JPH0381232A - 脱塩化水素方法 - Google Patents

脱塩化水素方法

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JPH0381232A
JPH0381232A JP1216022A JP21602289A JPH0381232A JP H0381232 A JPH0381232 A JP H0381232A JP 1216022 A JP1216022 A JP 1216022A JP 21602289 A JP21602289 A JP 21602289A JP H0381232 A JPH0381232 A JP H0381232A
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reaction
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細瀬 泰伸
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河村 潤一
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は炭素数2から4(以下C2〜C4と略称)の塩
素化飽和炭化水素の脱塩化水素方法に関するものである
。更に詳しくは、本発明は結晶性アルミノシリケートの
一種であるゼオライトから成る触媒と02〜C4の塩素
化飽和炭化水素とを接触させ、該塩素化飽和炭化水素を
脱塩化水素する方法に関するものである。
[従来の技術] ハロゲン化飽和炭化水素の脱ハロゲン化水素反応、特に
塩素化飽和炭化水素の脱塩化水素反応は工業的に重要な
反応であり数種の工業化プロセスが採用されている。中
でも代表的な例として、l。
2−ジクロロエタン(以下BDCと略称)の熱分解によ
る脱塩化水素により塩化ビニル七ツマ−(以下VCMと
略称)を製造する例がある。
この場合、脱塩化水素反応は通常500℃以上の温度及
び約50kg/c tn 2Gの圧力において実施され
る。しかし、この方法はEDCの転化率が比較的低く、
従って未反応物の回収工程及び生成物の分離工程が複雑
となり、また高温条件が必要なために、多くのエネルギ
ーを必要とする等の問題を有している。このため当該業
界では従来法に代わる方法として経済的な脱塩化水素方
法の開発が切望されている。
ハロゲン化飽和炭化水素の脱ハロゲン化水素方法におけ
る触媒としては、これまで種々のゼオライト触媒が提案
されている。例えばZSM−5、シリカライド等を触媒
として用いる方法(特開昭58−167526号公報)
、Y型ゼオライトをルイス酸で処理あるいは反応させた
触媒を用いる方法(特開昭54−79209号公報)、
希土類金属塩化物をゼオライトに堆積させた触媒を用い
る方法(特開昭81−30号公報)、またオフレタイト
−エリオナイト系ゼオライト(以下OE系ゼオライトと
略称)、L型ゼオライトを触媒として用いる方法(特開
昭Go−252433号公報)などである。
これらの引用例には、ハロゲン化飽和炭化水素の脱ハロ
ゲン化水素反応、例えばEDCの脱塩化水素反応は、熱
分解による脱塩化水素反応に比べてより低い反応温度で
実施できることが開示されている。しかし、これらの引
用例には触媒の寿命に関する具体的な記載はない。
一方、アルカリ処理を施したゼオライトを触媒として用
いる例として、アルカリ処理したL型ゼオライトを担体
として、これに白金等の貴金属を担持した触媒を用いた
炭化水素の改質方法が開示されている(例えば特開昭5
9−80333号公報)。本引用例中ではアルカリ処理
の及ぼす作用として、L型ゼオライトからシリカが選択
的に脱離すること、不純物として含まれるゼオライトW
が減少すること、X線回折パターンの変化から、a軸方
向の格子定数18!42 Aが0.12Aだけ膨脂する
こと等を挙げている。この中で不純物としてゼオライト
Wが共存し易いこと及びアルカリ処理によりこのゼオラ
イトWが減少することはL型ゼオライトに特定のことと
されている。また本引用例は触媒の失活の要因とし、て
、触媒上の貴金属の凝集および/または触媒上でのコー
クスの形成を挙げているが、アルカリ処理によって触媒
の寿命が延びる理由については触れられていない。また
他の記載例として、アルカリ処理したL型ゼオライトを
用いたベンゼン誘導体を液相ハロゲン化することによる
ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造方法が開示されている
(特開昭82−108880号公報)。本引用例では触
媒のアルカリ処理の効果として、生成物である2置換ハ
ロゲン化ベンゼン誘導体中のバラジハロゲン化ベンゼン
誘導体の選択率が向上することが記載されているが触媒
の寿命についての具体的な記載はない。
[発明が解決しようとする課題] 塩素化飽和炭化水素の脱塩化水素方法においてゼオライ
ト触媒が有効に作用することは上記引例からも明らかで
あるが、工業的見地に立てば、触媒の活性と併せて触媒
寿命が極めて重要な問題である。
一般にゼオライトを触媒として用い、種々の炭化水素を
反応させると、ゼオライト触媒上に炭素質が析出するこ
とによる触媒活性の経時的な低下が認られることは好く
知られている。従ってゼオライト触媒を用いた塩素化飽
和炭化水素の脱塩化水素反応においても、当然触媒上で
の炭素析出による活性低下現象が容易1こ推測される。
事実、本発明者らは上記引例の中でも最も高い触媒性能
を示すOB系ゼオライトを用いて脱塩化水素反応を実施
したところ、炭素析出によると思われる触媒活性の経時
的な低下を観測した。炭素析出により活性の低下した触
媒は、空気流通下、高温で処理することにより、その活
性を回復させることが可能ではあるが、再生処理は繁雑
であり工業的見地からはなるべく炭素析出が少なく、活
性の経時的低下の小さい触媒が望まれる。
[課題を解決するための手段] 本発明者らはこのような状況に鑑み、脱塩化水素方法に
ついて鋭意検討を行なった結果、OE系ゼオライトをア
ルカリ金属水酸化物溶液と接触(以下アルカリ処理と言
う)させた触媒を用いることで、ハロゲン化飽和炭化水
素の脱塩化水素反応、特に塩素化飽和炭化水素の脱塩化
水素反応に対して、OE系ゼオライト触媒の高い活性お
よび選択性を維持しつつ、触媒上への炭素質析出量が少
ないこと、従って、経時的な活性の低下が著しく小さく
なり、触媒寿命が長くなることを見出し本発明を完成し
た。即ち、本発明は、交換可能な陽イオンが、アルカリ
金属からなる群から選ばれる1種以上の金属カチオンで
あるオフレタイト−エリオナイト系ゼオライトをアルカ
リと接触させたものを触媒として用い、炭素数2から4
の塩素化飽和炭化水素をこれと接触させる事を特徴とす
る塩素化飽和炭化水素の脱塩化水素方法を提供するもの
である。 以下に本発明の詳細な説明する。
本発明において、触媒として使用されるゼオライトはO
E系ゼオライトである。OE系ゼオライトとしてはオフ
レタイト、テトラメチルアンモニウムーオフレタイト、
エリオナイト、更にオフレタイト構造及びエリオナイト
構造が混在するゼオライト、例えばゼオライトOEと略
称されるゼオライト(特開昭59−69420号公報参
照)、更にゼオライトT、 ZSM−34ゼオライト等
を挙げることができる。
OE系ゼオライトはその構造に特徴的な粉末X線回折パ
ターンを有し、そのパターンにより他のゼオライトと区
別することが可能である。
第1表には本発明において触媒として使用されるOE系
ゼオライトの銅にα二重線による粉末X線回折パターン
を示す。また、OE系ゼオライトは、酸化物のモル比で
表して、−膜内に下記のような組成を有している。
M2/−0−Aj 20s ・(5〜10)SIQ2(
Mは原子価nの陽イオンである) 回折角 2θ(度) (±0.2度) 第1表 格子面間隔 d (人) (±0.l) 相対強度 I/IO 7,7 9,6 11,7 13,4 14,1 15,4 16,6 19,4 20,5 21,3 23,3 23,7 24,8 2B、1 00 0〜1O 1O〜 40 40〜90 1O〜 40 1O〜 40 0〜10 1O〜 60 40〜80 0〜10 20〜70 100〜160 50〜120 5〜30 28.9         3.3       10
 〜4027.6         3.2     
   0 〜1028.1         3.2 
      10 〜4028.3         
3.2        20 〜6030.5    
     2.9        5 〜2031.2
         2.9       50 〜12
031.4        2.8       50
〜13031.9         2゜8     
  0〜1083.4         2.7   
    10 〜3035゜9         2.
