JPH0411308A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0411308A JPH0411308A JP2114250A JP11425090A JPH0411308A JP H0411308 A JPH0411308 A JP H0411308A JP 2114250 A JP2114250 A JP 2114250A JP 11425090 A JP11425090 A JP 11425090A JP H0411308 A JPH0411308 A JP H0411308A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気ヘッド及びその製造方法に係り、特にギャ
ップ長をより高精度に管理できるよう構成した磁気ヘッ
ド及びその製造方法に関する。
ップ長をより高精度に管理できるよう構成した磁気ヘッ
ド及びその製造方法に関する。
従来の技術
例えばビデオテープレコーダ、デジタル・オディオ・テ
ープレコーダ等て使用される磁気ヘッドでは、第13図
〜第17図に示すような工程で製造されている。第13
図において、第1、第2のコアブロック1.2は、例え
ばFe−A1?−3土合金、あるいはMn−Zn−Fe
rrite等の磁性体により形成され、その突き合せ面
1a、2aにはスパッタリング等により磁性薄膜3,4
が被覆形成されている。第16図に拡大して示すように
第1のコアブロックlの磁性薄膜3の表面にはギャップ
形成用の非磁性薄膜(S i 02系ガラス)5か堆積
される。そして、第1.第2のコアブロック1,2は第
14図に示す如(夫々突き合せ面1a、2aを対向させ
た状態で接合し低融点のガラス6を介して接着される。
ープレコーダ等て使用される磁気ヘッドでは、第13図
〜第17図に示すような工程で製造されている。第13
図において、第1、第2のコアブロック1.2は、例え
ばFe−A1?−3土合金、あるいはMn−Zn−Fe
rrite等の磁性体により形成され、その突き合せ面
1a、2aにはスパッタリング等により磁性薄膜3,4
が被覆形成されている。第16図に拡大して示すように
第1のコアブロックlの磁性薄膜3の表面にはギャップ
形成用の非磁性薄膜(S i 02系ガラス)5か堆積
される。そして、第1.第2のコアブロック1,2は第
14図に示す如(夫々突き合せ面1a、2aを対向させ
た状態で接合し低融点のガラス6を介して接着される。
さらに、第1、第2のコアブロック1.2を一体化して
なるブロック7のギャップ形成面7a側にトラック幅に
応じたギャップ7bが形成されるようギャップ延在方向
(X方向)と直交するX方向に溝(図示せず)を切削加
工し、この溝内にギャップ補強用のガラス8を充填する
。そして、第15図に示すようにブロック7をX方向に
切断して薄板状の磁気ヘッド9を得る。
なるブロック7のギャップ形成面7a側にトラック幅に
応じたギャップ7bが形成されるようギャップ延在方向
(X方向)と直交するX方向に溝(図示せず)を切削加
工し、この溝内にギャップ補強用のガラス8を充填する
。そして、第15図に示すようにブロック7をX方向に
切断して薄板状の磁気ヘッド9を得る。
発明か解決しようとする課題
ところか、上記のように製造される磁気ヘッドては、第
17図に拡大して示すように■磁性体の突き合せ面1a
のソリあるいはうねり、■大気中に浮遊する塵埃、■非
磁性薄膜のソリあるいはうねり等により第1のコア半体
1′側のギャップ形成用の非磁性薄膜5と第2のコア半
体2側の磁気薄膜4との間には隙間Sが介在してしまう
。そのため、従来はギャップ長G1が非磁性薄膜5の厚
さ1、と上記隙間Sとの厚さtsとの合計となってしま
い、当初ギャップ長G i” t Mで設計されていて
も実際のギャップ長はGA=t、 十t sとなるため
上記隙間Sの厚さts分大きくなり、その分高密度記録
できなくなってしまうといった課題がある。しかも、上
記隙間Sの厚さtsは一定でなく、前記■〜■の原因に
よりバラツクため、ギャップ長G!!の正規分布(3σ
値)は例えば0.48〜0.6μmの範囲でバラライで
いた。
17図に拡大して示すように■磁性体の突き合せ面1a
のソリあるいはうねり、■大気中に浮遊する塵埃、■非
磁性薄膜のソリあるいはうねり等により第1のコア半体
1′側のギャップ形成用の非磁性薄膜5と第2のコア半
体2側の磁気薄膜4との間には隙間Sが介在してしまう
。そのため、従来はギャップ長G1が非磁性薄膜5の厚
さ1、と上記隙間Sとの厚さtsとの合計となってしま
い、当初ギャップ長G i” t Mで設計されていて
も実際のギャップ長はGA=t、 十t sとなるため
上記隙間Sの厚さts分大きくなり、その分高密度記録
できなくなってしまうといった課題がある。しかも、上
記隙間Sの厚さtsは一定でなく、前記■〜■の原因に
