JPH0412676Y2 - - Google Patents

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JPH0412676Y2
JPH0412676Y2 JP1985182883U JP18288385U JPH0412676Y2 JP H0412676 Y2 JPH0412676 Y2 JP H0412676Y2 JP 1985182883 U JP1985182883 U JP 1985182883U JP 18288385 U JP18288385 U JP 18288385U JP H0412676 Y2 JPH0412676 Y2 JP H0412676Y2
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sealing resin
resin
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recess
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3511Warping

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、樹脂封止形半導体装置、特に、半導
体装置の裏面に取付けねじで放熱体を取付けたと
き、封止樹脂に亀裂が生じない樹脂封止形半導体
装置に関する。
従来の技術 従来の樹脂封止形半導体装置を第10図及び第
11図について説明する。この半導体装置では、
半導体チツプ1は、支持板2の上面2aに半田等
のろう材(図示せず)で接着される。半導体チツ
プ1が保護樹脂3で被覆されたのち、半導体チツ
プ1と支持板2は封止樹脂4で被覆される。封止
樹脂4から複数の外部リード5a,5b,5cが
導出される。外部リード5a,5b,5cは半導
体チツプ1と電気的に接続されており、このうち
外部リード5bは支持板2と一体に形成される。
封止樹脂4には、貫通孔6が設けられる。更に支
持板2の裏面2bには、封止樹脂4の絶縁層4a
が半導体チツプ1の下部で1mm以下の厚さとなる
ように形成される。必要に応じて封止樹脂4の裏
面4bの縁に傾斜面4cで面取りが形成される。
しかし、面取り用傾斜面4cが形成されても、こ
の傾斜面4cを除けば従来の樹脂封止形半導体装
置の裏面4bは、全面に亘り平坦面で形成され
る。
考案が解決しようとする問題点 上記従来の樹脂封止形半導体に放熱体7を取付
ける例は、第12図に示される。放熱体7は、ア
ルミニウム板をプレス成形することにより作成し
たものである。このプレス成形では、放熱体7に
孔8が形成されると同時に放熱体7の裏面から突
出するボス9が孔8の周囲に設けられる。このと
き、プレス成形技術の性質上、放熱体7の上面1
0には、プレス型の抜き方向に傾斜する窪み11
が形成されてしまう。この窪み11は、通常0.1
mm以下(例えば60μm)の深さを有する。孔8に
は雌ねじが切られている。
従来の樹脂封止形半導体装置に放熱体7を取付
ける場合、封止樹脂4に形成された貫通孔6にワ
ツシヤー12を通したねじ13を装着し、ねじ1
3を放熱体7の孔8にねじ込む。なお、孔8に予
め雌ねじが形成されていなければ、ねじ13はタ
ツピングねじを使用する。
ところで、上記放熱体7の取付け工程では、ね
じ13の締付けトルクを適度に調整することが困
難であつた。即ち、ねじ13の締付トルクが小さ
いと、封止樹脂4の裏面4bと放熱体7の上面1
0との密着が不充分となり、半導体チツプ1の通
電時に発生する熱が封止樹脂4から放熱体7に充
分伝達されない不具合が発生した。逆に、ねじ1
3の締付けトルクが大き過ぎると、封止樹脂4に
亀裂が発生した。この状態を第13図について説
明する。
前述の通り、放熱体7にはプレス成形時に窪み
11が形成されるため、封止樹脂4の裏面4bの
うち傾斜面4cと接する部分は、その両端の隅部
4d,4eで放熱体7と接触し、封止樹脂4と放
熱体7との間に間隙14aが形成される。このよ
うな状態でねじ13を締付けると、封止樹脂4に
は曲げモーメントによる曲げ応力が発生する。こ
の曲げ応力は、封止樹脂4の中心部4fで最大と
