JPH04117461A - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成物に関し
、詳しくは、特定の２−ヒドロキシベンゾフェノン化合
物を添加することによって、長期間にわたって耐光性の
改善された高分子材料組成物に関する。

ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ
塩化ビニル等の高分子材料は光の作用により劣化し、変
色あるいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使
用に耐えないことが知られている。

そこで、高分子材料の劣化を防止するために、従来から
種々の光安定剤が用いられている。これらの光安定剤と
しては、ヒンダードアミン系の光安定剤、ベンゾフェノ
ン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が主と
して用いられており、特に、２−ヒドロキシベンゾフェ
ノン系の紫外線吸収側はその安定化効果が大きく、広く
用いられている。

しかしながら、従来用いられていたヘンシフエノン系の
化合物はそれ自身の耐熱性に劣り、高分子材料の加工中
あるいは高温下での使用時に分解し易い欠点を有してお
り、実用上不満足なものであった。また、従来知られて
いたベンゾフェノン系の化合物をＳＢＲラテ・ンクス等
の高分子材料の水分散液に添加しようとする場合、分散
性に劣り、その効果を充分に発揮し難い欠点を有してお
り、実用的なものとはなりえなかった。

本発明者等は、上記の現状に鑑み、新規なタイプの光安
定剤を得るために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（
Ｉ）で表される化合物が耐熱性に優れ、苛酷な加工条件
下においても合成樹脂等の高分子材料に長期の耐候性を
付与しえるばかりでなく、この塩化合物は、水溶性のた
め、水溶性塗料、ラテックス用としても有用であること
を見出し本発明に到達した。

即ち、本発明は高分子材料１００重量部に対して、下記
一般式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン化合物０．００
１〜５重量部を添加してなる、耐光性の改善された高分
子材料組成物を提供するものである。

〔式中、 Ｒはアルキレン基を示し、 ｎは１〜２ 一０Ｒ−Ａｚを示し、 ＾２はｎ＝１のときのＡ と同じ意味 を示す。〕 以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述する。

上記式中、Ｒで表されるアルキレン基としては、例えば
、エチレン基、１，２−プロピレン基、１゜３−プロピ
レン基、１．２−ブチレン基、１．３ブチレン基、１．
４−ブチレン基、２−メチル１．３−プロピレン基、ペ
ンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基
、ノナメチレン基、デカメチレン基、ジメチルメチレン
基、２−ヒドロキシ−１，３−プロピレン基、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１，３プロピレン基等があげられ
る。Ｒ，、Ｒ，、Ｒ１及びＲ４のアルキル基してはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、第ニブチル基
、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ラウ
リル基、パルミチル基、ミリスチル基、ステアリル基、
ベンジル基等が挙げられ、Ｘとしては塩素及び臭素等の
ハロゲン原子及び過塩素酸等のハロゲン酸素酸等が挙げ
られる。

尚、Ｒ３−Ｒ１が有機基の場合、第四級アンモニウム塩
なり、Ｒ１−Ｒ３の少なくとも１つが水素原子の場合み
アミンの無機塩となる。

上記一般式（１）で表される化合物は、例えば、２４−
ジヒドロキシベンゾフェノンまたは２゜４４”−トリヒ
ドロキシヘンシフエノンとジブロモアルカンまたはブロ
モクロルアルカンを反応させた後、各種アミン類を反応
させるか、または、２４−ジヒドロキシベンゾフェノン
または２４．４°−トリヒドロキシヘンシフエノンにグ
リシジルアミンまたはグリシジルアンモニュウム塩を反
応させる事により容易に製造することができる。また、
当然ながら、アミノ基を有する場合は、塩酸等の無機酸
で塩にする事ができる。

また、必要に応じて、トルエン、ヘキサン、オクタン、
エタノール、イソプロパツール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等の反応に不活性な溶媒を使用することも可
能である。

本発明の上記一般式（１）で表される化合物を製造する
ために用いられるジブロモアルカン化合物、ブロモクロ
ルアルカン化合物としては、例えば、１，２ジブロモエ
タン、１，３ジブロモプロパン、１．４ジブロモブタン
、１，５ジブロモペンクン、１．６ジブロモヘキサン、
１−フロモー２−クロロエタン、１−ブロモ−３−１四
ロプロパン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１−ブロ
モ−６−クロロヘキサンのような化合物をあげることが
できる。