よりバラツクため、ギャップ長G!!の正規分布(3σ
値)は例えば0.48〜0.6μmの範囲でバラライで
いた。
そこで、本発明は上記課題を解決した磁気ヘッド及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
の製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、第1のコア半体の突き合せ面に非磁性薄膜を
形成し、第2のコア半体の突き合せ面に磁性薄膜を形成
し、第1のコア半体の突き合せ面と第2のコア半体の突
き合せ面とを接合してなる磁気ヘッドにおいて、 前記第2のコア半体の突き合せ面にギャップ形成面側か
前記第1のコア半体の突き合せ面より離間するよう段部
を設け、 前記段部と前記第1のコア半体に形成された非磁性薄膜
との間に形成された溝内に磁性薄膜を堆積させてなる。
形成し、第2のコア半体の突き合せ面に磁性薄膜を形成
し、第1のコア半体の突き合せ面と第2のコア半体の突
き合せ面とを接合してなる磁気ヘッドにおいて、 前記第2のコア半体の突き合せ面にギャップ形成面側か
前記第1のコア半体の突き合せ面より離間するよう段部
を設け、 前記段部と前記第1のコア半体に形成された非磁性薄膜
との間に形成された溝内に磁性薄膜を堆積させてなる。
又、本発明は、第1のブロックの突き合せ面に非磁性薄
膜を形成し、第2のコアブロックの突き合せ面にはギャ
ップ形成面側が前記第1のコアブロックの突き合せ面よ
り離間するよう段部を形成し、続いて第1のコアブロッ
クの突き合せ面と第2のコアブロックの突き合せ面とを
接合して前記非磁性薄膜と前記段部との間に溝を形成し
てなり、次いで前記ギャップ形成面及び溝内に磁性薄膜
を堆積させた後、前記ギャップ形成面に堆積させた磁性
薄膜を削除し、さらに前記ギャップ形成面か所定トラッ
ク幅寸法となるように接合された第1、第2のコアブロ
ックを前記溝の延在方向と直交する方向に切断して薄板
状としてなる。
膜を形成し、第2のコアブロックの突き合せ面にはギャ
ップ形成面側が前記第1のコアブロックの突き合せ面よ
り離間するよう段部を形成し、続いて第1のコアブロッ
クの突き合せ面と第2のコアブロックの突き合せ面とを
接合して前記非磁性薄膜と前記段部との間に溝を形成し
てなり、次いで前記ギャップ形成面及び溝内に磁性薄膜
を堆積させた後、前記ギャップ形成面に堆積させた磁性
薄膜を削除し、さらに前記ギャップ形成面か所定トラッ
ク幅寸法となるように接合された第1、第2のコアブロ
ックを前記溝の延在方向と直交する方向に切断して薄板
状としてなる。
作用
第1のコア半体と第2のコア半体とが夫々突き合せ面を
接合した状態で第1のコア半体の突き合せ面に形成され
た非磁性薄膜と第2のコア半体の突き合せ面に形成され
た段部との間に形成された溝内に磁性薄膜を堆積させる
ことにより、第1のコア半体の非磁性薄膜と第2のコア
半体の磁性材との間に隙間が介在しないようにする。
接合した状態で第1のコア半体の突き合せ面に形成され
た非磁性薄膜と第2のコア半体の突き合せ面に形成され
た段部との間に形成された溝内に磁性薄膜を堆積させる
ことにより、第1のコア半体の非磁性薄膜と第2のコア
半体の磁性材との間に隙間が介在しないようにする。
実施例
第1図及び第2図に本発明になる磁気ヘッドの一実施例
を示す。
を示す。
第1図において、磁気へラドIIは例えばFe−Al−
3i合金、あるいはMn−Zn−Ferrite等の磁
性材よりなる第1のコア半体12と第2のコア半体13
とを接合して一体化したものである。第1のコア半体1
2の両側及び第2のコア半体13の右側面にはコイル巻
回用の凹部12a、12b及び13aが設けられている
。
3i合金、あるいはMn−Zn−Ferrite等の磁
性材よりなる第1のコア半体12と第2のコア半体13
とを接合して一体化したものである。第1のコア半体1
2の両側及び第2のコア半体13の右側面にはコイル巻
回用の凹部12a、12b及び13aが設けられている
。
又、磁気ヘッド11のギャップ14を有するギャップ形
成面11aはトラック幅tとなるようにY方向の寸法が
切削加工により決められている。
成面11aはトラック幅tとなるようにY方向の寸法が
切削加工により決められている。
15は低融点のガラスで、ギャップ形成面11aをY方
向で挟持するようにコア半体に12.13の段部12d
、13dに充填され、コア半体12゜13を接着すると
ともにギャップ14を補強する。
向で挟持するようにコア半体に12.13の段部12d
、13dに充填され、コア半体12゜13を接着すると
ともにギャップ14を補強する。
尚、コア半体13の底部側には面取部13bが形成され
、この面取部13bには低融点のガラス16が充填され
ている。よって、コア半体12と13とはガラス15.
