JP2683246B2 - 欠陥検出方法 - Google Patents
欠陥検出方法Info
- Publication number
- JP2683246B2 JP2683246B2 JP63138101A JP13810188A JP2683246B2 JP 2683246 B2 JP2683246 B2 JP 2683246B2 JP 63138101 A JP63138101 A JP 63138101A JP 13810188 A JP13810188 A JP 13810188A JP 2683246 B2 JP2683246 B2 JP 2683246B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- sample
- image
- pixel
- image pickup
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラーテレビ用ブラウン管に用いられるシ
ャドウマスク、カラー撮像装置用色分解フィルタ、液晶
表示パネル用カラーフィルタ、電子管に用いられるメッ
シュ状電極、VDTフィルタ、濾過装置用メッシュ用フィ
ルタ、ロータリーエンコーダ、リニアエンコーダ、IC用
フォトマスク、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ
など一定の光学的性質、形状をもつ単位（以下単位パタ
ーン）が１次元方向、或いは２次元方向に規則的に繰り
換し配列されている工業製品、或いは単位パターンがそ
の光学的性質、形状及び１次元方向、２次元方向の配列
ピッチが徐々に変化しながら繰り返し配列されている工
業製品、或いはパターンのない工業製品等の試料中に存
在する微小な欠陥（黒点、ピンホールやパターンの形状
欠陥等）を検出する欠陥検出方法に関する。
ャドウマスク、カラー撮像装置用色分解フィルタ、液晶
表示パネル用カラーフィルタ、電子管に用いられるメッ
シュ状電極、VDTフィルタ、濾過装置用メッシュ用フィ
ルタ、ロータリーエンコーダ、リニアエンコーダ、IC用
フォトマスク、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ
など一定の光学的性質、形状をもつ単位（以下単位パタ
ーン）が１次元方向、或いは２次元方向に規則的に繰り
換し配列されている工業製品、或いは単位パターンがそ
の光学的性質、形状及び１次元方向、２次元方向の配列
ピッチが徐々に変化しながら繰り返し配列されている工
業製品、或いはパターンのない工業製品等の試料中に存
在する微小な欠陥（黒点、ピンホールやパターンの形状
欠陥等）を検出する欠陥検出方法に関する。
従来、上記のような工業製品の欠陥検査は、目視また
は顕微鏡観察により行われているのが通例であるが、こ
のような方法では多数の製品を検査するためには多大の
人手を必要とし、また官能検査であるために検査精度及
び信頼性に欠けるという問題があった。
は顕微鏡観察により行われているのが通例であるが、こ
のような方法では多数の製品を検査するためには多大の
人手を必要とし、また官能検査であるために検査精度及
び信頼性に欠けるという問題があった。
このような問題を解決するために、TVカメラ（エリア
センサ、ラインセンサ）、スポット走査（FS管、レーザ
スキャン）等の撮像手段で試料を撮像して得られる画像
信号から、画像比較、パターン認識、信号レベルの変化
の検出等の種々の画像信号処理手段が欠陥を検出するこ
とが行われている。
センサ、ラインセンサ）、スポット走査（FS管、レーザ
スキャン）等の撮像手段で試料を撮像して得られる画像
信号から、画像比較、パターン認識、信号レベルの変化
の検出等の種々の画像信号処理手段が欠陥を検出するこ
とが行われている。
しかしながら、このような検査は通常１回の撮像によ
る画像信号により行われている。そのため、微小な欠陥
が撮像手段の走査線や、例えば第３図に示すように、画
素P1〜P4の中間に位置している場合には、欠陥による画
像信号の変化が複数の走査線または画素に分散してしま
い、各画素で検出される信号レベルが小さくなってしま
い欠陥として検出されないという問題があった。またCC
Dのような撮像素子の場合には、画素内の検出感度は第
４図に示すような分布となるため、欠陥が画素周辺にあ
る場合には低感度領域のため検出閾値に達せず検出でき
ないという問題があった。
る画像信号により行われている。そのため、微小な欠陥
が撮像手段の走査線や、例えば第３図に示すように、画
素P1〜P4の中間に位置している場合には、欠陥による画