本発明の上記一般式（１）で表される化合物を製造する
ために用いられるアミン化合物としては、例えば、プロ
ピルアミン、ジプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチ
ルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、ラウリ
ルアミン、ジラウリルアミン、ステアリルアミン、ジス
テアリルアミン、モルホリン、ピペラジン、４−メチル
ピペラジ、４−アミノ−２２６６−チトラメチルピベリ
ジン、４−アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジンのような化合物をあげることができる。

本発明の上記一般式（１）で表される化合物を製造する
ために用いられるグリシジルアミンまたはグリシジルア
ンモニュウム塩化合物としては、グリシジルモルホリン
、Ｎ−グリシジル−Ｎ゛メチルビペラジングリシジルト
リメチルアンモニウムクロライドのような化合物をあげ
ることができる。

反応は、室温〜約２５０°Ｃまでの範囲から適宜選択さ
れるが、好ましくは、約７０°Ｃ〜約１５０°Ｃで行わ
れる。

次に、本発明で用いられる前記一般式（１）で表される
化合物の具体的な合成例をあげるが、本発明は下記の合
成例によって制限を受けるものではない。

〔合成例］ 合成例−１ （１）２−ヒドロキシ−４−（３−クロロプロポキシ）
ベンゾフェノンの合成 ナトリウムエトキサイド（２００ｍｌのエタノールと３
ｇのナトリウムより調整）溶液に２．４−ジヒドロキシ
ヘンシフエノン２１．４ｇを添加し、溶液を加熱沸騰後
、１−ブロモ−３−クロロプロパン１５．７ｇを添加し
た。撹拌、リフラックス下で、２４時間反応後、冷却、
沈降物をろ過、ろ液から脱溶媒し、残渣を水とクロロホ
ルムの混合溶液に分散溶解した。下層を薄いカセイソー
ダ溶液、次に水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水
、減圧で脱溶媒した。得られた粗生成物をメタノールよ
り再結晶し、２５ｇ（収率８１％）の２−ヒドロキシ−
４−（３−クロロプロピル）ヘンシフエノンを得た。

（２）２−ヒドロキシ−４−（３−モルホリノプロピル
）ベンゾフェノンの合成 １００ｍ１のモルホリンに２−ヒドロキシ−４−（３−
クロロプロピル）ベンゾフェノン２５ｇを添加、１２時
間、リフラックス撹拌下で反応させ、冷却、沈降物をろ
過、未反応のモルホリンを減圧回収した。得られた粗生
成物をメタノールより再結晶して、２１．６ｇ（収率８
０％）の黄色の結晶の目的物（融点２４０°Ｃ以上）を
得た。

合成例−２ （１）２−ヒドロキシ−４−（４−ブロモブトキシ）ベ
ンゾフェノンの合成 １．４ジブロモブタン３０ｇを用いる他は、合成例１と
同様の操作で３３．２ｇ（収率９５％）の２−ヒドロキ
シ−４−（４−ブロモブトキシ）ベンゾフェノンを得た
。

（２）２−ヒドロキシ−４−（４−（２，２，６゜６−
テトラメチル−４−ピペリジニルアミノ）ブトキシ〕ベ
ンゾフェノンの合成 トルエン１００ｍ１に２−ヒドロキシ−４−（４−ブロ
モブトキシ）ベンゾフェノン１７．５ｇ及び炭酸カリウ
ム７．０ｇを添加、５分間リフラックス後、４−アミノ
−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン１５．６ｇ
を加え、２４時間リフラックス下で反応させた。冷却ろ
退役、脱溶媒し、１時間室温にて放置後、得られた粗生
成物をメタノールにより再結晶して、融点２５２．４°
Ｃの２−ヒドロキシ−４−（４−（２，２，６ローテト
ラメチルー４−ピペリジニルアミノ）ブトキシ］ベンゾ
フェノン１６．９ｇ（収率８０％）を得た。

合成例−３ ＮＯ９３人　　の入 トルエン１００ｍ１に２−ヒドロキシ−４−（３−クロ
ロプロピル）ベンゾフェノン５８　ｇ及び炭酸カリウム
１４ｇを添加、５分間リフランクス後、４−アミノ−２
，２，６，６−チトラメチルピペリジン１５．６ｇを４
時間以上かけ加え、２４時間リフラックス下で反応させ
た。冷却ろ退役、減圧下で脱溶媒し、得られた粗生成物
をクロロホルムに溶解し、薄いカセイソーダ溶液、次に
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水、減圧で脱溶
媒した。得られた粗生成物をメタノールより再結晶し、
次に塩酸を添加する事によ？り塩酸塩を９０ｇ（融点１
４５°Ｃ以上、収率６５％）得た。

