JPH0358982A - 新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法 - Google Patents
新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法Info
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- JPH0358982A JPH0358982A JP19490989A JP19490989A JPH0358982A JP H0358982 A JPH0358982 A JP H0358982A JP 19490989 A JP19490989 A JP 19490989A JP 19490989 A JP19490989 A JP 19490989A JP H0358982 A JPH0358982 A JP H0358982A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポリイミド等の原料として有用な新規含フツ
素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法に関する。
素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法に関する。
テトラカルボン酸二無水物は電子材料分野に使用されて
いるポリイミド等の原料として有用である。このような
酸二無水物のうちフッ素を有するものとしては従来から
式(n) で示される含フツ素テトラカルボン酸二無水物。
いるポリイミド等の原料として有用である。このような
酸二無水物のうちフッ素を有するものとしては従来から
式(n) で示される含フツ素テトラカルボン酸二無水物。
2、無水トリメリット酸又はその酸クロライドと、1.
3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロピル
)ベンゼン又は51.4−ビス(2−ヒドロキシへキサ
フルオロイソプロピル)ベンゼンを反応させることを特
徴とする請求項1に記載の一般式(1)で示される含フ
ツ素テトラカルボン酸二無水物の製造法。
3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロピル
)ベンゼン又は51.4−ビス(2−ヒドロキシへキサ
フルオロイソプロピル)ベンゼンを反応させることを特
徴とする請求項1に記載の一般式(1)で示される含フ
ツ素テトラカルボン酸二無水物の製造法。
3、発明の詳細な説明
で示される含フツ素テトラカルボン酸二無水物が知られ
ている〔例えば特公昭43−1876号公報〕。
ている〔例えば特公昭43−1876号公報〕。
しかし、近年、電子機器の高密度化、高性能化に伴い、
電子機器に使用されているポリイミド等に、耐湿性の向
上などが強く要求されおり、従来の含フツ素テトラカル
ボン酸二無水物を原料とする場合、これらの要求に十分
満足するものは得られなかった。
電子機器に使用されているポリイミド等に、耐湿性の向
上などが強く要求されおり、従来の含フツ素テトラカル
ボン酸二無水物を原料とする場合、これらの要求に十分
満足するものは得られなかった。
この様な要求に対処するためには分子構造中により多く
のフッ素原子を含むテトラカルボン酸二無水物が有効で
あると考えられる。
のフッ素原子を含むテトラカルボン酸二無水物が有効で
あると考えられる。
本発明における新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水
物は一般式(1) (1) で示される化合物である。ここで、二つのへキサフルオ
ロイソプロピリデン基は、例えば、互いにパラ位又はメ
タ位に結合している。
物は一般式(1) (1) で示される化合物である。ここで、二つのへキサフルオ
ロイソプロピリデン基は、例えば、互いにパラ位又はメ
タ位に結合している。
上記化合物は、1,3−ビス(2−ヒドロキシへキサフ
ルオロイソプロピル)ベンゼン又は、1゜4−ビス(2
−ヒドロキシへキサフルオロイソプロピル)ベンゼンと
無水トリメリット酸又はそのモノクロライトとを反応さ
せることにより製造することかできる。
ルオロイソプロピル)ベンゼン又は、1゜4−ビス(2
−ヒドロキシへキサフルオロイソプロピル)ベンゼンと
無水トリメリット酸又はそのモノクロライトとを反応さ
せることにより製造することかできる。
1.3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)ベンゼンと無水トリメリッ
ト酸を反応させる場合には、新実験化学講座14巻(■
)(丸首(株)昭和52年12月20日発行)第100
頁以下に示される様な公知の方法を採用することができ
る。例えば、ベンゼントルエン等を溶媒とし、生成する
水を共沸留去する方法、無水硫酸マグネシウム、モレキ
ュラーシーブスなどの乾燥剤を用いる方法などがある。
ピル)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)ベンゼンと無水トリメリッ
ト酸を反応させる場合には、新実験化学講座14巻(■
)(丸首(株)昭和52年12月20日発行)第100
頁以下に示される様な公知の方法を採用することができ
る。例えば、ベンゼントルエン等を溶媒とし、生成する
水を共沸留去する方法、無水硫酸マグネシウム、モレキ
ュラーシーブスなどの乾燥剤を用いる方法などがある。
上記反応は、有機溶媒中で行われることが好ましい。こ
の際使用される有機溶媒としては、カルボン酸、酸無水
物及び水酸基と反応性のないものであれば良く、トルエ
ン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジクロロエタンな
どが用いられ、互いに相溶すれば2種類以上を混合して
用いても良い。
の際使用される有機溶媒としては、カルボン酸、酸無水
物及び水酸基と反応性のないものであれば良く、トルエ
ン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジクロロエタンな
どが用いられ、互いに相溶すれば2種類以上を混合して
用いても良い。
1.3−ビス(2−ヒドロキシへキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)ベンゼンと、無水トリメリ
ット酸モノクロライドを反応させる場合は、上記の新実
験化学講座、14巻(It)第1012頁以下に示され
る様な公知の方法を採用することができる。例えば、低
温下(好ましくは10℃以下)、窒素等の不活性ガスの
雰囲気中で反応させる。この際、生成する塩酸を捕獲す
るためピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン
等の三級アミン、水酸化ナトリウム等の塩基を用いるこ
とが好ましい。
ピル)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)ベンゼンと、無水トリメリ
ット酸モノクロライドを反応させる場合は、上記の新実
験化学講座、14巻(It)第1012頁以下に示され
る様な公知の方法を採用することができる。例えば、低
温下(好ましくは10℃以下)、窒素等の不活性ガスの
雰囲気中で反応させる。この際、生成する塩酸を捕獲す
るためピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン
等の三級アミン、水酸化ナトリウム等の塩基を用いるこ
とが好ましい。
塩基の使用量は、生成する塩酸に対して1〜3モル当量
用いることが好ましい。1モル当量より少ないと塩酸の
捕獲が不十分であり、3モル当量より多いと副反応など
により収率が低下することがある。
用いることが好ましい。1モル当量より少ないと塩酸の
捕獲が不十分であり、3モル当量より多いと副反応など
により収率が低下することがある。
上記反応は有機溶媒中で行われることが好ましい。用い
ることのできる溶媒としては、トルエン。
ることのできる溶媒としては、トルエン。
ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなど酸クロライド、酸無水物及び水酸基と反応性
のない有機溶媒が使用される。これらは互いに相溶すれ
ば2種以上を混合して用いても良い。使用する有機溶媒
は十分に脱水したものを用いることが好ましい。反応系
中に水分が存在すると酸クロライドが分解するため収率
が低下することがある。
ーテルなど酸クロライド、酸無水物及び水酸基と反応性
のない有機溶媒が使用される。これらは互いに相溶すれ
ば2種以上を混合して用いても良い。使用する有機溶媒
は十分に脱水したものを用いることが好ましい。反応系
中に水分が存在すると酸クロライドが分解するため収率
が低下することがある。
一般式(1)で示される化合物は無水酢酸等を用いる再
結晶などによりWtfMすることができる。
結晶などによりWtfMすることができる。
なお、一般式(I)で示される化合物はポリイミド等の
樹脂の原料として有用な化合物である。
樹脂の原料として有用な化合物である。
以下、本発明により説明するが、本発明はこの実施例に
より特に限定されるものではない。
より特に限定されるものではない。
実施例1
乾燥管、窒素導入環2滴下ロートを備えた300mQの
四つ目フラスコに、無水トリメリット酸モノクロライト
31.5 g (0,15moQ) 、脱水精製したテ
トラヒドロフラン100mQを入れかくはんした。無水
トリメリット酸クロライドが完全に溶解したらフラスコ
を水浴で冷却しながら、1゜4−ビス(2−ヒドロキシ
ヘキサフルオ口インプロピル)ベンゼン30.75 g
(0,075mon)、ピリジン11.87 g (
0,15moQ)を脱水精製したテトラヒドロフラン5
0mQに溶解したものを滴下した。滴下終了後、水浴中
で2時間、室温で1時間、40℃で2時間反応させた。
四つ目フラスコに、無水トリメリット酸モノクロライト
31.5 g (0,15moQ) 、脱水精製したテ
トラヒドロフラン100mQを入れかくはんした。無水
トリメリット酸クロライドが完全に溶解したらフラスコ
