JPH0368568A - 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法 - Google Patents

低塩素含有エポキシ化合物の製造方法

Info

Publication number
JPH0368568A
JPH0368568A JP20651189A JP20651189A JPH0368568A JP H0368568 A JPH0368568 A JP H0368568A JP 20651189 A JP20651189 A JP 20651189A JP 20651189 A JP20651189 A JP 20651189A JP H0368568 A JPH0368568 A JP H0368568A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy compound
epoxy
epichlorohydrin
chlorine
metallic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20651189A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Hashiba
功 橋場
Masayuki Harada
原田 正行
Hisao Saito
久男 斉藤
Suketoshi Tsukamoto
塚本 祐敏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP20651189A priority Critical patent/JPH0368568A/ja
Publication of JPH0368568A publication Critical patent/JPH0368568A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電気・電子材料或いは塗料分野で使用される
エポキシ樹脂に関するものであり、イオン性塩素を除去
したエポキシ化合物の製造方法を提供するものである。
従来よりエポキシ化合物の製造方法としては、一般には
反応性の水酸基及び/又はアミンの水素基とエピクロル
ヒドリンとを反応させてクロルヒドリン類を合威し、次
いでアルカリ金属水酸化物を用いて脱塩酸により閉環さ
せてエポキシ基を導入することが行われる。
しかしながらこのルートで製造されるエポキシ化合物は
通常未反応のクロルヒドリン類が入っており、加水分解
性塩素として検出され又、塩素を含んだ副反応物も存在
している。
これらの塩素化合物は、樹脂化して使用される用途にお
いて機械類の腐食や塩素イオンによる絶縁不良等のトラ
ブルを起こしたりするので、低塩素含有のエポキシ化合
物が望まれている。
従って、通常は閉環反応に使用するアルカリ水酸化物を
過剰に用いてこれらの塩素をできるだけ少なくすること
が行われている。
従来より、低塩素含有のエポキシ系化合物を製造する方
法としては色々な方法が検討されている。
例えば、特公昭62−31728号公報では水酸化カリ
ウムで後処理したり又、特開昭60−54376号公報
ではイオン交換樹脂で処理したりする方法が知られてい
る。
しかし、エポキシ系化合物の塩素を取り除く目的では今
一つであり、特に前者の場合はアルコールがアルカリ条
件下でエポキシ基と反応することにより、収率低下を起
こす。
又、特開平1−108218号公報にはNaBHa 、
L 1BHa 、L fAIHnで低塩素エポキシ化合
物を製造する方法が記載されているが、エポキシ環の分
解があり、この分解反応は水溶液の場合にか特に激しく
反応資材が極めて高価となり、工業的には好ましいとは
いえない。
塩素を除去するにあたり、エポキシ基を分解させず、且
つ効率よく除去を行う必要がある。
この目的を達成するために脱塩素工程を別に行うことを
検討した結果以下に述べる方法を発明するに至った。
即ち、エポキシ化合物としてイソシアヌール酸とエピク
ロルヒドリンを反応させて得られたトリス−2,3−エ
ポキシプロピルイソシアヌレート(以下、TGICと略
記する)をエピクロルヒドリンに溶解し、攪拌しながら
HPLCにてクロルヒドリン化合物を検出しなくなる迄
60%水素化ナトリウム(以下NaHと記す)を加える
次いで、水洗し、更にエピクロルヒドリンの留去、及び
メタノールによる再結晶を行う。
脱塩素剤として用いられるアルカリ金属水素化合物とし
ては、60%NaH,,CaH等があり、アルカリ金属
類としてはNaデスバージョン、金属Na、金属に等の
強い塩基が使用される。
しかし、価格、反応性の面でNaH5又は金属Naの使
用が望ましい。
処理温度としては、−20〜80℃の範囲が使用可能で
あり温度が高いと分解の恐れがあるが、ことさら低温が
必要な訳でもないことから15〜30°C位が特に好ま
しい。
反応時間としては通常1時間であるが実際に投入したら
すぐに反応が開始し、発泡が始まり5分位で反応は完了
している場合が多い。
尚、反応時間を1時間以上としても特に分解は起こらな
い。
反応溶媒としては、エビクロロヒドリンを使用している
が、使用するNaH或いは金属Na等と反応せず、且つ
エポキシ化合物を溶解するものであればよく、処理対象
であるエポキシ化合物の種類によって適宜変換可能であ
る。
尚、エポキシ化反応が通常エピクロルヒドリン中で行わ
れることを考えると、製造工程中にこの脱塩素処理工程
を取り込むことも可能である。
当然のことながら、この処理は禁水であり水が存在する
と脱塩素できないばかりか、製品であるエポキシ系化合
物の分解がおきて収率をそこなうので、水には充分の注
意が必要である。
使用するNaH或いは金属Na等量は残存するクロルヒ
ドリン類の量と当モル以上の量が必要である。
実際上は残存するクロルヒドリン類に対し1.O〜3.
0のモル比であるが、過剰に存在してもエポキシ化合物
の分解はほとんど起こらない。
特に分解が気になる場合には、0.5〜160のモル比
で処理し、残存する分は他の方法、例えば再結晶法等で
除去することもできる。
反応終了後はアルカリ分を除去する必要があり、水で洗
浄するのが一般的である。
しかし、アルカリ性で水が存在するとエポキシ基の分解
が起こり得る。
分解が激しい場合には弱酸、例えば炭酸ガスで中和した
後に水洗することが行われる。
又、水洗せずに炭酸ガス中和後、無機塩をろ別してもよ
い。
水に対する溶解度の大きいエポキシ化合物の場合はこの
方法が収率の点で有効である。
溶媒を留去した後、他の溶媒例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、アセトン等の再結晶溶媒に入れ換えて再結晶し目
