JP3363968B2 - 硫黄含有のポリ(メタ)アクリレート、およびその製造方法 - Google Patents

硫黄含有のポリ(メタ)アクリレート、およびその製造方法

Info

Publication number
JP3363968B2
JP3363968B2 JP25173693A JP25173693A JP3363968B2 JP 3363968 B2 JP3363968 B2 JP 3363968B2 JP 25173693 A JP25173693 A JP 25173693A JP 25173693 A JP25173693 A JP 25173693A JP 3363968 B2 JP3363968 B2 JP 3363968B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
monomer
solvent
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP25173693A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06199963A (ja
Inventor
バーダー マルティナ
ハルトマン パトリク
シュヴィン ゲルハルト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Roehm GmbH
ROEHM GMBH
Roehm GmbH Darmstadt
Original Assignee
Roehm GmbH
ROEHM GMBH
Evonik Roehm GmbH
Roehm GmbH Darmstadt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Roehm GmbH , ROEHM GMBH, Evonik Roehm GmbH, Roehm GmbH Darmstadt filed Critical Roehm GmbH
Publication of JPH06199963A publication Critical patent/JPH06199963A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3363968B2 publication Critical patent/JP3363968B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/38Esters containing sulfur

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光学的使用のための硫黄
含有のポリアクリレートないしはポリメタクリレートに
関する。
【0002】
【従来の技術】硫黄含有のポリマーは光学的用途のため
の重要な材料と做されている。充分硫黄含有率であれば
僅かの光の分散の高光屈折するポリマーが得られる。
【0003】チオ(メタ)アクリル酸のエステルはポリ
マー素材として特に重要である、というのはそれらは比
較的高い硫黄含有率を有するからである。またポリチオ
ールのポリ(メタ)アクリル酸エステルもそれがヨーロ
ッパ特許公開第273661号明細書およびヨーロッパ
特許公開第0394495号明細書に記載されているよ
うに、光学材料の製造に適するモノマーである(ヨーロ
ッパ特許公開第0273710号明細書)。まさに光学
的分野での使用に際しては出発物質の均一性および純度
に特に高度の要求が向けられるべきである。これまでは
不純物および副生成物を除去するためモノマーの蒸留が
有利であったが、しかし特に高沸点の化合物の際には一
部重合、分解等の結果収量損失を生じる。
【0004】高沸点およびそれに結び付いた熱的に誘発
される重合の危険に起因して、高級ポリチオ(メタ)ア
クリレートを蒸留により精製することは技術的に実施不
能であることが明らかとなった。またチオエーテルアル
コールの(メタ)アクリル酸エステルも記載されている
(例えば、ドイツ国特許出願公開第3838350号明
細書)。但しこれもなおヨーロッパ特許出願公開第02
84374号明細書で請求されていて、多官能のメルカ
プタンの多重の不飽和化合物へのMichael付加に
より製造されるビニル化合物も充分な硫黄含有量に達成
しない。従って、分散が所望の低い値であったとして
も、それらは余りに低い屈折率である。かくして依然と
して高屈折率を有する透明で、しかもできるだけ技術的
に入手し易い合成樹脂の需要が生じた。同時にドイツ特
許出願第4234257.0号明細書の対象を形成する
以下記載の方法によれば、(メタ)アクリル酸無水物か
ら出発し、すべての通常の使用に充分である純度を有す
るチオ(メタ)アクリル酸エステルを製造することがで
きる。その際、有利には不活性の、水と混合しない溶剤
に溶解する(メタ)アクリル酸無水物を場合により24
個までの炭素原子を有する置換のアルキルまたはアリー
ルチオールと、有利には水性の、アルカリの環境で、反
応させる。この方法をポリチオールに適用する際は主要
成分に対する副生成物としてチオエーテルポリチオ(メ
タ)アクリレートが生じる。またそれと同一の化合物が
メタクリル酸クロリドとポリチオールとの反応の際にも
生じる。
【0005】当業者の通常のやり方は比較し得る場合で
は反応成分の分解および不所望の副生成物の分離するこ
