JPH0551390A - フルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents

フルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法

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JPH0551390A
JPH0551390A JP3211114A JP21111491A JPH0551390A JP H0551390 A JPH0551390 A JP H0551390A JP 3211114 A JP3211114 A JP 3211114A JP 21111491 A JP21111491 A JP 21111491A JP H0551390 A JPH0551390 A JP H0551390A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chemical
compound
formula
organosilicon compound
fluoroalkyl group
Prior art date
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Application number
JP3211114A
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English (en)
Inventor
Hideo Sawada
英夫 沢田
Takeo Matsumoto
竹男 松本
Masaharu Nakayama
雅陽 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
Nippon Oil and Fats Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 〔式中Rは、炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシ
基若しくはアルキルカルボニルオキシ基を示し、RF
は、(CF)nX又は を示す(但しXは、水素原子、フッ素原子又は塩素原子
を示し、nは1〜10の整数、nは0〜8の整数を
示す)。またa及びbは、0または1を示す。但しa+
b≠0である〕で表わされるフルオロアルキル基含有有
機ケイ素化合物及びその製造方法。 【効果】 新規な化合物であり、低表面張力、低屈折
性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水性、離
型性、消泡性、耐薬品性等の特性を有し、特に医薬、農
薬等の合成中間体、半導体デバイス用レジスト等の密着
性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レンズ、ガラス器具、生
体材料等の表面における撥水撥油性及び防汚染性等の付
与のための表面処理剤、更には離型性を付与する材料等
に利用することができる。また短時間で収率良く且つ容
易に、触媒及び特殊な装置を使用せずに1段階反応によ
り製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なフルオロアルキ
ル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機化合物中にフルオロアルキル基を含
有する化合物は、耐光性、撥水撥油性、更には生理活性
等の有用な性質を示す化合物として注目を集めている。
特に、シロキサン類にフルオロアルキル基が導入された
フルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物は、低表面張
力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、
撥水性、離型性、消泡性、耐薬品性等の優れた特性を有
しているため種々の分野において、例えば、医薬、農薬
等の合成中間体、半導体デバイスの生産工程におけるレ
ジスト等の密着性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レンズ、
ガラス器具等の表面における撥水撥油性及び防汚染性等
の付与のための表面処理剤、更には離型性を付与する材
料等の分野において幅広く利用されている。前記フルオ
ロアルキル基含有有機ケイ素化合物としては、特開平2
−219829号及び特開平2−219830号公報に
おいて、ポリシロキサン中にフルオロアルキル基が導入
された化合物がそれぞれ開示されている。しかしなが
ら、本発明に示されるケイ素化合物にフルオロアルキル
基が導入されたフルオロアルキル基含有有機ケイ素化合
物に関しては、知られていないのが現状である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低表
