 半導体整流素子及びそれを使った全波整流装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04146655A true JPH04146655A (ja) | 1992-05-20 |
JP2858166B2 JP2858166B2 (ja) | 1999-02-17 |
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ID=17482751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
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DE (1) | DE69120366T2 (ja) |
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JP2007214219A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2017098276A (ja) * | 2015-11-18 | 2017-06-01 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置、およびそれを用いたオルタネータ |
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- 1990-10-08 JP JP2270188A patent/JP2858166B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1991-10-08 US US07/772,871 patent/US5302856A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-08 DE DE69120366T patent/DE69120366T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-08 KR KR1019910017579A patent/KR100193161B1/ko not_active IP Right Cessation
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