とであり、当該の場合には、チオエーテルポリチオ(メ
タ)アクリレートを確実な補助法、例えば蒸留によるか
またはクロマトグラフィーを用いて行う。しかしこの化
合物の分離は費用がかかり、収率劣化する蒸留または同
程度の費用のかかる、コスト高のクロマトグラフィーに
より工業的利用のさまたげになることを予測することが
できた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、高屈折率を有する透明で、しかもできるだけ技術的
に入手しやすくかつ経済的に製造できる合成樹脂を提供
することであった。
【0007】ところで、驚いたことには製造工程の際得
られ、分解されてない生成物の混合物からなるポリマー
が、純粋なモノマーからなる相応するポリマーよりも良
好な実用特性を有することを見出した。こうしてポリ
(エタンジチオール−ジメタクリレート)は、その製造
の際生じるモノマー混合物のコポリマーよりはるかに劣
悪な機械的特性を示す。
【0008】
【課題を解決するための手段】かくして前記課題は本発
明により、式I:
【0009】
【化7】
【0010】[式中、Yは2〜12個の炭素原子を有す
る分枝していてもよいアルキレン基または環式アルキレ
基または6〜14個の炭素原子を有するアリーレン
または7〜26個の炭素原子を有するアルカリーレン
を表わし、その際炭素原子鎖は1個以上のエーテルまた
はチオエーテル基により分断されていてもよく、Rは水
素原子またはメチル基を表わす]の1種以上のモノマー
の成分、および式II:
【0011】
【化8】
【0012】[式中、RおよびYは前記記載の意味を持
ちおよびnは1〜6の範囲の整数を表わす]の1種以上
のモノマーの成分のラジカル重合により形成される硫黄
含有のポリ(メタ)アクリレートPにより解決される。
【0013】一般には式IおよびIIのモノマーはモル
比1:0.5〜0.5:1であるが、しかしまた1:
0.2のように逸脱するモル比でも許容し得る。
【0014】特に当該発明は、式III:
【0015】
【化9】
【0016】[式中、Xは基
【0017】
【化10】
【0018】を表わし、およびRは水素原子またはメチ
ル基を表わす]の化合物2モル以上と、式IV: MS−Y−SM′ (IV) [式中、Yは上記記載の意味を持ち、およびMおよび
M′は水素原子または金属陽イオン、特にナトリウムま
たはカリウムのようなアルカリ金属陽イオンを表わす]
のポリチオール1モルとの反応からの工程生成物Vのラ
ジカル重合により該反応に加わらない成分(すなわち、
主として溶剤および水性相)の分離の後得られる硫黄含
有のポリメタクリレートに関する。
【0019】有利には式IIIの化合物は(メタ)アク
リル酸無水物である。この反応の際陰イオンX-は遊離
し、これは、Mが水素を表わす限りでは、塩基添加によ
り中性塩に転化する。
【0020】工程生成物Vに導く方法は有利には、式I
IIの化合物を、不活性の、(有利には水と混和不能
な)有機溶剤L中におよびIIIに対し0.01〜1.
0重量%の量の1種以上の自体公知の重合抑制剤IHの
存在で溶解させて装入し、この溶液に、有利には撹拌下
で、および冷却、例えば氷冷却で塩基の形の、有利には
アルカリ性水溶液の形の式IVのポリチオールの水溶液
を滴加する。その際有利には式IIIの出発化合物は、
たとえ僅かであっても、過剰のモルで、例えば式IVの
化合物に対して2.05〜2.2倍のモルで存在する。
たいていはpH値をpH7〜10の範囲に保持する。反
応を例えば移相触媒を用いて行うことができる(O.
W.Webster et al. J.Am.Che
m.Soc.105,5706参照)。
【0021】一定の時間、例えば3時間にわたり、室温
より上の温度、例えば40℃で反応させる。有利には有
機相を分離し水および/またはアルカリ性水溶液で洗浄
する(pH約12)。引き続いて溶剤Lを有利には真空
蒸留、例えば回転蒸発器で除去する。
【0022】後に残留する工程生成物Vを、上述のよう
に、そのものとして重合に使用することができる。
【0023】たいていは、成分として式IおよびII
(n=1,2,3・・・)の化合物を含有する、無色の
モノマー混合物が生じる。また式II(n=1)の化合
物はガスクロマトグラフィーにより検出することもでき
る。より高付物は薄膜クロマトグラフィーにより検出で
きカラムクロマトグラフィーによりまた分離することも
できる。
【0024】不活性有機溶剤Lとしては例えばエーテル
例メチル−t−ブチルエーテル(MTBE)または芳香
族炭化水素例としてトルエン、キシレンが挙げられる。
【0025】特に式IVの化合物としては1,2−エタ
ン−ジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4
−ブタンジチオール、1,6−n−ヘキサンジチオー
ル、1,6−シクロヘキシルジチオールが挙げられる。
【0026】最後に当該発明は、硫黄含有のポリメタク
リレートPに至る重合方法そのものに関する。
【0027】本発明による方法に従えば式Iのモノマー
を式IIのモノマーと共に混合または共通の溶剤LG中
で1種以上のラジカル重合開始剤の添加のもと高温で重
合させる。
【0028】簡単な形では両成分IおよびIIの重合を
溶剤添加することなく密閉された容器で重合開始剤を混
合した後、少しも沈積物のない場合は1種の、有利には
真空で溶封されたアンプルに採取することができる。
