JPH0597870A - フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法 - Google Patents
フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法Info
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- JPH0597870A JPH0597870A JP3265062A JP26506291A JPH0597870A JP H0597870 A JPH0597870 A JP H0597870A JP 3265062 A JP3265062 A JP 3265062A JP 26506291 A JP26506291 A JP 26506291A JP H0597870 A JPH0597870 A JP H0597870A
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 一般式１のフルオロアルキル基含有シリコン
オリゴマー及びその製造方法。 〔Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基又は
アルキルカルボニルオキシ基、ＲＦは（ＣＦ２）ｎ１Ｘ
又は を示す（Ｘは水素、フッ素又は塩素、ｎ１は１〜１０、
ｎ２は０〜８を示す）。またｋは１〜１０、ｌは０〜５
０、ｍ１は１〜３の、ｍ２は０〜２を示す。但しｍ１＋
ｍ２＝３である〕 【効果】 本化合物は低表面張力、低屈折性、耐熱性、
耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水性、離型性、消泡
性、耐薬品性等の特性を有し、特に医薬、農薬等の合成
中間体、半導体デバイス用レジスト等の密着性向上剤、
光学レンズ、眼鏡用レンズ、ガラス器具、生体材料等に
撥水撥油性及び防汚染性等の付与のための表面処理剤、
更には離型性を付与する材料等に利用できる。また本製
造方法によりフルオロアルキル基含有シリコンオリゴマ
ーを、短時間で収率良く容易に、反応触媒と特殊な装置
を使用せずに１段階反応により製造できる。
オリゴマー及びその製造方法。 〔Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基又は
アルキルカルボニルオキシ基、ＲＦは（ＣＦ２）ｎ１Ｘ
又は を示す（Ｘは水素、フッ素又は塩素、ｎ１は１〜１０、
ｎ２は０〜８を示す）。またｋは１〜１０、ｌは０〜５
０、ｍ１は１〜３の、ｍ２は０〜２を示す。但しｍ１＋
ｍ２＝３である〕 【効果】 本化合物は低表面張力、低屈折性、耐熱性、
耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水性、離型性、消泡
性、耐薬品性等の特性を有し、特に医薬、農薬等の合成
中間体、半導体デバイス用レジスト等の密着性向上剤、
光学レンズ、眼鏡用レンズ、ガラス器具、生体材料等に
撥水撥油性及び防汚染性等の付与のための表面処理剤、
更には離型性を付与する材料等に利用できる。また本製
造方法によりフルオロアルキル基含有シリコンオリゴマ
ーを、短時間で収率良く容易に、反応触媒と特殊な装置
を使用せずに１段階反応により製造できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なフルオロアルキ
ル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法に関す
る。
ル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】有機化合物中にフルオロアルキル基を含
有する化合物は、耐光性、撥水撥油性、更には生理活性
等の有用な性質を示す化合物として注目を集めている。
特に、シロキサン類にフルオロアルキル基が導入された
フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマーは、低表面
張力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁
性、撥水性、離型性、消泡性、耐薬品性等の優れた特性
を有しているため種々の分野において、例えば、医薬、
農薬等の合成中間体、半導体デバイスの生産工程におけ
るレジスト等の密着性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レン
ズ、ガラス器具等の表面における撥水撥油性及び防汚染
性等の付与のための表面処理剤、更には離型性を付与す
る材料等の分野において幅広く利用されている。前記フ
ルオロアルキル基含有シリコンオリゴマーとしては、特