合成例−４ Ｎｏ、　４　　人　　の入 ２−ヒドロキシ−４−（３−クロロプロピル）ベンゾフ
ェノン２９ｇに１００ｍ１の４−メチルビペラジンを加
え、撹拌下でリフランクスし、１２時間反応させた。冷
却ろ退役、減圧下で未反応の４−メチルビペラジンを回
収した。次に、４規定の塩酸水溶液を加え、これをメタ
ノールより再結晶して、淡褐色の結晶２０ｇ（融点１９
５〜１９８°Ｃ２収率６５％）得た。

合成例−５ ｉ土ｊＪＤ」甥叙戊 ２．４−ジヒドロキシベンゾフェノン５３．６ｇとグリ
シジルトリメチルアンモニウムクロライド４９．５ｇ　
（３０％過剰）にイソプロパツール２５０ｍ１を加え、
ナトリウムエトキサイドの３％エタノール溶液を数滴加
えてＰＨを９に調整し、リフランクス下、２４時間反応
させた。得られた褐色溶液に活性炭０．２ｇと珪藻±０
．２ｇを加え、熱時ろ退役、減圧にてイソプロパツール
を留去して粘稠な淡黄色液体を得た。これをエーテルで
洗浄し不純物を除去後、室温にて乾燥することにより目
的物７０ｇ（融点４６〜４８°Ｃ１収率７０％）を得た
。

合成例−６ 孔治１１」針叙戊 Ｂ Ｈ ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンの代わりに２．４
．４“−トリヒドロキシベンゾフェノン５５．４ｇを用
い、グリシジルトリメチルアンモニウムクロライ）”　
９９　ｇと合成例−５と同様の方法により合成し黄色の
固体９９．３ｇ（収率７０％）を得た。

本発明は、上記の特定の２−ヒドロキシヘンソフェノン
化合物を高分子材料用の光安定剤として用いるものであ
り、その添加量は特に制限を受けないが、高分子材料１
００重量部に対して、通常０．００１〜５重量部、好ま
しくは０．０１〜３重量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、高密度、低密度または直鎖状低密度ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−３
−メチルペンテン等のαオレフイン重合体またはエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合
体等のポリオレフィン及びこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチ
レン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体
、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロ
へキシルマレイミド共重合体、塩化ビニル−シクロへキ
シルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂
、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アク
リル樹脂、スチレン及び／又はαメチルスチレンと他の
単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド
、メタクリル酸メチル、ブタジェン、アクリロニトリル
等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、Ｍ
ＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及
びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエス
テル、ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタム
及びポリへキサメチレンアジポアミド等のポリアミド、
ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可望性
合成樹脂及びこれらのブレンド物あるいはフェノール樹
脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂をあげることができ
る。更に、イソプレンゴム、フタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン−ブタジェ
ン共重合ゴム等のエラストマーであっても良い。

本発明の組成物には、前記一般式（１）で表される化合
物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等の添加剤を併
用することができる。

これらの添加剤として特に好ましいものとしては、フェ
ノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗酸化剤、ヒン
ダードアミン系の光安定剤があげられる。

上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、２．６−
ジ第三ブチル−Ｐ−クレゾール、２．６−ジフェニル−
４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５
−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−プロピオ
ネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒ
ドロキシヘンシル）ホスホネート、チオジエチレングリ
コールビス（（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネートＬ　　１．６−ヘキサメチレ
ンビス（（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート）、１．６−ヘキサメチレンビス
（（３，５−ジ第三ブチルー４ヒドロキシフェニル）プ
ロピオン酸アミド］、４゜４−チオビス（６−第三ブチ
ル−ｍ−クレゾール）、２．２”−メチレンビス（４−
メチル−６第三ブチルフエノール）、２２“−メチレン
ビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス
〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェ
ニル）ブチリックアシッドコグリコールエステル、４．
４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾー
ル）、２．２”−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフエノール）、２．２°−エチリデンビス（４−第二
ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１．１．３−）
リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフ
ェニル）ブタン、ビス〔２−第三ブチル−４メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３＝第三ブチル５−メチルヘンシ
ル）フェニル］テレフタレート、１，３．５−）リス（
２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベ
ンジル）イソシアヌレート、１，３．５−トリス（３，
５−ジ第三ブチルー４−ヒドルキシベンジル）イソシア
ヌレート、１．３．５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
ー４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６トリメチルベ
ンゼン、１，３．５−　トリス〔（３゜５−ジ第三ブチ
ルー４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチ
ル〕イソシアヌレート、テトラキス〔メチレン−，３−
（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネートコメタン、２−第三ブチル−４−メチル−
６−（２アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メ
チルベンジル）フェノール、３，９−ビス〔１゜１−ジ
メチル−２−（（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）エチル）−２
，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデ
カン、トリエチレングリコールビス［（３−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネー
ト］等が挙げられる。