なることは容易に理解できよう。ねじ13の締付
けによつて封止樹脂4に加えられる外力を第14
図の点4gに加えられる集中荷重Wとして考える
と、封止樹脂4に与えられる曲げモーメントは、
第14図に示される通り、点4gから隅部4dと
4eまでの長さaとb(a=b)に比例する。こ
のように従来の樹脂封止形半導体装置では、これ
らの長さaとbが大きいため、封止樹脂4の中心
部4fに大きな曲げ応力が発生し、このため中心
部4f付近に亀裂14が発生する欠点があつた。
亀裂14が発生すると、半導体装置の耐湿性や絶
縁性に悪影響を与えることになるので、亀裂14
の発生を防止しなければならない。このため従来
では、亀裂14が発生しない程度にねじ13の締
付けトルクを抑えざるを得ず、放熱特性をやや犠
牲にしていた。
ドリル加工で窪みができないようにねじ挿通孔
を形成した放熱体を使用すれば、このような問題
は生じない。しかし、放熱体の加工費が高くなる
し、通常はナツト締めとなることから部品点数の
増加と組立作業能率の低下をもたらし、総合的に
コスト高となる不利がある。
そこで本考案は、ねじ挿通用貫通孔の周辺に窪
みが形成された放熱体を取付けた場合でも封止樹
脂に亀裂が発生し難い樹脂封止形半導体装置を提
供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 半導体チツプを固着した支持板及び外部リード
の一部を被覆する封止樹脂に、半導体チツプに対
向する一方の主面と、一方の主面に対向する他方
の主面と、第1の側面と、第1の側面に対向する
第2の側面と、第1の側面と第2の側面の間に形
成された第3及び第4の側面と、一方と他方の主
面の間を貫通する貫通孔とを設ける。この樹脂封
止形半導体装置では、封止樹脂の他方の主面に貫
通孔を挟んで一対の凹部が形成される。一方の凹
部は、第1の側面、第3の側面及び他方の主面と
の隅部を含む。他方の凹部は、第1の側面、第4
の側面及び他方の主面との隅部を含む。貫通孔の
周囲にある封止樹脂の厚さは、凹部と一方の主面
との間の厚さより大きい。
作 用 本考案では、ねじ挿通用貫通孔の周辺に窪みの
形成された放熱体が取付けねじにより樹脂封止形
半導体に取付けられたとき、前記隅部が放熱体と
接触しないか又は接触が弱められる。したがつて
ねじの締付けによつて、封止樹脂に加えられる曲
げモーメントが著しく減少し、封止樹脂に亀裂が
発生し難くなる。また、放熱体に接触しない封止
樹脂の一方の主面の表面積を減少せずに封止樹脂
を形成できるので、第1の側面付近において支持
板を被覆する封止樹脂を従来の樹脂封止形半導体
とほぼ同じ厚さで形成することができる。このた
め、封止樹脂の十分な機械的強度と絶縁耐圧を確
保すると同時に、前記の作用を得ることができ
る。
実施例 以下、本考案の実施例を第1図〜第9b図につ
いて説明する。これらの図面では、第10図〜第
14図に示される従来例と同一の部分について
は、同一符号を付す。
第1図及び第2図に示すように、本考案の樹脂
封止形半導体装置の封止樹脂4は、半導体チツプ
1を固着した支持板2及び外部リード5a〜5c
の一部を被覆する。封止樹脂4は、半導体チツプ
1に対向する一方の主面4hと、一方の主面4h
に対向する裏面(他方の主面)4bと、第1の側
面4iと、第1の側面4iに対向する第2の側面
4jと、第1の側面4iと第2の側面4jの間に
形成された第3の側面4k及び第4の側面4l
と、一方の主面4hと裏面4bの間を貫通する貫
通孔6とを備えている。この樹脂封止形半導体装
置では、封止樹脂4の裏面4bに貫通孔6を挟ん
で一対の凹部15が形成される。一方凹部15
は、第1の側面4i、第3の側面4k及び裏面4
bとの隅部4dを含む。他方の凹部15は、第1
の側面4i、第4の側面4l及び裏面4bとの隅
部4eを含む。この凹部15は、貫通孔6に隣接
する封止樹脂4の裏面4bの隅部4d,4eを含
む。第2図に示される通り、凹部15は、隅部4
d,4eから中心軸Lと平行に封止樹脂4の裏面
4bの両側端部に沿つて、貫通孔6を越えて端部
16まで伸びる。又、凹部15は、隅部4d,4
eから中心軸Lと直角方向内側に端部17まで伸
