JPH0368568A - 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法 - Google Patents
低塩素含有エポキシ化合物の製造方法Info
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- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 24
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 8
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical compound CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 4
- -1 chlorine ions Chemical class 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 241000143060 Americamysis bahia Species 0.000 description 2
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003945 chlorohydrins Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気・電子材料或いは塗料分野で使用される
エポキシ樹脂に関するものであり、イオン性塩素を除去
したエポキシ化合物の製造方法を提供するものである。
エポキシ樹脂に関するものであり、イオン性塩素を除去
したエポキシ化合物の製造方法を提供するものである。
従来よりエポキシ化合物の製造方法としては、一般には
反応性の水酸基及び/又はアミンの水素基とエピクロル
ヒドリンとを反応させてクロルヒドリン類を合威し、次
いでアルカリ金属水酸化物を用いて脱塩酸により閉環さ
せてエポキシ基を導入することが行われる。
反応性の水酸基及び/又はアミンの水素基とエピクロル
ヒドリンとを反応させてクロルヒドリン類を合威し、次
いでアルカリ金属水酸化物を用いて脱塩酸により閉環さ
せてエポキシ基を導入することが行われる。
しかしながらこのルートで製造されるエポキシ化合物は
通常未反応のクロルヒドリン類が入っており、加水分解
性塩素として検出され又、塩素を含んだ副反応物も存在
している。
通常未反応のクロルヒドリン類が入っており、加水分解
性塩素として検出され又、塩素を含んだ副反応物も存在
している。
これらの塩素化合物は、樹脂化して使用される用途にお
いて機械類の腐食や塩素イオンによる絶縁不良等のトラ
ブルを起こしたりするので、低塩素含有のエポキシ化合
物が望まれている。
いて機械類の腐食や塩素イオンによる絶縁不良等のトラ
ブルを起こしたりするので、低塩素含有のエポキシ化合
物が望まれている。
従って、通常は閉環反応に使用するアルカリ水酸化物を
過剰に用いてこれらの塩素をできるだけ少なくすること
が行われている。
過剰に用いてこれらの塩素をできるだけ少なくすること
が行われている。
従来より、低塩素含有のエポキシ系化合物を製造する方
法としては色々な方法が検討されている。
法としては色々な方法が検討されている。
例えば、特公昭62−31728号公報では水酸化カリ
ウムで後処理したり又、特開昭60−54376号公報
ではイオン交換樹脂で処理したりする方法が知られてい
る。
ウムで後処理したり又、特開昭60−54376号公報
ではイオン交換樹脂で処理したりする方法が知られてい
る。
しかし、エポキシ系化合物の塩素を取り除く目的では今
一つであり、特に前者の場合はアルコールがアルカリ条
件下でエポキシ基と反応することにより、収率低下を起
こす。
一つであり、特に前者の場合はアルコールがアルカリ条
件下でエポキシ基と反応することにより、収率低下を起
こす。
又、特開平1−108218号公報にはNaBHa 、
L 1BHa 、L fAIHnで低塩素エポキシ化合
物を製造する方法が記載されているが、エポキシ環の分
解があり、この分解反応は水溶液の場合にか特に激しく
反応資材が極めて高価となり、工業的には好ましいとは
いえない。
L 1BHa 、L fAIHnで低塩素エポキシ化合
物を製造する方法が記載されているが、エポキシ環の分
解があり、この分解反応は水溶液の場合にか特に激しく
反応資材が極めて高価となり、工業的には好ましいとは
いえない。
塩素を除去するにあたり、エポキシ基を分解させず、且
つ効率よく除去を行う必要がある。
つ効率よく除去を行う必要がある。
この目的を達成するために脱塩素工程を別に行うことを
検討した結果以下に述べる方法を発明するに至った。
検討した結果以下に述べる方法を発明するに至った。
即ち、エポキシ化合物としてイソシアヌール酸とエピク
ロルヒドリンを反応させて得られたトリス−2,3−エ
ポキシプロピルイソシアヌレート(以下、TGICと略
記する)をエピクロルヒドリンに溶解し、攪拌しながら
HPLCにてクロルヒドリン化合物を検出しなくなる迄
60%水素化ナトリウム(以下NaHと記す)を加える
。
ロルヒドリンを反応させて得られたトリス−2,3−エ
ポキシプロピルイソシアヌレート(以下、TGICと略
記する)をエピクロルヒドリンに溶解し、攪拌しながら
HPLCにてクロルヒドリン化合物を検出しなくなる迄
60%水素化ナトリウム(以下NaHと記す)を加える
。
次いで、水洗し、更にエピクロルヒドリンの留去、及び
メタノールによる再結晶を行う。
メタノールによる再結晶を行う。
脱塩素剤として用いられるアルカリ金属水素化合物とし