開平２−２１９８２９号及び特開平２−２１９８３０号
公報において、ポリシロキサン中にフルオロアルキル基
が導入された化合物がそれぞれ開示されている。しかし
ながら、本発明に示されるシリコン系化合物にフルオロ
アルキル基が導入されたフルオロアルキル基含有シリコ
ンオリゴマーに関しては、知られていないのが現状であ
る。
有する化合物は、耐光性、撥水撥油性、更には生理活性
等の有用な性質を示す化合物として注目を集めている。
特に、シロキサン類にフルオロアルキル基が導入された
フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマーは、低表面
張力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁
性、撥水性、離型性、消泡性、耐薬品性等の優れた特性
を有しているため種々の分野において、例えば、医薬、
農薬等の合成中間体、半導体デバイスの生産工程におけ
るレジスト等の密着性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レン
ズ、ガラス器具等の表面における撥水撥油性及び防汚染
性等の付与のための表面処理剤、更には離型性を付与す
る材料等の分野において幅広く利用されている。前記フ
ルオロアルキル基含有シリコンオリゴマーとしては、特
開平２−２１９８２９号及び特開平２−２１９８３０号
公報において、ポリシロキサン中にフルオロアルキル基
が導入された化合物がそれぞれ開示されている。しかし
ながら、本発明に示されるシリコン系化合物にフルオロ
アルキル基が導入されたフルオロアルキル基含有シリコ
ンオリゴマーに関しては、知られていないのが現状であ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低表
面張力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁
性、撥水性、離型性、消泡性、光学レンズ、眼鏡用レン
ズ、ガラス器具等の表面における撥水撥油性、防汚染性
及び耐薬品性等の優れた特性を有する新規なフルオロア
ルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法を提
供することにある。
面張力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁
性、撥水性、離型性、消泡性、光学レンズ、眼鏡用レン
ズ、ガラス器具等の表面における撥水撥油性、防汚染性
及び耐薬品性等の優れた特性を有する新規なフルオロア
ルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法を提
供することにある。
【０００４】本発明の別の目的は、反応触媒及び特殊な
装置を用いず、高収率且つ容易にフルオロアルキル基含
有シリコンオリゴマーを得ることのできる製造方法を提
供することにある。
装置を用いず、高収率且つ容易にフルオロアルキル基含
有シリコンオリゴマーを得ることのできる製造方法を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化４で表わされるフルオロアルキル基含有シリコン
オリゴマー（以下シリコン系オリゴマーと称す）が提供
される。
般式化４で表わされるフルオロアルキル基含有シリコン
オリゴマー（以下シリコン系オリゴマーと称す）が提供
される。
【０００６】
【化４】
【０００７】更に本発明によれば下記一般式化５で表わ
される過酸化ジフルオロアルカノイル（以下ジフルオロ
アルカノイル２と称す）と、下記一般式化６で表わされ
るビニル基含有シリコン系化合物（以下シリコン系化合
物３と称す）とを反応させることを特徴とする前記フル
オロアルキル基含有シリコンオリゴマーの製造方法が提
供される。
される過酸化ジフルオロアルカノイル（以下ジフルオロ
アルカノイル２と称す）と、下記一般式化６で表わされ
るビニル基含有シリコン系化合物（以下シリコン系化合
物３と称す）とを反応させることを特徴とする前記フル
オロアルキル基含有シリコンオリゴマーの製造方法が提
供される。
【０００８】
【化５】
【０００９】
【化６】
【００１０】以下本発明を更に詳細に説明する。
【００１１】本発明のフルオロアルキル基含有シリコン
オリゴマーは、前記一般式化４で表わされるシリコン系
オリゴマーである。前記シリコン系オリゴマーにおい
て、Ｒが炭素数１１以上のアルキル基、アルコキシ基若
しくはアルキルカルボニルオキシ基の場合には、製造が
困難であり、またｎ1が１０を超える場合又はｎ2が８を
超える場合には、溶媒に対する溶解性が低下するので使
用できない。更にｋが１０を超えると製造が困難であ
