JPH0358982A - 新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法 - Google Patents

新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法

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JPH0358982A
JPH0358982A JP19490989A JP19490989A JPH0358982A JP H0358982 A JPH0358982 A JP H0358982A JP 19490989 A JP19490989 A JP 19490989A JP 19490989 A JP19490989 A JP 19490989A JP H0358982 A JPH0358982 A JP H0358982A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ポリイミド等の原料として有用な新規含フツ
素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法に関する。
〔従来の技術〕
テトラカルボン酸二無水物は電子材料分野に使用されて
いるポリイミド等の原料として有用である。このような
酸二無水物のうちフッ素を有するものとしては従来から
式(n) で示される含フツ素テトラカルボン酸二無水物。
2、無水トリメリット酸又はその酸クロライドと、1.
3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロピル
)ベンゼン又は51.4−ビス(2−ヒドロキシへキサ
フルオロイソプロピル)ベンゼンを反応させることを特
徴とする請求項1に記載の一般式(1)で示される含フ
ツ素テトラカルボン酸二無水物の製造法。
3、発明の詳細な説明 で示される含フツ素テトラカルボン酸二無水物が知られ
ている〔例えば特公昭43−1876号公報〕。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、近年、電子機器の高密度化、高性能化に伴い、
電子機器に使用されているポリイミド等に、耐湿性の向
上などが強く要求されおり、従来の含フツ素テトラカル
ボン酸二無水物を原料とする場合、これらの要求に十分
満足するものは得られなかった。
この様な要求に対処するためには分子構造中により多く
のフッ素原子を含むテトラカルボン酸二無水物が有効で
あると考えられる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明における新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水
物は一般式(1) (1) で示される化合物である。ここで、二つのへキサフルオ
ロイソプロピリデン基は、例えば、互いにパラ位又はメ
タ位に結合している。
上記化合物は、1,3−ビス(2−ヒドロキシへキサフ
ルオロイソプロピル)ベンゼン又は、1゜4−ビス(2
−ヒドロキシへキサフルオロイソプロピル)ベンゼンと
無水トリメリット酸又はそのモノクロライトとを反応さ
せることにより製造することかできる。
1.3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)ベンゼンと無水トリメリッ
ト酸を反応させる場合には、新実験化学講座14巻(■
)(丸首(株)昭和52年12月20日発行)第100
頁以下に示される様な公知の方法を採用することができ
る。例えば、ベンゼントルエン等を溶媒とし、生成する
水を共沸留去する方法、無水硫酸マグネシウム、モレキ
ュラーシーブスなどの乾燥剤を用いる方法などがある。
上記反応は、有機溶媒中で行われることが好ましい。こ
の際使用される有機溶媒としては、カルボン酸、酸無水
物及び水酸基と反応性のないものであれば良く、トルエ
ン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジクロロエタンな
どが用いられ、互いに相溶すれば2種類以上を混合して
用いても良い。
1.3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)ベンゼンと、無水トリメリ
ット酸モノクロライドを反応させる場合は、上記の新実
験化学講座、14巻(It)第1012頁以下に示され
る様な公知の方法を採用することができる。例えば、低
温下(好ましくは10℃以下)、窒素等の不活性ガスの
雰囲気中で反応させる。この際、生成する塩酸を捕獲す
るためピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン
等の三級アミン、水酸化ナトリウム等の塩基を用いるこ
とが好ましい。
塩基の使用量は、生成する塩酸に対して1〜3モル当量
用いることが好ましい。1モル当量より少ないと塩酸の
捕獲が不十分であり、3モル当量より多いと副反応など
により収率が低下することがある。
上記反応は有機溶媒中で行われることが好ましい。用い
ることのできる溶媒としては、トルエン。
ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなど酸クロライド、酸無水物及び水酸基と反応性
のない有機溶媒が使用される。これらは互いに相溶すれ
ば2種以上を混合して用いても良い。使用する有機溶媒
は十分に脱水したものを用いることが好ましい。反応系
中に水分が存在すると酸クロライドが分解するため収率
が低下することがある。
一般式(1)で示される化合物は無水酢酸等を用いる再
結晶などによりWtfMすることができる。
なお、一般式(I)で示される化合物はポリイミド等の
樹脂の原料として有用な化合物である。
〔実施例〕
以下、本発明により説明するが、本発明はこの実施例に