面張力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁
性、撥水性、離型性、消泡性、光学レンズ、眼鏡用レン
ズ、ガラス器具等の表面における撥水撥油性、防汚染性
及び耐薬品性等の優れた特性を有する新規なフルオロア
ルキル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供
することにある。
【0004】本発明の別の目的は、反応触媒及び特殊な
装置を用いず、高収率且つ容易にフルオロアルキル基含
有有機ケイ素化合物を得ることのできる製造方法を提供
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化4で表わされるフルオロアルキル基含有有機ケイ
素化合物(以下有機ケイ素化合物1と称す)が提供され
る。
【0006】
【化4】
【0007】更に本発明によれば下記一般式化5で表わ
される過酸化ジフルオロアルカノイル(以下ジフルオロ
アルカノイル2と称す)と、下記一般式化6で表わされ
るフェニル基含有有機ケイ素化合物(以下有機ケイ素化
合物3と称す)とを反応させることを特徴とするフルオ
ロアルキル基含有有機ケイ素化合物の製造方法が提供さ
れる。
【0008】
【化5】
【0009】
【化6】
【0010】以下本発明を更に詳細に説明する。
【0011】本発明のフルオロアルキル基含有有機ケイ
素化合物は、前記一般式化4で表わされる有機ケイ素化
合物1である。前記有機ケイ素化合物1において、Rが
炭素数11以上のアルキル基、アルコキシ基若しくはア
ルキルカルボニルオキシ基の場合には、製造が困難であ
り、またn1が10を超える場合又はn2が8を超える場
合には、溶媒に対する溶解性が低下するので使用できな
い。
【0012】また前記有機ケイ素化合物1において、適
用可能なRF、すなわち−(CF2)n1Xまたは下記一般式
化7を具体的に列挙すると、F3C−,F(CF2
2−,F(CF23−,F(CF24−,F(CF25
−,F(CF26−,F(CF27−,F(CF2
8−,F(CF29−,F(CF210−,HCF2−,
H(CF22−,H(CF23−,H(CF24−,H
(CF25−,H(CF26−,H(CF27−,H
(CF28−,H(CF29−,H(CF210−,C
lCF2−,Cl(CF22−,Cl(CF23−,C
l(CF24−,Cl(CF25−,Cl(CF2
6−,Cl(CF27−,Cl(CF28−,Cl(C
29−,Cl(CF210−,下記化学式化8、化
9、化10、化11、化12、化13、化14、化1
5、化16である。
【0013】
【化7】
【0014】
【化8】
【0015】
【化9】
【0016】
【化10】
【0017】
【化11】
【0018】
【化12】
【0019】
【化13】
【0020】
【化14】
【0021】
【化15】
【0022】
【化16】
【0023】前記有機ケイ素化合物1としては、具体的
には例えば、下記一般式化17、化18、化19、化2
0、化21、化22、化23、化24、化25、化2
6、化27、化28、化29、化30、化31、化3
2、化33、化34、化35、化36、化37、化3
8、化39、化40、化41、化42、化43、化4
4、化45、化46等を好ましく挙げることができる
(尚、式中ベンゼン環に結合するRF基の位置は、オル
ト、メタ、パラのいずれか任意に結合する)。
【0024】
【化17】
【0025】
【化18】
【0026】
【化19】
【0027】
【化20】
【0028】
【化21】
【0029】
【化22】
【0030】
【化23】
【0031】
【化24】
【0032】
【化25】
【0033】
【化26】
【0034】
【化27】
【0035】
【化28】
【0036】
【化29】
【0037】
【化30】
【0038】
【化31】
【0039】
【化32】
【0040】
【化33】
【0041】
【化34】
【0042】
【化35】
【0043】
【化36】
【0044】
【化37】
【0045】
【化38】
【0046】
【化39】
【0047】
【化40】
【0048】
【化41】
【0049】
【化42】
【0050】
【化43】
【0051】
【化44】
【0052】
【化45】
【0053】
【化46】
【0054】本発明のフルオロアルキル基含有有機ケイ
素化合物の製造方法は、特定の過酸化ジフルオロアルカ
ノイルと特定のフェニル基含有有機ケイ素化合物とを反
応させることを特徴とする。
【0055】本発明に用いる過酸化ジフルオロアルカノ
イルは、前記一般式化5で表わされるジフルオロアルカ
ノイル2である。前記ジフルオロアルカノイル2におい
て、n1が11以上の場合又はn2が9以上の場合には、
溶媒の存在下において反応させる際に前記ジフルオロア
ルカノイル2の溶解性が低下するので使用できない。
【0056】また前記ジフルオロアルカノイル2中のR
Fは、前記有機ケイ素化合物1において具体的に列挙し
