JPH0349126B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0349126B2 JPH0349126B2 JP21598684A JP21598684A JPH0349126B2 JP H0349126 B2 JPH0349126 B2 JP H0349126B2 JP 21598684 A JP21598684 A JP 21598684A JP 21598684 A JP21598684 A JP 21598684A JP H0349126 B2 JPH0349126 B2 JP H0349126B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melting point
- groove
- point glass
- core
- low melting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 51
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 37
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 36
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 35
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 31
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特にVTR等に使用される磁気ヘツ
ドの製造方法に関する。
ドの製造方法に関する。
高性能オーデイオやVTR等に使用されている
従来の磁気ヘツドは、フエライト等の強磁性材か
らなる一対の直方体状コアブロツク同士間に、コ
アブロツク同士の接着剤を兼ねたギヤツプ形成用
の低融点ガラス例えばSiO2にPb成分を加えたガ
ラスを手細現象でギヤツプ形成用空間に注入充填
したり、又はコアブロツク同士間にガラス箔をス
ペーサとして介在させて加熱圧着したり、あるい
はコアブロツク上にスパツタリング等でガラス薄
膜を形成した後ガラス層を狭んで加熱圧着して、
コアブロツク同士を接合し、しかる後、コアブロ
ツクをその長手方向に所定間隔あけて切断するこ
とにより作られている。
従来の磁気ヘツドは、フエライト等の強磁性材か
らなる一対の直方体状コアブロツク同士間に、コ
アブロツク同士の接着剤を兼ねたギヤツプ形成用
の低融点ガラス例えばSiO2にPb成分を加えたガ
ラスを手細現象でギヤツプ形成用空間に注入充填
したり、又はコアブロツク同士間にガラス箔をス
ペーサとして介在させて加熱圧着したり、あるい
はコアブロツク上にスパツタリング等でガラス薄
膜を形成した後ガラス層を狭んで加熱圧着して、
コアブロツク同士を接合し、しかる後、コアブロ
ツクをその長手方向に所定間隔あけて切断するこ
とにより作られている。
しかしながらギヤツプに低融点ガラスを用いた
場合には、コアブロツク同士の圧着強度によつて
微妙にそのギヤツプ幅が変動するため、ギヤツプ
幅の寸法を正確に決められず、ギヤツプ幅の精度
向上を図りにくく、そのため磁気ヘツドの特性が
低下したものとなつている。
場合には、コアブロツク同士の圧着強度によつて
微妙にそのギヤツプ幅が変動するため、ギヤツプ
幅の寸法を正確に決められず、ギヤツプ幅の精度
向上を図りにくく、そのため磁気ヘツドの特性が
低下したものとなつている。
そこで、特開昭57−58219号に表わされている
ような磁気ヘツドが開発された。すなわちこの磁
気ヘツドは第４図に示すように２個の所定形状の
磁気コア３１ａ，３１ｂの突合せ面間に比較的高
軟化点の非磁性材をギヤツプ３２として配し、こ
の突合せ面の挾持面以外の部分において磁気コア
３１ａ，３１ｂ同士を比較的低軟化点の非磁性材
３３で接着している。３４は巻線用溝、３５は巻
線用溝３４を通して磁気コア３１ａに巻回された