像信号の変化が複数の走査線または画素に分散してしま
い、各画素で検出される信号レベルが小さくなってしま
い欠陥として検出されないという問題があった。またCC
Dのような撮像素子の場合には、画素内の検出感度は第
４図に示すような分布となるため、欠陥が画素周辺にあ
る場合には低感度領域のため検出閾値に達せず検出でき
ないという問題があった。
このような問題に対して、従来は撮像手段の分解能を
増加させることにより欠陥の見逃しを防止しているが、 撮像系の分解能（走査線数や画素数）が決まっている
場合には、撮像視野が小さくなって機械的な走査が必要
となると共に、その走査線が増えてしまう。
増加させることにより欠陥の見逃しを防止しているが、 撮像系の分解能（走査線数や画素数）が決まっている
場合には、撮像視野が小さくなって機械的な走査が必要
となると共に、その走査線が増えてしまう。
撮像領域を変えずに分解能を上げるには、高価な撮像
装置が必要となったり、検出処理系の容量（メモリ等）
が増えたり、光学的な制限（解像力等）が生ずる場合が
ある。
装置が必要となったり、検出処理系の容量（メモリ等）
が増えたり、光学的な制限（解像力等）が生ずる場合が
ある。
また、単に分解能を上げ、第３図のように各画素に1/
4づつ分散した欠陥の見逃しを防止した場合は、逆に、
例えば第３図の1/4の大きさで検出すべき欠陥に当たら
ないものが画素の中央に位置いている第５図のような場
合に、その信号変化がほぼ等しくなるためこれを欠陥と
して検出してしまう。
4づつ分散した欠陥の見逃しを防止した場合は、逆に、
例えば第３図の1/4の大きさで検出すべき欠陥に当たら
ないものが画素の中央に位置いている第５図のような場
合に、その信号変化がほぼ等しくなるためこれを欠陥と
して検出してしまう。
等の問題があった。
本発明は上記問題点を解決し、安価な装置で所定の値
（大きさ等）以上の欠陥を確実に検出することができる
欠陥検出方法を提供することを目的とする。
（大きさ等）以上の欠陥を確実に検出することができる
欠陥検出方法を提供することを目的とする。
そのために本発明は、試料を撮像して得られた画像デ
ータから欠陥を検出する方法において、撮像系の画素ま
たは走査線と試料の相対位置を前記画素または走査線の
整数分の１ピッチ異ならせて試料を撮像し、撮像して得
られた複数組のデータの論理和から欠陥を検出すること
を特徴とする。
ータから欠陥を検出する方法において、撮像系の画素ま
たは走査線と試料の相対位置を前記画素または走査線の
整数分の１ピッチ異ならせて試料を撮像し、撮像して得
られた複数組のデータの論理和から欠陥を検出すること
を特徴とする。
また、本発明は、試料が周期性パターンを有し、周期
性パターンを変位させて複数の位置で撮像して得られた
画像データに基づいて欠陥を検出する方法であって、撮
像系の画素または走査線と試料との相対位置を前記画素
または走査線の整数分の１ピッチ異ならせて試料を撮像
し、撮像して得られた複数組のデータの論理和から欠陥
を検出することを特徴とする。
性パターンを変位させて複数の位置で撮像して得られた
画像データに基づいて欠陥を検出する方法であって、撮
像系の画素または走査線と試料との相対位置を前記画素
または走査線の整数分の１ピッチ異ならせて試料を撮像
し、撮像して得られた複数組のデータの論理和から欠陥
を検出することを特徴とする。
また、本発明は、複数の撮像手段を、相対位置が撮像
手段の画素または走査線の整数分の１ピッチ異なるよう
に配置し、複数の撮像手段により試料を同時に撮像し、
撮像して得られた複数組のデータの論理和から欠陥を検
出することを特徴とする。
手段の画素または走査線の整数分の１ピッチ異なるよう
に配置し、複数の撮像手段により試料を同時に撮像し、
撮像して得られた複数組のデータの論理和から欠陥を検
出することを特徴とする。
本発明は、撮像系の画素または走査線と試料との相対
位置を異なせて撮像した複数組の画像データに基づいて
欠陥を検出することにより、欠陥による画像信号の変化
が複数の走査線または画素に分散して検出されなくなる
ことを防止し、安価な装置で所定の値以上の欠陥を確実
に検出することが可能となる。
位置を異なせて撮像した複数組の画像データに基づいて
欠陥を検出することにより、欠陥による画像信号の変化
が複数の走査線または画素に分散して検出されなくなる
ことを防止し、安価な装置で所定の値以上の欠陥を確実
に検出することが可能となる。
以下、実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本発明の欠陥検出方法を説明するための図で