り、ｌが５０を超えると製造が困難である。
オリゴマーは、前記一般式化４で表わされるシリコン系
オリゴマーである。前記シリコン系オリゴマーにおい
て、Ｒが炭素数１１以上のアルキル基、アルコキシ基若
しくはアルキルカルボニルオキシ基の場合には、製造が
困難であり、またｎ1が１０を超える場合又はｎ2が８を
超える場合には、溶媒に対する溶解性が低下するので使
用できない。更にｋが１０を超えると製造が困難であ
り、ｌが５０を超えると製造が困難である。
【００１２】また前記シリコン系オリゴマーにおいて、
適用可能なＲF、すなわち−(ＣF2)ｎ1Ｘまたは下記一般
式化７を具体的に列挙すると、Ｆ3Ｃ−，Ｆ（ＣＦ2）2
−，Ｆ（ＣＦ2）3−，Ｆ（ＣＦ2）4−，Ｆ（ＣＦ2）
5−，Ｆ（ＣＦ2）6−，Ｆ（ＣＦ2）7−，Ｆ（ＣＦ2）8
−，Ｆ（ＣＦ2）9−，Ｆ（ＣＦ2）10−，ＨＣＦ2−，Ｈ
（ＣＦ2）2−，Ｈ（ＣＦ2）3−，Ｈ（ＣＦ2）4−，Ｈ
（ＣＦ2）5−，Ｈ（ＣＦ2）6−，Ｈ（ＣＦ2）7−，Ｈ
（ＣＦ2）8−，Ｈ（ＣＦ2）9−，Ｈ（ＣＦ2）10−，Ｃ
ｌＣＦ2−，Ｃｌ（ＣＦ2）2−，Ｃｌ（ＣＦ2）3−，Ｃ
ｌ（ＣＦ2）4−，Ｃｌ（ＣＦ2）5−，Ｃｌ（ＣＦ2）
6−，Ｃｌ（ＣＦ2）7−，Ｃｌ（ＣＦ2）8−，Ｃｌ（Ｃ
Ｆ2）9−，Ｃｌ（ＣＦ2）10−，下記化学式化８、化
９、化１０、化１１、化１２、化１３、化１４、化１
５、化１６である。
適用可能なＲF、すなわち−(ＣF2)ｎ1Ｘまたは下記一般
式化７を具体的に列挙すると、Ｆ3Ｃ−，Ｆ（ＣＦ2）2
−，Ｆ（ＣＦ2）3−，Ｆ（ＣＦ2）4−，Ｆ（ＣＦ2）
5−，Ｆ（ＣＦ2）6−，Ｆ（ＣＦ2）7−，Ｆ（ＣＦ2）8
−，Ｆ（ＣＦ2）9−，Ｆ（ＣＦ2）10−，ＨＣＦ2−，Ｈ
（ＣＦ2）2−，Ｈ（ＣＦ2）3−，Ｈ（ＣＦ2）4−，Ｈ
（ＣＦ2）5−，Ｈ（ＣＦ2）6−，Ｈ（ＣＦ2）7−，Ｈ
（ＣＦ2）8−，Ｈ（ＣＦ2）9−，Ｈ（ＣＦ2）10−，Ｃ
ｌＣＦ2−，Ｃｌ（ＣＦ2）2−，Ｃｌ（ＣＦ2）3−，Ｃ
ｌ（ＣＦ2）4−，Ｃｌ（ＣＦ2）5−，Ｃｌ（ＣＦ2）
6−，Ｃｌ（ＣＦ2）7−，Ｃｌ（ＣＦ2）8−，Ｃｌ（Ｃ
Ｆ2）9−，Ｃｌ（ＣＦ2）10−，下記化学式化８、化
９、化１０、化１１、化１２、化１３、化１４、化１
５、化１６である。
【００１３】
【化７】
【００１４】
【化８】
【００１５】
【化９】
【００１６】
【化１０】
【００１７】
【化１１】
【００１８】
【化１２】
【００１９】
【化１３】
【００２０】
【化１４】
【００２１】
【化１５】
【００２２】
【化１６】
【００２３】前記シリコン系オリゴマーとしては、具体
的には例えば、下記一般式化１７、化１８、化１９、化
２０、化２１、化２２、化２３、化２４、化２５、化２
６、化２７、化２８、化２９、化３０、化３１、化３
２、化３３、化３４、化３５、化３６、化３７、化３
８、化３９、化４０、化４１、化４２、化４３、化４４
等を好ましく挙げることができる（尚、式中ｋは１〜１
０の整数を示し、ｌは０〜５０の整数を示す）。
的には例えば、下記一般式化１７、化１８、化１９、化
２０、化２１、化２２、化２３、化２４、化２５、化２
６、化２７、化２８、化２９、化３０、化３１、化３
２、化３３、化３４、化３５、化３６、化３７、化３
８、化３９、化４０、化４１、化４２、化４３、化４４
等を好ましく挙げることができる（尚、式中ｋは１〜１
０の整数を示し、ｌは０〜５０の整数を示す）。
【００２４】
【化１７】
【００２５】
【化１８】
【００２６】
【化１９】
【００２７】
【化２０】
【００２８】
【化２１】
【００２９】
【化２２】
【００３０】
【化２３】
【００３１】
【化２４】
【００３２】
【化２５】
【００３３】
【化２６】
【００３４】
【化２７】
【００３５】
【化２８】
【００３６】
【化２９】
【００３７】
【化３０】
【００３８】
【化３１】
【００３９】
【化３２】
【００４０】
【化３３】
【００４１】
【化３４】
【００４２】
【化３５】
【００４３】
【化３６】
【００４４】
【化３７】
【００４５】
【化３８】
【００４６】
【化３９】
【００４７】
【化４０】
【００４８】
【化４１】
【００４９】
【化４２】
【００５０】
【化４３】
【００５１】
【化４４】
【００５２】本発明のフルオロアルキル基含有シリコン
オリゴマーの製造方法は、特定の過酸化ジフルオロアル
カノイルと特定のビニル基含有シリコン系化合物とを反
応させることを特徴とする。
オリゴマーの製造方法は、特定の過酸化ジフルオロアル
カノイルと特定のビニル基含有シリコン系化合物とを反
応させることを特徴とする。
【００５３】本発明に用いる過酸化ジフルオロアルカノ
イルは、前記一般式化５で表わされるジフルオロアルカ
ノイル２である。前記ジフルオロアルカノイル２におい