コイルである。
ような磁気ヘツドが開発された。すなわちこの磁
気ヘツドは第４図に示すように２個の所定形状の
磁気コア３１ａ，３１ｂの突合せ面間に比較的高
軟化点の非磁性材をギヤツプ３２として配し、こ
の突合せ面の挾持面以外の部分において磁気コア
３１ａ，３１ｂ同士を比較的低軟化点の非磁性材
３３で接着している。３４は巻線用溝、３５は巻
線用溝３４を通して磁気コア３１ａに巻回された
コイルである。
しかしながら第４図に示す従来の磁気ヘツドに
おいては、巻回されたコイル３５が巻線用溝３４
の形成面角部においてこすれてコイル被膜が破損
する虞れがあり、しかも巻線用溝３４の形成面に
は何ら絶縁処理が施されていなかつたため、被膜
が破損したコイル３５と磁気コア３１ａとが巻線
用溝３４の角部にて電気的に接触して絶縁不良を
惹き起こし、磁気ヘツド自体の寿命を著しく短か
くするという問題があつた。
おいては、巻回されたコイル３５が巻線用溝３４
の形成面角部においてこすれてコイル被膜が破損
する虞れがあり、しかも巻線用溝３４の形成面に
は何ら絶縁処理が施されていなかつたため、被膜
が破損したコイル３５と磁気コア３１ａとが巻線
用溝３４の角部にて電気的に接触して絶縁不良を
惹き起こし、磁気ヘツド自体の寿命を著しく短か
くするという問題があつた。
また、磁気コア３１ａと磁気コア３１ｂの接着
はコア前面部の切欠き溝の低軟化点の非磁性材３
３のみで行なわれており、前面部だけの接着及び
接合面積が少ないため、接着後の所定トラツク幅
に切断加工する工程やテープ摺動面の円弧状に研
磨加工する工程において、接着ハガレやコア割れ
等の不良が多発するという問題があつた。
はコア前面部の切欠き溝の低軟化点の非磁性材３
３のみで行なわれており、前面部だけの接着及び
接合面積が少ないため、接着後の所定トラツク幅
に切断加工する工程やテープ摺動面の円弧状に研
磨加工する工程において、接着ハガレやコア割れ
等の不良が多発するという問題があつた。
本発明の目的は、かかる問題を解決し、所望幅
のギヤツプを持ち、しかも巻線用溝内のコイルの
波膜が破損しても磁気コアとコイルとが直接電気
的に接触しない、強固に結合した磁気ヘツドを製
造する方法を提供することにある。
のギヤツプを持ち、しかも巻線用溝内のコイルの
波膜が破損しても磁気コアとコイルとが直接電気
的に接触しない、強固に結合した磁気ヘツドを製
造する方法を提供することにある。
上記問題点を解決するための本発明は、磁性材
からなる一対の直方体状コアブロツクの突合せ面
において少なくとも一方のコアブロツク側にその
長手方向に巻線用溝を形成するとともに、該巻線
用溝に対し一側に位置する前記コアブロツクのそ
れぞれの突合せ部分にその長手方向に沿つて切欠
き溝を所定間隔あえて複数形成し、さらに少なく
とも一方のコアブロツクにおいて前記巻線用溝に
対し切欠き溝形成側と反対側の部分コアブロツク
の長手方向に補強用溝を形成しておき、該補強用
溝、巻線用溝および複数の切欠き溝内に低融点ガ
ラスを充填した後、前記巻線用溝内の低融点ガラ
ス部分を切削加工して該溝形成面上に薄厚の低融
点ガラス層を形成し、ついで一対のコアブロツク
の少なくとも一方のコアブロツクの突合せ面上に
ギヤツプ形成用の高融点ガラスを蒸着またはスパ
ツタリング等の手段により付着させ、しかる後一
対のコアブロツクを突合せ低融点ガラスの溶融温
度にて加熱処理することにより切欠き溝部及び補
強用溝部の両側より低融点ガラスにて一体化し、
その一体化物を前記切欠き溝毎にコアブロツクの
短手方向に切断して所望形状にすることを特徴と
する。
からなる一対の直方体状コアブロツクの突合せ面
において少なくとも一方のコアブロツク側にその
長手方向に巻線用溝を形成するとともに、該巻線
用溝に対し一側に位置する前記コアブロツクのそ
れぞれの突合せ部分にその長手方向に沿つて切欠
き溝を所定間隔あえて複数形成し、さらに少なく
とも一方のコアブロツクにおいて前記巻線用溝に
対し切欠き溝形成側と反対側の部分コアブロツク
の長手方向に補強用溝を形成しておき、該補強用