ては、60%NaH,,CaH等があり、アルカリ金属
類としてはNaデスバージョン、金属Na、金属に等の
強い塩基が使用される。
ては、60%NaH,,CaH等があり、アルカリ金属
類としてはNaデスバージョン、金属Na、金属に等の
強い塩基が使用される。
しかし、価格、反応性の面でNaH5又は金属Naの使
用が望ましい。
用が望ましい。
処理温度としては、−20〜80℃の範囲が使用可能で
あり温度が高いと分解の恐れがあるが、ことさら低温が
必要な訳でもないことから15〜30°C位が特に好ま
しい。
あり温度が高いと分解の恐れがあるが、ことさら低温が
必要な訳でもないことから15〜30°C位が特に好ま
しい。
反応時間としては通常1時間であるが実際に投入したら
すぐに反応が開始し、発泡が始まり5分位で反応は完了
している場合が多い。
すぐに反応が開始し、発泡が始まり5分位で反応は完了
している場合が多い。
尚、反応時間を1時間以上としても特に分解は起こらな
い。
い。
反応溶媒としては、エビクロロヒドリンを使用している
が、使用するNaH或いは金属Na等と反応せず、且つ
エポキシ化合物を溶解するものであればよく、処理対象
であるエポキシ化合物の種類によって適宜変換可能であ
る。
が、使用するNaH或いは金属Na等と反応せず、且つ
エポキシ化合物を溶解するものであればよく、処理対象
であるエポキシ化合物の種類によって適宜変換可能であ
る。
尚、エポキシ化反応が通常エピクロルヒドリン中で行わ
れることを考えると、製造工程中にこの脱塩素処理工程
を取り込むことも可能である。
れることを考えると、製造工程中にこの脱塩素処理工程
を取り込むことも可能である。
当然のことながら、この処理は禁水であり水が存在する
と脱塩素できないばかりか、製品であるエポキシ系化合
物の分解がおきて収率をそこなうので、水には充分の注
意が必要である。
と脱塩素できないばかりか、製品であるエポキシ系化合
物の分解がおきて収率をそこなうので、水には充分の注
意が必要である。
使用するNaH或いは金属Na等量は残存するクロルヒ
ドリン類の量と当モル以上の量が必要である。
ドリン類の量と当モル以上の量が必要である。
実際上は残存するクロルヒドリン類に対し1.O〜3.
0のモル比であるが、過剰に存在してもエポキシ化合物
の分解はほとんど起こらない。
0のモル比であるが、過剰に存在してもエポキシ化合物
の分解はほとんど起こらない。
特に分解が気になる場合には、0.5〜160のモル比
で処理し、残存する分は他の方法、例えば再結晶法等で
除去することもできる。
で処理し、残存する分は他の方法、例えば再結晶法等で
除去することもできる。
反応終了後はアルカリ分を除去する必要があり、水で洗
浄するのが一般的である。
浄するのが一般的である。
しかし、アルカリ性で水が存在するとエポキシ基の分解
が起こり得る。
が起こり得る。
分解が激しい場合には弱酸、例えば炭酸ガスで中和した
後に水洗することが行われる。
後に水洗することが行われる。
又、水洗せずに炭酸ガス中和後、無機塩をろ別してもよ
い。
い。
水に対する溶解度の大きいエポキシ化合物の場合はこの
方法が収率の点で有効である。
方法が収率の点で有効である。
溶媒を留去した後、他の溶媒例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、アセトン等の再結晶溶媒に入れ換えて再結晶し目
的とする低塩素含有のエポキシ化合物を得るが、反応溶
媒がエビクロロヒドリンの場合にはエピクロルヒドリン
をなるべく充分に留去させておく必要がある。
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、アセトン等の再結晶溶媒に入れ換えて再結晶し目
的とする低塩素含有のエポキシ化合物を得るが、反応溶
媒がエビクロロヒドリンの場合にはエピクロルヒドリン
をなるべく充分に留去させておく必要がある。
反応溶媒の残留量はエポキシ化合物の5%以下、好まし
くは1%以下とする。
くは1%以下とする。
エビクロロヒドリンの残留量が多いと再結晶を行った後
でも結晶中にエピクロルヒドリンが取り込まれるので、
加水分解性塩素は高いものとなる。
でも結晶中にエピクロルヒドリンが取り込まれるので、
加水分解性塩素は高いものとなる。
TGICの場合はその物が固体であり、再結晶で更に加
水分解性塩素を低下させることができる。
水分解性塩素を低下させることができる。
再結晶に使用する溶媒は当然エポキシ基と反応しない溶
媒を用いるが、TGICの場合にはアルコール類が有効
である。
媒を用いるが、TGICの場合にはアルコール類が有効
である。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール等の低級アルコールが好ましい。
ール等の低級アルコールが好ましい。
これは不純物の多くがエポキシ基が開環したポリオール
であり、アルコール類はこれらに対する溶解度が大きい
ことによる。
であり、アルコール類はこれらに対する溶解度が大きい
ことによる。
その他の溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニ
トリル類、セルソルブ類、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類等が使用できる。
のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニ
トリル類、セルソルブ類、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類等が使用できる。