より特に限定されるものではない。
実施例1 乾燥管、窒素導入環2滴下ロートを備えた300mQの
四つ目フラスコに、無水トリメリット酸モノクロライト
31.5 g (0,15moQ) 、脱水精製したテ
トラヒドロフラン100mQを入れかくはんした。無水
トリメリット酸クロライドが完全に溶解したらフラスコ
を水浴で冷却しながら、1゜4−ビス(2−ヒドロキシ
ヘキサフルオ口インプロピル)ベンゼン30.75 g
 (0,075mon)、ピリジン11.87 g (
0,15moQ)を脱水精製したテトラヒドロフラン5
0mQに溶解したものを滴下した。滴下終了後、水浴中
で2時間、室温で1時間、40℃で2時間反応させた。
反応終了後、反応液を大量の水中に注ぎ生成したピリジ
ンの塩酸塩を溶解させた。残った結晶を日別、水洗後、
減圧乾燥した。この後、無水酢酸で2回再結晶した。得
られた結晶の収率、物性は次のとおりである。
収率 :13.5% 融点 :231.5〜234℃ 赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法) : l 790a++−”(C=O酸無水物)1770
個−1(C=○エステル) 1230am−”(C−F) ’H−NMRスペクトル(溶媒ニジメチルスルホキシド
−do) : 8.62,8.61,8.58,8,578.52
,8.51,8.35,8,348.31,7.86(
いずれのピーク もC−H芳香族) ”F−NMRスペクトル(溶媒ニジメチルスルホキシド
−dG) ニー2.12 (−cFa) また、得られた結晶は次の分析条件による液体クロマト
グラフィ分析では単一ピークであった。
分析条件:カラム 東ソー(株)製 TSK−geQ  G2000HXL  1本+ G1
00OHX L 1本 溶 媒 テトラヒドロフラン 流量1 m Q /win 検出器 RI 第1図に上記赤外吸収スペクトル、第2図に上記’H−
NMRスペクトルの一部拡大図(横方向拡大)及び第3
図に上記液体クロマトグラフィーのチャートを示す。
以上より、前記で得られた結晶は式(m)で示される化
合物である。
応用例1 温度計、かくはん装置、乾燥管、窒素導入管を備えた4
つロフラスコに乾燥したN、N−ジメチルアセトアミド
187g、次いで2,2−ビス(4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパン51.8 
g (0,1moQ)を入れ。
均一溶液になるまで攪拌した。次いで、室温で酸二無水
物A72.6g (0,1moI2)を加え反応させた
。この後室温で、5時間反応させ、ポリイミド樹脂前駆
体(ポリアミド酸)の溶液を得た。
得られたポリイミド樹脂前駆体の溶液をガラス基板上に
スピンコードにより塗布し、150℃。
200℃、250℃及び300℃で順次それぞれ30分
間ずつ加熱することトこよりポリイミド樹脂皮膜を得た
。得られたポリイミド樹脂皮膜のガラス転移温度、熱分
解温度及び吸水率は、それぞれ、200℃、385℃及
び0.4%であった。
一般式(I)で示される含フツ素テトラカルボン酸二無
水物を用いて得られるポリイミドは、般に低吸湿性を示
す。
なお、上記特性の測定条件は以下に示す通りである。
1)ガラス転移温度 パーキンエルマ社製DSC−7型を用い昇温速度10℃
/lll1n試料量約20mgで測定した。
2)熱分解温度 示差熱天秤を用い昇温速度10℃10+inで測定し、
5%重量減少温度を熱分解温度とした。
3)吸水率 ポリイミドフィルムをプレッシャークンカー装置で、1
21℃、2気圧の条件で処理し、その前後の重量変化よ
り求めた。
〔発明の効果〕
請求項1に記載され及び請求項2に記載の方法によって
得られる化合物は新規化合物であり、ポリイミド樹脂の
原料として有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例1で得られた化合物の赤吸収スペクト
ル、第2図は’H−NMRスペクトルの一部拡大図、及
び第3図は液体クロマトグラフィーのチャートを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される含フッ素テトラカルボン酸二無水物。 2、無水トリメリット酸又はその酸クロライドと、1,
    3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル
    )ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサ
    フルオロイソプロピル)ベンゼンを反応させることを特
    徴とする請求項1に記載の一般式( I )で示される含
    フッ素テトラカルボン酸二無水物の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0367835A (ja) * 1989-08-07 1991-03-22 Canon Inc 画像形成装置
JPH0429986A (ja) * 1990-05-25 1992-01-31 Hitachi Chem Co Ltd ポリエステル酸無水物の製造法
KR100509512B1 (ko) * 1997-12-31 2005-11-08 삼성전자주식회사 비스(트리알킬트리멜리트산 무수물) 유도체 및 이로부터 형성된 광통신용 폴리에스테르이미드
CN102276562A (zh) * 2011-05-28 2011-12-14 南昌大学 一种含有1,2,2-三甲基环戊基脂环结构的二酐及制备方法
JP2014172860A (ja) * 2013-03-08 2014-09-22 Asahi Kasei E-Materials Corp テトラカルボン酸二無水物

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