JPH0356402B2 - - Google Patents

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JPH0356402B2
JPH0356402B2 JP914684A JP914684A JPH0356402B2 JP H0356402 B2 JPH0356402 B2 JP H0356402B2 JP 914684 A JP914684 A JP 914684A JP 914684 A JP914684 A JP 914684A JP H0356402 B2 JPH0356402 B2 JP H0356402B2
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pattern
projector
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JP914684A
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JPS60152903A (ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Optical Distance (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、たとえば産業用ロボツトの目などと
して有利に用いることができる被計測物体の位置
を計測する方法に関する。 典型的な先行技術では、細長い直線状の単一の
スリツト孔を介する光の帯を被計測物体に照射
し、その光の帯が照射されている被計測物体をテ
レビカメラで撮像し、撮像された画像を二値化
し、この二値化パターンを読取り、スリツト孔の
位置とテレビカメラの位置とに基づいて光の帯が
照射されている部分の位置を三角法に基づいて演
算して求めている。このような先行技術では、被
測定物の全体の位置を知るためにはスリツト孔の
被計測物体に照射する位置を順次的に変えて光の
帯を走査しつつテレビカメラで撮像を行なう必要
がある。したがつて被計測物体全体の位置の検出
のために時間がかかる。またスリツト孔を機械的
に変位して光の帯による走査を行なわなければな
らず、そのための機械的構成が大型化する。 本発明の目的は、被検出物体の位置を短時間に
計測することができ、しかも構成が小型化されて
改良された位置計測方法を提供することである。 第1図は本発明の一実施例のブロツク図であ
り、第2図はその原理を説明するための図であ
る。被検出物体1の水平な床2には、鉛直壁3が
交わり、水平床2上には円柱体4と直方体5とが
置かれている。このような被検出物体1に向けて
投影器6から光7が照射され、その照射された被
検出物体1は、テレビカメラ8によつて撮像され
る。テレビカメラ8は、投影器6とは異なる位置
に配置される。投影器6の動作の制御は、マイク
ロコンピユータなどによつて実現される処理回路
9によつて、行なわれる。処理回路9は、テレビ
カメラ8からの撮像データを受信する。この処理
回路9には画像メモリ10および後述の二値化パ
ターンをストアするメモリ11が接続される。 投影器6は、光源12とマスク13とを含む。
マスク13は、遮光性材料から成り、第2図にお
いて参照符13a,13b,13cで個別的に示
されるようにグレイコードに従うスリツト孔14
a,14b,14cをそれぞれ有している。第2
図では、被検出物体1にはマスク13cが用いら
れ、スリツト孔14cを通過した光の帯が照射さ
れている状態が示されている。被検出物体1の光
の帯が照射されている部分は、白抜きとなつてお
り、影の部分にはハツチングが施されている。 これらのマスク13a,13b,13cのグレ
イコードに従うスリツト孔14a,14b,14
cの位置は、被検出物体1の位置計測方法が可能
な領域に対応して示すと、第3図1,第3図2お
よび第3図3のようにそれぞれなる。こうして被
検出物体1の位置計測可能な領域は、合計8つの
部分領域P0〜P7に分けることが可能になる。 テレビカメラ8は、先ず被検出物体1を投影器
6によつて光を照射しない状態において撮像を行
ない、その画像15を画像メモリ10にストアし
ておく。次に、マスク13aを用いて投影器6に
よつて被検出物体1に光の帯の照射を行なう。こ
れによつて撮像した画像16を処理回路9に読み
込む。投影器6による光の帯を用いない無投影時
の画像15、および投影器6による光の帯の投影
時における画像16では、被検出物体1の色やそ
の色の濃淡などによつて各画面15,16の画素
のレベルが、たとえば100段階に分けられて構成
される。 処理回路9は、投影器6からの光の帯の照射時
における画像16の各画素毎の濃淡レベルRから
投影器6を使用しない無投影時の画像15の濃淡
レベルSを各画素毎に引算して各画素毎の差T
(T=R−S)を演算し、この差Tを予め定めた
値でレベル弁別して二値化画像17を演算して求
める。こうして得られる二値化画像パターン17
はマスク13a,13b,13cの使用のたび毎
に得られ、二値化パターンメモリ11の各ストア
領域11a,11b,11cに個別的にストアさ
れる。 被検出物体1が暗室にあるときには、無投影時
の濃淡画像15を得る必要はなく、投影時の濃淡
画像16の各画素をレベル弁別して二値化パター
ン17を作成するようにすればよい。 被検出物体1の位置計測可能な領域における分
割された領域部分P0〜P7のグレイコードによる
論理値は第1表のとおりとなる。
【表】
【表】 第4図を参照して、メモリ領域11a,11
b,11cから読み出した二値化パターンに基づ
いて被検出物体1の特定の部分Qの位置を求める
原理を説明する。マスク13a,13b,13c
を用いて光の帯をグレイコードにしたがつて照射
することによつて、前述のように位置計測可能な
領域は領域部分P0〜P7に分割される。この各マ
スク13a,13b,13cによる光の帯の各照
射状態はテレビカメラ8によつて個別的に撮像さ
れる。そこで、ストア領域11a,11b,11
cの特定の位置Qに対応した画像の二値化された
論理値Qa,Qb,Qcを読みとる。たとえば位置Q
に対応するストア領域11a,11b,11cに
おける画素Qa,Qb,Qcの論理値が「101」であ
るときには第1表に従い、位置Qは領域部分P6
に存在することがわかる。こうして投影器6とテ
レビカメラ8とを結ぶ直線18と、領域部分P6
と投影器6とを結ぶ直線19とのなす角度Q1、
直線18と画素Qa,Qb,Qcに基づく位置Qとテ
レビカメラ8とを結ぶ直線20とのなす角度Q
2、さらに投影器6とテレビカメラ8との間の距
離Lとに基づいて、三角法にしたがい、位置Qを
演算して求めることが可能となる。 上述の実施例ではグレイコードにしたがう三つ
のマスク13a,13b,13cが用いられたけ
れども、本発明の他の実施例として第5図1〜第
5図8に示されるようにさらに一組を成す多数の
マスクが用いられてもよい。このような多数のマ
スクを用いることによつて位置計測可能な領域を
さらに細分化して、計測すべき位置Qの精度を向
上することができる。 マスク13a,13b,13cは、(a)在来の写
真フイルムなどによつて形成されてもよく、(b)あ
るいはまた円盤体に各マスク13a,13b,1
3cが配置され、この円盤体を角変位してマスク
13a,13b,13cを選択するようにしても
よく、(c)あるいはまた液晶を用いて各マスク13
a,13b,13cに対応するスリツト孔14
a,14b,14cの部分を透明とし、残余の部
分を遮光性とするように電気的に光の帯のグレイ
コードパターンを形成してもよく、さらに他の構
成であつてもよい。 マスク13a,13b,13cはグレイコード
によつて形成され、そのため光の帯の境界付近に
おける論理ビツトの読み誤りは、隣接する領域部
分P0〜P7が一つずれるだけであり、したがつて
精度が向上されるという利点があるけれども、本
発明に従えば他のコードによつてマスク13a,
13b,13cが構成されてもよい。 以上のように本発明によれば、被計測物体を複
数のコード化された各光パターンでそれぞれ照射
し、各光パターン毎の被計測物体の画面を多数の
画素に分けて明暗の二値化パターンを作つて被計
測物体の位置を演算して求めるようにしたので、
比較的少ない数の光パターンで被計測物体を多数
の領域部分に分割して高精度で位置の計測を行な
うことができる。また前述の先行技術に関連して
述べたように光の帯を被計測物体に走査して照射
する必要が、本発明では生ぜず、計測時間を短縮
することができるとともに構成が小型化される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のブロツク図、第2
図は本発明の原理を示す図、第3図はマスク13
a,13b,13cを用いた位置計測可能な領域
の分割状態を示す図、第4図は本発明の原理を示
す平面図、第5図は本発明の他の実施例のマスク
を示す正面図である。 1……被検出物体、6……投影器、8……テレ
ビカメラ、9……処理回路、10……画像メモ
リ、11……メモリ、11a,11b,11c…
…ストア領域、15,16……画像、17……二
値化パターン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 複数のコード化された各光パターンで被計測
    物体をそれぞれ照射し、その照射された被計測物
    体を異なる位置で撮像し、撮像された各光パター
    ン毎の画面を多数の画素に分けて明暗の二値化を
    行なつてその二値化パターンをメモリにストア
    し、前記光パターン毎の二値化パターンの内容を
    読出して三角法に基づいて被計測物体の位置を演
    算して求めることを特徴とする位置計測方法。
JP914684A 1984-01-21 1984-01-21 位置計測方法 Granted JPS60152903A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP914684A JPS60152903A (ja) 1984-01-21 1984-01-21 位置計測方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP914684A JPS60152903A (ja) 1984-01-21 1984-01-21 位置計測方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60152903A JPS60152903A (ja) 1985-08-12
JPH0356402B2 true JPH0356402B2 (ja) 1991-08-28

