JPH0375975B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0375975B2 JPH0375975B2 JP60132138A JP13213885A JPH0375975B2 JP H0375975 B2 JPH0375975 B2 JP H0375975B2 JP 60132138 A JP60132138 A JP 60132138A JP 13213885 A JP13213885 A JP 13213885A JP H0375975 B2 JPH0375975 B2 JP H0375975B2
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- JP
- Japan
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- ion
- cathode
- ions
- acceleration
- plasma
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60132138A JPS61290629A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 電子ビ−ム励起イオン源 |
| CA000510112A CA1252581A (en) | 1985-05-28 | 1986-05-27 | Electron beam-excited ion beam source |
| DE86107195T DE3688860T2 (de) | 1985-05-28 | 1986-05-27 | Mittels Elektronenstrahl angeregte Ionenstrahlquelle. |
| EP86107195A EP0203573B1 (en) | 1985-05-28 | 1986-05-27 | Electron beam-excited ion beam source |
| US06/868,350 US4749910A (en) | 1985-05-28 | 1986-05-28 | Electron beam-excited ion beam source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60132138A JPS61290629A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 電子ビ−ム励起イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61290629A JPS61290629A (ja) | 1986-12-20 |
| JPH0375975B2 true JPH0375975B2 (enrdf_load_html_response) | 1991-12-04 |
Family
ID=15074250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60132138A Granted JPS61290629A (ja) | 1985-05-28 | 1985-06-18 | 電子ビ−ム励起イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61290629A (enrdf_load_html_response) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2724461B2 (ja) * | 1987-12-30 | 1998-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 電子ビーム励起イオン源 |
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| JPH0340342A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-21 | Akira Oota | イオンビーム照射装置 |
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| JP2733629B2 (ja) * | 1989-10-27 | 1998-03-30 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン生成方法およびイオン生成装置 |
| JP2791911B2 (ja) * | 1989-11-14 | 1998-08-27 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン源 |
| JP2822249B2 (ja) * | 1990-01-11 | 1998-11-11 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン源 |
| US5326981A (en) * | 1991-09-27 | 1994-07-05 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Electron beam excited ion irradiation apparatus |
| CN101903970A (zh) * | 2007-10-22 | 2010-12-01 | 艾克塞利斯科技公司 | 双等离子体离子源 |
| JP5520555B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2014-06-11 | 株式会社アルバック | イオン照射方法 |
-
1985
- 1985-06-18 JP JP60132138A patent/JPS61290629A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ROV.SCI.INSTRUM=1977 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61290629A (ja) | 1986-12-20 |
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