溝、巻線用溝および複数の切欠き溝内に低融点ガ
ラスを充填した後、前記巻線用溝内の低融点ガラ
ス部分を切削加工して該溝形成面上に薄厚の低融
点ガラス層を形成し、ついで一対のコアブロツク
の少なくとも一方のコアブロツクの突合せ面上に
ギヤツプ形成用の高融点ガラスを蒸着またはスパ
ツタリング等の手段により付着させ、しかる後一
対のコアブロツクを突合せ低融点ガラスの溶融温
度にて加熱処理することにより切欠き溝部及び補
強用溝部の両側より低融点ガラスにて一体化し、
その一体化物を前記切欠き溝毎にコアブロツクの
短手方向に切断して所望形状にすることを特徴と
する。
上記低融点ガラスは、絶縁性を持ち一対のコア
ブロツクの結合を強固にするものであつて、ギヤ
ツプを形成する高融点ガラスより融点が低いもの
であれば、その材質を特に問わない。例えば、高
融点ガラスとしてSiO2を用いた場合は、低融点
ガラスとしてSiO2にPb成分を加えたものを用い
る。
ブロツクの結合を強固にするものであつて、ギヤ
ツプを形成する高融点ガラスより融点が低いもの
であれば、その材質を特に問わない。例えば、高
融点ガラスとしてSiO2を用いた場合は、低融点
ガラスとしてSiO2にPb成分を加えたものを用い
る。
また本発明方法において、巻線用溝内に薄層と
して形成した低融点ガラスを巻線用溝の形成面に
均一に残させるため、前記一対のコアブロツクを
低融点ガラス溶着により一体化するとき、前記一
対のコアブロツクを回転させながら接合させるこ
とは好ましい。
して形成した低融点ガラスを巻線用溝の形成面に
均一に残させるため、前記一対のコアブロツクを
低融点ガラス溶着により一体化するとき、前記一
対のコアブロツクを回転させながら接合させるこ
とは好ましい。
以下本発明の実施例を図面により説明する。
第１図は本発明により製造された磁気ヘツド１
の一実施例を示す斜視図である。
の一実施例を示す斜視図である。
１ａ，１ｂは、略口字状をした磁気コア（以下
コアと呼称する）で、このコア１ａ，１ｂの中心
に記録及び再生時に該コア１ａ，１ｂに閉磁路が
形成されるように中空部２を設けている。コア１
ａ，１ｂの突合せ面間にはギヤツプ３が形成され
ている。ギヤツプ３はガラス層から成つており、
コア１ａ，１ｂは前記ガラス層とトラツク幅規制
用の切欠き溝５及び補強用溝６に充填されたガラ
ス７で溶着されている。コア１ａ，１ｂにおける
中空部２の形成壁面には前記切欠き溝５及び補強
用溝６に充填されたガラス７と同じガラスから成
る薄層７ａがほぼ均一に形成されており、コイル
９がこの中空部２を通して巻線用溝８を形成して
いる側のコア１ａに前記ガラス層７ａを介して巻
回されている。
コアと呼称する）で、このコア１ａ，１ｂの中心
に記録及び再生時に該コア１ａ，１ｂに閉磁路が
形成されるように中空部２を設けている。コア１
ａ，１ｂの突合せ面間にはギヤツプ３が形成され
ている。ギヤツプ３はガラス層から成つており、
コア１ａ，１ｂは前記ガラス層とトラツク幅規制
用の切欠き溝５及び補強用溝６に充填されたガラ
ス７で溶着されている。コア１ａ，１ｂにおける
中空部２の形成壁面には前記切欠き溝５及び補強
用溝６に充填されたガラス７と同じガラスから成
る薄層７ａがほぼ均一に形成されており、コイル
９がこの中空部２を通して巻線用溝８を形成して
いる側のコア１ａに前記ガラス層７ａを介して巻
回されている。
第２図ａからｊは本発明の磁気ヘツド１の製造
工程を示す工程図であつて、第２図ａに示す２１
ａ，２１ｂはフエライト等の磁性材料を切断して
所望の直方体状にした一対のコアブロツクであ
る。該一対のコアブロツク２１ａ，２１ｂの突合
せ面において、第２図ｂに示すようにトラツク幅
規制用の切欠き溝５を所定間隔をおいてコアブロ
ツクの長手方向角部にそつて複数形成すると共
に、一方のコアブロツク２１ａに巻線用溝８と補
強用溝６を形成する。尚本発明の実施例の説明で
は、巻線用溝８及び補強用溝６は片一方のブロツ
ク２１ａに形成したが両方のブロツク２１ａ，２
１ｂに形成してもよい。また巻線用溝８と補強用
