JPH02300608A - 3次元形状計測装置 - Google Patents
3次元形状計測装置Info
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- JPH02300608A JPH02300608A JP12257889A JP12257889A JPH02300608A JP H02300608 A JPH02300608 A JP H02300608A JP 12257889 A JP12257889 A JP 12257889A JP 12257889 A JP12257889 A JP 12257889A JP H02300608 A JPH02300608 A JP H02300608A
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- light
- irradiation means
- dimensional shape
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Links
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 13
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
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- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、たとえば産業用ロホットの目なととして好適
に実施することがてきる被計測物体の3次元形状を計測
するための装置に関する。
に実施することがてきる被計測物体の3次元形状を計測
するための装置に関する。
従来の技術
典型的な先行技術では、被計測物体の形状を計測するな
めに、たとえばブローyなどを被計測物体に当接し一〕
−)移動を行い、アームの関節の角度などから被計測物
体の形状を計測していた。
めに、たとえばブローyなどを被計測物体に当接し一〕
−)移動を行い、アームの関節の角度などから被計測物
体の形状を計測していた。
この先行技術では、プローブか被計測物体に接触する必
要があり、したか−)で被計測物体が柔らかいものや高
温なものあるいは危険なものなとであるときには、計測
を行うことができない。また被計測物体の表面を、少し
ず−)ずれて何回も走査しなければならず、したか−)
で計測精度を向上するためには、前記走査の間隔を密に
しなければならず、計測に長時間要することになる。ま
た構成大がかりである。
要があり、したか−)で被計測物体が柔らかいものや高
温なものあるいは危険なものなとであるときには、計測
を行うことができない。また被計測物体の表面を、少し
ず−)ずれて何回も走査しなければならず、したか−)
で計測精度を向上するためには、前記走査の間隔を密に
しなければならず、計測に長時間要することになる。ま
た構成大がかりである。
他の先行技術は、本件出願人による特願昭62−211
.554に開示されている。こび)先行技術ては、被計
測物体に光パターンを複数の各照射手段によ−)で順次
的に照射し、その照射手段に個別的に対応してその対応
する照射手段とは異なる位置に設けられた撮像手段によ
−)で、光パターン照射期間中にその照射されている被
計測物体を撮像し、この撮像手段の出力に基−)いて、
三角法に従い、被計測物体の形状を演算して求める。
.554に開示されている。こび)先行技術ては、被計
測物体に光パターンを複数の各照射手段によ−)で順次
的に照射し、その照射手段に個別的に対応してその対応
する照射手段とは異なる位置に設けられた撮像手段によ
−)で、光パターン照射期間中にその照射されている被
計測物体を撮像し、この撮像手段の出力に基−)いて、
三角法に従い、被計測物体の形状を演算して求める。
発明か解決しようとする課題
このような先行技術では、複数の各照射手段を順次的に
切換えて、被計測物体に光を照射しなければならず、そ
のため計測に長時間を必要とする。
切換えて、被計測物体に光を照射しなければならず、そ
のため計測に長時間を必要とする。
したか−)でたとえは被計測物体か人間なとであるとき
には、その被計測物体を長時間に亘−)で静止状態に保
−)ことが困難であり、このような人間なとのような被
計測物体の形状計測は難しい。
には、その被計測物体を長時間に亘−)で静止状態に保
−)ことが困難であり、このような人間なとのような被
計測物体の形状計測は難しい。
本発明の目的は、被計測物体の3次元形状を、簡単な構
成て高速に計測することができるようにした3次元形状
計測装置を提供ずろことである。
成て高速に計測することができるようにした3次元形状
計測装置を提供ずろことである。
課題を解決ずろための手段
本発明は、複数の異なる位置にそれぞれ配置され、相互
に異なる波長を有するパターン光またはスリブ■・光を
被計測物体に同時に照射する複数の照射手段と、 前記照射手段に個別的に対応してその対応する照射手段
とは異なる位置にそれぞれ配置され、前記対応する照射
手段からの前記波長を有する光が照射されている被計測
物体を撮1象する複数の撮像手段と、 前記撮像手段からの出力に応答して、撮像して得られる
画面を多数の画素に分けて明暗の二Ia(ヒを行い、そ
の二値化信号をメモリにストアし、そのストア内容を読
出して三角法に基づいて被計測物体の3次元の形状を演
算して求める処理手段とを含むことを特徴とする3次元
形状計測装置である。
に異なる波長を有するパターン光またはスリブ■・光を
被計測物体に同時に照射する複数の照射手段と、 前記照射手段に個別的に対応してその対応する照射手段
とは異なる位置にそれぞれ配置され、前記対応する照射
手段からの前記波長を有する光が照射されている被計測
物体を撮1象する複数の撮像手段と、 前記撮像手段からの出力に応答して、撮像して得られる
画面を多数の画素に分けて明暗の二Ia(ヒを行い、そ
の二値化信号をメモリにストアし、そのストア内容を読
出して三角法に基づいて被計測物体の3次元の形状を演
算して求める処理手段とを含むことを特徴とする3次元
形状計測装置である。
ま)S本発明は、光照射手段と撮像手段とは、バンドパ
ス色フィルタを備えることを特徴とする3−3= 次元形状計測装置である。
ス色フィルタを備えることを特徴とする3−3= 次元形状計測装置である。
作 用
本発明に従えば、被計測物体に複数グ)照射手段から同
時にパターン光またはスリブ■・光を照射し、これらの
各照射手段からの光は、相互に異なる波長を有している
。複数の各撮像手段は、照射手段に個別的に対応してお
り、その対応する照射手段からの前記波長を有する光が
照射されている被計測物体を、撮像する。したか−)て
各撮像手段は、その対応する照射手段からのバター〉光
また(」スリット光が被計測物体に照射されている状態
で、その対応する照射手段からの前記波長を有する先に
よる画像のみを撮像することがてきる。各照射手段は、
同時に光を照射する。したが−)で被計測物体がたとえ
ば人間なとのように長時間静止状態を保−)ことか困難
である場6に才)いても、短時間に、計測を行うことが
可能である。
時にパターン光またはスリブ■・光を照射し、これらの
各照射手段からの光は、相互に異なる波長を有している
。複数の各撮像手段は、照射手段に個別的に対応してお
り、その対応する照射手段からの前記波長を有する光が
照射されている被計測物体を、撮像する。したか−)て
各撮像手段は、その対応する照射手段からのバター〉光
また(」スリット光が被計測物体に照射されている状態
で、その対応する照射手段からの前記波長を有する先に
よる画像のみを撮像することがてきる。各照射手段は、
同時に光を照射する。したが−)で被計測物体がたとえ
ば人間なとのように長時間静止状態を保−)ことか困難
である場6に才)いても、短時間に、計測を行うことが
可能である。
各撮像手段の出力は、二値化されてメモリにストアされ
、その、メモリのストア内容を読出して三角法に基づい
て被計測物体グ)3次元の形状を演算して求める。
、その、メモリのストア内容を読出して三角法に基づい
て被計測物体グ)3次元の形状を演算して求める。
実施例
第1図は、本発明の一実施例の計測装置20の平面配置
図である。被計測物体1の周囲には、複数(この実施例
では3)の照射手段6a、6に+。
図である。被計測物体1の周囲には、複数(この実施例
では3)の照射手段6a、6に+。
6c(総称するときは6)が周方向に間隔をあけて(こ
の実施例では1−)の仮想円上で等間隔に)配置される
。被計測物体1の周囲にはまた、前記照射手段6に個別
的に対応したテレビカメラ8a。
の実施例では1−)の仮想円上で等間隔に)配置される
。被計測物体1の周囲にはまた、前記照射手段6に個別
的に対応したテレビカメラ8a。
8b、8c:(総称するときは8)が、対応する照射手
段6とは異な−)た位置に配置される。
段6とは異な−)た位置に配置される。
照射手段6a、、6b、6cの前方には、バンドパス色
フィルタ2 a 1 、2 t+ 1 、2 c: 1
がそれぞれ配Wされる。またテレビカメラ8εt、8b
、8Cの前方には、バンドパス色フィルタ2a、2.2
b2.2(,2がそれぞれ配置される。照射手段6εt
とそれに対応するテレビカメラ8aの前方にそれぞれ配
置されているバンドパス色フィルタ2a1.2it2は
、第2図のラインR1で示されるような透過率特性を有
している。また照射手段6 bと、それに対応するテレ
ビカメラ8bとの各前方位置に配置されているバンドパ
ス色フィルタ2 bl、2b2は、第2図のラインG1
で示される透過率特性を有する。さらにまた照射手段6
(とそれに対応するテレビ力、メラ8(の各前方位置に
配置されるバンドパス色フィルタ2c1.2c+2は、
第2図のラインB1て示される透過率特性を有する。こ
れらの各バンドパス色フィルタ2 a 1 + 2a
2;2bl、2b2;2cl、2c2の透過率が高い値
を有する波長の帯域は相互に異な−)でいる。
フィルタ2 a 1 、2 t+ 1 、2 c: 1
がそれぞれ配Wされる。またテレビカメラ8εt、8b
、8Cの前方には、バンドパス色フィルタ2a、2.2
b2.2(,2がそれぞれ配置される。照射手段6εt
とそれに対応するテレビカメラ8aの前方にそれぞれ配
置されているバンドパス色フィルタ2a1.2it2は
、第2図のラインR1で示されるような透過率特性を有
している。また照射手段6 bと、それに対応するテレ
ビカメラ8bとの各前方位置に配置されているバンドパ
ス色フィルタ2 bl、2b2は、第2図のラインG1
で示される透過率特性を有する。さらにまた照射手段6
(とそれに対応するテレビ力、メラ8(の各前方位置に
配置されるバンドパス色フィルタ2c1.2c+2は、
第2図のラインB1て示される透過率特性を有する。こ
れらの各バンドパス色フィルタ2 a 1 + 2a
2;2bl、2b2;2cl、2c2の透過率が高い値
を有する波長の帯域は相互に異な−)でいる。
第3図は、計測装置20のブロック図である。
各照射手段6εL、6b、6cは同時に光パターン7=
t、7b、7c (総称するときは7)を有するパター
ン光の照射を行う。これに対応してテレビ力、メラ8a
、81:+、8cで撮像された画像は、処理回路9に与
えられる。処理回路9に関連して、画像メモリ10と、
後述の二値化パターン17をストアするメモリ1 ]、
a 、 11 I:+ 、 11 c: (総称す
るときは11)とが設けられる。
t、7b、7c (総称するときは7)を有するパター
ン光の照射を行う。これに対応してテレビ力、メラ8a
、81:+、8cで撮像された画像は、処理回路9に与
えられる。処理回路9に関連して、画像メモリ10と、
後述の二値化パターン17をストアするメモリ1 ]、
a 、 11 I:+ 、 11 c: (総称す
るときは11)とが設けられる。
第4図は、照射手段6aの構成を示す図である。
照射手段6aは、液晶スリット板21と、処理回路9か
らのパターン信号をデコードして、前記液晶スリブ■・
板21のスリットパターンを変化するデコーダ22と、
光源23とを含んで構成される。
らのパターン信号をデコードして、前記液晶スリブ■・
板21のスリットパターンを変化するデコーダ22と、
光源23とを含んで構成される。
液晶スリット板21の一方の表面には、縦方向に複数(
この実施例では8)に分割されたアノード側透明電極2
5 a 、 25 b 、 −、25h (総称すると
きは25)が形成されており、デコーダ22から個別的
に電力が与えられる。液晶スリット板21の他方の表面
には、共通にカソード側透明電極26が形成されており
、この電極26は接地される。電極25.26間に充填
される液晶は、電界を印加することによって遮光性とな
るものと、透光性となるものとどちらであってもよい。
この実施例では8)に分割されたアノード側透明電極2
5 a 、 25 b 、 −、25h (総称すると
きは25)が形成されており、デコーダ22から個別的
に電力が与えられる。液晶スリット板21の他方の表面
には、共通にカソード側透明電極26が形成されており
、この電極26は接地される。電極25.26間に充填
される液晶は、電界を印加することによって遮光性とな
るものと、透光性となるものとどちらであってもよい。
本実施例では遮光性となるものを用いる。残余の照射手
段6b、6cも同様にして構成される。
段6b、6cも同様にして構成される。
第5図は、計測装置20を用いた計測方法を説明するた
めの図であり、この第5図と前述の第3図とを参照して
計測方法を説明する。なお説明の簡略化のため、照射手
段6aとテレビカメラ8aとを用いた計測動作のみを示
す。前記液晶スリット板21の電極25に選択的に電力
を導出ずろことによって、第5図において参照符2.7
a、 27b、27cで示される透光領域と、参照符
28ε1゜28b、28Cで示される非透光領域とが形
成され、これによって光源23からの光は、ダレイコー
ドに従ってコード化された光パターン7aとして非計測
物体1に照射される。透光領域27a。
めの図であり、この第5図と前述の第3図とを参照して
計測方法を説明する。なお説明の簡略化のため、照射手
段6aとテレビカメラ8aとを用いた計測動作のみを示
す。前記液晶スリット板21の電極25に選択的に電力
を導出ずろことによって、第5図において参照符2.7
a、 27b、27cで示される透光領域と、参照符
28ε1゜28b、28Cで示される非透光領域とが形
成され、これによって光源23からの光は、ダレイコー
ドに従ってコード化された光パターン7aとして非計測
物体1に照射される。透光領域27a。
271:1,27C(総称するときは27)と、非透光
領域28a、28b、28c (総称するときは28)
とによってそれぞれスリットパターン29a、29b、
29c (総称するときは29)が構成される。
領域28a、28b、28c (総称するときは28)
とによってそれぞれスリットパターン29a、29b、
29c (総称するときは29)が構成される。
たとえば電極25 a、 、 25 d 、 25 e
、 25 hに電力が与えられて形成されるスリン1
゛〜パターン29cが用いられて、光パターン7aの照
射が行われたときには、゛第5図で示されるような陰影
が現れる。ずなわち透光領域27cを透過した光の帯が
照射されている部分は白抜きとなっており、非透光領域
28cによって光が遮断された陰の部分にはハツチング
が施されている。
、 25 hに電力が与えられて形成されるスリン1
゛〜パターン29cが用いられて、光パターン7aの照
射が行われたときには、゛第5図で示されるような陰影
が現れる。ずなわち透光領域27cを透過した光の帯が
照射されている部分は白抜きとなっており、非透光領域
28cによって光が遮断された陰の部分にはハツチング
が施されている。
これらのスリットパターン29の透光領域27および非
透光領域28は、非計測物体1の形状計測が可能な領域
に対応して示すと、第6図(1)。
透光領域28は、非計測物体1の形状計測が可能な領域
に対応して示すと、第6図(1)。
第6図(2)および第6図(3)のようにそれぞれなる
。こうして被計測物体1の形状計測が可能な領域は、1
計8つの領域部分PO〜P7に分割することが可能にな
る。なお第6図において「0」で示される部分は影の部
分であり、「1」で示される部分は光の帯が照射されて
いる部分である。
。こうして被計測物体1の形状計測が可能な領域は、1
計8つの領域部分PO〜P7に分割することが可能にな
る。なお第6図において「0」で示される部分は影の部
分であり、「1」で示される部分は光の帯が照射されて
いる部分である。
被計測物体1の形状を計測する場き、先ず被計測物体1
を照射手段6aによって光を照射しない状態においてテ
レビカメラ8aで撮像を行い、その画像15をメモリ1
0にストアしておく。次に、電極25 a 、 25
d +’ 25 e 、 25 hをハイレベルとし
てスリットパターン29(を形成し、被計測物体1に光
の帯の照射を行う。これによって撮像した画像16を処
理回路9に読込む。照射手段6aによる光の帯を用いな
い無投影時の画像15と、照射手段6aによる光の帯の
照射時にJ)ける画像16とでは、被計測物体1の色や
その色の濃淡などによって各画面15.16の画素のし
ヘルが、たとえば100段階に分けられて構成される。
を照射手段6aによって光を照射しない状態においてテ
レビカメラ8aで撮像を行い、その画像15をメモリ1
0にストアしておく。次に、電極25 a 、 25
d +’ 25 e 、 25 hをハイレベルとし
てスリットパターン29(を形成し、被計測物体1に光
の帯の照射を行う。これによって撮像した画像16を処
理回路9に読込む。照射手段6aによる光の帯を用いな
い無投影時の画像15と、照射手段6aによる光の帯の
照射時にJ)ける画像16とでは、被計測物体1の色や
その色の濃淡などによって各画面15.16の画素のし
ヘルが、たとえば100段階に分けられて構成される。
処理回路9は、照射手段6aからの光の帯の照射時にお
ける画像16の各画素毎の濃淡レベルRから、照射手段
1’) F、tを使用しない無投影時の画像15の濃淡
レベルSを各画素毎に引算して、各画素毎の差T (T
=R−3)を演算し、この差Tを予め定めた値でレベル
弁別して、二値化パターン17を演算して求める。こう
して得られる二値化パターン17を、スリットパターン
29 a、 、 29b、29cの使用の度毎に求め、
メモリ1 ]aにス■−アする。
ける画像16の各画素毎の濃淡レベルRから、照射手段
1’) F、tを使用しない無投影時の画像15の濃淡
レベルSを各画素毎に引算して、各画素毎の差T (T
=R−3)を演算し、この差Tを予め定めた値でレベル
弁別して、二値化パターン17を演算して求める。こう
して得られる二値化パターン17を、スリットパターン
29 a、 、 29b、29cの使用の度毎に求め、
メモリ1 ]aにス■−アする。
被計測物体1が暗室にあるときには、無投影時の濃淡画
像15を得る必要がなく、投影時の濃淡画像】6の各画
素をレベル弁別して二値化ノ゛;ターン17を作成する
ようにすればよい。
像15を得る必要がなく、投影時の濃淡画像】6の各画
素をレベル弁別して二値化ノ゛;ターン17を作成する
ようにすればよい。
波計?11I物体1の形状が計測可能な領域における分
割された領域部分PO〜P7のグレイコードによる分離
値は、第1表のとおりとなる。
割された領域部分PO〜P7のグレイコードによる分離
値は、第1表のとおりとなる。
第7図は本発明の詳細な説明するための図であり、第7
図および第5図を参照して1.メモリ11aから読出し
な二値化パターン17に基づいて、被計測物体1の特定
部分の位WQを求める原理を説明する。先ずスリットパ
ターン29a、29b。
図および第5図を参照して1.メモリ11aから読出し
な二値化パターン17に基づいて、被計測物体1の特定
部分の位WQを求める原理を説明する。先ずスリットパ
ターン29a、29b。
29(を用いて、光の帯をグレイコードに従′)で照射
することによ−)て、前述のように形状計測可能な領域
は、領域部分PO〜P7に分割される。
することによ−)て、前述のように形状計測可能な領域
は、領域部分PO〜P7に分割される。
、二の各スリットパターン29a、29b、29Cによ
る光の帯の各照射状態は、テレビカメラ8aによって個
別的に撮像される。
る光の帯の各照射状態は、テレビカメラ8aによって個
別的に撮像される。
次に、メモリ1151の特定の位置Qに対応した画素Q
a 、 Q b 、 Q c e)二値化された論理
値を読取る。たとえば、論理値かr ]、 O]、 J
であるときには、第1表から位置Qは領域部分P6に存
在するにとが分かる。
a 、 Q b 、 Q c e)二値化された論理
値を読取る。たとえば、論理値かr ]、 O]、 J
であるときには、第1表から位置Qは領域部分P6に存
在するにとが分かる。
こうして、照射手段6aとテレビカメラ8aとを結ぶ直
線18と、領域部分P6と照射手段621とを結ぶ直線
19との成す角度Q1と画素Qε1゜Qb、Qcに基づ
く位置Qとテレビ力、メラ8aとを結ぶ直線20との成
す角度Q2と、予め計測しておいた照射手段6aとテレ
ビカメラ!3 =tとの間の距離りとに基づいて、三角
法に従って位置Qを演算して求めることが可能となる。
線18と、領域部分P6と照射手段621とを結ぶ直線
19との成す角度Q1と画素Qε1゜Qb、Qcに基づ
く位置Qとテレビ力、メラ8aとを結ぶ直線20との成
す角度Q2と、予め計測しておいた照射手段6aとテレ
ビカメラ!3 =tとの間の距離りとに基づいて、三角
法に従って位置Qを演算して求めることが可能となる。
こうして求められた各画素毎の位置Qを、メモリ11
aにストアし、残余の照射手段6b、6cおよびテレビ
カメラ81:+、8cについても、照射手段6aおよび
テレビカメラ8aと同時に、同様の動作を行い、各画素
毎の位置Qをそれぞれメモリ1]、t+、llcにス■
・アする。各照射手段0およびテレビカメラ8の相互の
位置関係は予め分かつており、被計測物体1の近傍の空
間をコード化することができ、したが−)てこうして得
られた各画素の位置Qの情報を処理回路9で相互に関連
づけることによって被計測物体103次元形状を求める
ことができる。また各カメラ8の画角の周縁部は相互に
重なっており、したか−)てこの周縁部のデータを切捨
てることによって正確な3次元情報を得るにとができる
。
aにストアし、残余の照射手段6b、6cおよびテレビ
カメラ81:+、8cについても、照射手段6aおよび
テレビカメラ8aと同時に、同様の動作を行い、各画素
毎の位置Qをそれぞれメモリ1]、t+、llcにス■
・アする。各照射手段0およびテレビカメラ8の相互の
位置関係は予め分かつており、被計測物体1の近傍の空
間をコード化することができ、したが−)てこうして得
られた各画素の位置Qの情報を処理回路9で相互に関連
づけることによって被計測物体103次元形状を求める
ことができる。また各カメラ8の画角の周縁部は相互に
重なっており、したか−)てこの周縁部のデータを切捨
てることによって正確な3次元情報を得るにとができる
。
このように、本件計測装置20では、被計測物体1を複
数のコード化された各光パターン7でそれぞれ照射し、
各光パターン7毎の被計測物体1の画面を多数の画素に
分けて明暗の二値化パターン17を作成し、被計測物体
1の位置からその3次元形状を演算して求めるようにし
たのて、非接触で計測を行うことができる。また比較的
少ない数の光パターン7で被計測物体1を多数の領域部
分PO〜P7に分割して、高精度に3次元形状の計測を
行うことができる。
数のコード化された各光パターン7でそれぞれ照射し、
各光パターン7毎の被計測物体1の画面を多数の画素に
分けて明暗の二値化パターン17を作成し、被計測物体
1の位置からその3次元形状を演算して求めるようにし
たのて、非接触で計測を行うことができる。また比較的
少ない数の光パターン7で被計測物体1を多数の領域部
分PO〜P7に分割して、高精度に3次元形状の計測を
行うことができる。
また液晶スリット板21を用いて光パターン7を形成す
るようにしたので、高速度にスリットパターン29を変
更することができ、したが′)で被計測物体1の3次元
形状を簡単な構成で高速度に計測することができる。
るようにしたので、高速度にスリットパターン29を変
更することができ、したが′)で被計測物体1の3次元
形状を簡単な構成で高速度に計測することができる。
さらにまた、ダレイコードに従うスリン1へパターン2
つによって光パターン7が作成されるので、光の帯の境
界付近における論理ビットの読誤りCJ、隣接する領域
部分PO〜P7が1−)ずれるたけてあり、計測誤差を
減少することがてきる。
つによって光パターン7が作成されるので、光の帯の境
界付近における論理ビットの読誤りCJ、隣接する領域
部分PO〜P7が1−)ずれるたけてあり、計測誤差を
減少することがてきる。
上述の実施例ては、光パターン7は縦縞であ−)たけれ
とも、横縞てあ−)でもよく、またドラ■−てあ−)で
もよい。また液晶スリット板21に代えて、たとえは陰
極線管の画面上に明暗の光パターンを形成し、この陰極
線管からの画面を被計測物体1に直接または集光レンズ
を介して照射するようにしてもよい。この場音、陰極線
管上の画面の光パターンは、画像形成手段によ−)で各
種変化可能であるのて、被計測物体1の形状に最適な光
パターンを比較的容易に実現することができる。さらに
また、陰極線管に代えて、フ゛ラスマ表示手段や多数の
発光ダイオードによって構成された表示手段などが用い
られてもよい。
とも、横縞てあ−)でもよく、またドラ■−てあ−)で
もよい。また液晶スリット板21に代えて、たとえは陰
極線管の画面上に明暗の光パターンを形成し、この陰極
線管からの画面を被計測物体1に直接または集光レンズ
を介して照射するようにしてもよい。この場音、陰極線
管上の画面の光パターンは、画像形成手段によ−)で各
種変化可能であるのて、被計測物体1の形状に最適な光
パターンを比較的容易に実現することができる。さらに
また、陰極線管に代えて、フ゛ラスマ表示手段や多数の
発光ダイオードによって構成された表示手段などが用い
られてもよい。
上述の実施例では、光パターンを有するパターン光が用
いられたけれとも、本発明の他の実施例として、単一ま
たは複数のスリット光を用いて被計測物体の3次元形状
を計測するようにしてもよい。
いられたけれとも、本発明の他の実施例として、単一ま
たは複数のスリット光を用いて被計測物体の3次元形状
を計測するようにしてもよい。
パターン光およびスリット光は、可視光であってもよい
し、赤外線などであってもよい。
し、赤外線などであってもよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、被計測物体の3次元形状
を非接触で計測することができ、しかも各照射手段から
同時に、か−)、相互に波長の異なる光を照射して、高
速に計測を行うことができ、しかも構成が簡単である。
を非接触で計測することができ、しかも各照射手段から
同時に、か−)、相互に波長の異なる光を照射して、高
速に計測を行うことができ、しかも構成が簡単である。
第1図は本発明の一実施例の計測装置20の平面配置図
、第2図はバンドパス色フィルタ2a12 a 2 :
2 b 1 、2 L+ 2 ; 2 c 1 、2
c 2の各透過率特性を示すグラフ、第3図は計測装
置20のフロック図、第4図は照射手段6εtの構成を
示す図、第5図は計測方法を説明するための図、第6図
はスリットパターン2つを用いた計測可能な領域の分割
状態を示す図、第7図は本発明グ)原理を説明するだめ
の平面lである。 1・・・被計測物体、2a、1.2a2;2し)]、2
b2;2cl、2c2・・バンドパス色フィルタ、6−
・・照射手段、7・・・光パターン、8・・・テしビカ
メラ、9・・処理回路、10,1.1・・、メモリ、]
5゜16・・・画像、17・・・二値化パターン、20
・・計測装置、21・・・液晶スリット板、22・・・
デコーダ、23・・・光源、27・・・透光領域、28
・・非透光領域、29・・・スリットパターン 代理人 弁理士 画数 圭一部 第1図 f−OF OFQ
、第2図はバンドパス色フィルタ2a12 a 2 :
2 b 1 、2 L+ 2 ; 2 c 1 、2
c 2の各透過率特性を示すグラフ、第3図は計測装
置20のフロック図、第4図は照射手段6εtの構成を
示す図、第5図は計測方法を説明するための図、第6図
はスリットパターン2つを用いた計測可能な領域の分割
状態を示す図、第7図は本発明グ)原理を説明するだめ
の平面lである。 1・・・被計測物体、2a、1.2a2;2し)]、2
b2;2cl、2c2・・バンドパス色フィルタ、6−
・・照射手段、7・・・光パターン、8・・・テしビカ
メラ、9・・処理回路、10,1.1・・、メモリ、]
5゜16・・・画像、17・・・二値化パターン、20
・・計測装置、21・・・液晶スリット板、22・・・
デコーダ、23・・・光源、27・・・透光領域、28
・・非透光領域、29・・・スリットパターン 代理人 弁理士 画数 圭一部 第1図 f−OF OFQ
Claims (2)
- (1)複数の異なる位置にそれぞれ配置され、相互に異
なる波長を有するパターン光またはスリット光を被計測
物体に同時に照射する複数の照射手段と、 前記照射手段に個別的に対応してその対応する照射手段
とは異なる位置にそれぞれ配置され、前記対応する照射
手段からの前記波長を有する光が照射されている被計測
物体を撮像する複数の撮像手段と、 前記撮像手段からの出力に応答して、撮像して得られる
画面を多数の画素に分けて明暗の二値化を行い、その二
値化信号をメモリにストアし、そのストア内容を読出し
て三角法に基づいて被計測物体の3次元の形状を演算し
て求める処理手段とを含むことを特徴とする3次元形状
計測装置。 - (2)光照射手段と撮像手段とは、バンドパス色フィル
タを備えることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の3次元形状計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12257889A JPH02300608A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 3次元形状計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12257889A JPH02300608A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 3次元形状計測装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02300608A true JPH02300608A (ja) | 1990-12-12 |
Family
ID=14839379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12257889A Pending JPH02300608A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 3次元形状計測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02300608A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6559954B2 (en) | 1999-12-01 | 2003-05-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Method and device for measuring the shape of a three dimensional object |
KR100455348B1 (ko) * | 2001-03-13 | 2004-11-06 | 주식회사 솔루션닉스 | 다중 줄무늬 패턴을 이용한 3차원 측정 장치 및 방법 |
WO2005026659A1 (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-24 | Cubic, Inc. | 三次元計測装置 |
JP2008039746A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Nissan Motor Co Ltd | 光検出方法および光検出装置 |
JP2008067362A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-03-21 | Nissan Motor Co Ltd | 画像処理装置および画像処理方法 |
JP2016180645A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 株式会社小坂研究所 | 非接触式の表面形状測定装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62197708A (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-01 | Toshiba Corp | 画像計測方法 |
JPS6454208A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | O G Joho Syst Kk | Shape detecting method |
-
1989
- 1989-05-16 JP JP12257889A patent/JPH02300608A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2016180645A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 株式会社小坂研究所 | 非接触式の表面形状測定装置 |
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