JPH0412936A - 基板検出装置 - Google Patents

基板検出装置

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JPH0412936A
JPH0412936A JP2112582A JP11258290A JPH0412936A JP H0412936 A JPH0412936 A JP H0412936A JP 2112582 A JP2112582 A JP 2112582A JP 11258290 A JP11258290 A JP 11258290A JP H0412936 A JPH0412936 A JP H0412936A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は、例えばディスク枚葉処理装置のデジタル化
された音声情報や画像情報を大量に記録するのにコンパ
クトディスク（以下、ＣＤと略称する）が広く使用され
るようになってきた。
ＣＤは、ポリカーボネート等の透明な合成樹脂性基板の
表面にスパッタリングにより光反射率の高いアルミニュ
ーム（ＡＩ）薄膜層が形成されて構成され、「１」か「
０」のデジタル情報に合わせて開けられたビット（ｐｉ
ｔ）と称する小さな孔の有無を、レーザ光の反射波ある
いは透過波の有無によりその記録情報を読み出し得るも
のである。
１枚のディスクへの薄膜形成は比較的短時間で可能なこ
とから、多数のディスクに連続的にスパッタ成膜するた
めに、第３図に示す構成が採用されている。
第３図は連続スパッタリング装置の主要な機構のみを取
出して示した構成図で、まずベルトコンベア等の外部搬
送装置１で次々と搬送されくるＣＤ等の基板２は、軸中
心に回転及び上下方向に移動可能な円盤状の搬送装置３
の吸着パラ）２１に吸着され、スパッタ室４に搬送され
る。
スパッタ室４では、同じく軸中心に回転及び上下方向に
移動可能な搬送テーブル４１に載置され、順次スパッタ
源４２によりスパッタ成膜が行われる。
スパッタ成膜後の基板２は再び搬送テーブル４１に載置
され、搬送装置３を経て外部に取出される。
ところで、連続的にスパッタ膜を形成する場合、搬送を
円滑に行うためにも基板２が吸着パット２１上に正常に
載置されているかどうか確認することが要求される。
従来の基板検出装置は、一般に第４図に示すように構成
されている。なお、説明上、吸着、＜、、ト２１の取付
は方向を上下逆にして示している。
即ち、基板２を吸着する吸着パット２１と、この吸着パ
ット２１連結された配管５１と、この配管５１とはバル
ブ５２を介して接続された真空ポンプ５３と、基板２に
向は光を照射する光発生器５４と、この光発生器５４か
らの光が基板２面の光反射膜で反射されたのを検知する
光検知器５５とで構成される。なお、バルブ５２の開閉
制御及び大気に連なるノくルブ５Ｂの開閉制御は制御器
５７によって行われ、基板２の吸着解除はバルブ５６を
制御することによって行われる。
この基板検出装置は、基板２が吸着パット２１上の正規
位置に載置されていれば、基板２面の反射光が光検知器
５５で検知される。もつとも、この場合は、基板２に形
成されたＡ１等の光反射膜を利用した光反射形であるか
、これとは別に光発生器５４からの光の透過の有無によ
って識別する光透過形の基板検出装置もある。いずれに
しても、この種の基板検出装置は、単に基板２が吸着パ
ット２１上の位置に物理的に存在するか否かを検知する
ものである。しかし、吸着パット２１を利用して基板２
の搬送を行う構成では、仮に基板２が吸着パット２１上
に載置され、光検知器５５によって基板２の存在が確認
されたとしても、例えば吸着パット２１と基板２との間
に異物が介在して、吸着が正しく行われてないこともあ
った。そのような場合でも、従来の基板検出装置では基
板２が「有（存在）」との検出を行い、そのまま以後の
搬送ステップに移行させることとにり、搬送途中で基板
２が脱落したり、あるいは位置ずれして、正常な成膜操
作が得られないという欠点があった。
また、連続的にスパッタ成膜が行われる場合は、６秒程
度のサイクルで成膜が行われるので、単に、該当基板２
の成膜不良だけで止どまらず、スノマ・ツタリング装置
全体の稼働に大きな障害を与えた。
このことは、ＣＤの枚葉処理に限らないので、例えば半
導体ウニ／１−の処理装置等でも同様である。
正常に捕捉されてはいなくとも、基板が存在するものと
判断するので、実際に運用した場合不都合が生じる欠点
があった。
この発明は、上記従来の欠点を解消し、単に基板の存在
の有無だけでなく、吸着パットに確実に捕捉されている
ことを確認できる基板検知装置を提供することを目的と
