JPH0354111B2 - - Google Patents
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- -1 methoxycarbonylmethyl Chemical group 0.000 claims description 77
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 50
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 25
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 20
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 17
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005236 alkanoylamino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 claims description 3
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 11
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 description 6
- YGBFLZPYDUKSPT-MRVPVSSYSA-N cephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C(O)=O)N2C(=O)C[C@H]21 YGBFLZPYDUKSPT-MRVPVSSYSA-N 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical class CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000000338 in vitro Methods 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical class CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 2
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 2
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N tes-adt Chemical class C1=C2C(C#C[Si](CC)(CC)CC)=C(C=C3C(SC=C3)=C3)C3=C(C#C[Si](CC)(CC)CC)C2=CC2=C1SC=C2 NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- VQGVAQVLQRZIFC-LRHAYUFXSA-N (6R)-3-[(3-aminopyridin-1-ium-1-yl)methyl]-7-[[2-(2-amino-1,3-thiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetyl]amino]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylate Chemical compound CON=C(C(=O)NC1[C@@H]2N(C(=C(CS2)C[N+]2=CC(=CC=C2)N)C(=O)[O-])C1=O)C=1N=C(SC=1)N VQGVAQVLQRZIFC-LRHAYUFXSA-N 0.000 description 1
- IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N (6r)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCS[C@@H]2CC(=O)N12 IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGFAWKRXZLGJSK-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dihydroxyphenyl)-2-(4-nitrophenyl)ethanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OGFAWKRXZLGJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGOYZRAMGMTTOP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-formamido-1,3-thiazol-4-yl)-2-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethoxy]iminoacetic acid Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)CON=C(C(O)=O)C1=CSC(NC=O)=N1 VGOYZRAMGMTTOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004217 4-methoxybenzyl group Chemical class [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RVDLHGSZWAELAU-UHFFFAOYSA-N 5-tert-butylthiophene-2-carbonyl chloride Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(Cl)=O)S1 RVDLHGSZWAELAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 7beta-aminocephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C([O-])=O)N2C(=O)[C@@H]([NH3+])[C@@H]12 HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N Alpha-Lactose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@H](O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- 229920002261 Corn starch Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical class C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000192125 Firmicutes Species 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical class Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N Lactose Natural products OC[C@H]1O[C@@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHSPJQZRQAJPPF-UHFFFAOYSA-N N-alpha-Methylhistamine Chemical compound CNCCC1=CN=CN1 PHSPJQZRQAJPPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019483 Peanut oil Nutrition 0.000 description 1
- 229930182555 Penicillin Natural products 0.000 description 1
- JGSARLDLIJGVTE-MBNYWOFBSA-N Penicillin G Chemical compound N([C@H]1[C@H]2SC([C@@H](N2C1=O)C(O)=O)(C)C)C(=O)CC1=CC=CC=C1 JGSARLDLIJGVTE-MBNYWOFBSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical class OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 244000052616 bacterial pathogen Species 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Inorganic materials [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HKNWKTRXBJXGMT-UHFFFAOYSA-N barium palladium Chemical compound [Pd].[Ba] HKNWKTRXBJXGMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Inorganic materials [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000019868 cocoa butter Nutrition 0.000 description 1
- 229940110456 cocoa butter Drugs 0.000 description 1
- 239000008120 corn starch Substances 0.000 description 1
- 238000012258 culturing Methods 0.000 description 1
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 1
- NKLCHDQGUHMCGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexylidenemethanone Chemical group O=C=C1CCCCC1 NKLCHDQGUHMCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N diphenhydramine Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OCCN(C)C)C1=CC=CC=C1 ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002169 ethanolamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- YVUBWJOBCFNMES-UHFFFAOYSA-N formamide;pyridine Chemical compound NC=O.C1=CC=NC=C1 YVUBWJOBCFNMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000008101 lactose Substances 0.000 description 1
- 235000015122 lemonade Nutrition 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 244000000010 microbial pathogen Species 0.000 description 1
- ACTNHJDHMQSOGL-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibenzylethane-1,2-diamine Chemical class C=1C=CC=CC=1CN(CCN)CC1=CC=CC=C1 ACTNHJDHMQSOGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylacetamide Chemical compound CC(=O)N[Si](C)(C)C LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 239000004006 olive oil Substances 0.000 description 1
- 235000008390 olive oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical class [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000312 peanut oil Substances 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 229940049954 penicillin Drugs 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005633 phthalidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M potassium thiocyanate Chemical compound [K+].[S-]C#N ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940116357 potassium thiocyanate Drugs 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- JZWFDVDETGFGFC-UHFFFAOYSA-N salacetamide Chemical group CC(=O)NC(=O)C1=CC=CC=C1O JZWFDVDETGFGFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 239000003826 tablet Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012222 talc Nutrition 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl formate Chemical group CC(C)(C)OC=O RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 230000001225 therapeutic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- 239000001974 tryptic soy broth Substances 0.000 description 1
- 108010050327 trypticase-soy broth Proteins 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
- C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
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Description
この発明は抗菌活性を有する新規セフエム化合
物およびその塩類に関する。 目的とするセフエム化合物は新規化合物であ
り、一般式()で示すことができる。 〔式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R2は低級アルキル、低級アルキニル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたは保護されたカルボキシ
(低級)アルキル、 R3はアミノまたは保護されたアミノ基、 Xは水素またはハロゲンをそれぞれ意味する〕 新規セフエム化合物()は以下に説明する
種々の方法で製造することができる。 〔式中、R3,R2,R3およびXはそれぞれ前と同
じ意味であり、 R4は式:
物およびその塩類に関する。 目的とするセフエム化合物は新規化合物であ
り、一般式()で示すことができる。 〔式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R2は低級アルキル、低級アルキニル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたは保護されたカルボキシ
(低級)アルキル、 R3はアミノまたは保護されたアミノ基、 Xは水素またはハロゲンをそれぞれ意味する〕 新規セフエム化合物()は以下に説明する
種々の方法で製造することができる。 〔式中、R3,R2,R3およびXはそれぞれ前と同
じ意味であり、 R4は式:
【式】(式中、R3は前と同
じ意味)で示される基によつて置換されうる基、
R1 aは保護されたアミノ基をそれぞれ意味する〕
目的化合物()、(a)および(b)なら
びに原料化合物()については、前記目的化合
物および原料化合物にはシン異性体、アンチ異性
体およびそれらの混合物が包含されるものとす
る。例えば目的化合物()について説明すれ
ば、シン異性体は式: 〔式中、R3,R2およびXはそれぞれ前と同じ意
味〕で示される部分構造を有する一つの幾何異性
体と意味し、アンチ異性体は式: 〔式中、R1,R2およびXはそれぞれ前と同じ意
味〕で示される部分構造を有する他の一つの幾何
異性体を意味する。 化合物()以外の目的化合物および原料化合
物の場合にも、それらのシン異性体およびアンチ
異性体もまた、化合物()の場合と同じ幾何異
性構造で示される。 目的化合物()の塩類として適当なものは慣
用の無毒性塩であり、その例としては、例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との
塩;例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,
N′−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩
基との塩;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、リン酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、
酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等の有機カルボ
ン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩;例えば
アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との
塩等のような塩基との塩または酸付加塩が挙げら
れる。 この発明の前記記載および以下の記載におい
て、その範囲内に包含される種々の定義の適切な
例と説明とを以下詳細に述べる。 この明細書における「低級」とは特別の指示が
なければ炭素原子1〜6個を有する基を意味す
る。 「保護されたアミノ基」における適当な「アミ
ノ保護基」としては、ペニシリンおよびセフアロ
スポリン化合物に使用された慣用の保護基、その
例として例えば後に説明するアシル、例えばベン
ジル、フエネチル、ベンズヒドリル、トリチル等
のモノ(またはジまたはトリ)フエニル(低級)
アルキル、例えば1−メトキシカルボニル−1−
プロペン−2−イル等のの低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキリデンまたはそのエナミン型
互変異性体、例えばジメチルアミノメチレン等の
ジ(低級)アルキルアミノメチレン等が挙げられ
る。 適当な「アシル」としては脂肪族アシル、芳香
族アシル、複素環アシル、および芳香族基または
複素環基で置換された脂肪族アシルが挙げられ
る。 脂肪族アシルとしては、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノ
イル等の低級アルカノイル、例えばメシル、エタ
ンスルホニル、プロパンスルホニル等の低級アル
カンスルホニル、例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニルブトキ
シカルボニル、第三級ブトキシカルボニル等の低
級アルコキシカルボニル、例えばアクリロイル、
メタクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノ
イル、例えばシクロヘキサンカルボニル等の
(C3〜C7)−シクロアルカンカルボニル等のよう
な飽和または不飽和の非環式または環式アシルが
挙げられる。 芳香族アシルの例としては、例えばベンゾイ
ル、トルオイル、キシロイル等のアロイル、例え
ばベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンスル
ホニル等が挙げられる。 複素環アシルとしては、例えばフロイル、テノ
イル、ニコチノイル、イソニコチノイル、チアゾ
リルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、テ
トラゾリルカルボニル等の複素環カルボニルがそ
の例として挙げられる。 芳香族基によつて置換された脂肪族アシルの例
としては、例えばフエニルアセチル、フエニルプ
ロピオニル、フエニルヘキサノイル等のフエニル
(低級)アルカノイル、例えばベンジルオキシカ
ルボニル、フエネチルオキシカルボニル等のフエ
ニル(低級)アルコキシカルボニル、例えばフエ
ノキシアセチル、フエノキシプロピオニル等のフ
エノキシ(低級)アルカノイル等が挙げられる。 複素環基によつて置換された脂肪族アシルとし
てはチエニルアセチル、イミダゾリルアセチル、
フリルアセチル、テトラゾリルアセチル、チアゾ
リルアセチル、チアジアゾリルアセチル、チエニ
ルプロピオニル、チアジアゾリルプロピオニル等
がその例として挙げられる。 これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の低級アルキル、例えば塩素、臭
素、ヨウ素、フツ素等のハロゲン、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低
級アルコキシ、例えばメチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、
ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチ
オ、ニトロ等のような1個以上の適当な置換基で
置換されていてもよいが、そのような置換基を有
する好ましいアシルの例としては、例えばクロロ
アセチル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、
トリフルオロアセチル等のモノ(またはジまたは
トリ)ハロ(低級)アルカノイル、例えばクロロ
メトキシカルボニル、ジクロロメトキシカルボニ
ル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)ア
ルコキシカルボニル、例えばニトロベンジルオキ
シカルボニル、クロロベンジルオキシカルボニ
ル、メトキシベンジルオキシカルボニル等のニト
ロ(またはハロまたは低級アルコキシ)フエニル
(低級)アルコキシカルボニル等が挙げられる。 以上定義したアミノ保護基の好ましい例として
は低級アルカノイルである。 適当な「低級アルキル」ならびに「カルボキシ
(低級)アルキル」および「保護されたカルボキ
シ(低級)アルキル」における適当な「低級アル
キル部分」の例としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げ
られる。 適当な「低級アルキニル」としては、例えばエ
チニル、プロパルギル、1または2または3−ブ
チニル、1または2または3または4−ペンチニ
ル、1または2または3または4または5−ヘキ
シニル等が挙げられる。 「保護されたカルボキシ(低級)アルキル」に
おける適当な「保護されたカルボキシ部分」とし
てはエステル化されたカルボキシ基が挙げられ
る。 「エステル化されたカルボキシ基」の適当な
「エステル部分」の例としては、例えばメチルエ
ステル、エチルエステル、プロピルエステル、イ
ソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチ
ルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエ
ステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエス
テル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエ
ステル、アリルエステル等の低級アルケニルエス
テル、例えばエチニルエステル、プロピニルエス
テル等の低級アルキルエステル、例えばメトキシ
メチルエステル、エトキシメチルエステル、イソ
プロポキシメチルエステル、1−メトキシエチル
エステル、1−エトキシエチルエステル等の低級
アルコキシ(低級)アルキルエステル、例えばメ
チルチオメチルエステル、エチルチオメチルエス
テル、エチルチオエチルエステル、イソプロピル
チオメチルエステル等の低級アルキルチオ(低
級)アルキルエステル、例えば2−アミノ−2−
カルボキシエチルエステル、3−アミノ−3−カ
ルボキシプロピルエステル等のアミノ−およびカ
ルボキシ置換低級アルキルエステル、例えば2−
第三級ブトキシカルボニルアミノ−2−ベンズヒ
ドリルオキシカルボニルエチルエステル、3−第
三級ブトキシカルボニルアミノ−3−ベンズヒド
リルオキシカルボニルプロピルエステル等の低級
アルコキシカルボニルアミノおよびモノ(または
ジまたはトリ)−フエニル(低級)アルコキシカ
ルボニル置換低級アルキルエステルのような保護
されたアミノおよび保護されたカルボキシ置換低
級アルキルエステル、例えば2−ヨウ化エチルエ
ステル、2,2,2−トリクロロエチルエステル
等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)ア
ルキルエステル、例えばアセトキシメチルエステ
ル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリ
ルオキシメチルエステル、イソブチリルオキシメ
チルエステル、バレリルオキシメチルエステル、
ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイル
オキシメチルエステル、2−アセトキシエチルエ
ステル、2−プロピオニルオキシエチルエステ
ル、1−アセトキシプロピルエステル等の低級ア
ルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル、例
えばメシルメチルエステル、2−メシルエチルエ
ステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アル
キルエステル、例えばベンジルエステル、4−メ
トキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエ
ステル、フエネチルエステル、ベンズヒドリルエ
ステル、トリチルエステル、ビス(メトキシフエ
ニル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベン
ジルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第
三級ブチルベンジルエステル等の1個以上の適当
な置換基を有していてもよいモノ(またはジまた
はトリ)フエニル(低級)アルキルエステルのよ
うな1個以上の置換基を有していてもよいアル
(低級)アルキルエステル、例えばフエニルエス
テル、トリルエステル、第三級ブチルフエニルエ
ステル、キシリルエステル、メシチルエステル、
クメニルエステル、サリチルエステル等の1個以
上の置換基を有していてもよいアリールエステ
ル、例えばフタリジルエステル等の複素環エステ
ル等が挙げられる。 適当な「ハロゲン」としては塩素、臭素、ヨウ
素またはフツ素が挙げられるが、好ましい例は塩
素または臭素である。 適当なR4としてはアシルオキシ、例えば塩素、
臭素、ヨウ素またはフツ素等のハロゲン、アジド
等のような酸残基が挙げられるが、「アシルオキ
シ」のアシル部分は前に例示したものと同じもの
を挙げることができる。 目的化合物()の好ましい例を次に示す。 R1の好ましい例はアミノまたはアシルアミノ
(さらに好ましくは低級アルカノイルアミノ); R2の好ましい例は低級アルキル、低級アルキ
ニル、カルボキシ(低級)アルキルまたはエステ
ル化されたカルボキシ(低級)アルキル〔さらに
好ましくは低級アルコキシカルボニル(低級)ア
ルキル〕; R3の好ましい例はアミノまたはアシルアミノ
(さらに好ましくは低級アルカノイルアミノ);お
よび Xの好ましい例は水素またはハロゲン(さらに
好ましくは塩素または臭素)である。 この発明の目的化合物()の製造法1および
2を以下詳細に説明する。 (1) 製造法1 目的化合物()またはその塩類は、化合物
()またはその塩類を化合物()またはその
塩類と反応させることにより製造することができ
る。 化合物()の適当な塩としては、化合物
()について例示したものと同じ塩類を挙げる
ことができる。 化合物()の適当な塩としては、化合物
()について例示した酸付加塩と同じものを挙
げることができる。 この反応は水、リン酸塩緩衝液、アセトン、ク
ロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、
塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、メタノール、エタノール、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホ
キシド等のような溶媒中で行なうことができる
が、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその
他のいかなる有機溶媒をも使用することができ、
特に好ましくは強い極性を有する溶媒が用いられ
る。 上記溶媒中、親水性溶媒は水と混合して使用し
てもよい。反応は好ましくは中性付近で行なわれ
る。化合物()が遊離の形で用いられる場合に
は、塩基、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカ
リ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩のような
無機塩基、トリアルキルアミンのような有機塩基
等の存在下に反応を行なうことが好ましい。反応
温度は特に限定されず、通常は室温、加温下また
は加熱下の範囲で反応が行なわれる。この反応は
好ましくは、例えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カ
リウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、チオシア
ン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等のアル
カリ金属チオシアン酸塩等の存在下に行なわれ
る。 製造法 2 化合物(b)またはその塩類は、化合物(
a)またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に
付すことによつて製造することができる。 この脱離反応の方法としては、加水分解、環
元、イミノハロゲン化およびイミノエーテル化を
行ない要すれば引続いて加水分解を行なう組合わ
せ法等が挙げられる。 (i) 加水分解 加水分解は酸の存在下に行なうことが望まし
い。 適当な酸としては、例えば塩酸、臭化水素
酸、硫酸等の無機酸、例えばギ酸、トリフルオ
ロ酢酸、プロピオン酸、ベンゼンスルホン酸、
P−トルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イオ
ン交換樹脂等がその例として挙げられる。この
反応において、トリフルオロ酢酸およびP−ト
ルエンスルホン酸のような有機酸を使用する場
合、反応は好ましくは、例えばアニソール等の
カチオン捕捉剤の存在下に行なわれる。 この加水分解反応に使用される酸は、脱離す
べき保護基の種類によつてその都度適宜選択さ
れ、例えばこの加水分解は好ましくは、置換も
しくは非置換低級アルコキシカルボニル、置換
もしくは非置換低級アルカノイルのようなR1 a
のアミノ保護基に適用される。 加水分解は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、第三級ブチルアルコール、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルム
アミド、ジオキサンのような反応に悪影響を及
ぼさない常用の溶媒またはそれらの混合物中で
行なわれるが、さらにまた前記の酸が液状であ
る場合にはこれらの酸を溶媒として用いること
もできる。 反応温度は特に限定されず、通常冷却下ない
し若干加温する程度の温度範囲で反応が行なわ
れる。 (ii) 還元 還元は化学的還元および接触還元を含む慣用
の方法で行なわれる。 化学的還元に使用される適当な還元剤として
は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例え
ば塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、
例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオ
ロ酢酸、P−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化
水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせが
挙げられる。 接触還元に使用される適当な触媒は、例えば
白金板、白金海綿、白金黒コロイド白金、酸化
白金、白金線等の白金触媒、例えばパラジウム
海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジ
ウム−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等
のパラジウム触媒、例えば還元ニツケル、酸化
ニツケル、ラネ−ニツケル等のニツケル触媒、
例えば還元コバルト、ラネ−コバルト等のコバ
ルト触媒、例えば還元鉄、ラネー鉄等の鉄触
媒、例えば還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の
銅触媒等のような慣用触媒である。 還元法は脱離すべき保護基の種類に応じて適
宜選択することができ、例えば、化学的還元は
ハロ(低級)アルコキシカルボニル等のような
R1 aのアミノ保護基に適用することが好ましく、
接触還元は置換もしくは非置換アル(低級)ア
ルコキシカルボニル等のようなアミノ保護基の
脱離に適用することが望ましい。 還元は通常、水、メタノール、エタノール、
プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド
のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒
またはそれらの混合物中で行なわれる。 さらに、化学的還元において、前記酸が液状
である場合には、これらの酸を溶媒として使用
することもできる。またさらに接触還元におい
て、前記溶媒の他ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のような常用の溶媒
またはそれらの混合物も使用することができ
る。 この還元反応の反応温度は特に限定されず、
通常は冷却下ないし加温下の範囲で反応が行な
われる。 (iii) イミノハロゲン化(第1工程)、次いでイミ
ノエーテル化(第2工程)、引続いて要すれば
加水分解(最終工程)を行なう組合わせ法 この方法の第1工程および第2工程は好ましく
は無水溶媒系で行なわれる。第1工程すなわちイ
ミノハロゲン化に用いる適当な溶媒は塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のような非プロトン系
の溶媒であり、第2工程すなわちイミノエーテル
化にも通常は上記第1工程と同じ溶媒が用いられ
る。これらの二つの工程はいずれも冷却下ないし
常温の範囲で行なわれる。これらの二つの工程お
よび最終工程すなわち加水分解工程は1−バツチ
システムで行なうと最も有利である。 適当なイミノハロゲン化剤としては、例えば三
塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、五臭化リ
ン、オキシ塩化リン等のリン−ハロゲン化合物、
塩化チオニル、ホスゲン等のようなハロゲン化剤
が挙げられる。 適当なイミノエーテル化剤としては、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール等のアルカノール、または
アルコキシ基を有するこれらと対応するアルカノ
ール例えば2−メトキシエタノール、2−エトキ
シエタノール等、ならびに例えばナトリウムメト
キシド、カリウムエトキシド、マグネシウムエト
キシド、リチウムメトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシドまたはアルカリ土類金属アルコキシド
等が挙げられる。 得られた反応生成物は必要な場合には、常法に
よつて加水分解される。 加水分解は好ましくは常温ないし冷却下の範囲
で行なわれ、反応混合物を水または、水分を含む
かまたは水と混合した例えばメタノール、エタノ
ール等のアルコールのような親水性溶媒中に単に
注ぐだけで進行するが、必要に応じて酸または塩
基を加えて反応を行なう。 好ましい酸としては、前記(i)項の加水分解の説
明で例示したものと同じ酸を使用することがで
き、適当な塩基の例としては、例えばリチウム、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、例えば
カルシウム等のアルカリ土類金属、例えば水素化
ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、例えば水
素化カルシウム等のアルカリ土類金属水素化物、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ
金属炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシ
ド等のアルカリ金属アルコキシド、例えばトリエ
チルアミン等のトリアルキルアミン、例えばピリ
ジン、ルチジン、ピコリン等のピリジン化合物、
キノリン等が挙げられる。 この発明においては、R2の遊離カルボキシ基
および/またはR3の保護されたアミノ基がこの
脱離反応中およびの脱離反応の後処理中に、保護
されたカルボキシ基および/または遊離アミノ基
に変化する場合もこの発明の範囲内に包含され
る。 前記製造法1および2の反応および/または反
応の後処理において原料化合物または目的化合物
が一つの幾何異性構造を有する場合、他の幾何異
性構造に変化することがありうるが、そのような
場合もまたこの発明の範囲内に包含される。 目的化合物()が遊離カルボキシ基または遊
離アミノ基を有する場合、慣用の方法によつてこ
れを塩類に変化させることができる。 この発明の目的化合物()およびその塩類は
新規化合物であり、グラム陽性菌おおよびグラム
陰性菌を含む広範囲の病原菌の発育を阻止する高
い抗菌活性を示し、抗性物質として有用である。 目的化合物()の有用性を示すために、この
発明の代表的化合物の試験管内抗菌活性試験デー
タを以下に示す。 〔試験〕:試験管内抗菌活性 試験化合物 7−〔2−メトキシアミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(3−
アミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セフエム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。 (以下化合物Aと呼称) 試験法 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内攻
菌活性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス(菌数108/
ml)中で一夜培養した試験菌株の1白金耳を、各
濃度の試験化合物を含むハート・インフユージヨ
ン・アガー(HI寒天)に接種し、37℃で20時間
培養した後、最低発育阻止濃度(MIC)をμ
g/ml単位で測定した。 試験結果
びに原料化合物()については、前記目的化合
物および原料化合物にはシン異性体、アンチ異性
体およびそれらの混合物が包含されるものとす
る。例えば目的化合物()について説明すれ
ば、シン異性体は式: 〔式中、R3,R2およびXはそれぞれ前と同じ意
味〕で示される部分構造を有する一つの幾何異性
体と意味し、アンチ異性体は式: 〔式中、R1,R2およびXはそれぞれ前と同じ意
味〕で示される部分構造を有する他の一つの幾何
異性体を意味する。 化合物()以外の目的化合物および原料化合
物の場合にも、それらのシン異性体およびアンチ
異性体もまた、化合物()の場合と同じ幾何異
性構造で示される。 目的化合物()の塩類として適当なものは慣
用の無毒性塩であり、その例としては、例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との
塩;例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,
N′−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩
基との塩;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、リン酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、
酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等の有機カルボ
ン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩;例えば
アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との
塩等のような塩基との塩または酸付加塩が挙げら
れる。 この発明の前記記載および以下の記載におい
て、その範囲内に包含される種々の定義の適切な
例と説明とを以下詳細に述べる。 この明細書における「低級」とは特別の指示が
なければ炭素原子1〜6個を有する基を意味す
る。 「保護されたアミノ基」における適当な「アミ
ノ保護基」としては、ペニシリンおよびセフアロ
スポリン化合物に使用された慣用の保護基、その
例として例えば後に説明するアシル、例えばベン
ジル、フエネチル、ベンズヒドリル、トリチル等
のモノ(またはジまたはトリ)フエニル(低級)
アルキル、例えば1−メトキシカルボニル−1−
プロペン−2−イル等のの低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキリデンまたはそのエナミン型
互変異性体、例えばジメチルアミノメチレン等の
ジ(低級)アルキルアミノメチレン等が挙げられ
る。 適当な「アシル」としては脂肪族アシル、芳香
族アシル、複素環アシル、および芳香族基または
複素環基で置換された脂肪族アシルが挙げられ
る。 脂肪族アシルとしては、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノ
イル等の低級アルカノイル、例えばメシル、エタ
ンスルホニル、プロパンスルホニル等の低級アル
カンスルホニル、例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニルブトキ
シカルボニル、第三級ブトキシカルボニル等の低
級アルコキシカルボニル、例えばアクリロイル、
メタクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノ
イル、例えばシクロヘキサンカルボニル等の
(C3〜C7)−シクロアルカンカルボニル等のよう
な飽和または不飽和の非環式または環式アシルが
挙げられる。 芳香族アシルの例としては、例えばベンゾイ
ル、トルオイル、キシロイル等のアロイル、例え
ばベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンスル
ホニル等が挙げられる。 複素環アシルとしては、例えばフロイル、テノ
イル、ニコチノイル、イソニコチノイル、チアゾ
リルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、テ
トラゾリルカルボニル等の複素環カルボニルがそ
の例として挙げられる。 芳香族基によつて置換された脂肪族アシルの例
としては、例えばフエニルアセチル、フエニルプ
ロピオニル、フエニルヘキサノイル等のフエニル
(低級)アルカノイル、例えばベンジルオキシカ
ルボニル、フエネチルオキシカルボニル等のフエ
ニル(低級)アルコキシカルボニル、例えばフエ
ノキシアセチル、フエノキシプロピオニル等のフ
エノキシ(低級)アルカノイル等が挙げられる。 複素環基によつて置換された脂肪族アシルとし
てはチエニルアセチル、イミダゾリルアセチル、
フリルアセチル、テトラゾリルアセチル、チアゾ
リルアセチル、チアジアゾリルアセチル、チエニ
ルプロピオニル、チアジアゾリルプロピオニル等
がその例として挙げられる。 これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の低級アルキル、例えば塩素、臭
素、ヨウ素、フツ素等のハロゲン、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低
級アルコキシ、例えばメチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、
ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチ
オ、ニトロ等のような1個以上の適当な置換基で
置換されていてもよいが、そのような置換基を有
する好ましいアシルの例としては、例えばクロロ
アセチル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、
トリフルオロアセチル等のモノ(またはジまたは
トリ)ハロ(低級)アルカノイル、例えばクロロ
メトキシカルボニル、ジクロロメトキシカルボニ
ル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)ア
ルコキシカルボニル、例えばニトロベンジルオキ
シカルボニル、クロロベンジルオキシカルボニ
ル、メトキシベンジルオキシカルボニル等のニト
ロ(またはハロまたは低級アルコキシ)フエニル
(低級)アルコキシカルボニル等が挙げられる。 以上定義したアミノ保護基の好ましい例として
は低級アルカノイルである。 適当な「低級アルキル」ならびに「カルボキシ
(低級)アルキル」および「保護されたカルボキ
シ(低級)アルキル」における適当な「低級アル
キル部分」の例としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げ
られる。 適当な「低級アルキニル」としては、例えばエ
チニル、プロパルギル、1または2または3−ブ
チニル、1または2または3または4−ペンチニ
ル、1または2または3または4または5−ヘキ
シニル等が挙げられる。 「保護されたカルボキシ(低級)アルキル」に
おける適当な「保護されたカルボキシ部分」とし
てはエステル化されたカルボキシ基が挙げられ
る。 「エステル化されたカルボキシ基」の適当な
「エステル部分」の例としては、例えばメチルエ
ステル、エチルエステル、プロピルエステル、イ
ソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチ
ルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエ
ステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエス
テル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエ
ステル、アリルエステル等の低級アルケニルエス
テル、例えばエチニルエステル、プロピニルエス
テル等の低級アルキルエステル、例えばメトキシ
メチルエステル、エトキシメチルエステル、イソ
プロポキシメチルエステル、1−メトキシエチル
エステル、1−エトキシエチルエステル等の低級
アルコキシ(低級)アルキルエステル、例えばメ
チルチオメチルエステル、エチルチオメチルエス
テル、エチルチオエチルエステル、イソプロピル
チオメチルエステル等の低級アルキルチオ(低
級)アルキルエステル、例えば2−アミノ−2−
カルボキシエチルエステル、3−アミノ−3−カ
ルボキシプロピルエステル等のアミノ−およびカ
ルボキシ置換低級アルキルエステル、例えば2−
第三級ブトキシカルボニルアミノ−2−ベンズヒ
ドリルオキシカルボニルエチルエステル、3−第
三級ブトキシカルボニルアミノ−3−ベンズヒド
リルオキシカルボニルプロピルエステル等の低級
アルコキシカルボニルアミノおよびモノ(または
ジまたはトリ)−フエニル(低級)アルコキシカ
ルボニル置換低級アルキルエステルのような保護
されたアミノおよび保護されたカルボキシ置換低
級アルキルエステル、例えば2−ヨウ化エチルエ
ステル、2,2,2−トリクロロエチルエステル
等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)ア
ルキルエステル、例えばアセトキシメチルエステ
ル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリ
ルオキシメチルエステル、イソブチリルオキシメ
チルエステル、バレリルオキシメチルエステル、
ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイル
オキシメチルエステル、2−アセトキシエチルエ
ステル、2−プロピオニルオキシエチルエステ
ル、1−アセトキシプロピルエステル等の低級ア
ルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル、例
えばメシルメチルエステル、2−メシルエチルエ
ステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アル
キルエステル、例えばベンジルエステル、4−メ
トキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエ
ステル、フエネチルエステル、ベンズヒドリルエ
ステル、トリチルエステル、ビス(メトキシフエ
ニル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベン
ジルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第
三級ブチルベンジルエステル等の1個以上の適当
な置換基を有していてもよいモノ(またはジまた
はトリ)フエニル(低級)アルキルエステルのよ
うな1個以上の置換基を有していてもよいアル
(低級)アルキルエステル、例えばフエニルエス
テル、トリルエステル、第三級ブチルフエニルエ
ステル、キシリルエステル、メシチルエステル、
クメニルエステル、サリチルエステル等の1個以
上の置換基を有していてもよいアリールエステ
ル、例えばフタリジルエステル等の複素環エステ
ル等が挙げられる。 適当な「ハロゲン」としては塩素、臭素、ヨウ
素またはフツ素が挙げられるが、好ましい例は塩
素または臭素である。 適当なR4としてはアシルオキシ、例えば塩素、
臭素、ヨウ素またはフツ素等のハロゲン、アジド
等のような酸残基が挙げられるが、「アシルオキ
シ」のアシル部分は前に例示したものと同じもの
を挙げることができる。 目的化合物()の好ましい例を次に示す。 R1の好ましい例はアミノまたはアシルアミノ
(さらに好ましくは低級アルカノイルアミノ); R2の好ましい例は低級アルキル、低級アルキ
ニル、カルボキシ(低級)アルキルまたはエステ
ル化されたカルボキシ(低級)アルキル〔さらに
好ましくは低級アルコキシカルボニル(低級)ア
ルキル〕; R3の好ましい例はアミノまたはアシルアミノ
(さらに好ましくは低級アルカノイルアミノ);お
よび Xの好ましい例は水素またはハロゲン(さらに
好ましくは塩素または臭素)である。 この発明の目的化合物()の製造法1および
2を以下詳細に説明する。 (1) 製造法1 目的化合物()またはその塩類は、化合物
()またはその塩類を化合物()またはその
塩類と反応させることにより製造することができ
る。 化合物()の適当な塩としては、化合物
()について例示したものと同じ塩類を挙げる
ことができる。 化合物()の適当な塩としては、化合物
()について例示した酸付加塩と同じものを挙
げることができる。 この反応は水、リン酸塩緩衝液、アセトン、ク
ロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、
塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、メタノール、エタノール、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホ
キシド等のような溶媒中で行なうことができる
が、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその
他のいかなる有機溶媒をも使用することができ、
特に好ましくは強い極性を有する溶媒が用いられ
る。 上記溶媒中、親水性溶媒は水と混合して使用し
てもよい。反応は好ましくは中性付近で行なわれ
る。化合物()が遊離の形で用いられる場合に
は、塩基、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカ
リ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩のような
無機塩基、トリアルキルアミンのような有機塩基
等の存在下に反応を行なうことが好ましい。反応
温度は特に限定されず、通常は室温、加温下また
は加熱下の範囲で反応が行なわれる。この反応は
好ましくは、例えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カ
リウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、チオシア
ン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等のアル
カリ金属チオシアン酸塩等の存在下に行なわれ
る。 製造法 2 化合物(b)またはその塩類は、化合物(
a)またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に
付すことによつて製造することができる。 この脱離反応の方法としては、加水分解、環
元、イミノハロゲン化およびイミノエーテル化を
行ない要すれば引続いて加水分解を行なう組合わ
せ法等が挙げられる。 (i) 加水分解 加水分解は酸の存在下に行なうことが望まし
い。 適当な酸としては、例えば塩酸、臭化水素
酸、硫酸等の無機酸、例えばギ酸、トリフルオ
ロ酢酸、プロピオン酸、ベンゼンスルホン酸、
P−トルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イオ
ン交換樹脂等がその例として挙げられる。この
反応において、トリフルオロ酢酸およびP−ト
ルエンスルホン酸のような有機酸を使用する場
合、反応は好ましくは、例えばアニソール等の
カチオン捕捉剤の存在下に行なわれる。 この加水分解反応に使用される酸は、脱離す
べき保護基の種類によつてその都度適宜選択さ
れ、例えばこの加水分解は好ましくは、置換も
しくは非置換低級アルコキシカルボニル、置換
もしくは非置換低級アルカノイルのようなR1 a
のアミノ保護基に適用される。 加水分解は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、第三級ブチルアルコール、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルム
アミド、ジオキサンのような反応に悪影響を及
ぼさない常用の溶媒またはそれらの混合物中で
行なわれるが、さらにまた前記の酸が液状であ
る場合にはこれらの酸を溶媒として用いること
もできる。 反応温度は特に限定されず、通常冷却下ない
し若干加温する程度の温度範囲で反応が行なわ
れる。 (ii) 還元 還元は化学的還元および接触還元を含む慣用
の方法で行なわれる。 化学的還元に使用される適当な還元剤として
は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例え
ば塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、
例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオ
ロ酢酸、P−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化
水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせが
挙げられる。 接触還元に使用される適当な触媒は、例えば
白金板、白金海綿、白金黒コロイド白金、酸化
白金、白金線等の白金触媒、例えばパラジウム
海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジ
ウム−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等
のパラジウム触媒、例えば還元ニツケル、酸化
ニツケル、ラネ−ニツケル等のニツケル触媒、
例えば還元コバルト、ラネ−コバルト等のコバ
ルト触媒、例えば還元鉄、ラネー鉄等の鉄触
媒、例えば還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の
銅触媒等のような慣用触媒である。 還元法は脱離すべき保護基の種類に応じて適
宜選択することができ、例えば、化学的還元は
ハロ(低級)アルコキシカルボニル等のような
R1 aのアミノ保護基に適用することが好ましく、
接触還元は置換もしくは非置換アル(低級)ア
ルコキシカルボニル等のようなアミノ保護基の
脱離に適用することが望ましい。 還元は通常、水、メタノール、エタノール、
プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド
のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒
またはそれらの混合物中で行なわれる。 さらに、化学的還元において、前記酸が液状
である場合には、これらの酸を溶媒として使用
することもできる。またさらに接触還元におい
て、前記溶媒の他ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のような常用の溶媒
またはそれらの混合物も使用することができ
る。 この還元反応の反応温度は特に限定されず、
通常は冷却下ないし加温下の範囲で反応が行な
われる。 (iii) イミノハロゲン化(第1工程)、次いでイミ
ノエーテル化(第2工程)、引続いて要すれば
加水分解(最終工程)を行なう組合わせ法 この方法の第1工程および第2工程は好ましく
は無水溶媒系で行なわれる。第1工程すなわちイ
ミノハロゲン化に用いる適当な溶媒は塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のような非プロトン系
の溶媒であり、第2工程すなわちイミノエーテル
化にも通常は上記第1工程と同じ溶媒が用いられ
る。これらの二つの工程はいずれも冷却下ないし
常温の範囲で行なわれる。これらの二つの工程お
よび最終工程すなわち加水分解工程は1−バツチ
システムで行なうと最も有利である。 適当なイミノハロゲン化剤としては、例えば三
塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、五臭化リ
ン、オキシ塩化リン等のリン−ハロゲン化合物、
塩化チオニル、ホスゲン等のようなハロゲン化剤
が挙げられる。 適当なイミノエーテル化剤としては、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール等のアルカノール、または
アルコキシ基を有するこれらと対応するアルカノ
ール例えば2−メトキシエタノール、2−エトキ
シエタノール等、ならびに例えばナトリウムメト
キシド、カリウムエトキシド、マグネシウムエト
キシド、リチウムメトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシドまたはアルカリ土類金属アルコキシド
等が挙げられる。 得られた反応生成物は必要な場合には、常法に
よつて加水分解される。 加水分解は好ましくは常温ないし冷却下の範囲
で行なわれ、反応混合物を水または、水分を含む
かまたは水と混合した例えばメタノール、エタノ
ール等のアルコールのような親水性溶媒中に単に
注ぐだけで進行するが、必要に応じて酸または塩
基を加えて反応を行なう。 好ましい酸としては、前記(i)項の加水分解の説
明で例示したものと同じ酸を使用することがで
き、適当な塩基の例としては、例えばリチウム、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、例えば
カルシウム等のアルカリ土類金属、例えば水素化
ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、例えば水
素化カルシウム等のアルカリ土類金属水素化物、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ
金属炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシ
ド等のアルカリ金属アルコキシド、例えばトリエ
チルアミン等のトリアルキルアミン、例えばピリ
ジン、ルチジン、ピコリン等のピリジン化合物、
キノリン等が挙げられる。 この発明においては、R2の遊離カルボキシ基
および/またはR3の保護されたアミノ基がこの
脱離反応中およびの脱離反応の後処理中に、保護
されたカルボキシ基および/または遊離アミノ基
に変化する場合もこの発明の範囲内に包含され
る。 前記製造法1および2の反応および/または反
応の後処理において原料化合物または目的化合物
が一つの幾何異性構造を有する場合、他の幾何異
性構造に変化することがありうるが、そのような
場合もまたこの発明の範囲内に包含される。 目的化合物()が遊離カルボキシ基または遊
離アミノ基を有する場合、慣用の方法によつてこ
れを塩類に変化させることができる。 この発明の目的化合物()およびその塩類は
新規化合物であり、グラム陽性菌おおよびグラム
陰性菌を含む広範囲の病原菌の発育を阻止する高
い抗菌活性を示し、抗性物質として有用である。 目的化合物()の有用性を示すために、この
発明の代表的化合物の試験管内抗菌活性試験デー
タを以下に示す。 〔試験〕:試験管内抗菌活性 試験化合物 7−〔2−メトキシアミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(3−
アミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セフエム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。 (以下化合物Aと呼称) 試験法 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内攻
菌活性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス(菌数108/
ml)中で一夜培養した試験菌株の1白金耳を、各
濃度の試験化合物を含むハート・インフユージヨ
ン・アガー(HI寒天)に接種し、37℃で20時間
培養した後、最低発育阻止濃度(MIC)をμ
g/ml単位で測定した。 試験結果
【表】
この発明の目的化合物()またはその塩類を
治療の目的で投与するにあたつては、上記化合物
を主成分として含み、これに医療上許容される担
体、例えば経口、非経口、または外用に適した有
機もしくは無機、固体もしくは荷体の賦形薬を加
えた慣用製剤の形で投与できる。このような製剤
としては、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル等の固
体、および液剤、けんだく剤、シロツプ、乳剤、
レモネード等の液体が含まれる。 さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、
安定剤、湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タ
ルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチレ
ングリコール等の繁用される添加物を含有させる
ことができる。 化合物()の投与量は、患者の年令、状態、
疾病の種類、および投与化合物()の種類によ
り異なるが、一般に1日当り1mgないし約4000mg
またはそれ以上の量を患者に投与できる。1回の
平均投与量としては、この発明の目的化合物
()約50mg、100mg、250mg、500mg、1000mg、
2000mgを、病原性微生物による疾病の治療に用い
ることができる。 以下この発明を製造例および実施例に従つて説
明する。 製造例 1 オキシ塩化リン(16.0g)およびN,N−ジメ
チルホルムアミド(7.63g)から常法によつて調
製したビルスマイマー試薬の酢酸エチル(190ml)
溶液に、2−第三級ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)酢酸(シン異性体)(19.09g)を氷浴中
で冷却しながら5℃で撹拌下に加え、さらに5〜
8℃で40分間撹拌して活性酸溶液を得た。一方別
に、7−アミノセフアロスポラン酸(17.71g)
とトリメチルシリルアセトアミド(61g)の塩化
メチレン(260ml)溶液を室温で撹拌しながら調
製し、−20℃に冷却した。この冷却液に上記活性
酸溶液を加え、混合物を−12〜−8℃で40分間撹
拌した。反応混合物を炭酸水素ナトリウム(40
g)の水溶液(400ml)中に注ぎ、塩化メチレン
を留去した。水溶液を酢酸エチルで洗浄した後、
6N塩酸でPH3に調製し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、活性炭処理した後、溶媒を留去した。湿潤し
ている残渣をジイソプロピルエーテル中で紛砕し
て7−〔2−第三級ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)アセトアミド〕セフアロスポラン酸(シ
ン異性体)(33.85g)を得た。融点85〜90℃。 IR(ヌジヨール):3450,3250,1785,1730,
1680,1540cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.45(9H,s),2.03
(3H,s),3.60(2H,m),4.62(2H,s),
4.67および5.07(2H,ABq,J=14Hz),5.20
(1H,d,J=5Hz),5.85(1H,dd,J=
5および8Hz),7.43(1H,s),8.48(1H,
s),9.55(1H,d,J=8Hz) 製造例 2 製造例1の方法に準じて下記の化合物を得た。 (1) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸(シン異性
体)、融点85〜90℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3450,3250,3050,1780,
1720,1670,1650,1540cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.00(3H,s),3.43
(1H,t,J=2Hz),3.55(2H,ブロード
s),4.73(2H,d,J=2Hz),4.77および
5.12(2H,ABq,J=13Hz),5.18(1H,d,
J=5Hz),5.78(1H,dd,J=5および8
Hz),7.40(1H,s),8.47(1H,s),9.70
(1H,d,J=8Hz),12.57(1H,ブロード
s) (2) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルム
アミド−5−クロロチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸(シン異性
体)、融点155〜159℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3500,3200,3050,1780,
1740,1680,1650,1540cm-1 NRM(AMSO−d6,δ):2.03(3H,s),3.57
(2H,ブロードs),3.93(3H,s),4.68お
よび5.05(2H,ABq,J=13Hz),5.17(1H,
d,J=1Hz),5.83(1H,dd,J=5およ
び8Hz),8.52(1H,s),9.63(1H,d,J
=8Hz),12.85(1H,ブロードs) 製造例 3 7−〔2−第三級ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)アセトアミド〕セフアロスポラン酸(シ
ン異性体)(19g)とアニソール(23ml)とのト
リフルオロ酢酸(123ml)中混合物を室温で50分
間撹拌した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルと
炭酸水素ナトリウム水溶液との混合物に溶解し
た。 混合物を1N塩酸でPH4に調整し、水層を分離
して取つた。この水溶液に酢酸エチルを加え、混
合物を1N塩酸でPH1.5に調整した後、酢酸エチル
で抽出した。この抽出液を塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、活性炭処理した後、蒸発乾
固した。残渣をジエチルエーテル中で紛砕した、
7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−(2−
ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕セフアロスポラン酸(シン異性体)(7.8g)
を得た。融点80〜85℃。 IR(ヌジヨール):3500,3200,1770,1750−
1630,1540cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):2.03(3H,s),
3.57(2H,m),4.70(2H,s),4.73および
4.97(2H,ABq,J=14Hz),5.18(1H,d,
J=5Hz),5.87(1H,d,J=5Hz),7.47
(1H,s),8.50(1H,s) 実施例 1 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)アセトアミド〕セフ
アロスポラン酸(シン異性体)(10.15g)、3−
ホルムアミドピリジン(4.7g)、ヨウ化ナトリウ
ム(37.2g)、リン酸(1.24g)、炭酸水素ナトリ
ウム(1.77g)、水(6.3ml)およびアセトニトリ
ル(19ml)よりなる混合物を70〜75℃で1.5時間
撹拌した。反応混合物を水(200ml)で希釈し、
6N塩酸でPH3に調整し、酢酸エチルで洗浄した。
溶液中の酢酸エチルを留去し、残渣を非イオン性
吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(商標、三菱
化成工業製)(305ml)を用いてカラムクロマトグ
ラフイーに付した。カラムを水洗した後、30%水
性メタノールで溶出した。目的化合物を含む画分
を集め、減圧下にメタノールを留去し、凍結乾燥
して、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホル
ムアミドチアゾール−4−イル)セフトアミド〕
−3−(3−ホルムアミド−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)(5.14g)を得た。融点157〜163℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3200,1770,1670,1600,
1540,1500cm-1 NMR(D2O+CD3OD,δ):3.20および3.72(2H,
ABq,J=18Hz),3.96(3H,s),5.26(1H,
d,J=5Hz),5.30および5.62(2H,ABq,
J=14Hz),5.84(1H,d,J=5Hz),7.36
(1H,s),8.0(1H,m),8.40(1H,s),
8.48(1H,s),8.20〜8.56(1H,m),8.72
(1H,m),9.48(1H,s) 実施例 2 実施例1の方法に準じて下記の化合物を得た。 (1) 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点160〜165℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3200,3100,1780,1720〜
1660,1590,1580〜1520,1500cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.15および3.65(2H,
ABq,J=18Hz),4.63(2H,ブロードs),
5.15(1H,d,J=5Hz),5.25および5.70
(2H,ABq,J=14Hz),5.80(1H,d,J
=5Hz),7.43(1H,s),7.90〜8.23(1H,
m),8.50(1H,s),8.33〜8.77(2H,m),
8.90(1H,m),9.45(1H,ブロードs) (2) 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点189〜193℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1560,1530,1510cm-1 (3) 7−〔2−メトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジ
ニオメチル)3−セフエム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、融点171〜175℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1590,1540,1510cm-1 (4) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点159〜163℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3250,1770,1670,1600,
1550,1500cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.03〜3.83(2H,
m),3.42(1H,t,J=2Hz),4.80(2H,
m),5.15(1H,d,J=5Hz),5.28および
5.78(2H,ABq,J=14Hz),5.78(1H,d,
J=5Hz),7.47(1H,s),7.93〜8.43(1H,
m),8.53(1H,s),8.40〜8.87(2H,m),
9.03(1H,m),9.57(1H,ブロードs) (5) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点175〜180℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3500〜3200,1770,1660〜
1590,1540,1510cm-1 (6) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
(3−アミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セ
フエム−4−カルボキシレート(シン異性体)、
融点185〜189℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1580,1530,1510cm-1 (7) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノ
−5−クロロチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点168〜172℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3350,3200,3050,1770,
1680〜1580,1540,1510cm-1 (8) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルム
アミド−5−クロロチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点153〜157℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3500,3200,3050,1780,
1680,1610,1550,1500cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.12および3.62
(2H,ABq,J=18Hz),3.88(3H,s),
5.10(1H,d,J=5Hz),5.10〜5.87(2H,
m),5.75(1H,d,J=5Hz),7.90〜8.38
(1H,m),8.43〜8.80(1H,m),8.50(2H,
ブロードs),8.98(1H,m),9.50(1H,ブ
ロードs) 実施例 3 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−(2
−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピリジニオ
メチル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(1.8g)と濃塩酸(0.9ml)とのメ
タノール(18ml)中混合物を室温で3時間撹拌し
た後、蒸発乾固した。残渣を水(50ml)に溶解
し、非イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−
20」(90ml)を用いてカラムクロマトグラフイー
に付した。カラムを水洗した後、20%、30%およ
び40%水性メタノールで溶出した。7−〔2−カ
ルボキシメトキシイミノ−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(3−ア
ミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セフエム−
4−キルボキシレート(シン異性体)を含む第1
画分を集め、減圧下にメタノールを留去し、凍結
乾燥して、該化合物(180mg)を得た。融点189〜
193℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1560,1530,1510cm-1 NMR(D2O+NaHCO3,δ):3.08および3.58
(2H,ABq,J=18Hz),4.53(2H,s),
5.23(1H,d,J=5Hz),5.03〜5.73(2H,
m),5.80(1H,d,J=5Hz),6.90(1H,
s),7.62(2H,m),8.02(1H,m),8.12
(1H,ブロードs) 7−〔2−メトキシカルボニルメトキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)を含む第2画分を上記と同様に処
理して粉末状物質(580mg〕を得た。この粉末状
物質(500mg)を炭酸水素ナトリウム水溶液に溶
解し、1N塩酸でPH4.5に調整して、非イオン性吸
着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(25ml)を用い
てカラムクロマトグラフイーに付した。カラムを
水および20%水性メタノールで洗浄した後、30%
および40%水性メタノールで溶出した。溶出液を
減圧蒸留してメタノールで留去し、凍結乾燥し
て、7−(2−メトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオ
メチル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(230mg)を得た。融点171〜175℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1590,1540,1510cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):2.95および3.48
(2H,ABq,J=18Hz),3.63(3H,s),
4.60(2H,s),5.02(1H,d,J=5Hz),
4.77〜5.50(2H,m),5.63(1H,d,J=5
Hz),6.72(1H,s),7.58(2H,m),8.23
(1H,m),8.40(1H,ブロードs) 実施例 4 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3
−(3−ホルムアミド−1−ピリジニオメチル)−
3−セフエム−4−カルボキシレート(シン異性
体)(4.4g)および濃塩酸(1.6ml)のメタノー
ル中混合物を室温で4時間撹拌した後、蒸発乾固
した。残渣を水(100ml)に溶解し、非イオン性
吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(160ml)を用
いてカラムクロマトグラフイーに付した。カラム
を水洗した後、20%水性メタノールで溶出した。
目的化合物を含む画分を集め、減圧下にメタノー
ルを留去した後、凍結乾燥して、7−〔2−メト
キシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)(2.3g)を得た。融点
185〜189℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1580,1530,1510cm-1 NMR(D2O+CD3OD,δ):3.10および3.65(2H,
ABq,J=18Hz),3.95(3H,s),5.10およ
び5.48(2H,ABq,J=14Hz),5.23(1H,
d,J=5Hz),5.83(1H,d,J=5Hz),
6.87(1H,s),7.70(2H,m),8.15(1H,
m),8.30(1H,ブロードs) 実施例 5 実施例4の方法に準じて下記の化合物を得た。 (1) 7−〔2−メトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジ
ニオメチル)−3−セフエム−4−カルボキシ
レール(シン異性体)、融点171〜175℃(分
解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1590,1540,1510cm-1 (2) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点175〜180℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3500〜3200,1770,1660〜
1590,1540,1510cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.23および3.68
(2H,ABq,J=18Hz),3.45(1H,t,J
=2Hz),4.82(2H,m),5.20(1H,d,J
=5Hz),5.13および5.62(2H,ABq,J=
14Hz),5.82(1H,d,J=5Hz),6.90(1H,
s),7.75(2H,m),8.37(1H,m),8.53
(1H,m) (3) 7−〔2−クロロチアゾール−2−(2−アミ
ノ−5−クロロチアゾール−4−イル)アセト
アミド〕−3−(3−アミノ−1−ピロジニオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)。融点168〜172℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3350,3200,3050,1770,
1680〜1580,1540,1510cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.10および3.12
(2H,ABq,J=18Hz),3.88(3H,s),
5.13(1H,d,J=5Hz),4.93〜5.70(2H,
m),5.77(1H,d,J=5Hz),7.70(2H,
m),8.53(1H,m),8.47(1H,ブロードs)
治療の目的で投与するにあたつては、上記化合物
を主成分として含み、これに医療上許容される担
体、例えば経口、非経口、または外用に適した有
機もしくは無機、固体もしくは荷体の賦形薬を加
えた慣用製剤の形で投与できる。このような製剤
としては、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル等の固
体、および液剤、けんだく剤、シロツプ、乳剤、
レモネード等の液体が含まれる。 さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、
安定剤、湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タ
ルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチレ
ングリコール等の繁用される添加物を含有させる
ことができる。 化合物()の投与量は、患者の年令、状態、
疾病の種類、および投与化合物()の種類によ
り異なるが、一般に1日当り1mgないし約4000mg
またはそれ以上の量を患者に投与できる。1回の
平均投与量としては、この発明の目的化合物
()約50mg、100mg、250mg、500mg、1000mg、
2000mgを、病原性微生物による疾病の治療に用い
ることができる。 以下この発明を製造例および実施例に従つて説
明する。 製造例 1 オキシ塩化リン(16.0g)およびN,N−ジメ
チルホルムアミド(7.63g)から常法によつて調
製したビルスマイマー試薬の酢酸エチル(190ml)
溶液に、2−第三級ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)酢酸(シン異性体)(19.09g)を氷浴中
で冷却しながら5℃で撹拌下に加え、さらに5〜
8℃で40分間撹拌して活性酸溶液を得た。一方別
に、7−アミノセフアロスポラン酸(17.71g)
とトリメチルシリルアセトアミド(61g)の塩化
メチレン(260ml)溶液を室温で撹拌しながら調
製し、−20℃に冷却した。この冷却液に上記活性
酸溶液を加え、混合物を−12〜−8℃で40分間撹
拌した。反応混合物を炭酸水素ナトリウム(40
g)の水溶液(400ml)中に注ぎ、塩化メチレン
を留去した。水溶液を酢酸エチルで洗浄した後、
6N塩酸でPH3に調製し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、活性炭処理した後、溶媒を留去した。湿潤し
ている残渣をジイソプロピルエーテル中で紛砕し
て7−〔2−第三級ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)アセトアミド〕セフアロスポラン酸(シ
ン異性体)(33.85g)を得た。融点85〜90℃。 IR(ヌジヨール):3450,3250,1785,1730,
1680,1540cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.45(9H,s),2.03
(3H,s),3.60(2H,m),4.62(2H,s),
4.67および5.07(2H,ABq,J=14Hz),5.20
(1H,d,J=5Hz),5.85(1H,dd,J=
5および8Hz),7.43(1H,s),8.48(1H,
s),9.55(1H,d,J=8Hz) 製造例 2 製造例1の方法に準じて下記の化合物を得た。 (1) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸(シン異性
体)、融点85〜90℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3450,3250,3050,1780,
1720,1670,1650,1540cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.00(3H,s),3.43
(1H,t,J=2Hz),3.55(2H,ブロード
s),4.73(2H,d,J=2Hz),4.77および
5.12(2H,ABq,J=13Hz),5.18(1H,d,
J=5Hz),5.78(1H,dd,J=5および8
Hz),7.40(1H,s),8.47(1H,s),9.70
(1H,d,J=8Hz),12.57(1H,ブロード
s) (2) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルム
アミド−5−クロロチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸(シン異性
体)、融点155〜159℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3500,3200,3050,1780,
1740,1680,1650,1540cm-1 NRM(AMSO−d6,δ):2.03(3H,s),3.57
(2H,ブロードs),3.93(3H,s),4.68お
よび5.05(2H,ABq,J=13Hz),5.17(1H,
d,J=1Hz),5.83(1H,dd,J=5およ
び8Hz),8.52(1H,s),9.63(1H,d,J
=8Hz),12.85(1H,ブロードs) 製造例 3 7−〔2−第三級ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)アセトアミド〕セフアロスポラン酸(シ
ン異性体)(19g)とアニソール(23ml)とのト
リフルオロ酢酸(123ml)中混合物を室温で50分
間撹拌した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルと
炭酸水素ナトリウム水溶液との混合物に溶解し
た。 混合物を1N塩酸でPH4に調整し、水層を分離
して取つた。この水溶液に酢酸エチルを加え、混
合物を1N塩酸でPH1.5に調整した後、酢酸エチル
で抽出した。この抽出液を塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、活性炭処理した後、蒸発乾
固した。残渣をジエチルエーテル中で紛砕した、
7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−(2−
ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕セフアロスポラン酸(シン異性体)(7.8g)
を得た。融点80〜85℃。 IR(ヌジヨール):3500,3200,1770,1750−
1630,1540cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):2.03(3H,s),
3.57(2H,m),4.70(2H,s),4.73および
4.97(2H,ABq,J=14Hz),5.18(1H,d,
J=5Hz),5.87(1H,d,J=5Hz),7.47
(1H,s),8.50(1H,s) 実施例 1 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)アセトアミド〕セフ
アロスポラン酸(シン異性体)(10.15g)、3−
ホルムアミドピリジン(4.7g)、ヨウ化ナトリウ
ム(37.2g)、リン酸(1.24g)、炭酸水素ナトリ
ウム(1.77g)、水(6.3ml)およびアセトニトリ
ル(19ml)よりなる混合物を70〜75℃で1.5時間
撹拌した。反応混合物を水(200ml)で希釈し、
6N塩酸でPH3に調整し、酢酸エチルで洗浄した。
溶液中の酢酸エチルを留去し、残渣を非イオン性
吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(商標、三菱
化成工業製)(305ml)を用いてカラムクロマトグ
ラフイーに付した。カラムを水洗した後、30%水
性メタノールで溶出した。目的化合物を含む画分
を集め、減圧下にメタノールを留去し、凍結乾燥
して、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホル
ムアミドチアゾール−4−イル)セフトアミド〕
−3−(3−ホルムアミド−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)(5.14g)を得た。融点157〜163℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3200,1770,1670,1600,
1540,1500cm-1 NMR(D2O+CD3OD,δ):3.20および3.72(2H,
ABq,J=18Hz),3.96(3H,s),5.26(1H,
d,J=5Hz),5.30および5.62(2H,ABq,
J=14Hz),5.84(1H,d,J=5Hz),7.36
(1H,s),8.0(1H,m),8.40(1H,s),
8.48(1H,s),8.20〜8.56(1H,m),8.72
(1H,m),9.48(1H,s) 実施例 2 実施例1の方法に準じて下記の化合物を得た。 (1) 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点160〜165℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3200,3100,1780,1720〜
1660,1590,1580〜1520,1500cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.15および3.65(2H,
ABq,J=18Hz),4.63(2H,ブロードs),
5.15(1H,d,J=5Hz),5.25および5.70
(2H,ABq,J=14Hz),5.80(1H,d,J
=5Hz),7.43(1H,s),7.90〜8.23(1H,
m),8.50(1H,s),8.33〜8.77(2H,m),
8.90(1H,m),9.45(1H,ブロードs) (2) 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点189〜193℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1560,1530,1510cm-1 (3) 7−〔2−メトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジ
ニオメチル)3−セフエム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、融点171〜175℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1590,1540,1510cm-1 (4) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点159〜163℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3250,1770,1670,1600,
1550,1500cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.03〜3.83(2H,
m),3.42(1H,t,J=2Hz),4.80(2H,
m),5.15(1H,d,J=5Hz),5.28および
5.78(2H,ABq,J=14Hz),5.78(1H,d,
J=5Hz),7.47(1H,s),7.93〜8.43(1H,
m),8.53(1H,s),8.40〜8.87(2H,m),
9.03(1H,m),9.57(1H,ブロードs) (5) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点175〜180℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3500〜3200,1770,1660〜
1590,1540,1510cm-1 (6) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
(3−アミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セ
フエム−4−カルボキシレート(シン異性体)、
融点185〜189℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1580,1530,1510cm-1 (7) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノ
−5−クロロチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点168〜172℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3350,3200,3050,1770,
1680〜1580,1540,1510cm-1 (8) 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルム
アミド−5−クロロチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点153〜157℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3500,3200,3050,1780,
1680,1610,1550,1500cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.12および3.62
(2H,ABq,J=18Hz),3.88(3H,s),
5.10(1H,d,J=5Hz),5.10〜5.87(2H,
m),5.75(1H,d,J=5Hz),7.90〜8.38
(1H,m),8.43〜8.80(1H,m),8.50(2H,
ブロードs),8.98(1H,m),9.50(1H,ブ
ロードs) 実施例 3 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−(2
−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−ホルムアミド−1−ピリジニオ
メチル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(1.8g)と濃塩酸(0.9ml)とのメ
タノール(18ml)中混合物を室温で3時間撹拌し
た後、蒸発乾固した。残渣を水(50ml)に溶解
し、非イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−
20」(90ml)を用いてカラムクロマトグラフイー
に付した。カラムを水洗した後、20%、30%およ
び40%水性メタノールで溶出した。7−〔2−カ
ルボキシメトキシイミノ−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(3−ア
ミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セフエム−
4−キルボキシレート(シン異性体)を含む第1
画分を集め、減圧下にメタノールを留去し、凍結
乾燥して、該化合物(180mg)を得た。融点189〜
193℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1560,1530,1510cm-1 NMR(D2O+NaHCO3,δ):3.08および3.58
(2H,ABq,J=18Hz),4.53(2H,s),
5.23(1H,d,J=5Hz),5.03〜5.73(2H,
m),5.80(1H,d,J=5Hz),6.90(1H,
s),7.62(2H,m),8.02(1H,m),8.12
(1H,ブロードs) 7−〔2−メトキシカルボニルメトキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)を含む第2画分を上記と同様に処
理して粉末状物質(580mg〕を得た。この粉末状
物質(500mg)を炭酸水素ナトリウム水溶液に溶
解し、1N塩酸でPH4.5に調整して、非イオン性吸
着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(25ml)を用い
てカラムクロマトグラフイーに付した。カラムを
水および20%水性メタノールで洗浄した後、30%
および40%水性メタノールで溶出した。溶出液を
減圧蒸留してメタノールで留去し、凍結乾燥し
て、7−(2−メトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオ
メチル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(230mg)を得た。融点171〜175℃
(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1590,1540,1510cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):2.95および3.48
(2H,ABq,J=18Hz),3.63(3H,s),
4.60(2H,s),5.02(1H,d,J=5Hz),
4.77〜5.50(2H,m),5.63(1H,d,J=5
Hz),6.72(1H,s),7.58(2H,m),8.23
(1H,m),8.40(1H,ブロードs) 実施例 4 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3
−(3−ホルムアミド−1−ピリジニオメチル)−
3−セフエム−4−カルボキシレート(シン異性
体)(4.4g)および濃塩酸(1.6ml)のメタノー
ル中混合物を室温で4時間撹拌した後、蒸発乾固
した。残渣を水(100ml)に溶解し、非イオン性
吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(160ml)を用
いてカラムクロマトグラフイーに付した。カラム
を水洗した後、20%水性メタノールで溶出した。
目的化合物を含む画分を集め、減圧下にメタノー
ルを留去した後、凍結乾燥して、7−〔2−メト
キシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピ
リジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)(2.3g)を得た。融点
185〜189℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1580,1530,1510cm-1 NMR(D2O+CD3OD,δ):3.10および3.65(2H,
ABq,J=18Hz),3.95(3H,s),5.10およ
び5.48(2H,ABq,J=14Hz),5.23(1H,
d,J=5Hz),5.83(1H,d,J=5Hz),
6.87(1H,s),7.70(2H,m),8.15(1H,
m),8.30(1H,ブロードs) 実施例 5 実施例4の方法に準じて下記の化合物を得た。 (1) 7−〔2−メトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジ
ニオメチル)−3−セフエム−4−カルボキシ
レール(シン異性体)、融点171〜175℃(分
解)。 IR(ヌジヨール):3300,3200,1770,1670〜
1590,1540,1510cm-1 (2) 7−〔2−プロパルギルオキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、融点175〜180℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3500〜3200,1770,1660〜
1590,1540,1510cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.23および3.68
(2H,ABq,J=18Hz),3.45(1H,t,J
=2Hz),4.82(2H,m),5.20(1H,d,J
=5Hz),5.13および5.62(2H,ABq,J=
14Hz),5.82(1H,d,J=5Hz),6.90(1H,
s),7.75(2H,m),8.37(1H,m),8.53
(1H,m) (3) 7−〔2−クロロチアゾール−2−(2−アミ
ノ−5−クロロチアゾール−4−イル)アセト
アミド〕−3−(3−アミノ−1−ピロジニオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)。融点168〜172℃(分解)。 IR(ヌジヨール):3350,3200,3050,1770,
1680〜1580,1540,1510cm-1 NMR(DMSO−d6+D2O,δ):3.10および3.12
(2H,ABq,J=18Hz),3.88(3H,s),
5.13(1H,d,J=5Hz),4.93〜5.70(2H,
m),5.77(1H,d,J=5Hz),7.70(2H,
m),8.53(1H,m),8.47(1H,ブロードs)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 [式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R2は低級アルキル、低級アルキニル、カルボキ
シ(低級アルキルまたは保護されたカルボキシ
(低級)アルキル、 R3はアミノまたは保護されたアミノ基、Xは水
素またはハロゲンをそれぞれ意味する]で示され
る新規セフエム化合物およびその塩類。 2 【式】で示される基が 【式】 で示される基である特許請求の範囲第1項記載の
化合物のシン異性体。 3 R1がアミノまたはアシルアミノ、 R2が低級アルキル、低級アルキニル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたはエステル化されたカル
ボキシ(低級)アルキル、 R3がアミノまたはアシルアミノである特許請求
の範囲第2項記載の化合物。 4 R1がアミノまたは低級アルカノイルアミノ、 R2が低級アルキル、低級アルキニル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたは低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキル、 R3がアミノまたは低級アルカノイルアミノであ
る特許請求の範囲第3項記載の化合物。 5 R1がアミノまたはホルムアミド、 R2がメチル、プロパルギル、カルボキシメチル
またはメトキシカルボニルメチル、 R3がアミノまたはホルムアミド、 Xが水素である特許請求の範囲第4項記載の化合
物。 6 7−[2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド]−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチル)
−3−セフエム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、 7−[2−メトキシカルボニルメトキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド]−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、 7−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(3−
アミノ−1−ピリジニオメチル)−3−セフエム
−4−カルボキシレート(シン異性体)、および 7−[2−プロパルギルオキシイミノ−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]
−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチル)3
−セフエム−4−カルボキシレート(シン異性
体)よりなる群から選ばれた特許請求の範囲第5
項記載の化合物。 7 R1がアミノまたはホルムアミド、 R2がメチル、 R3がアミノまたはホルムアミド、 Xが塩素である特許請求の範囲第4項記載の化合
物。 8 7−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノ
−5−クロロチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド]−3−(3−アミノ−1−ピリジニオメチル)
−3−セフエム−4−カルボキシレート(シン異
性体)である特許請求の範囲第7項記載の化合
物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8127664 | 1981-09-14 | ||
GB8127664 | 1981-09-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5859991A JPS5859991A (ja) | 1983-04-09 |
JPH0354111B2 true JPH0354111B2 (ja) | 1991-08-19 |
Family
ID=10524486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57155754A Granted JPS5859991A (ja) | 1981-09-14 | 1982-09-06 | 新規セフェム化合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4550102A (ja) |
EP (1) | EP0074645B1 (ja) |
JP (1) | JPS5859991A (ja) |
DE (1) | DE3275997D1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3207840A1 (de) * | 1982-03-04 | 1983-09-15 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | "cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung" |
US4690921A (en) * | 1983-10-11 | 1987-09-01 | Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin compounds and salts thereof |
DE3404906A1 (de) * | 1984-02-11 | 1985-08-14 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | 1-oxadethiacephalosporinderivate sowie verfahren zu ihrer herstellung |
DE3419014A1 (de) * | 1984-05-22 | 1985-11-28 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von 7-amino-3-(3-formamidopyridinium)methyl-3-cephem-4-carboxylat und verwendung zur synthese von ss-lactamantibiotika |
JPS6122089A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-30 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | セフエム化合物 |
DK500285A (da) * | 1984-11-02 | 1986-05-03 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporinantibiotika |
EP0554004A3 (en) * | 1992-01-27 | 1993-11-24 | Katayama Seisakusho | Cephem compounds and antibacterial agents |
US5929086A (en) * | 1996-05-10 | 1999-07-27 | Pharmacia & Upjohn Company | Topical administration of antimicrobial agents for the treatment of systemic bacterial diseases |
TWI335332B (en) | 2001-10-12 | 2011-01-01 | Theravance Inc | Cross-linked vancomycin-cephalosporin antibiotics |
TW200305422A (en) * | 2002-03-18 | 2003-11-01 | Shionogi & Co | Broad spectrum cefem compounds |
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EA028342B1 (ru) | 2011-09-09 | 2017-11-30 | Мерк Шарп И Доум Корп. | Способы лечения пневмонии |
US8809314B1 (en) | 2012-09-07 | 2014-08-19 | Cubist Pharmacueticals, Inc. | Cephalosporin compound |
US8476425B1 (en) | 2012-09-27 | 2013-07-02 | Cubist Pharmaceuticals, Inc. | Tazobactam arginine compositions |
US9872906B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-23 | Merck Sharp & Dohme Corp. | Ceftolozane antibiotic compositions |
NZ700372A (en) | 2013-03-15 | 2016-01-29 | Merck Sharp & Dohme | Ceftolozane antibiotic compositions |
US20140274997A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Cubist Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin pharmaceutical compositions |
EP3043797B1 (en) | 2013-09-09 | 2020-04-08 | Merck Sharp & Dohme Corp. | Treating infections with ceftolozane/tazobactam in subjects having impaired renal function |
US8906898B1 (en) | 2013-09-27 | 2014-12-09 | Calixa Therapeutics, Inc. | Solid forms of ceftolozane |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5612397A (en) * | 1979-05-25 | 1981-02-06 | Glaxo Group Ltd | Intermediate for manufacture of cephalosporin antibiotic |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
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DE3006888A1 (de) * | 1980-02-23 | 1981-09-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
GR75644B (ja) * | 1980-06-18 | 1984-08-02 | Fujisawa Pharmaceutical Co | |
DE3175156D1 (en) * | 1980-08-29 | 1986-09-25 | Fujisawa Pharmaceutical Co | New cephem compounds and processes for preparation thereof |
DE3118732A1 (de) * | 1981-05-12 | 1982-12-02 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
US4394503A (en) * | 1981-12-07 | 1983-07-19 | Bristol-Myers Company | Cephalosporin derivatives |
-
1982
- 1982-09-06 JP JP57155754A patent/JPS5859991A/ja active Granted
- 1982-09-08 US US06/415,910 patent/US4550102A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-11 EP EP82108384A patent/EP0074645B1/en not_active Expired
- 1982-09-11 DE DE8282108384T patent/DE3275997D1/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4849785A (ja) * | 1971-10-22 | 1973-07-13 | ||
JPS5612397A (en) * | 1979-05-25 | 1981-02-06 | Glaxo Group Ltd | Intermediate for manufacture of cephalosporin antibiotic |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4550102A (en) | 1985-10-29 |
EP0074645B1 (en) | 1987-04-08 |
EP0074645A3 (en) | 1984-06-13 |
JPS5859991A (ja) | 1983-04-09 |
EP0074645A2 (en) | 1983-03-23 |
DE3275997D1 (en) | 1987-05-14 |
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