て、ｎ1が１１以上の場合又はｎ2が９以上の場合には、
溶媒の存在下において反応させる際に前記ジフルオロア
ルカノイル２の溶解性が低下するので使用できない。
イルは、前記一般式化５で表わされるジフルオロアルカ
ノイル２である。前記ジフルオロアルカノイル２におい
て、ｎ1が１１以上の場合又はｎ2が９以上の場合には、
溶媒の存在下において反応させる際に前記ジフルオロア
ルカノイル２の溶解性が低下するので使用できない。
【００５４】また前記ジフルオロアルカノイル２中のＲ
Fは、前記シリコン系オリゴマーにおいて具体的に列挙
したＲFと同様であり、前記ジフルオロアルカノイル２
としては、具体的には例えば過酸化ジペルフルオロ−２
−メチル−３−オキサヘキサノイル、過酸化ジペルフル
オロ−２，５−ジメチル−３，６−ジオキサノナノイ
ル、過酸化ジペルフルオロ−２，５，８−トリメチル−
３，６，９−トリオキサドデカノイル、過酸化ジペルフ
ルオロブチリル、過酸化ジペルフルオロヘプタノイル、
過酸化ジペルフルオロオクタノイル等を好ましく挙げる
ことができる。
Fは、前記シリコン系オリゴマーにおいて具体的に列挙
したＲFと同様であり、前記ジフルオロアルカノイル２
としては、具体的には例えば過酸化ジペルフルオロ−２
−メチル−３−オキサヘキサノイル、過酸化ジペルフル
オロ−２，５−ジメチル−３，６−ジオキサノナノイ
ル、過酸化ジペルフルオロ−２，５，８−トリメチル−
３，６，９−トリオキサドデカノイル、過酸化ジペルフ
ルオロブチリル、過酸化ジペルフルオロヘプタノイル、
過酸化ジペルフルオロオクタノイル等を好ましく挙げる
ことができる。
【００５５】本発明に用いる前記特定のビニル基含有シ
リコン系化合物は、前記一般式化６で表わされるシリコ
ン系化合物３である。前記シリコン系化合物３におい
て、Ｒが炭素数１１以上のアルキル基、アルコキシ基若
しくはアルキルカルボニルオキシ基の場合には、製造が
困難である。またｌが５０を超えると製造が困難であ
る。
リコン系化合物は、前記一般式化６で表わされるシリコ
ン系化合物３である。前記シリコン系化合物３におい
て、Ｒが炭素数１１以上のアルキル基、アルコキシ基若
しくはアルキルカルボニルオキシ基の場合には、製造が
困難である。またｌが５０を超えると製造が困難であ
る。
【００５６】前記シリコン系化合物３としては、具体的
には例えば、下記化学式化４５、化４６、化４７、化４
８、化４９、化５０、化５１、化５２、化５３等を好ま
しく挙げることができる（なお、式中ｌは、０〜５０の
整数を示す）。
には例えば、下記化学式化４５、化４６、化４７、化４
８、化４９、化５０、化５１、化５２、化５３等を好ま
しく挙げることができる（なお、式中ｌは、０〜５０の
整数を示す）。
【００５７】
【化４５】
【００５８】
【化４６】
【００５９】
【化４７】
【００６０】
【化４８】
【００６１】
【化４９】
【００６２】
【化５０】
【００６３】
【化５１】
【００６４】
【化５２】
【００６５】
【化５３】
【００６６】本発明において、前記ジフルオロアルカノ
イル２と前記シリコン系化合物３とを反応させる際にお
ける、仕込みモル比は、１：０．１〜１０．０の範囲で
あるのが好ましく、特に、１：０．５〜５．０の範囲と
するのが好ましい。前記シリコン系化合物３の仕込みモ
ル比が０．１未満の場合には、過酸化物の自己分解に起
因する生成物が多量に生成し、また１０を超える場合に
は、目的とするフルオロアルキル基含有シリコンオリゴ
マーの収率が低下するので好ましくない。更に前記反応
は常圧で行なうことが可能であり、且つ反応温度は好ま
しくは−２０〜＋１５０℃、特に好ましくは０〜１００
℃の範囲である。前記反応温度が−２０℃未満の場合に
は反応に長時間を要し、＋１５０℃を超える場合には反
応時の圧力が高くなり、反応操作が困難となるので好ま
しくない。更にまた反応時間は３０分〜２０時間の範囲
が好ましく、工業的には１〜１０時間の範囲にて行なう
ことが特に好ましい。
イル２と前記シリコン系化合物３とを反応させる際にお
ける、仕込みモル比は、１：０．１〜１０．０の範囲で
あるのが好ましく、特に、１：０．５〜５．０の範囲と
するのが好ましい。前記シリコン系化合物３の仕込みモ
ル比が０．１未満の場合には、過酸化物の自己分解に起
因する生成物が多量に生成し、また１０を超える場合に
は、目的とするフルオロアルキル基含有シリコンオリゴ
マーの収率が低下するので好ましくない。更に前記反応
は常圧で行なうことが可能であり、且つ反応温度は好ま
しくは−２０〜＋１５０℃、特に好ましくは０〜１００
℃の範囲である。前記反応温度が−２０℃未満の場合に
は反応に長時間を要し、＋１５０℃を超える場合には反
応時の圧力が高くなり、反応操作が困難となるので好ま
しくない。更にまた反応時間は３０分〜２０時間の範囲