びる。凹部15によつて、貫通孔6の周囲には、
丸い側面18が形成される。第1図に示される実
施例では、凹部15は、均一な深さh=0.2mmを
有する。
第1図及び第2図に示される実施例では、封止
樹脂4の裏面4bの全体形状はほぼ長方形で、少
なくとも1個形成された貫通孔6が封止樹脂4の
裏面4bに表われる四辺のうち一辺19と対向す
る辺20より前記一辺19に接近しており、この
一辺19の両端の隅部4d,4eは凹部15に含
まれ、凹部15は一辺19を挟む平行な二辺21
と22に沿つてこれらの平行な二辺21と22を
含みつつ伸び、かつ凹部15は、貫通孔6の内周
上での前記一辺19に最近接の点を通りかつ前記
一辺19に平行な直線を越えて伸びるが、前記一
辺19と対向する辺20までは伸びない。凹部1
5は、半導体チツプ1の側面上での前記一辺19
に最近接の点を通りかつ前記一辺19に平行な直
線を越えては伸びない。又凹部15は、隅部4d
と4eにおいてh=0.1mm以上の深さを有する。
このため、貫通孔6の周囲にある封止樹脂4の厚
さは、凹部15と一方の主面4hとの間の厚さよ
り大きい。
第1図及び第2図に示される本考案の樹脂封止
形半導体装置に放熱体7を取付けた実施例を示す
第3図及び第4図について説明する。ねじ13で
本考案の樹脂封止形半導体装置に放熱体7を取付
ける場合、ねじ13に締付けトルクを加えても封
止樹脂4の裏面4bの隅部4d,4eは、放熱体
7に接触しない。その代りに封止樹脂4の裏面4
bは、端部17で放熱体7と接触し、集中荷重W
が加えられる点4gから端部17までの長さcと
d(c=d)は、第4図及び第14図の比較から
明らかな通り、長さaとbより著しく小さい。し
たがつて、本考案による樹脂封止形半導体装置で
は、取付けねじ13の締付け時に封止樹脂4に加
えられる曲げモーメントを極めて小さくできるこ
とが理解できよう。
実際に、締付けトルク8Kg−cmで従来の樹脂封
止形半導体装置に放熱体7を取付けたとき80%の
装置で封止樹脂に亀裂が発生したのに対して、実
施例の装置では亀裂が全く発生しなかつた。ま
た、本考案によれば、放熱体7に接触しない封止
樹脂4の一方の主面4hの表面積を減少せずに封
止樹脂4を形成できる。このため、第1の側面4
i付近において支持板2を被覆する封止樹脂4を
従来の樹脂封止形半導体とほぼ同じ厚さで形成し
て、封止樹脂4の十分な機械的強度と絶縁耐圧を
確保することができる。更に、樹脂封止形半導体
装置をプリント基板に実装する際に、既存の実装
機をそのまま使用することができる。
本考案は、同一技術思想の範囲内で種々の変更
が可能である。これらの変更例を第5図〜第9b
図について説明する。第5図は、第2図に示され
る実施例において、軸方向の端部16と軸に直角
方向の端部17とを直角に接続した例を示す。第
6図は、三角形状に凹部15を設けた例を示す。
第7図は、端部17を除去し、中心軸の両側に形
成した凹部15を接続した例を示す。第8a図及
び第8b図は、凹部15が傾斜面23で形成され
た例を示す。同様な手法として、凹部15を階段
状に形成することもできる。第9a図及び第9b
図は、複数の貫通孔6が設けられた封止樹脂4を
有する樹脂封止形半導体装置の例を示し、長方形
の4つの隅部のそれぞれに凹部15が形成され
る。
なお、凹部15の深さhは、隅部4d,4eに
おいて0.1mm以上あればよい。hが0.1mm程度では
放熱体7の窪み11が大きいときは、隅部4d,
4eが放熱体7に接触することがある。しかしこ
の場合でも、隅部4d,4eの放熱体7への押圧
力は弱められるので、従来に比べれば亀裂は生じ
難い。
考案の効果 上述の通り、本考案の樹脂封止形半導体装置で
は、取付けねじにより放熱体が前記半導体装置に
取付けられたとき、封止樹脂が放熱体に形成され
た窪みに接触する場合でも、取付けねじの締付け
トルクによつて封止樹脂に亀裂が発生し難い。し
たがつて、取付ねじを従来より強いトルクで締付
けることができ、その分、放熱体への熱伝達が良
好になり、高い放熱効果が得られる。また本考案
の樹脂封止形半導体装置では、窪みのない平坦な
放熱体を使用するときでも支障はない。更に、第
1の側面付近において支持板を被覆する封止樹脂
を従来の樹脂封止形半導体とほぼ同じ厚さで形成
できるので、亀裂の発生を防止することも可能と
なる。その上、既存の実装機に改良を加えること
なく、その実装機を使用して本考案の樹脂封止形
半導体装置をプリント基板に実装することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図は本考案の実施例を示し、第1
図は本考案による樹脂封止形半導体装置の側面
図、第2図はこの裏面図、第3図は本考案の樹脂
封止形半導体装置に放熱体を取付けた場合におけ
る第1図のA−A線断面図、第4図は第3図と同
様の場合を示す部分的平面図、第5図〜第9b図
は本考案の他の実施例を示し、第5図〜第8a図
及び第9a図は第2図に対応する裏面図、第8b
図は第8a図の側面図、第9b図は第9a図の側
面図を示す。第10図〜第14図は従来例を示
し、第10図は従来の樹脂封止形半導体装置の断
面図、第11図は第10図の裏面図、第12図は
従来の樹脂封止形半導体装置に放熱体を取付けた
場合の断面図、第13図は第12図のB−B線断
面図、第14図は第13図と同様の場合を示す部
分的平面図である。 1……半導体チツプ、2……支持板、3……保
護樹脂、4……封止樹脂、4a……絶縁層、4b
……裏面、4c……傾斜面、4d,4e……隅
部、4f……中心部、5a,5b,5c……外部
リード、6……貫通孔、7……放熱体、14……
封止樹脂の亀裂、15……凹部、16,17……
凹部の端部、h……凹部の深さ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 半導体チツプを固着した支持板及び外部リード
    の一部を被覆する封止樹脂に、前記半導体チツプ
    に対向する一方の主面と、該一方の主面に対向す
    る他方の主面と、第1の側面と、前記第1の側面
    に対向する第2の側面と、前記第1の側面と第2
    の側面の間に形成された第3及び第4の側面と、
    前記一方と他方の主面の間を貫通する貫通孔とを
    設けた樹脂封止形半導体装置において、 前記封止樹脂の前記他方の主面に前記貫通孔を
    挟んで一対の凹部を形成し、 前記凹部の一方は、前記第1の側面、第3の側
    面及び前記他方の主面との隅部を含み、前記凹部
    の他方は、前記第1の側面、第4の側面及び前記
    他方の主面との隅部を含み、 前記貫通孔の周囲にある前記封止樹脂の厚さ
    は、前記凹部と前記一方の主面との間の厚さより
    大きいことを特徴とする樹脂封止形半導体装置。
JP1985182883U 1985-11-29 1985-11-29 Expired JPH0412676Y2 (ja)

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JP1985182883U JPH0412676Y2 (ja) 1985-11-29 1985-11-29

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JPS6291443U JPS6291443U (ja) 1987-06-11
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11244774B2 (en) 2018-05-25 2022-02-08 Koa Corporation Resistor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56129747U (ja) * 1980-02-28 1981-10-02
JPS59112951U (ja) * 1983-01-20 1984-07-30 サンケン電気株式会社 絶縁物封止半導体装置

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US11244774B2 (en) 2018-05-25 2022-02-08 Koa Corporation Resistor

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