5        0 〜3036.2       
  2.5        5 〜30oE系ゼオライ
トの中には天然に存在するものもあるが、合成すること
も可能であり、本発明で使用されるOE系ゼオライトは
、不純物が少なく結晶化度の高い合成ゼオライトが好適
である。
OB系ゼオライトの合成方法は公知である。例えば、テ
トラメチルアンモニウムーオフレタイトの合成方法の例
として特開昭58−135128号公報に開示された方
法を挙げることができ、エリオナイトの合成方法の例と
して特公昭50−23400号公報に開示された方法を
挙げることができる。またオフレタイト構造およびエリ
オナイト構造の混在しているOE系ゼオライトの合成方
法、ゼオライトOEの合成方法の例として特開昭59−
12589号公報に開示された方法を、ゼオライトTの
合成方法の例として特公昭3B−12589号公報に開
示された方法を、そしてZSM−34ゼオライトの合成
方法の例として特開昭53−58499号公報に開示さ
れた方法をそれぞれ挙げることができる。
即ちこれらの方法は、シリカ源、アルミナ源、アルカリ
源、カリウム源及び水を原料として用い、その酸化物モ
ル比を適宜決めて加熱結晶化する方法である。
ゼオライトは合成されたままでの状態では金属カチオン
として通常Naイオン等の陽イオンを含有している。ゼ
オライトに含有される金属カチオンはイオン交換処理に
よって容易に他の陽イオンに交換できることは公知であ
る。
本発明においては、交換可能な陽イオンがアルカリ金属
からなる群から選ばれる1種以上のカチオンであり、ア
ルカリ金属カチオンとしてLl、Na5K、 Rb、 
Csを挙げることができ、その中でもに1RbSCsが
好ましい。アルカリ金属カチオンは公知のイオン交換処
理によって容易にゼオライトに導入することができる。
例えば、アルカリ金属カチオンの水に可溶な塩化物、硝
酸塩等の無機塩、あるいは酢酸塩、蓚酸塩等の有機塩を
用いて、0.01〜5moj/jの水溶液を調製し、そ
の水溶液にゼオライトを加え、20〜100℃の温度0
.5〜24時間イオン交換処理を行なえば良い。通常、
イオン交換処理後スラリーを濾過し、得られた固体を8
0〜150℃で1〜24時間乾燥する。以上の操作を数
回繰返し行なっても良い。
イオン交換は他の方法、例えば当該ゼオライトからなる
固定床に当該金属カチオンを含む水溶液を循環して接触
させる方法等で実施しても良い。
なお、合成されたゼオライトがテトラメチルアンモニウ
ムのような有機カチオンを含む場合には交換するアルカ
リ金属カチオンのイオン交換率を高めるためにこの有機
カチオンを予め除去するのが良い。そのためには、イオ
ン交換処理の前処理としての予備焼成をすれば好く、こ
の予備焼成処理は、空気流通下、400〜700℃の温
度で1−10時間行なえば良い。
本発明では、OE系ゼオライトをアルカリ処理したもの
を触媒として用いる。このゼオライトをアルカリ処理す
る方法は特に制限されるものではないが、ゼオライトお
よびアルカリ溶液、例えばアルカリ金属水酸化物溶液を
混合し、静置もしくは撹拌する方法、ヌッチェ等を用い
てゼオライトに前記溶液を接触させる方法などがある。
その後アルカリ処理したゼオライトは濾過等によりアル
カリ溶液と分離しゼオライトを洗浄する。この際、洗浄
液のpHがIO以下になるまでアルカリ処理に使用した
溶媒を用いて洗浄する。得られたゼオライトは80〜1
50℃でi〜24時間乾燥する。以上の操作を数回繰返
し行なっても良い。
アルカリ処理に用いるアルカリ金属水酸化物としては、
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化ルビジウム、水酸化セシウムを挙げることができ
、中でも水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セ
シウムが好ましい。
アルカリ金属水酸化物は単独あるいは複数種を混合して
用いても良い。
また、ゼオライトのアルカリ処理はゼオライト粉体を用
いても良く、成形されたゼオライト触媒を用いても良い
ゼオライトをアルカリ処理する条件は、処理方法、アル
カリ処理溶液のpH1処理温度および処理時間が互いに
関連し、処理結果に影響するため一義的に定めることは
困難である。しかし、−膜内にはアルカリ処理を行なう
溶液のpHは11以上が好く、pH13〜15の範囲が
好ましい。溶液のpHが11より低いとアルカリ処理に