【0029】有利には重合は高温(水浴)で始め次いで
段階的に長時間にわたって温度を上げる。ラジカル重合
開始剤としては自体公知の、例えばアゾ重合開始剤例ア
ゾ−ビス−イソブチロニトリルを通常の濃度例えばモノ
マーに対し0.1〜1重量%で使用することができる
(H.Rauch−Puntigam,Th.Voel
ker,Acryl−und Methacryl v
erbindungen,Springer−Verl
ag 1968参照)。手がかりとしては、40℃から
約26時間にわたって90℃に上昇する温度状態が挙げ
られる。
【0030】本発明によるポリマーPになお関連して公
知の添加物、例えばUV−吸収剤、酸化防止剤および場
合により着色剤、を加えることができる(Gaecht
erU.H.Mueller,Taschenbuch
der Kunststoff−Additive,
Hanser−Verlag 1979参照)。
【0031】得られる硫黄含有のポリマーPは無色、硬
質で僅かに脆性である。
【0032】
【有利な効果】本発明によるポリマーPの製造法から生
じる利点は明白である。タイプIの出発生成物の費用の
かかるおよび場合により損失の多い精製を省略すること
ができる。ポリマーPはその光学的およびそれ以外の特
性で式Iのモノマーからのホモポリマーに少しも劣らな
い。強調できることは透明度、耐熱性および特に鋸およ
び切削工具での加工性である。これらは光学の分野の使
用に、例えば光学的材料例ガラス、レンズ、光学的部材
等として役立つ。
【0033】
【実施例】次に、本発明を以下の例につき詳細に説明す
る。
【0034】その際屈折率の測定およびアッベ数はアッ
ベ−屈折計を用いて行った。アッベ数は分散表から読み
取ることができる(DIN53491,Ullmann
sEncyclopaedie der Techni
sche Chemie,4.Auflage,Bd.
15,S.368,Verlag Chemie197
8参照)。
【0035】例A: 式IおよびIIの出発化合物の製造(工程生成物V) 式IIIの化合物の量、有利には1.05〜1.2倍モ
ル過剰の無水物(約1000ppmの4−メチル−2,
6−ジ−t−ブチルフェノール/モルで安定化)を撹拌
器付きの反応容器中の約2倍量のメチル−t−ブチルエ
ーテルに入れ氷冷却しながら約8倍重量の10%ソーダ
液中の式IVのポリチオールの溶液を滴加した。40℃
で3時間後撹拌した。そこで有機相を分離しそれを水で
後洗浄した。回転蒸発器で溶剤を乾燥および除去の後、
工程生成物Vが、n=1,2,3・・・6を含有する付
加化合物が含有されている、式IおよびIIのモノマー
からなる無色のモノマー混合物として得られ、これはこ
のものとして本発明によるポリマーPを製造するための
出発生成物として適する。
【0036】nが1を表わす式IIの化合物もまたGC
で検出できる。
【0037】前述の処方に従い、例えば、以下のものが
得られた。
【0038】工程生成物V−1(1,2−エタンジチオ
ールを含有する1,2−エタンジチオールジメタクリレ
ートから出発)工程生成物V−2(1,3−プロパンジ
チオールを含有する1,3−プロパンジチオールジメタ
クリレートから出発) 例B: 工程生成物Vのポリマーへの重合 一般処方: 例Aからの工程生成物V10mlに2,2′−アゾビス
(イソブチロニトリル)0.4重量%を加え、好ましく
は真空で溶封したアンプル中で、水浴中で重合し、その
際水浴温度を段階的に26時間内に40℃から90℃に
上昇させた。
【0039】工程生成物V−1(1,2−エタンジチオ
ールから出発)からは無色の、硬質の僅かに脆性の屈折
率1.6079およびアッベ数35を有する物質P−1
を得た。
【0040】工程生成物V−2(1,3−プロパンジチ
オールジメタクリレートから出発)からは透明の、硬質
の屈折率1.6020およびアッペ数38を有するポリ
マーを得た。
【0041】例C:比較例 純粋なエタンジチオールジメタクリレートの製造および
重合 撹拌および氷冷却しながら1lのトルエン中メタクリル
酸クロリド104.5gの溶液にエタンジチオール4
7.1gおよびトリエチルアミン140mlの溶液を2
時間以内に反応混合物中の温度を約20℃に保持しなが
ら滴加した。滴加終了後なお3時間室温で撹拌した。生
成した塩を濾別した。回転蒸発器で溶剤を除去した後真
空蒸留を行った。こうしてエタンジチオールジメタクリ
レート31.1g(理論値の27%、沸点123〜12
6℃/0.07〜0.1ミリバール)を得た。
【0042】この精製した生成物10mlを例Bにより
重合した。こうして透明な、硬質ポリマーを得たが、こ
れは非常にもろく割れがまじっていた、従って機械的
(例えば鋸り加工)処理はできなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 パトリク ハルトマン ドイツ連邦共和国 ビュッテルボルン オーバードルフ 29 (72)発明者 ゲルハルト シュヴィン ドイツ連邦共和国 ディーブルク トー マス−エディソン−シュトラーセ 9 (56)参考文献 特開 昭64−31759(JP,A) 特開 平3−56459(JP,A) 特開 平2−229808(JP,A) 特開 平2−298506(JP,A) 特開 昭63−162671(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 220/38