が好ましく、工業的には１〜１０時間の範囲にて行なう
ことが特に好ましい。
【００６７】本発明の製造方法では前記種々の反応条件
下において、前記ジフルオロアルカノイル２と前記シリ
コン系化合物３とを反応させることにより、目的とする
シリコン系オリゴマーを直接１段階反応により得ること
ができるが、前記ジフルオロアルカノイル２の取扱い及
び反応を、より円滑に行なうために溶媒を用いることが
好ましい。前記溶媒としてはハロゲン化脂肪族溶媒が特
に好ましく、具体的には例えば、塩化メチレン、クロロ
ホルム、２−クロロ−１，２−ジブロモ−１，１，２−
トリフルオロエタン、１，２−ジブロモヘキサフルオロ
プロパン、１，２−ジブロモテトラフルオロエタン、
１，１−ジフルオロテトラクロロエタン、１，２−ジフ
ルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタ
ン、ヘプタフルオロ−２，３，３−トリクロロブタン、
１，１，１，３−テトラクロロテトラフルオロプロパ
ン、１，１，１−トリクロロペンタフルオロプロパン、
１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン等を用いる
ことができ、特に工業的には、１，１，２−トリクロロ
トリフルオロエタンを好ましく挙げることができる。前
記溶媒を使用する場合、溶媒中の前記ジフルオロアルカ
ノイル２の濃度は溶液全体に対して０．５〜３０重量％
であるのが望ましい。
下において、前記ジフルオロアルカノイル２と前記シリ
コン系化合物３とを反応させることにより、目的とする
シリコン系オリゴマーを直接１段階反応により得ること
ができるが、前記ジフルオロアルカノイル２の取扱い及
び反応を、より円滑に行なうために溶媒を用いることが
好ましい。前記溶媒としてはハロゲン化脂肪族溶媒が特
に好ましく、具体的には例えば、塩化メチレン、クロロ
ホルム、２−クロロ−１，２−ジブロモ−１，１，２−
トリフルオロエタン、１，２−ジブロモヘキサフルオロ
プロパン、１，２−ジブロモテトラフルオロエタン、
１，１−ジフルオロテトラクロロエタン、１，２−ジフ
ルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタ
ン、ヘプタフルオロ−２，３，３−トリクロロブタン、
１，１，１，３−テトラクロロテトラフルオロプロパ
ン、１，１，１−トリクロロペンタフルオロプロパン、
１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン等を用いる
ことができ、特に工業的には、１，１，２−トリクロロ
トリフルオロエタンを好ましく挙げることができる。前
記溶媒を使用する場合、溶媒中の前記ジフルオロアルカ
ノイル２の濃度は溶液全体に対して０．５〜３０重量％
であるのが望ましい。
【００６８】本発明の製造方法により得られる反応生成
物は、蒸留、カラムクロマトグラフィー、再結晶、再沈
澱法等の公知の方法で精製することが可能である。
物は、蒸留、カラムクロマトグラフィー、再結晶、再沈
澱法等の公知の方法で精製することが可能である。
【００６９】
【発明の効果】本発明のフルオロアルキル基含有シリコ
ンオリゴマーは、新規な化合物であり、低表面張力、低
屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水
性、離型性、消泡性、耐薬品性等の特性を有する化合物
として、特に医薬、農薬等の合成中間体、半導体デバイ
ス用レジスト等の密着性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レ
ンズ、ガラス器具、生体材料等の表面における撥水撥油
性及び防汚染性等の付与のための表面処理剤、繊維処理
剤、消泡剤、封止剤、更には離型性を付与する材料等に
利用することができる。また本発明の製造方法によりフ
ルオロアルキル基含有シリコンオリゴマーを、短時間で
収率良く且つ容易に、しかも反応触媒及び特殊な装置を
使用せずに１段階反応により製造することができる。
ンオリゴマーは、新規な化合物であり、低表面張力、低
屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水
性、離型性、消泡性、耐薬品性等の特性を有する化合物
として、特に医薬、農薬等の合成中間体、半導体デバイ
ス用レジスト等の密着性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レ
ンズ、ガラス器具、生体材料等の表面における撥水撥油
性及び防汚染性等の付与のための表面処理剤、繊維処理
剤、消泡剤、封止剤、更には離型性を付与する材料等に
利用することができる。また本発明の製造方法によりフ