16によりその上、下部分が接着固定されている。
、この面取部13bには低融点のガラス16が充填され
ている。よって、コア半体12と13とはガラス15.
16によりその上、下部分が接着固定されている。
又、第1のコア半体12の突き合せ面12cには磁性薄
膜17がスパッタリング等により被覆形成されている。
膜17がスパッタリング等により被覆形成されている。
さらに、この磁性薄膜17の表面にはギャップ形成用の
非磁性薄膜(S i 02系ガラス)18かスパッタリ
ング等により形成される。
非磁性薄膜(S i 02系ガラス)18かスパッタリ
ング等により形成される。
第2図はギャップ14部分を拡大して示す。第2図にお
いて、第2のコア半体13の突き合せ面13cにはギャ
ップ形成面11a側か第1のコア半体12の突き合せ面
12cより離間する段部19が設けられている。この段
部19は上記の如く第1のコア半体12の非磁性薄膜1
8と所定距離離間し、ギャップ14側が開口となるよう
に上下方向に延在する壁19aと、壁19aの下部より
非磁性薄膜18に当接するように傾斜した底部19bと
よりなる。従って、この段部19と非磁性薄膜18との
間には有底溝20か形成される。
いて、第2のコア半体13の突き合せ面13cにはギャ
ップ形成面11a側か第1のコア半体12の突き合せ面
12cより離間する段部19が設けられている。この段
部19は上記の如く第1のコア半体12の非磁性薄膜1
8と所定距離離間し、ギャップ14側が開口となるよう
に上下方向に延在する壁19aと、壁19aの下部より
非磁性薄膜18に当接するように傾斜した底部19bと
よりなる。従って、この段部19と非磁性薄膜18との
間には有底溝20か形成される。
この有底溝20内には磁性薄膜21かスパッタリグ等に
より堆積される。
より堆積される。
このように、第2のコア半体13の突き合せ面13cに
は段部19か設けられているので、第1のコア半体12
と第2のコア半体13とを互いに突き合せて加圧して接
合した後、有底溝20に上部開口より磁性薄膜21を隙
間なく充填することができる。そのため、ギャップ14
のギャップ長G7は非磁性薄膜18のX方向の厚さ寸法
t11と等しくなる。よって、ギャップ14のギャップ
長G7の寸法管理をより高精度に行うことかでき、例え
突き合せ面12c、13cにソリあるいはうねりが生じ
ていたり、大気中の塵埃等が非磁性薄膜18に付着して
いても非磁性薄膜18に磁性薄膜21を密着させられる
ので、ギャップ長GI!が厚くならず、より高密度な磁
気記録が可能となる。
は段部19か設けられているので、第1のコア半体12
と第2のコア半体13とを互いに突き合せて加圧して接
合した後、有底溝20に上部開口より磁性薄膜21を隙
間なく充填することができる。そのため、ギャップ14
のギャップ長G7は非磁性薄膜18のX方向の厚さ寸法
t11と等しくなる。よって、ギャップ14のギャップ
長G7の寸法管理をより高精度に行うことかでき、例え
突き合せ面12c、13cにソリあるいはうねりが生じ
ていたり、大気中の塵埃等が非磁性薄膜18に付着して
いても非磁性薄膜18に磁性薄膜21を密着させられる
ので、ギャップ長GI!が厚くならず、より高密度な磁
気記録が可能となる。
その結果ギャップ長012寸法の正規分布(3σ値)が
0.48〜0.52μmと従来よりもバラツキが1/3
に減少する。
0.48〜0.52μmと従来よりもバラツキが1/3
に減少する。
ここで、第3図乃至第11図を参照して上記磁気ヘッド
の製造方法について説明する。
の製造方法について説明する。
まず、第3図に示す如く、Fe−Al−3i合金あるい
はM n −Z n −F errite等によりなる
磁性材により形成された直方体形状の第1のコアブロッ
ク22と第2のコアブロック23とを用意する。そして
、コアブロック22.23の突き合せ面22c、23c
を研磨する。さらに第1のコアブロック22にはY方向
に延在する。溝22a。
はM n −Z n −F errite等によりなる
磁性材により形成された直方体形状の第1のコアブロッ
ク22と第2のコアブロック23とを用意する。そして