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式III: 【化1】 [式中、Xは、基: 【化2】 を表わし、およびRは水素原子またはメチル基を表わ
    す]の一種の化合物2モル以上を、式IV: MS−Y−SM′ (IV) [式中、 Yは、2〜12個の炭素原子を有する分枝していてもよ
    いアルキレン基または2〜12個の炭素原子を有する環
    式アルキレン基または6〜14個の炭素原子を有するア
    リーレン基または7〜20個の炭素原子を有するアルカ
    リーレン基を表わし、その際炭素原子鎖は1個以上のエ
    ーテルまたはチオエーテル基により分断されていてもよ
    く、 MおよびM′は水素原子または金属陽イオンを表わす]
    のポリチオール1モルと反応させ、その際、不活性の有
    機溶剤中の式IIIの化合物とアルカリ性水溶液中の式
    IVの化合物を反応させ、溶剤からなる有機相を分離
    し、場合により洗浄し、乾燥させて溶剤を蒸発させるこ
    とにより直接製造される、式(I): 【化3】 [式中、YおよびRは前記の意味を有する]のモノマー
    と式(II): 【化4】 [式中、RおよびYは前記の意味を有し、かつnは1〜
    6の範囲の整数を表わす]の1つ以上のモノマーとの混
    合物を含有する工程生成物を、式(I)のモノマー:式
    (II)のモノマーのモル比が1:0.2〜0.5:1と
    なるように重合することにより得られる、高屈折率を有
    する透明な硫黄含有のポリ(メタ)アクリレート。
  2. 【請求項2】 式III: 【化5】 [式中、 Xは、基: 【化6】 を表わし、およびRは水素原子またはメチル基を表わ
    す]の一種の化合物2モル以上を、式IV: MS−Y−SM′ (IV) [式中、Y、MおよびM’は、前記の意味を有する]の
    ポリチオール1モルと反応させ、その際、不活性な有機
    溶剤中の式IIIの化合物とアルカリ性水溶液中の式I
    Vの化合物を反応させ、溶剤からなる有機相を分離し、
    場合により洗浄し、乾燥させて溶剤を蒸発させ、式
    (I)のモノマーおよび式(II)のモノマーを含有す
    る工程生成物を、式(I)のモノマー:式(II)のモ
    ノマーのモル比が1:0.2〜0.5:1となるように重
    合させる、請求項1記載のポリ(メタ)アクリレートの
    製造方法。
  3. 【請求項3】 式IIIの化合物を、式IVのポリチオ
    ールに対し、モル比2.05〜2.2で使用する請求項2
    記載の方法。
JP25173693A 1992-10-10 1993-10-07 硫黄含有のポリ(メタ)アクリレート、およびその製造方法 Expired - Lifetime JP3363968B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4234251A DE4234251A1 (de) 1992-10-10 1992-10-10 Schwefelhaltige Poly(meth)acrylate
DE4234251.1 1992-10-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06199963A JPH06199963A (ja) 1994-07-19
JP3363968B2 true JP3363968B2 (ja) 2003-01-08

