JPH061750A - （ビニルフェニル）酢酸エステル - Google Patents
（ビニルフェニル）酢酸エステルInfo
- Publication number
- JPH061750A JPH061750A JP15950592A JP15950592A JPH061750A JP H061750 A JPH061750 A JP H061750A JP 15950592 A JP15950592 A JP 15950592A JP 15950592 A JP15950592 A JP 15950592A JP H061750 A JPH061750 A JP H061750A
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- JP
- Japan
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- vinylphenyl
- acetic acid
- hexafluoroisopropyl
- acid ester
- compound
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- Pending
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- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 重合体の改質モノマーとして、さらに種々の
化合物合成の中間体として広く有用である化合物を提供
する。 【構成】 一般式(I) ： 【化３】 （式中、Ｒは、2,2,2-トリフルオロエチル基、 2,2,2,
2′,2′,2′- ヘキサフルオロイソプロピルまたは2,2,
3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基を示す）で表わ
される（ビニルフェニル）酢酸エステルである。
化合物合成の中間体として広く有用である化合物を提供
する。 【構成】 一般式(I) ： 【化３】 （式中、Ｒは、2,2,2-トリフルオロエチル基、 2,2,2,
2′,2′,2′- ヘキサフルオロイソプロピルまたは2,2,
3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基を示す）で表わ
される（ビニルフェニル）酢酸エステルである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な（ビニルフェニ
ル）酢酸エステルに関するものである。さらに詳しく
は、塗料または塗料添加剤、繊維処理剤、光ファイバ
ー、レジスト材料、とくに眼用レンズ（コンタクトレン
ズ、眼内レンズなど）材料（共重合体）を合成する際の
一成分として有用な（ビニルフェニル）酢酸エステルに
関する。
ル）酢酸エステルに関するものである。さらに詳しく
は、塗料または塗料添加剤、繊維処理剤、光ファイバ
ー、レジスト材料、とくに眼用レンズ（コンタクトレン
ズ、眼内レンズなど）材料（共重合体）を合成する際の
一成分として有用な（ビニルフェニル）酢酸エステルに
関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、コンタクトレンズ材料としては、シリコン含有スチ
レン誘導体とフッ素含有スチレン誘導体を必須共重合成
分として用いたものが紹介されている（特開平2-198415
号参照）。しかしながら、このようなフッ素含有スチレ
ンには、分子中にエーテル結合が存在するため、重合体
に充分な硬度を与えることができなかった。
来、コンタクトレンズ材料としては、シリコン含有スチ
レン誘導体とフッ素含有スチレン誘導体を必須共重合成
分として用いたものが紹介されている（特開平2-198415
号参照）。しかしながら、このようなフッ素含有スチレ
ンには、分子中にエーテル結合が存在するため、重合体
に充分な硬度を与えることができなかった。
【０００３】したがって、所望する材料に、高屈折率、
高硬度、高機械的強度、高ガス透過性を同時に与えるこ
とが可能である新しい成分が望まれている。本発明者ら
は、上記問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、か
かる諸物性をすべて与えうる成分を見出し、本発明を完
成するにいたった。
高硬度、高機械的強度、高ガス透過性を同時に与えるこ
とが可能である新しい成分が望まれている。本発明者ら
は、上記問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、か
かる諸物性をすべて与えうる成分を見出し、本発明を完
成するにいたった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I) ：
【０００５】
【化２】
【０００６】（式中、Ｒは、2,2,2-トリフルオロエチル
基、 2,2,2,2′,2′,2′- ヘキサフルオロイソプロピル
基または2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基を
示す）で表わされる（ビニルフェニル）酢酸エステルに
関する。
基、 2,2,2,2′,2′,2′- ヘキサフルオロイソプロピル
基または2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基を
示す）で表わされる（ビニルフェニル）酢酸エステルに
関する。
【０００７】
【実施例】本発明の一般式(I) で示される（ビニルフェ
ニル）酢酸エステルの具体例としては、（4-ビニルフェ
ニル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピル、（4-ビニルフ
ェニル）酢酸トリフルオロエチルおよび（4-ビニルフェ
ニル）酢酸オクタフルオロペンチルがあげられるが、な
かでも（4-ビニルフェニル）酢酸ヘキサフルオロイソプ
ロピルが好ましい。
ニル）酢酸エステルの具体例としては、（4-ビニルフェ
ニル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピル、（4-ビニルフ
ェニル）酢酸トリフルオロエチルおよび（4-ビニルフェ
ニル）酢酸オクタフルオロペンチルがあげられるが、な
かでも（4-ビニルフェニル）酢酸ヘキサフルオロイソプ
ロピルが好ましい。
【０００８】本発明の一般式(I) で示される（ビニルフ
ェニル）酢酸エステルは、たとえばつぎのような方法に
より製造することができる。
ェニル）酢酸エステルは、たとえばつぎのような方法に
より製造することができる。
【０００９】まず、乾燥ジエチルエーテル中、マグネシ
ウム存在下、クロロメチルスチレンを加熱下還流により
反応させる。このばあい、反応物の使用比（モル比）は
クロロメチルスチレン：マグネシウム＝１：１〜１：
２、好ましくは１：1.3 〜１：1.5 である。反応温度は
30〜50℃、好ましくは35〜45℃である。反応時間は、２
〜４時間、好ましくは２〜３時間である。
ウム存在下、クロロメチルスチレンを加熱下還流により
反応させる。このばあい、反応物の使用比（モル比）は
クロロメチルスチレン：マグネシウム＝１：１〜１：
２、好ましくは１：1.3 〜１：1.5 である。反応温度は
30〜50℃、好ましくは35〜45℃である。反応時間は、２
〜４時間、好ましくは２〜３時間である。
【００１０】続いて、えられた反応混合物にドライアイ
スを反応させる。このばあい、反応物の使用比（モル
比）は、反応混合物：ドライアイス＝１：１〜１：８、
好ましくは１：５〜１：６である。反応温度は制御しな
い。ドライアイスの添加を終了するのとほぼ同時に反応
も終了する。
スを反応させる。このばあい、反応物の使用比（モル
比）は、反応混合物：ドライアイス＝１：１〜１：８、
好ましくは１：５〜１：６である。反応温度は制御しな
い。ドライアイスの添加を終了するのとほぼ同時に反応
も終了する。
【００１１】続いて、えられた反応混合物に、硫酸を反
応させる。このばあい、反応物の使用比（モル比）は、
反応混合物：硫酸＝１：１〜１：1.4 、好ましくは１：
1.1〜１：1.2 である。反応温度は30〜50℃、好ましく
は35〜45℃である。硫酸の添加を終了するのとほぼ同時
に反応も終了する。
応させる。このばあい、反応物の使用比（モル比）は、
反応混合物：硫酸＝１：１〜１：1.4 、好ましくは１：
1.1〜１：1.2 である。反応温度は30〜50℃、好ましく
は35〜45℃である。硫酸の添加を終了するのとほぼ同時
に反応も終了する。
【００１２】さらに、えられた（ビニルフェニル）酢酸
を、ベンゼン、ジエチルエーテルなどの溶媒中、トリエ
チルアミンの存在下、塩化チオニル、塩化ホスホリル、
五塩化リン、三塩化リンなどの塩化物と加熱還流により
反応させることにより、（ビニルフェニル）酢酸クロラ
イドを合成する。
を、ベンゼン、ジエチルエーテルなどの溶媒中、トリエ
チルアミンの存在下、塩化チオニル、塩化ホスホリル、
五塩化リン、三塩化リンなどの塩化物と加熱還流により
反応させることにより、（ビニルフェニル）酢酸クロラ
イドを合成する。
【００１３】このばあいの反応物の使用比（モル比）
は、（ビニルフェニル）酢酸：塩化物＝１：１〜１：1.
5 、好ましくは１：1.1 〜１：1.3 である。反応温度は
70〜90℃、好ましくは75〜85℃、反応時間は２〜５時
間、好ましくは３〜４時間である。
は、（ビニルフェニル）酢酸：塩化物＝１：１〜１：1.
5 、好ましくは１：1.1 〜１：1.3 である。反応温度は
70〜90℃、好ましくは75〜85℃、反応時間は２〜５時
間、好ましくは３〜４時間である。
【００１４】ひきつづき、えられた（ビニルフェニル）
酢酸クロライドを、ベンゼン、ジエチルエーテルなどの
溶媒中、トリエチルアミンの存在下、ヘキサフルオロイ
ソプロピルアルコール、トリフルオロエチルアルコール
またはオクタフルオロペンチルアルコールなどのフッ素
アルコールと加熱下還流して反応させることにより（ビ
ニルフェニル）酢酸エステルをえる。
酢酸クロライドを、ベンゼン、ジエチルエーテルなどの
溶媒中、トリエチルアミンの存在下、ヘキサフルオロイ
ソプロピルアルコール、トリフルオロエチルアルコール
またはオクタフルオロペンチルアルコールなどのフッ素
アルコールと加熱下還流して反応させることにより（ビ
ニルフェニル）酢酸エステルをえる。
【００１５】このばあいの反応物の使用比（モル比）
は、（ビニルフェニル）酢酸クロライド：フッ素アルコ
ール＝１：１〜１：1.5 、好ましくは１：1.1 〜１：1.
4 である。反応温度は70〜90℃、好ましくは75〜85℃、
反応時間は１〜５時間、好ましくは２〜４時間である。
は、（ビニルフェニル）酢酸クロライド：フッ素アルコ
ール＝１：１〜１：1.5 、好ましくは１：1.1 〜１：1.
4 である。反応温度は70〜90℃、好ましくは75〜85℃、
反応時間は１〜５時間、好ましくは２〜４時間である。
【００１６】えられた（ビニルフェニル）酢酸エステル
は、通常のいかなる方法で精製してもよい。
は、通常のいかなる方法で精製してもよい。
【００１７】本発明の（ビニルフェニル）酢酸エステル
は、眼用レンズ材料（共重合体）を合成するさいの１成
分として用いたばあい、えられる眼用レンズ材料に高屈
折率、高ガス透過性、高硬度、高機械的強度を同時に付
与するものである。
は、眼用レンズ材料（共重合体）を合成するさいの１成
分として用いたばあい、えられる眼用レンズ材料に高屈
折率、高ガス透過性、高硬度、高機械的強度を同時に付
与するものである。
【００１８】本発明の（ビニルフェニル）酢酸エステル
は、その単独重合体、あるいはこれを用いた共重合体と
して眼用レンズ材料に供することができる。
は、その単独重合体、あるいはこれを用いた共重合体と
して眼用レンズ材料に供することができる。
【００１９】また、本発明の化合物は、種々の化合物合
成の中間体としても用いることができる。
成の中間体としても用いることができる。
【００２０】次に本発明を実施例に基づき、さらに具体
的に説明する。
的に説明する。
【００２１】実施例１ （（4-ビニルフェニル）酢酸の合成）塩化カルシウム管
を取り付けたジムロート冷却管および温度計を装着した
２ｌの三つ口丸底フラスコに、乾燥ジエチルエーテル20
0ml とマグネシウム36.5ｇ（約1.5 モル）とを入れ、乾
燥ジエチルエーテル200ml とクロロメチルスチレン152.
6 ｇ（約1.0 モル）との混合溶液を滴下ロートを用いて
滴下した。滴下は、溶媒が緩やかに還流する程度に調節
した。滴下終了後、溶媒が緩やかに還流する程度に加熱
し、さらに１時間反応させた。
を取り付けたジムロート冷却管および温度計を装着した
２ｌの三つ口丸底フラスコに、乾燥ジエチルエーテル20
0ml とマグネシウム36.5ｇ（約1.5 モル）とを入れ、乾
燥ジエチルエーテル200ml とクロロメチルスチレン152.
6 ｇ（約1.0 モル）との混合溶液を滴下ロートを用いて
滴下した。滴下は、溶媒が緩やかに還流する程度に調節
した。滴下終了後、溶媒が緩やかに還流する程度に加熱
し、さらに１時間反応させた。
【００２２】続いて、反応溶液に粉砕したドライアイス
を添加した。添加終了後、ジエチルエーテル400ml をさ
らに加え、反応溶液を均一にした。
を添加した。添加終了後、ジエチルエーテル400ml をさ
らに加え、反応溶液を均一にした。
【００２３】続いて、氷浴中に冷却しつつ、反応溶液に
25％硫酸水溶液（硫酸163.5 ｇ（約1.6 モル）を水500m
l に溶解させたもの）を滴下ロートを用いて滴下した。
滴下は、溶媒が緩やかに還流する程度に調節した。
25％硫酸水溶液（硫酸163.5 ｇ（約1.6 モル）を水500m
l に溶解させたもの）を滴下ロートを用いて滴下した。
滴下は、溶媒が緩やかに還流する程度に調節した。
【００２４】えられた反応溶液より、有機層を分取し、
これを水で６回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウム
で１晩乾燥させた。
これを水で６回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウム
で１晩乾燥させた。
【００２５】乾燥剤を濾別したのち、有機層よりジエチ
ルエーテルを除去し減圧乾燥させ、粗生成物をえた。粗
生成物をｎ−ヘキサンで２回洗浄して精製し、減圧乾燥
させた。精製物の収率は41％であった。
ルエーテルを除去し減圧乾燥させ、粗生成物をえた。粗
生成物をｎ−ヘキサンで２回洗浄して精製し、減圧乾燥
させた。精製物の収率は41％であった。
【００２６】（（4-ビニルフェニル）酢酸クロライドの
合成）塩化カルシウム管を取り付けたジムロート冷却管
および温度計を装着した２ｌの三つ口丸底フラスコに、
ベンゼン750ml 、（4-ビニルフェニル）酢酸112.7 ｇ
（約0.69モル）、およびトリエチルアミン数滴を入れ、
ベンゼン150ml と塩化チオニル150ml （約2.1 モル）と
の混合溶液を滴下ロートを用いて滴下した。滴下は、溶
媒が緩やかに還流する程度に調節した。滴下終了後、溶
媒が緩やかに還流する程度に加熱し、さらに３時間反応
させた。
合成）塩化カルシウム管を取り付けたジムロート冷却管
および温度計を装着した２ｌの三つ口丸底フラスコに、
ベンゼン750ml 、（4-ビニルフェニル）酢酸112.7 ｇ
（約0.69モル）、およびトリエチルアミン数滴を入れ、
ベンゼン150ml と塩化チオニル150ml （約2.1 モル）と
の混合溶液を滴下ロートを用いて滴下した。滴下は、溶
媒が緩やかに還流する程度に調節した。滴下終了後、溶
媒が緩やかに還流する程度に加熱し、さらに３時間反応
させた。
【００２７】えられた反応溶液より、ベンゼンおよび未
反応の塩化チオニルを除去し、蒸留して精製した。精製
物の収率は33％であった。
反応の塩化チオニルを除去し、蒸留して精製した。精製
物の収率は33％であった。
【００２８】（（4-ビニルフェニル）酢酸ヘキサフルオ
ロイソプロピルエステルの合成）塩化カルシウム管を取
り付けたジムロート冷却管および温度計を装着した500m
l の三つ口丸底フラスコに、ベンゼン50ml、ヘキサフル
オロイソプロピルアルコール42.0ｇ（約0.25モル）およ
びトリエチルアミン25.3ｇ（約0.25モル）を入れ、ベン
ゼン50mlと（4-ビニルフェニル）酢酸クロライド35.3ｇ
（約0.2 モル）との混合溶液を滴下ロートを用い、氷浴
中にて滴下した。滴下は、溶媒が緩やかに還流する程度
に調節した。滴下終了後、溶媒が緩やかに還流する程度
に加熱し、さらに１時間反応させた。
ロイソプロピルエステルの合成）塩化カルシウム管を取
り付けたジムロート冷却管および温度計を装着した500m
l の三つ口丸底フラスコに、ベンゼン50ml、ヘキサフル
オロイソプロピルアルコール42.0ｇ（約0.25モル）およ
びトリエチルアミン25.3ｇ（約0.25モル）を入れ、ベン
ゼン50mlと（4-ビニルフェニル）酢酸クロライド35.3ｇ
（約0.2 モル）との混合溶液を滴下ロートを用い、氷浴
中にて滴下した。滴下は、溶媒が緩やかに還流する程度
に調節した。滴下終了後、溶媒が緩やかに還流する程度
に加熱し、さらに１時間反応させた。
【００２９】えられた反応混合物を吸引濾過し、固体副
生成物を除去した。濾液を５％塩酸水溶液で１回洗浄
し、そののち飽和食塩水で５回洗浄した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで１晩乾燥させた。乾燥剤を濾別したの
ち有機層を濃縮し、蒸留して精製した。生成物の収率は
79％であった。精製物は微黄色の透明な液体で、芳香を
有していた。蒸留時の沸点は、58℃（0.16mmHg下）であ
った。
生成物を除去した。濾液を５％塩酸水溶液で１回洗浄
し、そののち飽和食塩水で５回洗浄した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで１晩乾燥させた。乾燥剤を濾別したの
ち有機層を濃縮し、蒸留して精製した。生成物の収率は
79％であった。精製物は微黄色の透明な液体で、芳香を
有していた。蒸留時の沸点は、58℃（0.16mmHg下）であ
った。
【００３０】えられた化合物の赤外線吸収スペクトルを
測定した結果を図１に示す。図１から明らかなように、 波数1780cm-1付近にＣ＝Ｏ基に由来する吸収 波数1240cm-1付近にＣ−Ｏ基に由来する吸収 が認められた。
測定した結果を図１に示す。図１から明らかなように、 波数1780cm-1付近にＣ＝Ｏ基に由来する吸収 波数1240cm-1付近にＣ−Ｏ基に由来する吸収 が認められた。
【００３１】また、 1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルを測定
した結果を図２に示す。各シグナルの帰属は以下のとお
りである。
した結果を図２に示す。各シグナルの帰属は以下のとお
りである。
【００３２】3.8ppm付近のシグナル：ｂ 5.1 〜5.3ppm付近のシグナル：ｅ 5.5 〜6.0ppm付近のシグナル：ａ，ｆ 6.5 〜7.0ppm付近のシグナル：ｄ 7.0 〜7.5ppm付近のシグナル：ｃ 以上の結果より、えられた化合物は（4-ビニルフェニ
ル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピルエステルであるこ
とが確認された。
ル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピルエステルであるこ
とが確認された。
【００３３】参考例１ （単独重合体の合成） （4-ビニルフェニル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピル
エステル100 重量部に、アゾビスジメチルバレロニトリ
ル0.1 重量部を加えて配合液を調製し、ガラス製試験管
に配合液約30mlを注入して密栓をした。
エステル100 重量部に、アゾビスジメチルバレロニトリ
ル0.1 重量部を加えて配合液を調製し、ガラス製試験管
に配合液約30mlを注入して密栓をした。
【００３４】恒温水槽中、35℃で40時間、50℃で８時間
予備重合し、そののち循環乾燥器内に試験管を移し、50
℃で５時間、ついで１〜1.5 時間当たり10℃の割合で温
度を120 ℃まで上昇させ、成分を加熱重合させ、棒状の
単独重合体をえた。
予備重合し、そののち循環乾燥器内に試験管を移し、50
℃で５時間、ついで１〜1.5 時間当たり10℃の割合で温
度を120 ℃まで上昇させ、成分を加熱重合させ、棒状の
単独重合体をえた。
【００３５】つぎに、棒状の単独重合体を裁断し、切削
研磨により機械的加工を施し、試験片を作製した。えら
れた試験片の物性（外観、衝撃強度）を下記のようにし
て測定した。結果を表１に示す。
研磨により機械的加工を施し、試験片を作製した。えら
れた試験片の物性（外観、衝撃強度）を下記のようにし
て測定した。結果を表１に示す。
【００３６】（外観）試験片の外観を肉眼で観察した。
【００３７】（衝撃強度）荷重6.75ｇの鋼球を厚さ0.5m
m の試験片上に落錘させ、試験片が破断したときの高さ
（mm）を衝撃強度とした。
m の試験片上に落錘させ、試験片が破断したときの高さ
（mm）を衝撃強度とした。
【００３８】参考例２ （共重合体の合成）トリス（トリメチルシロキシ）シリ
ルスチレン35重量部（30モル部）、（4-ビニルフェニ
ル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピルエステル65重量部
（70モル部）、4-ビニルベンジルメタクリレート６重量
部、Ｎ−ビニルピロリドン5.6 重量部、メタクリル酸4.
4 重量部を均一に配合し、アゾビスジメチルバレロニト
リル0.1 重量部を加えて配合液を調製し、参考例１と同
様にして共重合体をえた。
ルスチレン35重量部（30モル部）、（4-ビニルフェニ
ル）酢酸ヘキサフルオロイソプロピルエステル65重量部
（70モル部）、4-ビニルベンジルメタクリレート６重量
部、Ｎ−ビニルピロリドン5.6 重量部、メタクリル酸4.
4 重量部を均一に配合し、アゾビスジメチルバレロニト
リル0.1 重量部を加えて配合液を調製し、参考例１と同
様にして共重合体をえた。
【００３９】つぎに、参考例１と同様にして試験片を作
製し、えられた試験片の物性（外観、衝撃強度）を測定
した。また、ロックウェル硬度（30Ｘ）についても下記
のようにして測定した。結果を表１に示す。
製し、えられた試験片の物性（外観、衝撃強度）を測定
した。また、ロックウェル硬度（30Ｘ）についても下記
のようにして測定した。結果を表１に示す。
【００４０】（ロックウェル硬度（30Ｘ））厚さ４mmの
ブロック状試験片を用いてロックウェルスーパーフィッ
シャル硬度計（明石製作所（株）製、商品名ＡＳＤ）に
より、荷重30kg、圧子１／４インチ、温度25℃の測定条
件下で測定した。
ブロック状試験片を用いてロックウェルスーパーフィッ
シャル硬度計（明石製作所（株）製、商品名ＡＳＤ）に
より、荷重30kg、圧子１／４インチ、温度25℃の測定条
件下で測定した。
【００４１】比較例１ （共重合体の合成）トリス（トリメチルシロキシ）シリ
ルスチレン43重量部（30モル部）、4-ビニルベンジル-
3′,3′,3′- トリフルオロプロピルエーテル57重量部
（70重量部）、4-ビニルベンジルメタクリレート６重量
部、Ｎ−ビニルピロリドン5.6 重量部、メタクリル酸4.
4 重量部を均一に配合し、アゾビスジメチルバレロニト
リル0.1 重量部を加えて配合液を調製し、参考例１と同
様にして共重合体をえた。
ルスチレン43重量部（30モル部）、4-ビニルベンジル-
3′,3′,3′- トリフルオロプロピルエーテル57重量部
（70重量部）、4-ビニルベンジルメタクリレート６重量
部、Ｎ−ビニルピロリドン5.6 重量部、メタクリル酸4.
4 重量部を均一に配合し、アゾビスジメチルバレロニト
リル0.1 重量部を加えて配合液を調製し、参考例１と同
様にして共重合体をえた。
【００４２】つぎに、参考例１と同様にして試験片を作
製し、えられた試験片の物性（外観、衝撃強度、ロック
ウェル硬度（30Ｘ））を同様に測定した。結果を表１に
示す。
製し、えられた試験片の物性（外観、衝撃強度、ロック
ウェル硬度（30Ｘ））を同様に測定した。結果を表１に
示す。
【００４３】表中、各配合成分の配合量の単位はいずれ
も重量部であり、カッコ内の数字はモル部を表す。
も重量部であり、カッコ内の数字はモル部を表す。
【００４４】
【表１】
【００４５】（表１における略号の説明） SiSt：トリス（トリメチルシロキシ）シリルスチレン 6FPVAc：（4-ビニルフェニル）酢酸ヘキサフルオロイソ
プロピルエステル FSt：4-ビニルベンジル-3′,3′,3′- トリフルオロプ
ロピルエーテル VBMA：4-ビニルベンジルメタクリレート N-VP：Ｎ−ビニルピロリドン MAA ：メタクリル酸 V-65：アゾビスジメチルバレロニトリル 参考例および比較例の物性測定結果から明らかなよう
に、参考例１の共重合体は比較例に比べていちじるしく
高い衝撃強度を示し、また、参考例２の共重合体（つま
り、本発明の化合物より合成されたもの）は、比較例１
の共重合体の約２倍のロックウェル硬度（30Ｘ）、ま
た、衝撃強度に関しては1.6 倍の値を示しており、本発
明の化合物を用いることにより、従来に比べて、高い硬
度、高い機械的強度を有する共重合体がえられることが
わかる。
プロピルエステル FSt：4-ビニルベンジル-3′,3′,3′- トリフルオロプ
ロピルエーテル VBMA：4-ビニルベンジルメタクリレート N-VP：Ｎ−ビニルピロリドン MAA ：メタクリル酸 V-65：アゾビスジメチルバレロニトリル 参考例および比較例の物性測定結果から明らかなよう
に、参考例１の共重合体は比較例に比べていちじるしく
高い衝撃強度を示し、また、参考例２の共重合体（つま
り、本発明の化合物より合成されたもの）は、比較例１
の共重合体の約２倍のロックウェル硬度（30Ｘ）、ま
た、衝撃強度に関しては1.6 倍の値を示しており、本発
明の化合物を用いることにより、従来に比べて、高い硬
度、高い機械的強度を有する共重合体がえられることが
わかる。
【００４６】
【発明の効果】本発明により、新規な（ビニルフェニ
ル）酢酸エステル、すなわち重合体の改質モノマーとし
て、さらには種々の化合物合成の中間体として広く有用
である、新規な有機フッ素化合物が提供される。
ル）酢酸エステル、すなわち重合体の改質モノマーとし
て、さらには種々の化合物合成の中間体として広く有用
である、新規な有機フッ素化合物が提供される。
【図１】実施例１でえられた（4-ビニルフェニル）酢酸
ヘキサフルオロイソプロピルの赤外線吸収スペクトルを
示すチャートである。
ヘキサフルオロイソプロピルの赤外線吸収スペクトルを
示すチャートである。
【図２】実施例２でえられた（4-ビニルフェニル）酢酸
ヘキサフルオロイソプロピルの1Ｈ−核磁気共鳴スペク
トルを示すチャートである。
ヘキサフルオロイソプロピルの1Ｈ−核磁気共鳴スペク
トルを示すチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式(I) ： 【化１】 （式中、Ｒは、2,2,2-トリフルオロエチル基、 2,2,2,
2′,2′,2′- ヘキサフルオロイソプロピル基または2,
2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基を示す）で表
わされる（ビニルフェニル）酢酸エステル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15950592A JPH061750A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | （ビニルフェニル）酢酸エステル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15950592A JPH061750A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | （ビニルフェニル）酢酸エステル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH061750A true JPH061750A (ja) | 1994-01-11 |
Family
ID=15695240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15950592A Pending JPH061750A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | （ビニルフェニル）酢酸エステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061750A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100035178A1 (en) * | 2008-07-07 | 2010-02-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition, method of forming resist pattern and polymeric compound |
| US20110311917A1 (en) * | 2008-06-11 | 2011-12-22 | Tsuyoshi Kurosawa | Resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern using the same |
| US8349534B2 (en) | 2009-03-09 | 2013-01-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
| US8475997B2 (en) | 2008-06-23 | 2013-07-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern, and fluorine-containing polymeric compound |
| US8642244B2 (en) | 2008-02-06 | 2014-02-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern using the same, and fluorine-containing compound |
| US8846838B2 (en) | 2009-07-03 | 2014-09-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Fluorine-containing block copolymeric compound |
| US8980524B2 (en) | 2010-01-05 | 2015-03-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
-
1992
- 1992-06-18 JP JP15950592A patent/JPH061750A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8642244B2 (en) | 2008-02-06 | 2014-02-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern using the same, and fluorine-containing compound |
| US8742038B2 (en) | 2008-02-06 | 2014-06-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern using the same, and fluorine-containing compound |
| US20110311917A1 (en) * | 2008-06-11 | 2011-12-22 | Tsuyoshi Kurosawa | Resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern using the same |
| US8518629B2 (en) * | 2008-06-11 | 2013-08-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern using the same |
| US8475997B2 (en) | 2008-06-23 | 2013-07-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern, and fluorine-containing polymeric compound |
| US20100035178A1 (en) * | 2008-07-07 | 2010-02-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition, method of forming resist pattern and polymeric compound |
| US8404426B2 (en) * | 2008-07-07 | 2013-03-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition, method of forming resist pattern and polymeric compound |
| US8771921B2 (en) | 2008-07-07 | 2014-07-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition, method of forming resist pattern and polymeric compound |
| US8349534B2 (en) | 2009-03-09 | 2013-01-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
| US8846838B2 (en) | 2009-07-03 | 2014-09-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Fluorine-containing block copolymeric compound |
| US8980524B2 (en) | 2010-01-05 | 2015-03-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
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