また、上記硫黄系抗酸化剤としては例えば、チオジプロ
ピオン酸ジラウリル、シミリスチル、ジステアリル等の
ジアルキルチオジブロピオふ一ト類及びペンタエリスリ
トールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロビオネート
）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン
酸エステル類があげられる。

また、上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、
トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−
ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２−第
三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスフ
ァイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニル
ホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト
、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ジステアリルペンクエリスリトールジホスファイト
、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三
ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデン
ジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−
４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−
メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシ
ル）−１，１，３−１−リス（２メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト
、テトラキス（２゜４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェ
ニレンジホスホナイト、９１０−シバイドロー９−オキ
サ１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド等
があげられる。

また、上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例え
ば、２，２，６．６−テトラメチル−４−ピペリジルベ
ンゾエート、Ｎ−（２，２，６゜６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−（（３，
５−ジ第三ブチル４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシエチル］−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒＦロキ
シフェニル）プロピオネート、ビス（２，２゜６．６−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１
，２，２，６，６−ペンタメチル４−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（１，２２，６，６−ベンタメチルー４−
ピペリジル）２−ブチル−１（３，５−ジ第三ブチルー
４ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ、Ｎ”　−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）へ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、テトラ（１，２，２６，６−ベンタメチルー４−ピ
ペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，
２，６，６テトラメチルー４−ピペリジル）・ジ（トリ
デシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１゜２
．２，６．６−ベンタメチルー４−ピペリジル）・ジ（
トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、３．９−
ビス（１，１−ジメチル−２−（トリス（２，２，６ロ
ーテトラメチルー４−ピペリジルオキシカルボニルオキ
シ）ブチルカルボニルオキシ）エチル）−２，４，８，
１０−テトラオキサスピロｌ：５．５］ウンデカン、３
，９−ビス（１，１−ジメチル−２−（トリス（１，２
゜２．６．６−ベンタメチルー４−ピペリジルオキシカ
ルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ）エチル）−
２，４８１０−テトラオキサスピロ（５，５：ｌウンデ
カン、１，５，８．１２−テトラキス〔４，６−ビス（
Ｎ−（２，２，６，６テトラメチルー４−ピペリジル）
ブチルアミノ）１．３．５−）リアジン−２−イル）−
１，５゜８．１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジツール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三
オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−Ｓトリアジン／Ｎ
、Ｎ’−ビス（２，２，６，６テトラメチルー４−ピペ
リジル）へキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ、Ｎ’−ビ
ス（２，２，６ローテトラメチルー４−ピペリジル）へ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等があげ
られる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加
工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は、例えば、農
業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光性が要求される
分野に特に有用であり、例えば、フィルム、繊維、テー
プ、シート、各種成型材料、塗料、ラッカー用結合剤、
接着剤、パテ及び写真材料における基材等に用いること
ができる。

（実施例〕 次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

実施例１ 下記の配合により、２５０°Ｃで押し出し加工してベレ
ットを作成した。次いで、２５０°Ｃで射出成型して、
厚さ１ｍｍの試験片を作成した。この試験片について、
高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行った。また、８
０’Ｃの熱水に４８時間浸漬後の試験片についても同様
に試験を行った。

その結果を次の表−１に示す。

〈配合〉 ポリプロピレン（Ｐｒｏｆａｘ　６５０１）　　　１０
０重量部ステアリン酸カルシウム　　　　　　　　０．
　１試料化合物（表−１参照）　　　　　　　０．２５
表 註：上記表 １中、 比較化合物１及び比較化合物 ２は下記の通りである。

（下記表 ２〜表 ６でも同様） 比較化合物１ ２−ヒドロキシ ｎ−オクトキシベンゾフ エノン 比較化合物２ １゜ ビス ベンゾイル ３−ヒドロキ ジフェノキシ）ブタン 実施例２ 本実施例では、押し出し加工を繰り返すことにより高温
加工による安定化効果の変化をみた。

下記の配合により、樹脂と添加剤をミキサーで５分間混
合した後、２５０°Ｃて押し出し加工してコンパウンド
を作成した。押し出しを１０回繰り返した後、２５０″
Ｃで射出成型して試験片を作成した。得られた試験片を
用いて、高圧水銀ランプで耐光性試験を行った。また、
押し出し１回及び５回のコンパウンドについても同様に
試験を行った。その結果を表−２に示す。

