JPH0356458A - スルホンアミド結合を有する含フッ素ジアクリレートとその製造法 - Google Patents
スルホンアミド結合を有する含フッ素ジアクリレートとその製造法Info
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- JPH0356458A JPH0356458A JP19092989A JP19092989A JPH0356458A JP H0356458 A JPH0356458 A JP H0356458A JP 19092989 A JP19092989 A JP 19092989A JP 19092989 A JP19092989 A JP 19092989A JP H0356458 A JPH0356458 A JP H0356458A
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Landscapes
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規な化合物含フッ素ジアクリレートおよび
その製造法に関する. 本発明の化合物は、文献未記載の新規物質であり、重合
性のモノマー、および樹脂等への添加剤として使用でき
る。
その製造法に関する. 本発明の化合物は、文献未記載の新規物質であり、重合
性のモノマー、および樹脂等への添加剤として使用でき
る。
(従来技術と問題点)
従来のポリフルオロアルキル基を有する含フッ素七ノマ
ーは、一般式(V)に示されるような含フッ素アクリレ
ート,メタクリレートを始めとして、その他、エボキシ
ド、ジオール等多数報告されている.(特開昭59−3
2514号,特開昭63−249112号等)CH,=
CR”CO.Rf (V) (式中R,.R1は前記に同じ〉 これらの含フッ素七ノマーは、それを重合した樹脂が.
J9水、撥油剤.非粘着剤、光ファイバーコンタクトレ
ンズ(酸素富化膜)、フォトレジスト剤などとして検討
されているが、この中で含フッ素アクリレート、メタク
リレートは、その重合が容易であり,かつ比較的高分子
量の樹脂が得られるという長所を有していることなどに
より、上記の含フッ素モノマーの中でも最もよく研究さ
れている. しかし、この従来の含フッ素アクリレート、メタクリレ
ートは、一官能型の七ノマーであるために、三次元的な
架橋をした樹脂はできず、そのために、得られるポリマ
ーの硬度、ヤング率,耐薬品性,耐熱性などの性質が充
分でないという欠点があった。
ーは、一般式(V)に示されるような含フッ素アクリレ
ート,メタクリレートを始めとして、その他、エボキシ
ド、ジオール等多数報告されている.(特開昭59−3
2514号,特開昭63−249112号等)CH,=
CR”CO.Rf (V) (式中R,.R1は前記に同じ〉 これらの含フッ素七ノマーは、それを重合した樹脂が.
J9水、撥油剤.非粘着剤、光ファイバーコンタクトレ
ンズ(酸素富化膜)、フォトレジスト剤などとして検討
されているが、この中で含フッ素アクリレート、メタク
リレートは、その重合が容易であり,かつ比較的高分子
量の樹脂が得られるという長所を有していることなどに
より、上記の含フッ素モノマーの中でも最もよく研究さ
れている. しかし、この従来の含フッ素アクリレート、メタクリレ
ートは、一官能型の七ノマーであるために、三次元的な
架橋をした樹脂はできず、そのために、得られるポリマ
ーの硬度、ヤング率,耐薬品性,耐熱性などの性質が充
分でないという欠点があった。
これを改善するために、種々の架橋剤を添加する方法も
あるが,着色等の問題が生じ,また上記の問題が必ずし
も改善されていない。
あるが,着色等の問題が生じ,また上記の問題が必ずし
も改善されていない。
上記のような問題点を解決するために鋭意研究した結果
、分子中にスルホンアミド結合と2個のアクリルエステ
ル基を有する含フッ素ジアクリレートが、上記の諸性質
の改良された含フッ素モノマーであることを見出した。
、分子中にスルホンアミド結合と2個のアクリルエステ
ル基を有する含フッ素ジアクリレートが、上記の諸性質
の改良された含フッ素モノマーであることを見出した。
(発明の構成)
本発明は、
l.一般式
(式中R,は炭素数1−10のベルフルオロアルキル基
、R1は水素、または炭素数1−5のアルキル基、R2
は水素,またはメチル基)で表される含フッ素ジアクリ
レート; 2.前項に記載の含フッ素ジアクリレートの製法であっ
て、一般式 (式中R,.R”は前記に同じ)で表される含フッ素−
ジオールと一般式 CH,=CR”CO2H (III)(式中R2は前
記に同じ)で表されるカルボン酸を反応させることから
なる製法;および 3,前記第1項に記載の含フッ素ジアクリレートの製法