ルオロアルキル基含有シリコンオリゴマーを、短時間で
収率良く且つ容易に、しかも反応触媒及び特殊な装置を
使用せずに１段階反応により製造することができる。
【００７０】
【実施例】以下本発明を実施例及び比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【００７１】
【実施例１】下記化学式化５４で表わされるビニル基含
有シリコン化合物（Ｍｎ＝１７９０，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．
２７，１７．９ｇ）に、過酸化ジペルフルオロ−２−メ
チル−３−オキサヘキサノイル（３．３ｇ，５．０mmo
l）を含む１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン
溶液５０ｇを加え、窒素雰囲気下、３０℃にて５時間反
応を行なった。反応終了後、反応溶媒を除去し、次いで
真空下にて乾燥を行ない、２０．４ｇの生成物を得た。
得られた生成物のゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー，ＩＲ，19F−ＮＭＲによる分析を行なった結果、
下記構造式化５５で表わされるフルオロアルキル基含有
シリコンオリゴマーであった。分析結果を以下に示す。
有シリコン化合物（Ｍｎ＝１７９０，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．
２７，１７．９ｇ）に、過酸化ジペルフルオロ−２−メ
チル−３−オキサヘキサノイル（３．３ｇ，５．０mmo
l）を含む１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン
溶液５０ｇを加え、窒素雰囲気下、３０℃にて５時間反
応を行なった。反応終了後、反応溶媒を除去し、次いで
真空下にて乾燥を行ない、２０．４ｇの生成物を得た。
得られた生成物のゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー，ＩＲ，19F−ＮＭＲによる分析を行なった結果、
下記構造式化５５で表わされるフルオロアルキル基含有
シリコンオリゴマーであった。分析結果を以下に示す。
【００７２】
【化５４】
【００７３】
【化５５】
【００７４】
【実施例２】過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロ−２，５
−ジメチル−３，６−ジオキサノナノイルとした以外
は、実施例１と同様にして反応を行ない、下記構造式化
５６で表わされる化合物を収量２２．４ｇ得た。分析結
果を以下に示す。
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロ−２，５
−ジメチル−３，６−ジオキサノナノイルとした以外
は、実施例１と同様にして反応を行ない、下記構造式化
５６で表わされる化合物を収量２２．４ｇ得た。分析結
果を以下に示す。
【００７５】
【化５６】
【００７６】
【実施例３】過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロブチリル
に代えた以外は実施例１と同様に反応を行ない、下記構
造式化５７で表わされる化合物を収量１８．９ｇ得た。
分析結果を以下に示す。
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロブチリル
に代えた以外は実施例１と同様に反応を行ない、下記構
造式化５７で表わされる化合物を収量１８．９ｇ得た。
分析結果を以下に示す。
【００７７】
【化５７】
【００７８】
【実施例４】過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロヘプタノ
イルとした以外は実施例１と同様に反応を行ない、下記
構造式化５８で表わされる化合物を収量２０．１ｇ得
た。分析結果を以下に示す。
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロヘプタノ
イルとした以外は実施例１と同様に反応を行ない、下記
構造式化５８で表わされる化合物を収量２０．１ｇ得
た。分析結果を以下に示す。
【００７９】
【化５８】
【００８０】
【実施例５】過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロ−２，
５，８−トリメチル−３，６，９−トリオキサドデカノ
イルとした以外は実施例１と同様に反応を行ない、下記
構造式化５９で表わされる化合物を収量２４．０ｇ得
た。分析結果を以下に示す。
オキサヘキサノイルを、過酸化ジペルフルオロ−２，