的とする低塩素含有のエポキシ化合物を得るが、反応溶
媒がエビクロロヒドリンの場合にはエピクロルヒドリン
をなるべく充分に留去させておく必要がある。
反応溶媒の残留量はエポキシ化合物の5%以下、好まし
くは1%以下とする。
エビクロロヒドリンの残留量が多いと再結晶を行った後
でも結晶中にエピクロルヒドリンが取り込まれるので、
加水分解性塩素は高いものとなる。
TGICの場合はその物が固体であり、再結晶で更に加
水分解性塩素を低下させることができる。
再結晶に使用する溶媒は当然エポキシ基と反応しない溶
媒を用いるが、TGICの場合にはアルコール類が有効
である。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール等の低級アルコールが好ましい。
これは不純物の多くがエポキシ基が開環したポリオール
であり、アルコール類はこれらに対する溶解度が大きい
ことによる。
その他の溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニ
トリル類、セルソルブ類、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類等が使用できる。
再結晶により得られたTGICは処理前の残留塩素10
.000ppmから100〜300ppmに低下し、収
率も90%を越える。
以上、−度単離したTC;ICについての処理法を記載
したが、前記したごとく製造工程に組み込むこともでき
る。
即ち、TGICの製造ではシアヌール酸とエピクロルヒ
ドリンとをテトラメチルアンモニウムクロライドの存在
下100〜120°Cで反応させシアヌール酸に対し3
.0〜3.2倍モルのNaOH又はNaOH水溶液でエ
ポキシ基を閉環する。
その後、引続きNaH又はNaで前述の脱塩素処理を施
せば良い。
但し、残存する水には注意が必要であり脱塩素処理前に
は充分脱水しておく必要がある。
脱水の方法としては、エピクロルヒドリンとの共沸脱水
を充分に行うか又は積極的にn−ヘキサン、n−へブタ
ン等を加え精留塔を用いて共沸脱水すべきであり、脱水
の状態はガスクロマトグラフィーでチエツクする必要が
ある。
上記の後処理の後、反応で生成した無機塩や触媒を水洗
除去し、エピクロルヒドリンを留去した後、メタノール
で再結晶し低塩素含有のエポキシ化合物を得ることがで
きる。
しかし反応途中でこの除去処理を行う際には、この反応
が下記のような平衡にあるので、NaHの必要量は単離
した場合より多く必要である。
以下、実施例により更に詳細に説明する。
実施例−1 加水分解性の塩素を約10.OOOppm含有するTG
IC10gを反応器に仕込みエピクロルヒドリン60g
を加え20°Cで溶解させた。
次いで60%のNa HO,15gを投入した。
投入と共に発泡があり若干の発熱がある。
1時間後水20gで洗浄し、分液して得られた有機層を
更に水20gで2回洗浄した。
最後の水層はpH7〜8であった。
分離した有機層から減圧下でエビクロロヒドリンを留去
し、最終的に70″C/lmmHg下に1時間置き脱エ
ビクロロヒドリン操作を終えた。
この時の残留エビクロロヒドリン量は0.5%であった
得られた生成物をメタノール30gに50°Cで溶解さ
せた後、冷却して20℃とし1時間攪拌後析出した固体
状物をろ別し、6gのメタノールで2回洗浄乾燥して7
.4gの白色結晶を得た。
このものの加水分解性塩素は280ppmであり、HP
LC分析の結果TGIC以外の不純物によるピークは殆
どみとめられなかった。
尚、原料として使用したTGICの純度は90%であっ
た。
実施例−2 実施例−1と同様の処理を行い、水洗浄の代わりにドラ
イアイスを投入して中和を行った後、30″Cに加温し
て析出した無機塩をろ別し、エピクロルヒドリン5gで
ろ滓を洗浄してろ液及び洗浄液を合わせて、その後エピ
クロルヒドリンの留去を行った。
その後実施例−1と同様にしてメタノールを用いて再結
晶させ、加水分解性塩素が450ppmの白色結晶8,
1gを得た。
実施例−3 シアヌール酸123g、エピクロロヒドリン1388g
を仕込み、テトラメチルアンモニウムクロライド5gを
加えて90℃とした後、徐々に加温して還流させる。還
流5時間後に冷却して20°Cとする。
この反応液の温度を20〜25℃に保ちながら120g
のフレーク状NaOHを約1時間かけて投入する。
その後5時間攪拌した後、炭酸ガスを吹き込み30’C
で攪拌、生成した無機塩をろ別する。
エピクロルヒドリン100gで無機塩を洗浄して、ろ液
及び洗浄液を合わせて、40〜50゛Cの温度で減圧下
でエピクロルヒドリンの留去を行い、約600gを留去
させた後、新に600gのエピクロルヒドリンを加えて
20°Cに冷却し、60%NaH12gを5回に分けて
分割投入した。
投入1時間後に水200gで洗浄し、更に水200gで
2回洗浄した。
その後実施例−1と同様にエピクロルヒドリンを留去し
メタノール800gを加え、50’Cに加温溶解し、2
0°C迄冷却して析出固体をろ別した。
更にメタノール100gで2回洗浄した後、乾燥して白
色固体227gを得た。
この固体の加水分解性塩素は950ppmであった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)反応性の水酸基及び/又はアミンの水素基とエピ
    クロルヒドリンとを反応させて製造したエポキシ化合物
    を、アルカリ金属類、NaH及びCaHの中から選ばれ
    た1種を用いて処理する塩素含有量の少ないエポキシ化
    合物の製造方法。
  2. (2)エポキシ化合物がトリス−2,3−エポキシプロ
    ピルイソシアヌレートである請求項第1項記載の製造方
    法。
JP20651189A 1989-08-09 1989-08-09 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法 Pending JPH0368568A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20651189A JPH0368568A (ja) 1989-08-09 1989-08-09 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20651189A JPH0368568A (ja) 1989-08-09 1989-08-09 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0368568A true JPH0368568A (ja) 1991-03-25