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ID=11712478

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JP914684A Granted JPS60152903A (ja) 1984-01-21 1984-01-21 位置計測方法

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62228107A (ja) * 1985-12-12 1987-10-07 Tokyo Optical Co Ltd 形状測定装置
JPH0726828B2 (ja) * 1986-04-18 1995-03-29 株式会社トプコン 形状測定装置
JPS63313005A (ja) * 1987-06-16 1988-12-21 Mitsubishi Electric Corp 3次元計測装置
JPS6410116A (en) * 1987-07-03 1989-01-13 Fanuc Ltd Measurement system for body position corresponding to picture element
JPS6454206A (en) * 1987-08-25 1989-03-01 O G Joho Syst Kk Position measuring method
JP2005293075A (ja) 2004-03-31 2005-10-20 Brother Ind Ltd 3次元形状検出装置、3次元形状検出方法、3次元形状検出プログラム
JP4734843B2 (ja) * 2004-03-31 2011-07-27 ブラザー工業株式会社 3次元形状検出装置
JP2007051893A (ja) * 2005-08-16 2007-03-01 Ricoh Co Ltd 三次元形状計測方法及び三次元形状計測装置
JP6146094B2 (ja) 2013-04-02 2017-06-14 富士通株式会社 情報操作表示システム、表示プログラム、および、表示方法
JP6434788B2 (ja) 2014-03-06 2018-12-05 パナソニック インテレクチュアル プロパティ コーポレーション オブ アメリカPanasonic Intellectual Property Corporation of America 計測システム、計測方法およびビジョンチップ
JP2016184362A (ja) 2015-03-26 2016-10-20 富士通株式会社 入力装置、入力操作検出方法及び入力操作検出用コンピュータプログラム
CN112051587A (zh) 2019-06-07 2020-12-08 松下知识产权经营株式会社 被摄体的位置检测系统以及位置检测方法

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JPS60152903A (ja) 1985-08-12

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