Family

ID=6470195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25173693A Expired - Lifetime JP3363968B2 (ja) 1992-10-10 1993-10-07 硫黄含有のポリ(メタ)アクリレート、およびその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5384379A (ja)
EP (1) EP0592935A3 (ja)
JP (1) JP3363968B2 (ja)
DE (1) DE4234251A1 (ja)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69525319T2 (de) * 1994-06-24 2002-10-24 Seiko Epson Corp Durchsichtiges kunststoffmaterial, daraus hergestellte optische gegenstände und herstellungsverfahren
US5916987A (en) 1996-05-29 1999-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Thiol and Sulfur-containing O-(meth) acrylate compounds and use thereof
AUPO395896A0 (en) 1996-12-03 1997-01-02 Sola International Holdings Ltd Acrylic thio monomers
US6342571B1 (en) 1999-08-20 2002-01-29 Ppg Industries Ohio, Inc. High refractive index optical resin composition
US7087698B1 (en) 1999-11-18 2006-08-08 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of preparing an optical polymerizate
US7098290B1 (en) 1999-11-18 2006-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of preparing an optical polymerizate
US7473754B1 (en) 2000-10-17 2009-01-06 Ppg Industries Ohio, Inc. Optical resin composition
WO2003011926A1 (en) * 2001-07-25 2003-02-13 Ppg Industries Ohio, Inc. High refractive index optical resin composition
DE60118801T2 (de) * 2001-07-25 2006-11-02 PPG Industries Ohio, Inc., Cleveland Polymermischung mit hohem brechungsindex
US20060241273A1 (en) * 2001-11-16 2006-10-26 Bojkova Nina V High impact poly (urethane urea) polysulfides
US20070142604A1 (en) * 2005-12-16 2007-06-21 Nina Bojkova Polyurethanes and sulfur-containing polyurethanes and methods of preparation
US20030096935A1 (en) * 2001-11-16 2003-05-22 Nagpal Vidhu J. Impact resistant polyureaurethane and method of preparation
US8017720B2 (en) * 2005-12-16 2011-09-13 Ppg Industries Ohio, Inc. Sulfur-containing oligomers and high index polyurethanes prepared therefrom
DE10316671A1 (de) * 2002-07-12 2004-01-22 Röhm GmbH & Co. KG Verfahren zur Herstellung transparenter Kunststoffe für optische Materialien
US20040021133A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-05 Nagpal Vidhu J. High refractive index polymerizable composition
US7442749B2 (en) * 2002-08-29 2008-10-28 Nippon Shokubai Co., Ltd. Sulfur-containing poly (unsaturated carboxylic acid) and its uses and production process
KR100497148B1 (ko) * 2002-11-12 2005-06-28 주식회사 엘지화학 홀로그램 광 확산판용 고굴절 감광성 조성물
US7009032B2 (en) * 2002-12-20 2006-03-07 Ppg Industries Ohio, Inc. Sulfide-containing polythiols
EP1608704B1 (en) * 2003-03-24 2008-03-19 Essilor International Compagnie Generale D'optique Thiophosphine compounds and method of making polymerisable compositions containing them and their use for making ophtalmic lenses
EP1629308B1 (en) * 2003-04-17 2008-10-08 Essilor International Compagnie Generale D'optique Photocurable adhesive composition and its use in the optical field
DE10342521A1 (de) * 2003-09-12 2005-04-14 Röhm GmbH & Co. KG Mischungen zur Herstellung transparenter Kunststoffe, transparente Kunststoffe sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE102004011542A1 (de) * 2004-03-08 2005-09-29 Röhm GmbH & Co. KG Mischungen zur Herstellung transparenter Kunststoffe, transparente Kunststoffe sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE102004017574A1 (de) * 2004-04-07 2005-10-27 Röhm GmbH & Co. KG Mischungen zur Herstellung transparenter Kunstoffe, transparente Kunstoffe sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE102004019415A1 (de) 2004-04-19 2005-11-03 Röhm GmbH & Co. KG Mischungen zur Herstellung transparenter Kunststoffe, transparente Kunststoffe sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
US20090280329A1 (en) 2004-09-01 2009-11-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same
US9464169B2 (en) 2004-09-01 2016-10-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US11008418B2 (en) 2004-09-01 2021-05-18 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US9598527B2 (en) 2004-09-01 2017-03-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US11591436B2 (en) 2004-09-01 2023-02-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethane article and methods of making the same
US11149107B2 (en) 2004-09-01 2021-10-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US11248083B2 (en) 2004-09-01 2022-02-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Aircraft windows
US20090280709A1 (en) 2004-09-01 2009-11-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same
JP4617207B2 (ja) * 2005-06-03 2011-01-19 丸善石油化学株式会社 半導体リソグラフィー用共重合体、組成物及びチオール化合物
DK2027186T3 (da) * 2006-05-05 2014-04-14 Prc Desoto Int Inc Forseglings- og elektriske indstøbningsformuleringer omfattende thioetherfunktionelle polythiololigomerer
US8188181B2 (en) * 2009-09-22 2012-05-29 Corning Incorporated Photochromic compositions, resins and articles obtained therefrom
US9568643B2 (en) 2012-12-13 2017-02-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethane urea-containing compositions and optical articles and methods for preparing them