再結晶により得られたTGICは処理前の残留塩素10
.000ppmから100〜300ppmに低下し、収
率も90%を越える。
.000ppmから100〜300ppmに低下し、収
率も90%を越える。
以上、−度単離したTC;ICについての処理法を記載
したが、前記したごとく製造工程に組み込むこともでき
る。
したが、前記したごとく製造工程に組み込むこともでき
る。
即ち、TGICの製造ではシアヌール酸とエピクロルヒ
ドリンとをテトラメチルアンモニウムクロライドの存在
下100〜120°Cで反応させシアヌール酸に対し3
.0〜3.2倍モルのNaOH又はNaOH水溶液でエ
ポキシ基を閉環する。
ドリンとをテトラメチルアンモニウムクロライドの存在
下100〜120°Cで反応させシアヌール酸に対し3
.0〜3.2倍モルのNaOH又はNaOH水溶液でエ
ポキシ基を閉環する。
その後、引続きNaH又はNaで前述の脱塩素処理を施
せば良い。
せば良い。
但し、残存する水には注意が必要であり脱塩素処理前に
は充分脱水しておく必要がある。
は充分脱水しておく必要がある。
脱水の方法としては、エピクロルヒドリンとの共沸脱水
を充分に行うか又は積極的にn−ヘキサン、n−へブタ
ン等を加え精留塔を用いて共沸脱水すべきであり、脱水
の状態はガスクロマトグラフィーでチエツクする必要が
ある。
を充分に行うか又は積極的にn−ヘキサン、n−へブタ
ン等を加え精留塔を用いて共沸脱水すべきであり、脱水
の状態はガスクロマトグラフィーでチエツクする必要が
ある。
上記の後処理の後、反応で生成した無機塩や触媒を水洗
除去し、エピクロルヒドリンを留去した後、メタノール
で再結晶し低塩素含有のエポキシ化合物を得ることがで
きる。
除去し、エピクロルヒドリンを留去した後、メタノール
で再結晶し低塩素含有のエポキシ化合物を得ることがで
きる。
しかし反応途中でこの除去処理を行う際には、この反応
が下記のような平衡にあるので、NaHの必要量は単離
した場合より多く必要である。
が下記のような平衡にあるので、NaHの必要量は単離
した場合より多く必要である。
以下、実施例により更に詳細に説明する。
実施例−1
加水分解性の塩素を約10.OOOppm含有するTG
IC10gを反応器に仕込みエピクロルヒドリン60g
を加え20°Cで溶解させた。
IC10gを反応器に仕込みエピクロルヒドリン60g
を加え20°Cで溶解させた。
次いで60%のNa HO,15gを投入した。
投入と共に発泡があり若干の発熱がある。
1時間後水20gで洗浄し、分液して得られた有機層を
更に水20gで2回洗浄した。
更に水20gで2回洗浄した。
最後の水層はpH7〜8であった。
分離した有機層から減圧下でエビクロロヒドリンを留去
し、最終的に70″C/lmmHg下に1時間置き脱エ
ビクロロヒドリン操作を終えた。
し、最終的に70″C/lmmHg下に1時間置き脱エ
ビクロロヒドリン操作を終えた。
この時の残留エビクロロヒドリン量は0.5%であった
。
。
得られた生成物をメタノール30gに50°Cで溶解さ
せた後、冷却して20℃とし1時間攪拌後析出した固体
状物をろ別し、6gのメタノールで2回洗浄乾燥して7
.4gの白色結晶を得た。
せた後、冷却して20℃とし1時間攪拌後析出した固体
状物をろ別し、6gのメタノールで2回洗浄乾燥して7
.4gの白色結晶を得た。
このものの加水分解性塩素は280ppmであり、HP
LC分析の結果TGIC以外の不純物によるピークは殆
どみとめられなかった。
LC分析の結果TGIC以外の不純物によるピークは殆
どみとめられなかった。
尚、原料として使用したTGICの純度は90%であっ
た。
た。
実施例−2
実施例−1と同様の処理を行い、水洗浄の代わりにドラ
イアイスを投入して中和を行った後、30″Cに加温し
て析出した無機塩をろ別し、エピクロルヒドリン5gで
ろ滓を洗浄してろ液及び洗浄液を合わせて、その後エピ
クロルヒドリンの留去を行った。
イアイスを投入して中和を行った後、30″Cに加温し
て析出した無機塩をろ別し、エピクロルヒドリン5gで
ろ滓を洗浄してろ液及び洗浄液を合わせて、その後エピ
クロルヒドリンの留去を行った。
その後実施例−1と同様にしてメタノールを用いて再結
晶させ、加水分解性塩素が450ppmの白色結晶8,
1gを得た。
晶させ、加水分解性塩素が450ppmの白色結晶8,
1gを得た。
実施例−3
シアヌール酸123g、エピクロロヒドリン1388g
を仕込み、テトラメチルアンモニウムクロライド5gを
加えて90℃とした後、徐々に加温して還流させる。還
流5時間後に冷却して20°Cとする。
を仕込み、テトラメチルアンモニウムクロライド5gを
加えて90℃とした後、徐々に加温して還流させる。還
流5時間後に冷却して20°Cとする。
この反応液の温度を20〜25℃に保ちながら120g
のフレーク状NaOHを約1時間かけて投入する。
のフレーク状NaOHを約1時間かけて投入する。
その後5時間攪拌した後、炭酸ガスを吹き込み30’C
で攪拌、生成した無機塩をろ別する。
で攪拌、生成した無機塩をろ別する。
エピクロルヒドリン100gで無機塩を洗浄して、ろ液
及び洗浄液を合わせて、40〜50゛Cの温度で減圧下
でエピクロルヒドリンの留去を行い、約600gを留去
させた後、新に600gのエピクロルヒドリンを加えて
20°Cに冷却し、60%NaH12gを5回に分けて
分割投入した。
及び洗浄液を合わせて、40〜50゛Cの温度で減圧下
でエピクロルヒドリンの留去を行い、約600gを留去
させた後、新に600gのエピクロルヒドリンを加えて
20°Cに冷却し、60%NaH12gを5回に分けて
分割投入した。
投入1時間後に水200gで洗浄し、更に水200gで
2回洗浄した。
2回洗浄した。