ある。
ある。
第１図において、画素P1〜P4の中間に欠陥Ａが存在し
ているとすると、撮像系の画素（走査線）と信号の相対
位置を、例えば、第１図に示すようにＨ、Ｖ方向に画素
ピッチの1/2づつ変えると、検出すべき欠陥と画素の関
係は図のＡ〜Ｄとなり、Ａ、Ｂ、Ｄのように画素の境界
にある時には検出できなかったとしても、Ｃの時は画素
中央となり、欠陥として検出することができる。そこ
で、４回の検出結果に介して論理ORをとると、所定値以
上の欠陥を何れかの位置で検出することができ、見逃す
ことはなくなる。相対位置は撮像系の特性や検出すべき
欠陥の性質等に応じて定めれば良い。
ているとすると、撮像系の画素（走査線）と信号の相対
位置を、例えば、第１図に示すようにＨ、Ｖ方向に画素
ピッチの1/2づつ変えると、検出すべき欠陥と画素の関
係は図のＡ〜Ｄとなり、Ａ、Ｂ、Ｄのように画素の境界
にある時には検出できなかったとしても、Ｃの時は画素
中央となり、欠陥として検出することができる。そこ
で、４回の検出結果に介して論理ORをとると、所定値以
上の欠陥を何れかの位置で検出することができ、見逃す
ことはなくなる。相対位置は撮像系の特性や検出すべき
欠陥の性質等に応じて定めれば良い。
なお、試料が周期性パターンを有する場合には、所定
の位置でパターンを撮像し、フレーム積分して得られた
画像データから、所定距離パターンを変位させて同様に
フレーム積分して得られた画像データを減算し、S/Nを
向上させると共に、撮像系の汚れ等に起因する固定ノイ
ズを除去して画像データの僅かな変化からパターンの欠
陥を検出することが提案されているが、この場合、画像
データの僅かな変化から欠陥検出を行っているので、欠
陥が画素の中間に位置し、各画素に分散したような場合
には検出することができない場合があるが、本発明を適
用することにより検出可能となる。特に、高分解能化す
るためには、TVカメラ、画像処理系共に高価となり、被
検査パターンとのモアレも出やすくなる等の問題がある
が、本発明の適用により、通常分解能（例えば512×512
画素）のシステムで順次４回の検出動作を行えば、ほぼ
1024×1024画素の場合と同じ結果が得られる。
の位置でパターンを撮像し、フレーム積分して得られた
画像データから、所定距離パターンを変位させて同様に
フレーム積分して得られた画像データを減算し、S/Nを
向上させると共に、撮像系の汚れ等に起因する固定ノイ
ズを除去して画像データの僅かな変化からパターンの欠
陥を検出することが提案されているが、この場合、画像
データの僅かな変化から欠陥検出を行っているので、欠
陥が画素の中間に位置し、各画素に分散したような場合
には検出することができない場合があるが、本発明を適
用することにより検出可能となる。特に、高分解能化す
るためには、TVカメラ、画像処理系共に高価となり、被
検査パターンとのモアレも出やすくなる等の問題がある
が、本発明の適用により、通常分解能（例えば512×512
画素）のシステムで順次４回の検出動作を行えば、ほぼ
1024×1024画素の場合と同じ結果が得られる。
また、３管（板）式TVカメラのように、１つの撮像レ
ンズに対して複数の撮像素子を少しずつ、例えば画素ピ
ッチの整数分の１ずらして取り付けた撮像装置を用いる
と、相対位置の異なる画像信号が同時に得られ、高速処
理が可能となる。
ンズに対して複数の撮像素子を少しずつ、例えば画素ピ
ッチの整数分の１ずらして取り付けた撮像装置を用いる
と、相対位置の異なる画像信号が同時に得られ、高速処
理が可能となる。
第２図はこのような検出を行う場合の構成を示す図
で、図中、１は試料、２は支持装置、３は照明装置、５
は電源、６は撮影レンズ、７はビームスプリッタ、８、
９は撮像素子、10、11はフレームメモリ、12は検出処理
装置である。
で、図中、１は試料、２は支持装置、３は照明装置、５
は電源、６は撮影レンズ、７はビームスプリッタ、８、
９は撮像素子、10、11はフレームメモリ、12は検出処理
装置である。
図において、支持装置２に載置された試料１は、電源
５により付勢される照明装置３により照明され、その透
過光による試料像が撮影レンズ６、ビームスプリッタ７
を介してそれぞれ撮像素子８、９により撮像される。撮
像素子８、９は、撮影レンズ６に対して相対位置を少し
づつ、例えば画素ピッチの整数分の１程度ずらして設置
されている。撮像された画像データはフレームメモリ1
0、11に記憶され、検出処理装置12により検出される。
こうして、相対位置の異なる画像データが同時に得られ
るので、試料をずらして複数回撮影する必要がなく、高