、コアブロック22.23の突き合せ面22c、23c
を研磨する。さらに第1のコアブロック22にはY方向
に延在する。溝22a。
22bか切削され、第2のコアブロック23には溝23
aか切削される。又、第2のコアブロック23は突き合
せ面23cの上部に段部24が下部にガラス充填用の面
取部23bかY方向に延在するよう切削加工される。
aか切削される。又、第2のコアブロック23は突き合
せ面23cの上部に段部24が下部にガラス充填用の面
取部23bかY方向に延在するよう切削加工される。
次に、第1のコアブロック22の突き合せ面22cには
磁性薄膜25(第3図中、ナシ地模様で示す)がスパッ
タリング等により被覆形成される。続いて、第1のコア
ブロック22の122bに低融点のガラス26が充填さ
れる。そして、第4図に示す如く、磁性薄膜25及びガ
ラス26の表面にはギャップ形成用の非磁性薄膜35が
スパッタリング等により形成される。
磁性薄膜25(第3図中、ナシ地模様で示す)がスパッ
タリング等により被覆形成される。続いて、第1のコア
ブロック22の122bに低融点のガラス26が充填さ
れる。そして、第4図に示す如く、磁性薄膜25及びガ
ラス26の表面にはギャップ形成用の非磁性薄膜35が
スパッタリング等により形成される。
次に、第5図に示す如く、コアブロック22゜23の突
き合せ面22c、23cが互いに対向した状態でコアブ
ロック22.23を当接させ、面取部23bに低融点の
ガラス27か充填された後、コアブロック22.23は
加圧されながらガラス27の融着により一体的に接合さ
れる。このように、コアブロック22.23か一体化さ
れると、非磁気性薄膜35と段部24との間にはY方向
に延在する有底溝28か形成される。
き合せ面22c、23cが互いに対向した状態でコアブ
ロック22.23を当接させ、面取部23bに低融点の
ガラス27か充填された後、コアブロック22.23は
加圧されながらガラス27の融着により一体的に接合さ
れる。このように、コアブロック22.23か一体化さ
れると、非磁気性薄膜35と段部24との間にはY方向
に延在する有底溝28か形成される。
上記のようにコアブロック22と23と接合してなるブ
ロック29は、第6図、第7図に示す如く、そのヘッド
面29a側に磁性薄膜30(ナシ地模様で示す)がスパ
ッタリング等により被覆され、同時に上記有底溝28内
にも磁性薄膜30が堆積する。
ロック29は、第6図、第7図に示す如く、そのヘッド
面29a側に磁性薄膜30(ナシ地模様で示す)がスパ
ッタリング等により被覆され、同時に上記有底溝28内
にも磁性薄膜30が堆積する。
このようにコアブロック22と23との間に形成された
有底溝28に磁性薄膜30が堆積されるため、非磁性薄
膜35と磁性薄膜30との間に隙間ができず、非磁性薄
膜35に磁性薄膜30を密着させることができる。
有底溝28に磁性薄膜30が堆積されるため、非磁性薄
膜35と磁性薄膜30との間に隙間ができず、非磁性薄
膜35に磁性薄膜30を密着させることができる。
次に、第8図に示す如く、ギャップ形成面29al:X
方向に延在する溝31を所定間隔tごとに切削加工する
。よって、溝31と31との間にはX方向の厚さ寸法が
土とされた突出部32が残る。
方向に延在する溝31を所定間隔tごとに切削加工する
。よって、溝31と31との間にはX方向の厚さ寸法が
土とされた突出部32が残る。
従って、各突出部32の中央部には非磁性薄膜35を介
して厚さ1.のギャップ長を有し、且つトラック幅の寸
法かtとされたギャップ33か成形される。続いて、第
9図に示す如く、上記谷溝31に低融点のガラス34が
充填され、ギャップ33はガラス34に挟持されて補強
される。
して厚さ1.のギャップ長を有し、且つトラック幅の寸
法かtとされたギャップ33か成形される。続いて、第
9図に示す如く、上記谷溝31に低融点のガラス34が
充填され、ギャップ33はガラス34に挟持されて補強
される。
次に、第10図に示す如く、ギヤ・ツブ33及びギャッ
プ形成面29aが露出するように上部に形成されたガラ
ス34及び磁性薄膜30を削除する。