その後実施例−1と同様にエピクロルヒドリンを留去し
メタノール800gを加え、50’Cに加温溶解し、2
0°C迄冷却して析出固体をろ別した。
メタノール800gを加え、50’Cに加温溶解し、2
0°C迄冷却して析出固体をろ別した。
更にメタノール100gで2回洗浄した後、乾燥して白
色固体227gを得た。
色固体227gを得た。
この固体の加水分解性塩素は950ppmであった。
Claims (2)
- (1)反応性の水酸基及び/又はアミンの水素基とエピ
クロルヒドリンとを反応させて製造したエポキシ化合物
を、アルカリ金属類、NaH及びCaHの中から選ばれ
た1種を用いて処理する塩素含有量の少ないエポキシ化
合物の製造方法。 - (2)エポキシ化合物がトリス−2,3−エポキシプロ
ピルイソシアヌレートである請求項第1項記載の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20651189A JPH0368568A (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20651189A JPH0368568A (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0368568A true JPH0368568A (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=16524577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20651189A Pending JPH0368568A (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | 低塩素含有エポキシ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0368568A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0984011A1 (en) * | 1998-09-01 | 2000-03-08 | Nissan Chemical Industries, Limited | Method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-expoxy-propyl)-isocyanurate crystals |
US6620907B2 (en) | 1999-12-07 | 2003-09-16 | 3M Innovative Properties Company | Process for the elimination of materials containing hydrolyzable halides and other high molecular weight materials from epihalohydrin derived epoxy resins |
JP2017019883A (ja) * | 2015-07-07 | 2017-01-26 | 上野製薬株式会社 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸グリシジルエーテルエステルの精製方法 |
CN114989396A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-09-02 | 杜彪 | 一种通过MOFs材料去除环氧树脂中有机氯杂质的方法 |
-
1989
- 1989-08-09 JP JP20651189A patent/JPH0368568A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0984011A1 (en) * | 1998-09-01 | 2000-03-08 | Nissan Chemical Industries, Limited | Method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-expoxy-propyl)-isocyanurate crystals |
US6620907B2 (en) | 1999-12-07 | 2003-09-16 | 3M Innovative Properties Company | Process for the elimination of materials containing hydrolyzable halides and other high molecular weight materials from epihalohydrin derived epoxy resins |
JP2017019883A (ja) * | 2015-07-07 | 2017-01-26 | 上野製薬株式会社 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸グリシジルエーテルエステルの精製方法 |
CN114989396A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-09-02 | 杜彪 | 一种通过MOFs材料去除环氧树脂中有机氯杂质的方法 |
CN114989396B (zh) * | 2022-07-20 | 2023-09-19 | 智仑超纯环氧树脂(西安)有限公司 | 一种通过MOFs材料去除环氧树脂中有机氯杂质的方法 |
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