Family

ID=16524577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20651189A Pending JPH0368568A (ja) 1989-08-09 1989-08-09 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0368568A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0984011A1 (en) * 1998-09-01 2000-03-08 Nissan Chemical Industries, Limited Method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-expoxy-propyl)-isocyanurate crystals
US6620907B2 (en) 1999-12-07 2003-09-16 3M Innovative Properties Company Process for the elimination of materials containing hydrolyzable halides and other high molecular weight materials from epihalohydrin derived epoxy resins
JP2017019883A (ja) * 2015-07-07 2017-01-26 上野製薬株式会社 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸グリシジルエーテルエステルの精製方法
CN114989396A (zh) * 2022-07-20 2022-09-02 杜彪 一种通过MOFs材料去除环氧树脂中有机氯杂质的方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0984011A1 (en) * 1998-09-01 2000-03-08 Nissan Chemical Industries, Limited Method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-expoxy-propyl)-isocyanurate crystals
US6620907B2 (en) 1999-12-07 2003-09-16 3M Innovative Properties Company Process for the elimination of materials containing hydrolyzable halides and other high molecular weight materials from epihalohydrin derived epoxy resins
JP2017019883A (ja) * 2015-07-07 2017-01-26 上野製薬株式会社 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸グリシジルエーテルエステルの精製方法
CN114989396A (zh) * 2022-07-20 2022-09-02 杜彪 一种通过MOFs材料去除环氧树脂中有机氯杂质的方法
CN114989396B (zh) * 2022-07-20 2023-09-19 智仑超纯环氧树脂(西安)有限公司 一种通过MOFs材料去除环氧树脂中有机氯杂质的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5059726A (en) Process for producing tetrabromobisphenol A
US4196289A (en) Process for producing triallyl isocyanurate
EP0380363B1 (en) Process for producing tetrabromobisphenol A
JPH0368568A (ja) 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法
JPH0629225B2 (ja) ジタ−シヤリ−ブチルジカ−ボネ−トの製法
JP2002047258A (ja) N−イソプロピルグリシンの製造方法
JPH0138112B2 (ja)
JP4265003B2 (ja) シアヌル酸誘導体の製造方法
US5382689A (en) Process for preparation of bevantolol hydrochloride
CN112159388A (zh) 一种硫酸乙烯酯衍生物的制备方法
EP0015577B1 (en) Process for producing 1,1,3,3-tetrafluoro-1,3-dihydro-isobenzofuran
KR102638538B1 (ko) 우라피딜 제조 중간체의 제조방법
JP4265004B2 (ja) シアヌル酸誘導体の製造方法
JP4425366B2 (ja) N−ベンジル−3−ヒドロキシアゼチジンの製造法
JPH01501002A (ja) N―エポキシプロピルラクタムの合成
JPH09202751A (ja) ジt−ブチルジカーボネートの製造方法
US5599983A (en) Preparation of alkanesulfonamides with low residual ammonium impurities
US4673749A (en) Process for producing an indoline
GB2033382A (en) Production of N-(4'-Chloro-3- sulphamoyl-benzenesulphonyl)-N- methyl-2-aminomethyl-2-methyl tetrahydrofuran
JP4668393B2 (ja) 4−アミノウラゾールの製造方法
JPH0717990A (ja) 3−メチル−1−フェニルホスホレンオキシドの製造方法
CN117801052A (zh) 一种合成Fmoc-Lys(MMT)-OH的方法
JPS6337104B2 (ja)
JPS61280463A (ja) ジメチルシアナミドの製法
CN115197084A (zh) 一种恩杂鲁胺关键中间体的制备方法