５，８−トリメチル−３，６，９−トリオキサドデカノ
イルとした以外は実施例１と同様に反応を行ない、下記
構造式化５９で表わされる化合物を収量２４．０ｇ得
た。分析結果を以下に示す。
【００８１】
【化５９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 1/04 7132−2Ｋ Ｇ０２Ｃ 7/02 8807−2Ｋ Ｇ０３Ｆ 7/075 ５１１ 7124−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027 // Ｃ０９Ｋ 3/18 １０４ 8318−4Ｈ
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式化１で表わされるフルオロア
ルキル基含有シリコンオリゴマー。 【化１】 - 【請求項２】 下記一般式化２で表わされる過酸化ジフ
ルオロアルカノイルと、下記一般式化３で表わされるビ
ニル基含有シリコン系化合物とを、反応させることを特
徴とする請求項１記載のフルオロアルキル基含有シリコ
ンオリゴマーの製造方法。 【化２】 【化３】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3265062A JPH0597870A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3265062A JPH0597870A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597870A true JPH0597870A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=17412060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3265062A Pending JPH0597870A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | フルオロアルキル基含有シリコンオリゴマー及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0597870A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0640888A1 (en) * | 1993-08-27 | 1995-03-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Stainproofing oil for a heat fixing roller |
| JP2005053736A (ja) * | 2003-08-04 | 2005-03-03 | Shiseido Co Ltd | ２鎖型フルオロカーボンシランカップリング剤を用いた疎水化処理粉末及びこれを配合した皮膚外用剤 |
| JP2009073799A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Ishihara Chem Co Ltd | ナノコンポジット |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP3265062A patent/JPH0597870A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0640888A1 (en) * | 1993-08-27 | 1995-03-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Stainproofing oil for a heat fixing roller |
| US5568239A (en) * | 1993-08-27 | 1996-10-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Stainproofing oil for a heat fixing roller |
| JP2005053736A (ja) * | 2003-08-04 | 2005-03-03 | Shiseido Co Ltd | ２鎖型フルオロカーボンシランカップリング剤を用いた疎水化処理粉末及びこれを配合した皮膚外用剤 |
| JP2009073799A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Ishihara Chem Co Ltd | ナノコンポジット |
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