たRFと同様であり、前記ジフルオロアルカノイル2と
しては、具体的には例えば過酸化ジペルフルオロ−2−
メチル−3−オキサヘキサノイル、過酸化ジペルフルオ
ロ−2,5−ジメチル−3,6−ジオキサノナノイル、
過酸化ジペルフルオロブチリル、過酸化ジペルフルオロ
ヘプタノイル等を好ましく挙げることができる。
【0057】本発明に用いる前記特定のフェニル基含有
有機ケイ素化合物は、前記一般式化6で表わされる有機
ケイ素化合物3である。前記有機ケイ素化合物3におい
て、Rが炭素数11以上のアルキル基、アルコキシ基若
しくはアルキルカルボニルオキシ基の場合には、製造が
困難である。
【0058】前記有機ケイ素化合物3としては、具体的
には例えば、3,3−ジフェニルヘキサメチルトリシロ
キサン、3,3−ジフェニルヘキサエチルトリシロキサ
ン、3,3−ジフェニルヘキサプロピルトリシロキサ
ン、3,3−ジフェニルヘキサブチルトリシロキサン、
3,3−ジフェニルヘキサメトキシトリシロキサン、
3,3−ジフェニルヘキサエトキシトリシロキサン、
3,3−ジフェニルヘキサプロポキシトリシロキサン、
3,3−ジフェニルヘキサブトキシトリシロキサン等を
好ましく挙げることができる。
【0059】本発明において、前記ジフルオロアルカノ
イル2と前記有機ケイ素化合物3とを反応させる際にお
ける、仕込みモル比は、1:0.1〜10.0の範囲で
あるのが好ましく、特に、1:0.3〜5.0の範囲と
するのが好ましい。前記有機ケイ素化合物3の仕込みモ
ル比が0.1未満の場合には、過酸化物の自己分解に起
因する生成物が多量に生成し、また10を超える場合に
は、目的とするフルオロアルキル基含有有機ケイ素化合
物の収率が低下するので好ましくない。また前記有機ケ
イ素化合物1のa、bともに1とする場合には、前記ジ
フルオロアルカノイル2に対する有機ケイ素化合物3の
仕込みモル比を2以上とするのが好ましい。更に前記反
応は常圧で行なうことが可能であり、且つ反応温度は好
ましくは−20〜+150℃、特に好ましくは0〜10
0℃の範囲である。前記反応温度が−20℃未満の場合
には反応に長時間を要し、+150℃を超える場合には
反応時の圧力が高くなり、反応操作が困難となるので好
ましくない。更にまた反応時間は30分〜20時間の範
囲が好ましく、工業的には1〜10時間の範囲にて行な
うことが特に好ましい。
【0060】本発明の製造方法では前記種々の反応条件
下において、前記ジフルオロアルカノイル2と前記有機
ケイ素化合物3とを反応させることにより、目的とする
有機ケイ素化合物1を直接1段階反応により得ることが
できるが、前記ジフルオロアルカノイル2の取扱い及び
反応を、より円滑に行なうために溶媒を用いることが好
ましい。前記溶媒としてはハロゲン化脂肪族溶媒が特に
好ましく、具体的には例えば、塩化メチレン、クロロホ
ルム、2−クロロ−1,2−ジブロモ−1,1,2−ト
リフルオロエタン、1,2−ジブロモヘキサフルオロプ
ロパン、1,2−ジブロモテトラフルオロエタン、1,
1−ジフルオロテトラクロロエタン、1,2−ジフルオ
ロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘ
プタフルオロ−2,3,3−トリクロロブタン、1,
1,1,3−テトラクロロテトラフルオロプロパン、
1,1,1−トリクロロペンタフルオロプロパン、1,
1,2−トリクロロトリフルオロエタン、1,1,1,
2,2−ペンタフルオロ−3,3−ジクロロプロパン、
1,1,2,2,3−ペンタフルオロ−1,3−ジクロ
ロプロパン等を用いることができ、特に工業的には、
1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを好ましく
挙げることができる。前記溶媒を使用する場合、溶媒中
の前記ジフルオロアルカノイル2の濃度は溶液全体に対
して0.5〜30重量%であるのが望ましい。
【0061】本発明の製造方法により得られる反応生成
物は、蒸留、カラムクロマトグラフィー、再結晶、再沈
澱法等の方法で生成することが可能である。
【0062】
【発明の効果】本発明のフルオロアルキル基含有有機ケ
イ素化合物は、新規な化合物であり、低表面張力、低屈
折性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水性、
離型性、消泡性、耐薬品性等の特性を有する化合物とし
て、特に医薬、農薬等の合成中間体、半導体デバイス用
レジスト等の密着性向上剤、光学レンズ、眼鏡用レン
ズ、ガラス器具、生体材料等の表面における撥水撥油性
及び防汚染性等の付与のための表面処理剤、更には離型
性を付与する材料等に利用することができる。また本発
明の製造方法によりフルオロアルキル基含有有機ケイ素
化合物を、短時間で収率良く且つ容易に、しかも反応触
媒及び特殊な装置を使用せずに1段階反応により製造す
ることができる。
【0063】