速処理が可能となる。なお、図では便宜上、撮像素子を
２つとして説明したが、ビームスプリッタを増やしてよ
り多く設けるようにしてもよいことは言うまでもない。
本実施例は、前述した周期性パターンの検査に適用した
場合、時間のかかるフレーム積分を並列に実行でき、検
査時間を大幅に短縮することが可能となる。
５により付勢される照明装置３により照明され、その透
過光による試料像が撮影レンズ６、ビームスプリッタ７
を介してそれぞれ撮像素子８、９により撮像される。撮
像素子８、９は、撮影レンズ６に対して相対位置を少し
づつ、例えば画素ピッチの整数分の１程度ずらして設置
されている。撮像された画像データはフレームメモリ1
0、11に記憶され、検出処理装置12により検出される。
こうして、相対位置の異なる画像データが同時に得られ
るので、試料をずらして複数回撮影する必要がなく、高
速処理が可能となる。なお、図では便宜上、撮像素子を
２つとして説明したが、ビームスプリッタを増やしてよ
り多く設けるようにしてもよいことは言うまでもない。
本実施例は、前述した周期性パターンの検査に適用した
場合、時間のかかるフレーム積分を並列に実行でき、検
査時間を大幅に短縮することが可能となる。
以上のように本発明によれば、撮像系の分解能に対し
て高感度に所定値以上の欠陥を確実に検出することがで
き、場合によっては通常規格の機器で高分解能機器と同
等な結果が得られ、高精度、低価格、高速化を図ること
が可能となる。
て高感度に所定値以上の欠陥を確実に検出することがで
き、場合によっては通常規格の機器で高分解能機器と同
等な結果が得られ、高精度、低価格、高速化を図ること
が可能となる。
第１図は本発明の欠陥検出方法を説明するための図、第
２図は複数の撮像素子をずらせて配置して欠陥検出を行
う場合の構成を示す図、第３図は欠陥が画素の中間に位
置する場合を示す図、第４図はCCDの画素内感度分布を
示す図、第５図は小さい欠陥が画素内に位置している場
合を示す図である。 １……試料、２……支持装置、３……照明装置、５……
電源、６……撮影レンズ、７……ビームスプリッタ、
８、９……撮像素子、10、11……フレームメモリ、12…
…検出処理装置。
２図は複数の撮像素子をずらせて配置して欠陥検出を行
う場合の構成を示す図、第３図は欠陥が画素の中間に位
置する場合を示す図、第４図はCCDの画素内感度分布を
示す図、第５図は小さい欠陥が画素内に位置している場
合を示す図である。 １……試料、２……支持装置、３……照明装置、５……
電源、６……撮影レンズ、７……ビームスプリッタ、
８、９……撮像素子、10、11……フレームメモリ、12…
…検出処理装置。
Claims (3)
- 【請求項１】試料を撮像して得られた画像データから欠
陥を検出する方法において、撮像系の画素または走査線
と試料の相対位置を前記画素または走査線の整数分の１
ピッチ異ならせて試料を撮像し、撮像して得られた複数
組のデータの論理和から欠陥を検出することを特徴とす
る欠陥検出方法。 - 【請求項２】試料が周期性パターンを有し、周期性パタ
ーンを変位させて複数の位置で撮像して得られた画像デ
ータに基づいて欠陥を検出する方法であって、撮像系の
画素または走査線と試料との相対位置を前記画素または
走査線の整数分の１ピッチ異ならせて試料を撮像し、撮
像して得られた複数組のデータの論理和から欠陥を検出
することを特徴とする欠陥検出方法。 - 【請求項３】複数の撮像手段を、相対位置が撮像手段の
画素または走査線の整数分の１ピッチ異なるように配置
し、複数の撮像手段により試料を同時に撮像し、撮像し
て得られた複数組のデータの論理和から欠陥を検出する
ことを特徴とする欠陥検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63138101A JP2683246B2 (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 欠陥検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63138101A JP2683246B2 (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 欠陥検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01307644A JPH01307644A (ja) | 1989-12-12 |
| JP2683246B2 true JP2683246B2 (ja) | 1997-11-26 |
Family