を水浴で冷却しながら、1゜4−ビス(2−ヒドロキシ
ヘキサフルオ口インプロピル)ベンゼン30.75 g
(0,075mon)、ピリジン11.87 g (
0,15moQ)を脱水精製したテトラヒドロフラン5
0mQに溶解したものを滴下した。滴下終了後、水浴中
で2時間、室温で1時間、40℃で2時間反応させた。
反応終了後、反応液を大量の水中に注ぎ生成したピリジ
ンの塩酸塩を溶解させた。残った結晶を日別、水洗後、
減圧乾燥した。この後、無水酢酸で2回再結晶した。得
られた結晶の収率、物性は次のとおりである。
ンの塩酸塩を溶解させた。残った結晶を日別、水洗後、
減圧乾燥した。この後、無水酢酸で2回再結晶した。得
られた結晶の収率、物性は次のとおりである。
収率 :13.5%
融点 :231.5〜234℃
赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)
: l 790a++−”(C=O酸無水物)1770
個−1(C=○エステル) 1230am−”(C−F) ’H−NMRスペクトル(溶媒ニジメチルスルホキシド
−do) : 8.62,8.61,8.58,8,578.52
,8.51,8.35,8,348.31,7.86(
いずれのピーク もC−H芳香族) ”F−NMRスペクトル(溶媒ニジメチルスルホキシド
−dG) ニー2.12 (−cFa) また、得られた結晶は次の分析条件による液体クロマト
グラフィ分析では単一ピークであった。
個−1(C=○エステル) 1230am−”(C−F) ’H−NMRスペクトル(溶媒ニジメチルスルホキシド
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いずれのピーク もC−H芳香族) ”F−NMRスペクトル(溶媒ニジメチルスルホキシド
−dG) ニー2.12 (−cFa) また、得られた結晶は次の分析条件による液体クロマト
グラフィ分析では単一ピークであった。
分析条件:カラム 東ソー(株)製
TSK−geQ G2000HXL 1本+ G1
00OHX L 1本 溶 媒 テトラヒドロフラン 流量1 m Q /win 検出器 RI 第1図に上記赤外吸収スペクトル、第2図に上記’H−
NMRスペクトルの一部拡大図(横方向拡大)及び第3
図に上記液体クロマトグラフィーのチャートを示す。
00OHX L 1本 溶 媒 テトラヒドロフラン 流量1 m Q /win 検出器 RI 第1図に上記赤外吸収スペクトル、第2図に上記’H−
NMRスペクトルの一部拡大図(横方向拡大)及び第3
図に上記液体クロマトグラフィーのチャートを示す。
以上より、前記で得られた結晶は式(m)で示される化
合物である。
合物である。
応用例1
温度計、かくはん装置、乾燥管、窒素導入管を備えた4
つロフラスコに乾燥したN、N−ジメチルアセトアミド
187g、次いで2,2−ビス(4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパン51.8
g (0,1moQ)を入れ。
つロフラスコに乾燥したN、N−ジメチルアセトアミド
187g、次いで2,2−ビス(4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパン51.8
g (0,1moQ)を入れ。
均一溶液になるまで攪拌した。次いで、室温で酸二無水
物A72.6g (0,1moI2)を加え反応させた
。この後室温で、5時間反応させ、ポリイミド樹脂前駆
体(ポリアミド酸)の溶液を得た。
物A72.6g (0,1moI2)を加え反応させた
。この後室温で、5時間反応させ、ポリイミド樹脂前駆
体(ポリアミド酸)の溶液を得た。
得られたポリイミド樹脂前駆体の溶液をガラス基板上に
スピンコードにより塗布し、150℃。
スピンコードにより塗布し、150℃。
200℃、250℃及び300℃で順次それぞれ30分
間ずつ加熱することトこよりポリイミド樹脂皮膜を得た
。得られたポリイミド樹脂皮膜のガラス転移温度、熱分
解温度及び吸水率は、それぞれ、200℃、385℃及
び0.4%であった。
間ずつ加熱することトこよりポリイミド樹脂皮膜を得た
。得られたポリイミド樹脂皮膜のガラス転移温度、熱分
解温度及び吸水率は、それぞれ、200℃、385℃及
び0.4%であった。
一般式(I)で示される含フツ素テトラカルボン酸二無
水物を用いて得られるポリイミドは、般に低吸湿性を示
す。
水物を用いて得られるポリイミドは、般に低吸湿性を示
す。
なお、上記特性の測定条件は以下に示す通りである。
1)ガラス転移温度
パーキンエルマ社製DSC−7型を用い昇温速度10℃
/lll1n試料量約20mgで測定した。
/lll1n試料量約20mgで測定した。
2)熱分解温度
示差熱天秤を用い昇温速度10℃10+inで測定し、
5%重量減少温度を熱分解温度とした。
5%重量減少温度を熱分解温度とした。
3)吸水率
ポリイミドフィルムをプレッシャークンカー装置で、1
21℃、2気圧の条件で処理し、その前後の重量変化よ
り求めた。
21℃、2気圧の条件で処理し、その前後の重量変化よ
り求めた。
請求項1に記載され及び請求項2に記載の方法によって
得られる化合物は新規化合物であり、ポリイミド樹脂の
原料として有用である。
得られる化合物は新規化合物であり、ポリイミド樹脂の
原料として有用である。
第1図は、実施例1で得られた化合物の赤吸収スペクト
ル、第2図は’H−NMRスペクトルの一部拡大図、及
び第3図は液体クロマトグラフィーのチャートを示す。
ル、第2図は’H−NMRスペクトルの一部拡大図、及
び第3図は液体クロマトグラフィーのチャートを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される含フッ素テトラカルボン酸二無水物。 2、無水トリメリット酸又はその酸クロライドと、1,
3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル
)ベンゼン又は、1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサ
フルオロイソプロピル)ベンゼンを反応させることを特
徴とする請求項1に記載の一般式( I )で示される含
フッ素テトラカルボン酸二無水物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19490989A JP2503671B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19490989A JP2503671B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0358982A true JPH0358982A (ja) | 1991-03-14 |
JP2503671B2 JP2503671B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=16332357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19490989A Expired - Fee Related JP2503671B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2503671B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0367835A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-03-22 | Canon Inc | 画像形成装置 |
JPH0429986A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-01-31 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリエステル酸無水物の製造法 |
KR100509512B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | 비스(트리알킬트리멜리트산 무수물) 유도체 및 이로부터 형성된 광통신용 폴리에스테르이미드 |
CN102276562A (zh) * | 2011-05-28 | 2011-12-14 | 南昌大学 | 一种含有1,2,2-三甲基环戊基脂环结构的二酐及制备方法 |
JP2014172860A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | テトラカルボン酸二無水物 |
-
1989
- 1989-07-27 JP JP19490989A patent/JP2503671B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0367835A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-03-22 | Canon Inc | 画像形成装置 |
JPH0429986A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-01-31 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリエステル酸無水物の製造法 |
KR100509512B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | 비스(트리알킬트리멜리트산 무수물) 유도체 및 이로부터 형성된 광통신용 폴리에스테르이미드 |
CN102276562A (zh) * | 2011-05-28 | 2011-12-14 | 南昌大学 | 一种含有1,2,2-三甲基环戊基脂环结构的二酐及制备方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2503671B2 (ja) | 1996-06-05 |
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