【実施例】以下本発明を実施例及び比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【0064】
【実施例1】3,3−ジフェニルヘキサメチルトリシロ
キサン(10.9g,30mmol)に、過酸化ジペルフル
オロ−2,5−ジメチル−3,6−ジオキサノナノイル
(24.8g,25mmol)を含む1,1,2−トリクロ
ロトリフルオロエタン溶液300gを加え、窒素雰囲気
下、40℃にて5時間反応を行なった。反応終了後、反
応溶媒を除去し、次いで蒸留を行ない、22.8g(収
率91%)の生成物を得た。得られた生成物の融点、I
R,1H−NMR,19F−NMR,Massスペクトル分
析を行なった結果、下記構造式化47で表わされるフル
オロアルキル基含有有機ケイ素化合物であった。分析結
果を以下に示す。
【0065】
【化47】
【0066】
【実施例2】3,3−ジフェニルヘキサメチルトリシロ
キサンの仕込み量を12.5mmol(4.5g)とした以
外は、実施例1と同様にして反応を行ない、下記構造式
化48で表わされる化合物を収率63%(収量9.9
g)で得た。分析結果を以下に示す。
【0067】
【化48】
【0068】
【実施例3】過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル
−3,6−ジオキサノナノイルを、過酸化ジペルフルオ
ロ−2−メチル−3−オキサヘキサノイルに代えた以外
は実施例1と同様に反応を行ない、下記構造式化49で
表わされる化合物を収率88%(収量17.0g)で得
た。分析結果を以下に示す。
【0069】
【化49】
【0070】
【実施例4】過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル
−3,6−ジオキサノナノイルを、過酸化ジペルフルオ
ロ−2−メチル−3−オキサヘキサノイルに、また3,
3−ジフェニルヘキサメチルトリシロキサンの仕込み量
を12.5mmol(4.5g)とした以外は実施例1と同
様に反応を行ない、下記構造式化50で表わされる化合
物を収率67%(収量7.8g)で得た。分析結果を以
下に示す。
【0071】
【化50】
【0072】
【実施例5】過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル
−3,6−ジオキサノナノイルを、過酸化ジペルフルオ
ロヘプタノイルとした以外は実施例1と同様に反応を行
ない、下記構造式化51で表わされる化合物を収率83
%(収量16.9g)で得た。分析結果を以下に示す。
【0073】
【化51】
【0074】
【実施例6】過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル
−3,6−ジオキサノナノイルを、過酸化ジペルフルオ
ロヘプタノイルに、また3,3−ジフェニルヘキサメチ
ルトリシロキサンの仕込み量を12.5mmol(4.5
g)とした以外は実施例1と同様に反応を行ない、下記
構造式化52で表わされる化合物を収率60%(収量
7.5g)で得た。分析結果を以下に示す。
【0075】
【化52】
【0076】
【実施例7】過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル
−3,6−ジオキサノナノイルを、過酸化ジペルフルオ
ロブチリルとした以外は実施例1と同様に反応を行な
い、下記構造式化53で表わされる化合物を収率79%
(収量12.5g)で得た。分析結果を以下に示す。
【0077】
【化53】
【0078】
【実施例8】過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル
−3,6−ジオキサノナノイルを、過酸化ジペルフルオ
ロブチリルに、また3,3−ジフェニルヘキサメチルト
リシロキサンの仕込み量を12.5mmol(4.5g)と
した以外は実施例1と同様に反応を行ない、下記構造式
化54で表わされる化合物を収率55%(収量4.8
g)で得た。分析結果を以下に示す。
【0079】
【化54】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式化1で表わされるフルオロア
    ルキル基含有有機ケイ素化合物。 【化1】
  2. 【請求項2】 下記一般式化2で表わされる過酸化ジフ
    ルオロアルカノイルと、下記一般式化3で表わされるフ
    ェニル基含有有機ケイ素化合物とを、反応させることを
    特徴とする請求項1記載のフルオロアルキル基含有有機
    ケイ素化合物の製造方法。 【化2】 【化3】
JP3211114A 1991-08-22 1991-08-22 フルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 Pending JPH0551390A (ja)

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