必要とする処理温度を高くするか、処理時間を長くする
必要があり好ましくない。上記pH範囲内において処理
温度は0〜100℃、好ましくは20〜90℃、処理時
間は0.5〜50時間、好ましくは、3〜24時間であ
る。また、アルカリ処理の溶液量はゼオライトがスラリ
ー状で存在するに足る量であれば特に制限はないが、ゼ
オライトの乾燥重量を基準として5〜lOh、g /g
(ゼオライト)が好ましい。
本発明において、触媒の形状には特に制限はなく、成形
したものを使用すれば良いが、粉末のまま用いても差し
支えない。この際の成形方法は通常の方法で良く、例え
ば圧縮成形法、押出成形法、噴霧乾燥造粒法等を用いる
ことができる。また成形する場合、その機械的強度を高
める目的で本反応に対して不活性な物質を粘結剤あるい
は成形助剤として添加しても良い。例えばシリカ、アル
ミナ、シリカ−アルミナ、粘土類、グラファイト、ステ
アリン酸、澱粉、ポリビニルアルコール等を0〜80w
t%、好ましくは2〜30wt%の範囲で添加できる。
以上のようにして得られた触媒は焼成処理をして使用す
る。この焼成処理は空気流通下400〜700℃で1−
10時間行えば良い。
本発明の方法において、塩素化飽和炭化水素の脱塩化水
素反応は、気相又は液相において実施可能であるが、気
相が好ましい。その際反応方法としては固定床流通式、
流動床方式等、従来から知られている反応方法を採用す
ることができる。
本発明の方法において、原料であるC2〜C4の塩素化
飽和炭化水素とは水素原子と塩素原子を1個以上含むC
2〜C4の飽和炭化水素であれば良く、中でもEDCが
好適である。
脱塩化水素反応の反応条件は反応方式等により変化し、
−律に規定することは困難であるが、反応温度は通常1
50〜400℃の範囲が良く、200〜350℃の範囲
が特に好ましい。反応温度が150℃未満では十分な反
応速度が得られず、また400℃を越える場合にはエネ
ルギー消費が多くなり、経済的に不利になるばかりでな
く、生成物の重合反応等の副反応が進行する。また反応
圧力については特に制限はなく、常圧、減圧あるいは加
圧下で実施可能である。脱塩化水素反応は塩素化飽和炭
化水素単独でも、不活性雰囲気中でも実施可能であり、
不活性雰囲気を得るためには窒素、ヘリウム等により原
料を希釈すれば良い。その場合、原料濃度に特に制限は
なく、1〜99%である。
本発明の方法において接触時間は、固定床流通反応方式
の場合を例にとると、ガス空間速度(GH8V)で10
〜10000 hr”が良く、50〜1000hr−’
が好ましい。生成物は生成系から常法によって分離する
ことができ、未反応の塩素化飽和炭化水素も回収して循
環使用できる。
[発明の効果] 本発明の方法によれば、使用する触媒の脱塩化水素活性
が高く、また触媒上への炭素質の析出による触媒活性の
低下が小さく、触媒寿命が長く長時間の連続操業が可能
となる。従って本発明の方法は従来法に比べて工業的に
極めて有意義である。
[実施例] 以下に実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
なお、実施例中に示される転化率、選択率とはそれぞれ
反応開始後2時間経過した時点での反応生成ガス組成よ
り、下記の式に従って計算された数値を表す。
原料の供給量(IIlog〉 一原料の回収量(IIlog〉 転化率〈%〉 ×100 原料の供給量(rao(1) 主生成物の生成量(mail ) 選択率(%)− ×100 反応生成物il(曙0f1) また、炭素質析出量とは反応終了後の触媒を熱重量分析
したときの、300〜600℃における炭素質燃焼によ
る重量減を下記の式により計算した数値を表す。
炭素質燃焼による重量減(mg) 炭素質析出量(%)− 100 熱重量分析を行なった触媒量 (mg) 実施例1 特開昭59−89420号公報記載の方法に基づいてO
Eゼオライトを合成した。
純水701.2gに固形水酸化ナトリウム(NaOH:
93vt%) 23.6g、固形水酸化カリウム(KO
H:85vt%) 28.8g1アルミン酸ソーダ水溶
液(Na2O:19.2vt%、AJ 203: 20
.7vt%) 51.4gを加え均一な溶液とし、次い
で良く撹拌しながら非晶質固体シリカ(日本シリカニ業
社製ホワイトカーボン) 142.9gを加え酸化物の
モル比で次の組成の反応混合物を得た。
3.9Na 20 ” 1.83に20−A、11! 