〈配合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂　１００重量部ステア
リン酸カルシウム　　　　　　　０．２ジラウリルチオ
ジプロピオネート　　　０．２試料化合物（表−２参照
）０．２ 表 実施例　３ 下記の配合物を用い、混練後プレス加工して、厚さ０．
５門の試験片を作成した。この試験片を用いて、ウェザ
ウメ−ター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を
測定した。

その結果を表−３に示した。

く配合〉 ポリエチレン ００重量部 ステアリン酸カルシウム １゜ 試料化合物（表 ３参照） Ｏｌ 表 実施例４ 下記の配合により、２６０　’Ｃで押し出し加工してベ
レットを作成し、次いで、２６０°Ｃで射出成型して、
厚さ１ｍｍの試験片を作成した。この試験片を用いて、
８３°Ｃのサンシャインウェザオメーター（雨なし）に
よる耐候性試験行い、４００時間照射後の色差を測定し
た。

その結果を次の表−４に示した。

カルシウムステアレート ０．４ 二酸化チタン 試料化合物（表−４参照） ０゜ ０゜ 表 実施例５ 下記配合物を７０°Ｃで５分間ロール上で混練し、１２
０°Ｃで５分間プレスして厚さ０．５ｎｒｍの試験片を
作成した。この試験片を用いて、フェードメーターで５
０時間及び１００時間照射後の伸び残率を測定した。

その結果を表−５に示す。

く配合〉 ポリウレタン樹脂　　　　　　　　１００重量部（旭電
化製Ｕ バリウムステアレート ０゜ 亜鉛ステアレート ０゜ 試料化合物 （表 ５参照） ０゜ 表 実施例６ 下記の配合物を用い、 混練ロールにより混練し 厚さ０．１胚のフィルムを作成した。このフィルムから
試験片を切取い、ウェザロメーターによる耐候性試験を
行った。

その結果を表−６に示す。

く配合〉 塩化ビニル樹脂（重合度１，０００）　　　１００重量
部ジオクチルフタレート　　　　　　　　４７エボキシ
化大豆油　　　　　　　　　　３亜鉛ステアレート　　
　　　　　　　　　０．８エーテル ソルビタンモノパルミテート 試料化合物（表−６参照） ０゜ 表 実施例７ ステアリル（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート４０重Ｈａ３、試料化合物（表
−７参照）１０重量部、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテル２重量部、ジオクチルスルホコハク酸エス
テルナトリウム３重量部、エルカ酸アミド１０重量部、
シリコン系消泡剤０．１重量部及び蒸留水３４．９重量
部をとり、ホモジナイザーにより均質化し、酸化防止剤
分散液を得た。

次に、スチレン−ブタジェンゴムラテックス（樹脂固形
分５０％）２００重量部、重質炭酸カルシウム３００重
量部及び上記酸化防止剤分散液２．５重量部をとり、充
分に撹拌後、テフロン板上に流し、１夜放置乾燥し、厚
さ１ｍｍのシートを作った。

このシートから試験片を切取い、ウェザロメーターによ
る耐候性試験を行った。

その結果を表−７に示す。

表 〔発明の効果］ 上記各実施例の結果から、本発明の特定のベンゾフェノ
ン化合物を用いた場合は、従来知られていた単量体型あ
るいは二量体型の化合物を用いた場合よりも、安定化効
果が著しく大きいことは明らかである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に対して、下記一般式（ I ）
   で表されるベンゾフェノン化合物０．００１〜５重量部
   を添加してなる、耐光性の改善された高分子材料組成物
   。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒはアルキレン基を示し、ｎは１〜２を示し、
   Ａ＿１はｎ＝１のとき▲数式、化学式、表等があります
   ▼または▲数式、化学式、表等があります▼を示し、（
   Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は独立に、Ｈ、アルキル基また
   は▲数式、化学式、表等があります▼を示し、またＲ＿
   １とＲ＿２が互いに結合して、▲数式、化学式、表等が
   あります▼または▲数式、化学式、表等があります▼を 形成しも良い、Ｒ＿４はＨまたはアルキル基を示し、Ｘ
   ＾−は無機アニオンを示しす。）ｎ＝２のとき＝Ｎ−Ｒ
   ＿１または▲数式、化学式、表等があります▼を示す。 ＢはＨまたは−ＯＲ−Ａ＿２を示し、Ａ＿２はｎ＝１の
   ときのＡ＿１と同じ意味を示す。〕