であって、 (式中Rf, R’は前記に同じ)で表される含フッ素
ジオールと一般式 CH2=CR2COX (IV) (式中R2は前記に同じ,Xは塩素、臭素、またはフッ
素)で表されるハロゲン化カルボニル化合物を塩基の存
在下で反応させることからなる製法:を提供する. 本発明化合物の原料である一般式(II)で表される化
合物は、対応する含フッ素エポキシドの開環反応によっ
て容易に得られ、新秋田化成(株)より市販されている
。
、R1は水素、または炭素数1−5のアルキル基、R2
は水素,またはメチル基)で表される含フッ素ジアクリ
レート; 2.前項に記載の含フッ素ジアクリレートの製法であっ
て、一般式 (式中R,.R”は前記に同じ)で表される含フッ素−
ジオールと一般式 CH,=CR”CO2H (III)(式中R2は前
記に同じ)で表されるカルボン酸を反応させることから
なる製法;および 3,前記第1項に記載の含フッ素ジアクリレートの製法
であって、 (式中Rf, R’は前記に同じ)で表される含フッ素
ジオールと一般式 CH2=CR2COX (IV) (式中R2は前記に同じ,Xは塩素、臭素、またはフッ
素)で表されるハロゲン化カルボニル化合物を塩基の存
在下で反応させることからなる製法:を提供する. 本発明化合物の原料である一般式(II)で表される化
合物は、対応する含フッ素エポキシドの開環反応によっ
て容易に得られ、新秋田化成(株)より市販されている
。
また、一般式(1)の本発明化合物の製造方法において
、一般式(m)で表される化合物は、一般式(n)で表
される化合物に対し、2モル当量以上、好ましくは5な
いし10モル当量用いる。
、一般式(m)で表される化合物は、一般式(n)で表
される化合物に対し、2モル当量以上、好ましくは5な
いし10モル当量用いる。
一般式(II)で表される化合物と一般式(III)で
表される化合物の反応は、通常生威すろ水を除去するた
めに、ベンゼン、あるいはトルエンなどの水との共沸混
合物を生ずる溶媒を用いて加熱還流し,生成した水を除
去することによって行われる。
表される化合物の反応は、通常生威すろ水を除去するた
めに、ベンゼン、あるいはトルエンなどの水との共沸混
合物を生ずる溶媒を用いて加熱還流し,生成した水を除
去することによって行われる。
一方.一般式(IV)で表される化合物は、一般式(I
I)で表される化合物に対し、2モル当量以上、好まし
くは3ないし4モル当量用いる。
I)で表される化合物に対し、2モル当量以上、好まし
くは3ないし4モル当量用いる。
一般式(II)で表される化合物と、一般式(IV)で
表される化合物の反応は,通常生或するハロゲン化水素
を除去するために、三級アミン、または環式アミンなど
の有機塩基を存在させた条件で行われる。
表される化合物の反応は,通常生或するハロゲン化水素
を除去するために、三級アミン、または環式アミンなど
の有機塩基を存在させた条件で行われる。
本発明化合物は、それ自身の単独重合、あるいは他のモ
ノマーとの共重合を行うためのモノマーおよび樹脂中へ
の添加剤のいずれの形でも使用できる。
ノマーとの共重合を行うためのモノマーおよび樹脂中へ
の添加剤のいずれの形でも使用できる。
本発明化合物を重合、あるいは添加することによって得
られる樹脂の撥水、撥油性、非粘着性、および低屈折率
などはこのベルフルオロアルキル基によって発揮される
ものである。
られる樹脂の撥水、撥油性、非粘着性、および低屈折率
などはこのベルフルオロアルキル基によって発揮される
ものである。
また、スルホンアミド結合は,熱的,化学的安定性、お
よび分子の剛直性よりベルフルオロアルキル基の配向を
もたらし、撥水、撥油性、非粘着性をより高める効果を
もたらすとともに、この化合物を重合したボリマーの硬
度やヤング率、さらには溶融温度を高める効果を持ち,
窒素原子に結合しているアルキル基は,重合時の溶媒と
の相溶性を高める。
よび分子の剛直性よりベルフルオロアルキル基の配向を
もたらし、撥水、撥油性、非粘着性をより高める効果を
もたらすとともに、この化合物を重合したボリマーの硬
度やヤング率、さらには溶融温度を高める効果を持ち,
窒素原子に結合しているアルキル基は,重合時の溶媒と
の相溶性を高める。
さらに,2個のアクリルエステル基は、二官能型のモノ
マーとして作用し、それが重合することによって三次元
構造を持った樹脂を形成して硬度、ヤング率、耐薬品性
、耐熱性、溶融温度等を高める効果を持つ。
マーとして作用し、それが重合することによって三次元
構造を持った樹脂を形成して硬度、ヤング率、耐薬品性
、耐熱性、溶融温度等を高める効果を持つ。
(発明の具体的開示)
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例1
機械攪拌装匿、温度計、ディーンスターク水分留基を備
えた500mlナス型フラスコに、新秋田化或(株)よ
り入手した含フッ素ジオール61.5g(0.10mo
1).アクリル酸43.2g(0.6mol)、硫酸2
,Og(0.020mol).ベンゼン350ml.フ
ェノチアジンIg(5.0mmol) ,沸石を入れ,
16時間加熱還流した。
えた500mlナス型フラスコに、新秋田化或(株)よ
り入手した含フッ素ジオール61.5g(0.10mo
1).アクリル酸43.2g(0.6mol)、硫酸2
,Og(0.020mol).ベンゼン350ml.フ
ェノチアジンIg(5.0mmol) ,沸石を入れ,
16時間加熱還流した。
反応終了後、水酸化ナトリウムを入れて中和した後,過
剰の氷水に反応液を注いで有機層を分離し、減圧蒸留を
することによって 30.4gを得た。収率42%。b.p. tso℃/
0.13mmllg。
剰の氷水に反応液を注いで有機層を分離し、減圧蒸留を
することによって 30.4gを得た。収率42%。b.p. tso℃/
0.13mmllg。
上記の構造式はNMR分析. MS分析、IR吸光分析
によって決定された. ” HNMR (測定条件,溶媒:フルオロカーボン溶
媒F−113,内部標準ベンゼン) δ1.5(t, 3H) δ4.7〜5.0
(t, 2}1)62.0 〜2.6(m, 2H)
56.1〜6.5(m, 4H)53.8〜
4.5(m, 5}1) 66.6 〜7.1
(m, 2H)MS(測定条件,イオン化電圧: 7
0eV) (m/c)544, 512, 448,
240, 231, 224, 219, 168,
55IR(無溶媒. am−”) 2950, 2890, 1740, 1640, 1
400, 1300〜1100実施例2 機械攪拌装置,温度計,還流器を備えた500ml三口
フラスコに、新秋田化成(株)より入手した51.5g
(0.10mol). トリエチルアミン40.4g(
0.40mol).フェノチアジン1.0g(5.0m
mol)、イソプロビルエーテル300mlを入れ、滴
下濾斗よりアクリルクロリド20.7g(0.24a+
ol)を30℃で3時間で滴下した。滴下終了後50℃
で3時間攪はんした後,過剰の希塩酸水溶液中に反応液
を入れ有機層を分離した後、過剰の溶媒を留去すること
によって53.0gを得た6収率85%。
によって決定された. ” HNMR (測定条件,溶媒:フルオロカーボン溶
媒F−113,内部標準ベンゼン) δ1.5(t, 3H) δ4.7〜5.0
(t, 2}1)62.0 〜2.6(m, 2H)
56.1〜6.5(m, 4H)53.8〜
4.5(m, 5}1) 66.6 〜7.1
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400, 1300〜1100実施例2 機械攪拌装置,温度計,還流器を備えた500ml三口
フラスコに、新秋田化成(株)より入手した51.5g
(0.10mol). トリエチルアミン40.4g(
0.40mol).フェノチアジン1.0g(5.0m
mol)、イソプロビルエーテル300mlを入れ、滴
下濾斗よりアクリルクロリド20.7g(0.24a+
ol)を30℃で3時間で滴下した。滴下終了後50℃
で3時間攪はんした後,過剰の希塩酸水溶液中に反応液
を入れ有機層を分離した後、過剰の溶媒を留去すること
によって53.0gを得た6収率85%。
NMR分析、IR吸光分光分析の条件は次の通り。
”HNMR(測定条件、溶媒:フルオロカーボンF−1
13.内部標準ベンゼン) 61.5(t, 3H) 64.7〜5.0(
t, 2B)62.0 〜2.6(m, 2H)
66.1 〜6.5(m, 4H)63.8〜4.5{
m, 5}1) 56.6 〜7.2(n+, 2
+1)IR(無溶媒、am−’) 2950, 2890, 1740, 1640, 1
400. 1300〜1100実施例3 アクリルクロリドの代わりにメタクリルクロリド62.
7g(0.60mol)、含フッ素ジオールトシテ58
.7H(0.10mol)、を用いた以外は実施例lと
同様の操作を行い, 60.0gを得た。
13.内部標準ベンゼン) 61.5(t, 3H) 64.7〜5.0(
t, 2B)62.0 〜2.6(m, 2H)
66.1 〜6.5(m, 4H)63.8〜4.5{
m, 5}1) 56.6 〜7.2(n+, 2
+1)IR(無溶媒、am−’) 2950, 2890, 1740, 1640, 1
400. 1300〜1100実施例3 アクリルクロリドの代わりにメタクリルクロリド62.
7g(0.60mol)、含フッ素ジオールトシテ58
.7H(0.10mol)、を用いた以外は実施例lと
同様の操作を行い, 60.0gを得た。
収率83%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R_fは炭素数1〜10のペルフルオロアルキル
基、R^1は水素、または炭素数1−5のアルキル基、
R^2は水素またはメチル基)で表される含フッ素ジア
クリレート。 2、請求項1に記載の含フッ素ジアクリレートの製法で
あって、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R_f、R1は前記に同じ)で表される含フッ素
ジオールと一般式 CH_2=CR^2CO_2H(III) (式中R^2は前記に同じ)で表されるカルボン酸を反
応させることからなる製法。 3、請求項1に記載の含フッ素ジアクリレートの製法で
あって、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R_f、R^1は前記に同じ)で表される含フッ
素ジオールと一般式 CH_2=CR^2COX(IV) (式中R^2は前記に同じ、Xは塩素、臭素、またはフ
ッ素)で表されるハロゲン化カルボニル化合物を塩基の
存在下で反応させることからなる製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190929A JP2569814B2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | スルホンアミド結合を有する含フッ素ジアクリレートとその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190929A JP2569814B2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | スルホンアミド結合を有する含フッ素ジアクリレートとその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356458A true JPH0356458A (ja) | 1991-03-12 |
JP2569814B2 JP2569814B2 (ja) | 1997-01-08 |
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ID=16266037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1190929A Expired - Fee Related JP2569814B2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | スルホンアミド結合を有する含フッ素ジアクリレートとその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2569814B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100416433B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2004-01-31 | 권순직 | 쑥 뜸질방 |
WO2010038795A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5200464B2 (ja) | 2007-09-11 | 2013-06-05 | セントラル硝子株式会社 | 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法 |
-
1989
- 1989-07-24 JP JP1190929A patent/JP2569814B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100416433B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2004-01-31 | 권순직 | 쑥 뜸질방 |
WO2010038795A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
US9032876B2 (en) | 2008-09-30 | 2015-05-19 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate platemaking method, and polymerizable monomer |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2569814B2 (ja) | 1997-01-08 |
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