する。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） この発明による基板検知装置は、基板を吸引する吸着パ
ットと、この吸着パットに連結された配管と、この配管
とはバルブを介して接続された真空ポンプと、前記配管
に接続され配管内の圧力を検出する圧力検出器とを具備
し、圧力検出器の出力レベルによって前記基板の有無を
１別することを特徴とする。
（作用） この発明は、吸着パットに接続の配管途中に圧力を検出
する検出器を備えたので、基板を吸着したときの管内圧
と非吸着時の管内圧とを識別することによって、基板の
有無を検出するものである。
また管内圧によって、単に基板が吸着パット上に載置さ
れているか否かだけにとどまらず、確実に吸着されてい
るか否かをも識別できるものである。
（実施例） 以下、第１図及び第２図を参照し、この発明による基板
検出装置の一実施例を説明する。なお、第３図及び第４
図に示した従来の基板検出装置と同一構成には同一符号
を付して詳細な説明は省略する。
即ち、基板２を吸着する吸着パット２１と、この吸着パ
ット２１に連結された配管５１と、この配管５１とはバ
ルブ５２を介して接続された真空ポンプ５３と、前記配
管５１に接続され配管内の圧力を検出する圧力検出器５
８と、配管５１の中に大気圧を導入するバルブ５６とで
構成される。
いま、バルブ５２は制御器５７からの制御により例えば
１秒間隔の周期でバルブ開放動作を行い、第２図により
以下説明するように、断続的に吸着動作を行なわせる。
従って、基板２が吸着パット２１に載置されない状態で
は、周期ｔ（例えばｔ−１秒）の短い時間間隔での排気
オン・オフ動作を行い、それに対応して管内圧力検出器
５８では第２図に示す圧力Ｐ１（大気圧）とバルブ開時
のわずかに減圧された圧力Ｐ２との間の繰返し圧力信号
が得られる。そのときバルブ５６は、制御器５７により
閉じられた状態にある。
この状態で基板２が吸着パット２１に載置され吸引され
ると、真空ポンプ５３による排気によって、管内圧力は
急激に低下し管内圧Ｐ３レベルまで低下する。
圧力検出器５８はいわゆる圧力センサーであって、圧力
Ｐ１またはＰ２の状態から圧力Ｐ３の状態への変化を、
閾値りを設定して識別することによって、基板２が確実
に吸着パット２１に補捉されたか否かを判別することが
できる。なお、スパッタ装置では成膜室において、更に
高い真空度のもとにさらされるので、圧力検出器５８で
の検出圧力は一旦Ｐ４まで低下する。
この実施例によれば、制御器５７による断続的なバルブ
５Ｂの開閉操作が行われることから、仮に一時的に基板
２が不完全な状態で載置されていても、バルブ５２の開
閉操作による真空ポンプ５３の断続的な吸引操作の繰返
しにより、基板２が揺動し、次には正しい姿勢で吸着さ
れ得るという利点が得られる。
またこの実施例によれば、ディスク２の有無は勿論のこ
と、吸着状態そのものの良否も判別した上で、その後の
搬送工程及びスパッタ成膜工程に引継ぐことができる。
更に、上記実施例はディスクの有無を検出する場合を例
に説明したが、対象物を吸着によって位置設定するもの
であれば、スパッタリング装置に限らず広く採用できる
ものである。
［発明の効果コ この発明による基板検出装置は、基板が吸着パットに確
実に補捉されたか否かを検出できるものであり、実用に
際して得られる効果大である。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明による基板検出装置の一実施例を示す
構成図、第２図は第１図に示した装置の検出器の検出状
況を示す圧力特性図、第３図は従来の連続スパッタリン
グ装置を示す構成図、第４図は第３図に示す装置に適用
した基板検出装置を示す構成図である。 １・・・外部搬送装置、　２・・・基板、２１・・・吸
着パット、　３・・・搬送装置、４・・・スパッタ室、
　　４１・・・搬送テーブル、４２・・・スパッタ源、
　５１・・・配管、５２．５６・・・バルブ、５３・・
・真空ポンプ、５７・・・制御器、　　　５８・・・圧
力検出器。 ２：基板 ２ｉ：ｎ１ｆｒバ、ソヒ ５１　：　ｉ己省 ５２　　、　５６　　ニ　　バルフパ 第　　１　　図 ＠　　２　　図 第 珈 県 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 　基板を吸引する吸着パットと、この吸着パットに連結
    された配管と、この配管とはバルブを介して接続された
    真空ポンプと、前記配管に接続され配管内の圧力を検出
    する圧力検出器とを具備し、圧力検出器の出力レベルに
    よって前記基板の有無を識別することを特徴とした基板
    検出装置。
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