ID=15213974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63138101A Expired - Lifetime JP2683246B2 (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 欠陥検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2683246B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0981736A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-03-28 | Fuji Electric Co Ltd | 傷検査装置 |
| US7545971B2 (en) * | 2005-08-22 | 2009-06-09 | Honeywell International Inc. | Method and apparatus for measuring the crepe of a moving sheet |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0713598B2 (ja) * | 1985-05-09 | 1995-02-15 | 大日本印刷株式会社 | 周期性パタ−ンの欠陥検査方法 |
| JPS6383605A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-14 | Sony Corp | パタ−ン検査装置 |
-
1988
- 1988-06-03 JP JP63138101A patent/JP2683246B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01307644A (ja) | 1989-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3178644B2 (ja) | 透明板状体の欠点検出方法 | |
| JPH0674907A (ja) | 透明板状体の欠点検出方法 | |
| JPH0713598B2 (ja) | 周期性パタ−ンの欠陥検査方法 | |
| KR20050110005A (ko) | 마이크로-검사 입력을 이용한 매크로 결함 검출 방법 및시스템 | |
| JPH11211442A (ja) | 物体表面の欠陥検出方法及び装置 | |
| JP3718101B2 (ja) | 周期性パターンの欠陥検査方法および装置 | |
| JP2683246B2 (ja) | 欠陥検出方法 | |
| JP2792517B2 (ja) | 試料の検査方法 | |
| JP2001349716A (ja) | 表面凹凸検査方法および装置 | |
| JP3332175B2 (ja) | 周期性パターンの欠陥検査方法 | |
| JP3202089B2 (ja) | 周期性パターンの表面欠陥検査方法 | |
| JP2683248B2 (ja) | 着色周期性パターンの検査方法 | |
| JP2790284B2 (ja) | 周期性パターンの検査方法 | |
| JPH0731131B2 (ja) | 周期性パタ−ンの斑検査方法 | |
| JP3984367B2 (ja) | 表面欠陥の検査方法および検査装置 | |
| JP2876999B2 (ja) | 印刷欠陥検査装置 | |
| JPH01313742A (ja) | 周期性パターンの検査方法 | |
| JPH0643968B2 (ja) | シヤドウマスクの欠陥検査方法 | |
| JP3314251B2 (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JP2660560B2 (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JP2701872B2 (ja) | 面付パターンの欠陥検査装置 | |
| JP3245066B2 (ja) | 表示パネルの欠陥検査装置 | |
| JPH01307646A (ja) | 周期性パターン検査方法 | |
| JPS62237305A (ja) | パタ−ン欠陥検査方法 | |
| JP3201007B2 (ja) | 液晶表示装置の検査装置及び検査方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |