JP4413953B2 - 欠落部分を有する欠落被搬送体の検出方法 - Google Patents
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Description
チッピング部分から割れを生ずる。その割れた破片等は後続するウェーハに悪影響を及ぼす。またダストとなって装置を汚染するほか装置の故障の原因ともなるので、装置を長時間停止して復旧させることを要し、装置の稼動率を低下させる。
1.被搬送体の搬送方向と直角な方向に被搬送体の幅と同等以上の幅となるように多数個
のユニットセンサが等間隔に並べられ、かつ隣り合うユニットセンサには相互に差異
を識別し得る波長の光による投光部と受光部との組合せが使用されている光センサに
よって、被搬送体の先端を検知する工程と、
2.先端の検知に基づいて、全てのユニットセンサについて同期させて、投光部からの投
光が受光部で受光されているか否かの検出を極短い一定の周期で開始し、投光が被搬
送体の正常部分による反射によって受光部で受光されている状態、または投光が被搬
送体の正常部分による遮断によって受光部で受光されていない状態をカウントして、
該カウントを蓄積する工程と、
3. 光センサによって被搬送体の後端を検知することにより、カウントを停止する工程と、
4.ユニットセンサ毎に蓄積されているカウント値(カウントの積算値)から形成される
受光パターンまたは不受光パターンを正常被搬送体についての同様な受光パターンま
たは不受光パターンと比較し、欠落部分の有無を判定して前記欠落被搬送体を検出す
る工程と
からなる検出方法である。
また本実施例においては、直径200mmのウェーハに対して、17個のユニットセンサを11.8mmピッチで配列したセンサ・ヘッドを使用したが、ウェーハの直径は200mm以上で例えば300mmあってもよく、また200mm以下であってもよい。またユニットセンサの配列ピッチは11.8mmに限らず、ユニットセンサのサイズによって10mmピッチ、または10mm以下としてもよい。すなわち、ユニットセンサの個数の上限は、ウェーハの直径のサイズと使用するユニットセンサのサイズによって定まる。
10 搬送室
13 処理室(スパツタ室)
20 ゲートバルブ
21 弁箱
22 弁体
23 低反射SUS板
25 硬質ガラス板
31 搬送ロボット
33 アーム
34 ハンド
37 ポジションセンサ
41 反射型光センサ
42 センサ・ヘッド
43 ユニットセンサ
44 投光部
45 受光部
48 高速演算部
W ウェーハ
Claims (2)
- 真空処理装置の第一室と第二室とがゲートバルブを介して接続されており、前記第一室と前記第二室との間を一枚ずつ搬送されている被搬送体の中に含まれる欠落部分を有する欠落被搬送体を該欠落被搬送体の搬送中に検出する方法であって、
1.前記被搬送体の搬送方向と直角な方向に前記被搬送体の幅と同等以上の幅となるよう
に多数個のユニットセンサが等間隔に並べられ、かつ隣り合う前記ユニットセンサに
は相互に差異を識別し得る波長の光による投光部と受光部との組合せが使用されてい
る光センサによって、前記被搬送体の先端を検知する工程と、
2.前記先端の検知に基づいて、全ての前記ユニットセンサについて同期させて、前記投
光部からの投光が前記受光部で受光されているか否かの検出を極短い一定の周期で開
始し、前記投光が前記被搬送体の正常部分による反射によって前記受光部で受光され
ている状態、または前記投光が前記被搬送体の正常部分による遮断によって前記受光
部で受光されていない状態をカウントして、該カウントを蓄積する工程と、
3.前記光センサによって前記被搬送体の後端を検知することにより、前記カウントを停
止する工程と、
4.前記ユニットセンサ毎に蓄積されているカウント値(カウントの積算値)から形成さ
れる受光パターンまたは不受光パターンを正常被搬送体についての同様な受光パター
ンまたは不受光パターンと比較し、前記欠落部分の有無を判定して前記欠落被搬送体
を検出する工程と
からなることを特徴とする欠落被搬送体の検出方法。 - 前記第一室が前記真空処理装置の搬送室であり、前記第二室が前記真空処理装置の処理室であり、前記被搬送体が半導体のウェーハである請求項1に記載の欠落被搬送体の検出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007181458A JP4413953B2 (ja) | 2007-07-10 | 2007-07-10 | 欠落部分を有する欠落被搬送体の検出方法 |
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JP2002070797A Division JP4060098B2 (ja) | 2002-03-14 | 2002-03-14 | 真空処理装置およびゲートバルブ |
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JP2008016856A JP2008016856A (ja) | 2008-01-24 |
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JP (1) | JP4413953B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4683053B2 (ja) | 2008-01-28 | 2011-05-11 | 日亜化学工業株式会社 | 射出成形用金型及びこれによって成形される半導体パッケージ並びに半導体パッケージの製造方法 |
JP5134412B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-01-30 | 株式会社ディスコ | チッピング検出方法 |
JP5456711B2 (ja) * | 2011-03-03 | 2014-04-02 | 住友重機械工業株式会社 | 成膜装置 |
KR102051641B1 (ko) * | 2013-04-03 | 2019-12-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 |
KR101943268B1 (ko) * | 2018-04-26 | 2019-01-28 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 진공 시스템, 기판 반송 시스템, 전자 디바이스의 제조 장치 및 전자 디바이스의 제조 방법 |
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---|---|
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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