プ形成面29aが露出するように上部に形成されたガラ
ス34及び磁性薄膜30を削除する。
その後、谷溝31に充填された各ガラス34の略中央部
をX方向に切断して第11図に示す磁気ヘッド11を得
る。尚、磁気へラド11はこの後ギャップ形成面が研磨
されてベース(図示せず)接着工程か行なわれてコイル
巻線工程か行なわれる。
をX方向に切断して第11図に示す磁気ヘッド11を得
る。尚、磁気へラド11はこの後ギャップ形成面が研磨
されてベース(図示せず)接着工程か行なわれてコイル
巻線工程か行なわれる。
このようにして、第1図に示す磁気へラド11か完成す
る。
る。
第12図に本発明の変形例を示す。第2図中、磁気ヘッ
ドImはコア半体12の突き合せ面12cに磁性薄膜1
7が形成されていない。よって面仕上げされた突き合せ
面12cの表面にはギャップ形成用の非磁性薄膜18が
直接スパッタリングされている。そして、コア半体13
の突き合せ面13cの上部には前述の如く段部19か設
けられており、段部19と非磁性薄膜18との間に形成
された有底溝20内には磁性薄膜21か堆積される。従
って、コア半体12の突き合せ面12cに磁性薄膜17
を設けない構造の磁気ヘッド11−であっても、上記の
如く、有底溝20内に磁性薄膜21を堆積させることに
より、非磁性薄膜18と磁性薄膜21との間に隙間がで
きず、磁性薄膜21を非磁性薄膜18に密接させること
ができ、ギャップ長を非磁性薄膜18の厚さと等しい寸
法にすることかできる。
ドImはコア半体12の突き合せ面12cに磁性薄膜1
7が形成されていない。よって面仕上げされた突き合せ
面12cの表面にはギャップ形成用の非磁性薄膜18が
直接スパッタリングされている。そして、コア半体13
の突き合せ面13cの上部には前述の如く段部19か設
けられており、段部19と非磁性薄膜18との間に形成
された有底溝20内には磁性薄膜21か堆積される。従
って、コア半体12の突き合せ面12cに磁性薄膜17
を設けない構造の磁気ヘッド11−であっても、上記の
如く、有底溝20内に磁性薄膜21を堆積させることに
より、非磁性薄膜18と磁性薄膜21との間に隙間がで
きず、磁性薄膜21を非磁性薄膜18に密接させること
ができ、ギャップ長を非磁性薄膜18の厚さと等しい寸
法にすることかできる。
発明の効果
上述の如く、本発明になる磁気ヘッド及びその製造方法
によれば、第1のコア半体の突き合せ面に形成された非
磁性薄膜と第2のコア半体の突き合せ面との間にギャッ
プ形成面側か開口となるような溝が形成されるよう第2
のコア半体の突き合せ面に段部を設けてなるため、溝内
に磁性薄膜を堆積させることにより、非磁性薄膜と磁性
薄膜との間に隙間ができることを防止でき、磁性薄膜を
非磁性薄膜の表面に密着させることができる。
によれば、第1のコア半体の突き合せ面に形成された非
磁性薄膜と第2のコア半体の突き合せ面との間にギャッ
プ形成面側か開口となるような溝が形成されるよう第2
のコア半体の突き合せ面に段部を設けてなるため、溝内
に磁性薄膜を堆積させることにより、非磁性薄膜と磁性
薄膜との間に隙間ができることを防止でき、磁性薄膜を
非磁性薄膜の表面に密着させることができる。
従って、例え第1.第2のコア半体の突き合せ面にソリ
、うねりか生じていても、あるいは非磁性薄膜に空気中
の塵埃等が付着しても磁性薄膜と非磁性薄膜との間に隙
間かできてギャップ長かバラツクことを防止でき、常に
ギャップ長が非磁性薄膜の膜厚で管理できるのでギャッ
プ長をより安定的に精度良く製作でき、高密度記録にも
対応することができる等の特長を有する。
、うねりか生じていても、あるいは非磁性薄膜に空気中
の塵埃等が付着しても磁性薄膜と非磁性薄膜との間に隙
間かできてギャップ長かバラツクことを防止でき、常に
ギャップ長が非磁性薄膜の膜厚で管理できるのでギャッ
プ長をより安定的に精度良く製作でき、高密度記録にも
対応することができる等の特長を有する。
第1図は本発明になる磁気ヘッドの一実施例の斜視図、
第2図は本発明の要部を拡大して示す斜視図、第3図乃
至第11図は磁気ヘッドの製造方法を説明するための各
工程における斜視図、第12図は本発明の変形例の斜視