203・18.8S10□ ・382H20 このものをオートクレーブに仕込み、250 rpll
で撹拌しながら150℃で40時間加熱した。得られた
スラリーを固液分離し、充分に水洗した後150℃で5
時間乾燥し次の組成の粉末を得た。
0.21Naz O◆0.78に20 ・Aj 203
◆7.48102 このものの粉末X栓回折パターンは第2表に示すとうり
ゼオライトOEに一致するものであった。なお、粉末X
線回折は銅のにα二重線を用いて測定した。
回折角 2θ(度) (±0.2度) 第2表 格子面間隔 d (人) (±0.1 ) 相対強度 I/IO 7,7 9,5 11,7 13,2 369 15,2 16,4 19,3 063 21,2 23,1 23,5 24,7 26,0 2B、8 28.0 28.2       3.2       5730
.4        2.9        1431
.1        2.9        8331
J        2.9       11733.
2       2.7       2736.0 
      2.5       28このゼオライト
OEににイオン交換処理を施した。
ゼオライトOB 35gを塩化カリウム水溶液(1mo
f /j ) 250gに加え、90℃で5時間撹拌し
ながらイオン交換処理を行なった。その後、スラリーを
濾過し得られた固体を充分に水洗した後、120℃で1
6時間乾燥した。このにイオン交換ゼオライトOE(以
下に一0/Eと略称)の組成は、 0.011Na 20 ・0.99に20 ” AJ!
 20s・7.4SiO□ であった。
このに−0/Hにアルカリ処理を施した。K−0/E 
20gを2規定(pH14,3)のKOH水溶液200
n+j!に加え、90℃で5時間撹拌しながらアルカリ
処理を行なつた。その後スラリーを濾過し得られた固体
を水洗し、洗液のpHが10以下になるまで水洗した後
、120℃で18時間乾燥した。この2規定アルカリ処
理に一0/E  (以下2N−に−07Eと略称)の組
成は、1.01に20−AX 20i ・7.l510
2であった。この2N−に−0/Eの粉末X栓回折測定
を行なったところ、その回折パターンはに一0/Eとほ
とんど変らず、K−0/Hに対するピークの相対強度は
l、03であった。この2N−に−0/Eに、粘結剤と
してシリカゾル(8102:30vt%)を20vt%
になるように添加し、適量の水を加えた後撹拌しながら
蒸発乾固し粉砕後グラファイトを5vt%になるように
添加し、5■φ×211ILに圧縮成型した。この触媒
を空気流通下、540℃で3時間焼成乾燥した。
この触媒を用いてEDCの脱塩化水素反応を実施した。
触媒10gをパイレックス製の反応管(20IiIlφ
X 500mmL)に充填し、この触媒にEDC50v
o1%、窒素50 vo1%の原料ガスを供給した。反
応条件は、常圧下、300℃で2時間反応後400℃に
昇温し4時間反応を行った。このときGH8Vは880
hr −’であった。反応生成物の分析はガスクロマト
グラフィーにより行った。結果を第4表に示す。
実施例2 実施例1で得たに一0/E粉末にアルカリ処理を施した
。K−07E 20gを4規定(pll 14.8)の
KOH水溶液200a+J!に加え、90℃で5時間攪
拌しながらアルカリ処理を行った。その後、スラリーを
濾過し、洗液のpHがIO以下になるまで水洗した後、
120℃で16時間乾燥した。この4規定アルカリ処理
に一0/E (以下4N−に−0/Eと略称)の組成は
、102 K 20・AjzO3・8.9S102であ
った。この4N−に−07Hの粉末X線回折測定を行っ
たところ、その回折パターンはに一0/Eとほとんど変
わらず、K−0/Hに対するピークの相対強度は0.9
6であった。この4N−に−0/Hに対して、実施例1
と同様に触媒成型処理を行った。
この触媒を用いて実施例1と同様にEDCの脱塩化水素
反応を行った。結果を第4表に示す。
比較例1 実施例1で得たに一0/Hに対して、実施例1と同様に
触媒成型処理を行った。
この触媒を用いて実施例1と同様にEDCの脱塩化水素
反応を行った。結果を第4表に示す。
実施例3 実施例1で得た2N−に−0/E粉末にCsイオン交換
処理を施した。2N−に−07E 20gを塩化セシウ
ム水溶液(l、3的J! / i ) 500gに加え
、90℃で5時間攪拌下、イオン交換処理を行った。そ
の後、スラリーを濾過し、得られた固体を充分に水洗し
た後120℃で18時間乾燥した。このCsイオン交換
2N−に−0/E(以下2N−Cs−07Eと略称)の
組成は、0.25に20 ・0.75C820−AI 
20゜◆7.1Si(h であった。この2N−Cs−07Hに実施例1と同様の
触媒成型処理を行い得られた触媒を用いて実施例1と同
様にEDCの脱塩化水素反応を行った。結果を第4表に
示す。
実施例4 実施例2で得た4N−に−07E粉末に実施例3と同様
のCsイオン交換処理を施した。このCsイオン交換4
N−に−07E  (以下4N−Cs−07Eと略称)
の組成は、0.28に2 0・0.76C820” A
I 2 0s・8.9S102 であった。この4N−Cs−07Hに実施例1と同様の
触媒成型処理を行い得られた触媒を用いて実施例1と同
様にEDCの脱塩化水素反応を行った。結果を第4表に
示す。
比較例2 実施例1で得たゼオライトOE粉末に実施例3と同様の
Csイオン交換処理を施した。このCsイオン交換ゼオ
ライトOE (以下Cs−07Eと略称)の組成は、0
.25に20 ・0.75Cs20 ・Aj 203◆
7.4Si02 であった。この0s−07Hに実施例1と同様の触媒成
型処理を行い得られた触媒を用いて実施例1と同様にE
DCの脱塩化水素反応を行った。結果を第4表に示す。
比較例3 市販のL型ゼオライト(東ソー株式会社製)を用いて触
媒調製を行った。このゼオライトの組成は、 0、lNa 2 0−0.99に2 0 ” ” Aj
 2 03◆6.2SiO□ であった。このゼオライトの粉末X線回折パターンを第
3表に示す。
第3表 回折角   格子面間隔 2θ(度)   d(人) (±0.2度)  (±0.l) 相対強度 1/I○ 5.8 11.2 11.8 14.8 15.3 19.4 20.2 20.5 22.7 23.4 24.3 25.8        3.5        57
27.2         3.3         
3228.0         3.2       
  7229、L         3.1     
   5(29,83,09 30,82,981 3(,82,729 34,22,820 このL型ゼオライト(以下に−Lと略称)に実施例1と
同様に触媒成型処理を行った。
この触媒を用いて実施例1と同様にEDCの脱塩化水素
反応を行った。結果を第4表に示す。
比較例4 に−Lにアルカリ処理を施した。ゼオライト20gを2
規定(pH14,3) (73KO)i水溶液200m
j ニ加え、90℃で5時間攪拌下、アルカリ処理を行
なった。
その後スラリーを濾過し、洗液のpHがI)HIO以下
になるまで水洗した後、120℃で16時間乾燥した。
この2規定アルカリ処理に−L (以下2N−に−Lと
略称)の組成は、 1.01に20−Ai 203  ・5.8Si02で
あった。この2N−に−Lの粉末X線回折測定を行t。
ったところ、その回折パターンはに−Lとほとん己変わ
らず、K−Lに対するピークの相対強度は1.0であっ
た。この2N−に−Lに対して実施例1と同様1:触媒
成型処理を行った。
この触媒を用いて実施例1と同様にEDCの脱塩化水素
反応を行った結果を第4表に示す。同表力らも明かなよ
うにアルカリ処理による炭素質の抄出抑制効果は確認さ
れなかった。
【 第4表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 交換可能な陽イオンが、アルカリ金属からなる群から選
    ばれる1種以上の金属カチオンであるオフレタイト−エ
    リオナイト系ゼオライトをアルカリと接触させたものを
    触媒として用い、炭素数2から4の塩素化飽和炭化水素
    をこれと接触させる事を特徴とする塩素化飽和炭化水素
    の脱塩化水素方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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