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0273661B1 (en) * 1986-12-26 1990-07-25 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd Thiolcarboxylic acid esters
DE3784152T3 (de) * 1986-12-26 1997-03-20 Nippon Catalytic Chem Ind Harz mit hohem Brechungsindex, Verfahren zu seiner Herstellung und optische Materialien aus diesem Harz.
EP0284374A3 (en) * 1987-03-25 1990-12-12 Showa Denko Kabushiki Kaisha Polymerizable vinyl compound having polythioether skeleton, process for preparation thereof and optical element made therefrom
EP0394495B1 (en) * 1988-10-20 1994-08-31 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. 4,4'-bis(methacryloylthio)diphenyl sulfide and curable composition containing same
US5247041A (en) * 1989-02-22 1993-09-21 Toray Industries, Inc. Thiol methacrylate or acrylate resin obtained by polymerizing a thiol methacrylate or acrylate compound

Also Published As

Publication number Publication date
EP0592935A2 (de) 1994-04-20
US5384379A (en) 1995-01-24
DE4234251A1 (de) 1994-04-14
EP0592935A3 (de) 1995-02-22
JPH06199963A (ja) 1994-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3363968B2 (ja) 硫黄含有のポリ(メタ)アクリレート、およびその製造方法
US4356296A (en) Fluorinated diacrylic esters and polymers therefrom
US6359170B1 (en) Brominated materials
JPH06199964A (ja) 高光屈折する合成樹脂
JP4273885B2 (ja) シリコーンモノマー組成物の製造方法
AU757140B2 (en) Brominated materials
US6528601B1 (en) Polymerizable sulfur-containing (meth) acrylate, polymerizable composition and optical lens
US4452998A (en) Fluorinated diacrylic esters
JPH06234733A (ja) ジチオ(メタ)アクリル酸エステル、その製造方法、および高光屈折合成樹脂の製造方法
US20060009653A1 (en) 3-Hydroxypropyl ester of 2-trifluoromethylacrylic acid and process for producing same
CN107848944B (zh) 水除去方法
JPH05170702A (ja) 新規なビスフェノール誘導体とその製造法
EP0364587A1 (en) Hexafluoroneopentyl alcohol, its derivatives, fluorinated polymers and their use
JPH02268170A (ja) トリアジン化合物及びその製造方法
JPH07138334A (ja) 高屈折率の製品、重合性液体組成物及びそれらの製造方法
JP3264012B2 (ja) ハロゲン含有アクリル系モノマーの重合方法
JPH04356443A (ja) フッ素含有(メタ)アクリル酸エステル、その製造方法およびその硬化物
Matsuda et al. Novel Bifunctional Thiolcarboxylic Acid Esters Useful as Crosslinking Agents for Optical Materials
JP2003183246A (ja) 1,1’−チオビス[4−(エテニルチオ)ベンゼン]類の製造方法
JP4762898B2 (ja) 重水素化(メタ)アクリル酸エステル、その製造法、その重合体、及び光学部材
JPH03139590A (ja) 反応型紫外線吸収剤
JPS63162671A (ja) 新規チオ−ルカルボン酸エステル
JP2720547B2 (ja) イオウ含有アクリル化合物の製造方法
JP2004002340A (ja) チオールカルボン酸エステルおよびその安定化方法
JPH0477467A (ja) 新規な含硫芳香族アクリレート

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071025

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081025

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081025

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091025

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091025

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101025

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101025

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111025

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111025

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121025

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121025

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131025

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term