図、第13図乃至17図は夫々従来の磁気ヘッド及びそ
の製造方法を説明するための斜視図である。 11.11−・・・磁気ヘッド、12・・・第1のコア
半体、13・・・第2のコア半体、14・・・ギャップ
、15.16・・・ガラス、17・・・磁性薄膜、18
・・・非磁性薄膜、19・・・段部、20・・・有底溝
、21・・・磁性薄膜、22・・・第1のコアブロック
、23・・・第2のコアブロック、24・・・段部、2
5・・・磁性薄膜、26゜ 7・・・ガラス、 8・・・有底溝、 0・・・磁性 薄膜、 3・・・ギャップ、 5・・・非磁性薄膜。 特許呂願人 ミツミ電機株式会社 第 図 第2図 第9図 第四図 第13図
第2図は本発明の要部を拡大して示す斜視図、第3図乃
至第11図は磁気ヘッドの製造方法を説明するための各
工程における斜視図、第12図は本発明の変形例の斜視
図、第13図乃至17図は夫々従来の磁気ヘッド及びそ
の製造方法を説明するための斜視図である。 11.11−・・・磁気ヘッド、12・・・第1のコア
半体、13・・・第2のコア半体、14・・・ギャップ
、15.16・・・ガラス、17・・・磁性薄膜、18
・・・非磁性薄膜、19・・・段部、20・・・有底溝
、21・・・磁性薄膜、22・・・第1のコアブロック
、23・・・第2のコアブロック、24・・・段部、2
5・・・磁性薄膜、26゜ 7・・・ガラス、 8・・・有底溝、 0・・・磁性 薄膜、 3・・・ギャップ、 5・・・非磁性薄膜。 特許呂願人 ミツミ電機株式会社 第 図 第2図 第9図 第四図 第13図
Claims (2)
- (1)第1のコア半体の突き合せ面に非磁性薄膜を形成
し、第2のコア半体の突き合せ面に磁性薄膜を形成し、
該第1のコア半体の突き合せ面と第2のコア半体の突き
合せ面とを接合してなる磁気ヘッドにおいて、 前記第2のコア半体の突き合せ面にギャップ形成面側が
前記第1のコア半体の突き合せ面より離間するよう段部
を設け、 前記段部と前記第1のコア半体に形成された非磁性薄膜
との間に形成された溝内に磁性薄膜を堆積させてなるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - (2)第1のコアブロックの突き合せ面に非磁性薄膜を
形成し、第2のコアブロックの突き合せ面にはギャップ
形成面側が前記第1のコアブロックの突き合せ面より離
間するように段部を形成し、続いて第1のコアブロック
の突き合せ面と第2のコアブロックの突き合せ面とを接
合して前記非磁性薄膜と前記段部との間に溝を形成して
なり、次いで前記ギャップ形成面及び溝内に磁性薄膜を
堆積させた後、前記ギャップ形成面に堆積させた磁性薄
膜を削除し、さらに前記ギャップ形成面が所定トラック
幅寸法となるように接合された第1、第2のコアブロッ
クを前記溝の延在方向を直交する方向に切断して薄板状
としてなる磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2114250A JPH0411308A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2114250A JPH0411308A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0411308A true JPH0411308A (ja) | 1992-01-16 |
Family
ID=14633064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2114250A Pending JPH0411308A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0411308A (ja) |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP2114250A patent/JPH0411308A/ja active Pending
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