溝６は、それぞれ別のブロツク２１ａ，２１ｂに
形成してもよい。
工程を示す工程図であつて、第２図ａに示す２１
ａ，２１ｂはフエライト等の磁性材料を切断して
所望の直方体状にした一対のコアブロツクであ
る。該一対のコアブロツク２１ａ，２１ｂの突合
せ面において、第２図ｂに示すようにトラツク幅
規制用の切欠き溝５を所定間隔をおいてコアブロ
ツクの長手方向角部にそつて複数形成すると共
に、一方のコアブロツク２１ａに巻線用溝８と補
強用溝６を形成する。尚本発明の実施例の説明で
は、巻線用溝８及び補強用溝６は片一方のブロツ
ク２１ａに形成したが両方のブロツク２１ａ，２
１ｂに形成してもよい。また巻線用溝８と補強用
溝６は、それぞれ別のブロツク２１ａ，２１ｂに
形成してもよい。
そして第２図ｃに示すように切欠き溝５と巻線
用溝８及び補強用溝６のところに例えばSiO2に
Pb成分を加えた低融点ガラス棒７を配設した後、
ガラス棒７に熱処理を施してガラス７を切欠溝５
と巻線用溝８及び補強用溝６の中に第２図ｄに示
すように外部にはみ出させて充たす。
用溝８及び補強用溝６のところに例えばSiO2に
Pb成分を加えた低融点ガラス棒７を配設した後、
ガラス棒７に熱処理を施してガラス７を切欠溝５
と巻線用溝８及び補強用溝６の中に第２図ｄに示
すように外部にはみ出させて充たす。
次に、第２図ｅに示すように、切欠き溝５、巻
線用溝８、補強用溝６からはみ出したガラス７を
例えば研摩などで取り除き、さらに巻線用溝８内
のガラス７を例えば成形砥石等を使用して切削加
工し、第２図ｆに示すような巻線用溝８の形成壁
面上に鏡面状のガラス層７ａを20〜30μｍ厚程度
に形成する。
線用溝８、補強用溝６からはみ出したガラス７を
例えば研摩などで取り除き、さらに巻線用溝８内
のガラス７を例えば成形砥石等を使用して切削加
工し、第２図ｆに示すような巻線用溝８の形成壁
面上に鏡面状のガラス層７ａを20〜30μｍ厚程度
に形成する。
そして両ブロツク２１ａ，２１ｂのそれぞれの
突合せ面に、例えばSiO2等の高融点ガラスを蒸
着、スパツタリングまたはこれらと等価な手段に
よつて所望のギヤツプ幅と等しい厚さになるよう
に付着せしめて第２図ｇ中斜線で示した高融点ガ
ラス層４を被覆した後、第２図ｈに示すように両
ブロツク２１ａ，２１ｂを突き合わせる。そして
低融点ガラスの溶融温度にて加熱処理を施して、
両ブロツク２１ａ，２１ｂを充填用ガラス７によ
つて融着され結合体を形成する。なお高融点ガラ
スと低融点ガラスとが接するところでは、高融点
ガラスは低融点ガラスに同化する。
突合せ面に、例えばSiO2等の高融点ガラスを蒸
着、スパツタリングまたはこれらと等価な手段に
よつて所望のギヤツプ幅と等しい厚さになるよう
に付着せしめて第２図ｇ中斜線で示した高融点ガ
ラス層４を被覆した後、第２図ｈに示すように両
ブロツク２１ａ，２１ｂを突き合わせる。そして
低融点ガラスの溶融温度にて加熱処理を施して、
両ブロツク２１ａ，２１ｂを充填用ガラス７によ
つて融着され結合体を形成する。なお高融点ガラ
スと低融点ガラスとが接するところでは、高融点
ガラスは低融点ガラスに同化する。
次に、第２図ｉ中二点鎖線で示した部分すなわ
ち、この結合体の各切欠き溝５部分で所定幅に順
次切断するとともに、前記補強用溝６のところか
ら不要な下側部分を切り離して第２図ｊに示すよ
うな所定形状のコア１ａ，１ｂを持つ磁気ヘツド
１を得る。
ち、この結合体の各切欠き溝５部分で所定幅に順
次切断するとともに、前記補強用溝６のところか
ら不要な下側部分を切り離して第２図ｊに示すよ
うな所定形状のコア１ａ，１ｂを持つ磁気ヘツド
１を得る。
このようにして得られた磁気ヘツド１は、その
後の工程でテープ摺動面が円孤状に研摩され、そ
してラツピングされ、さらに巻線用溝８によつて
形成された中空部２にコイル９が巻回される。
尚、第３図は本発明の製造方法によつて製造した
磁気ヘツド１の要部断面を示す。
後の工程でテープ摺動面が円孤状に研摩され、そ
してラツピングされ、さらに巻線用溝８によつて
形成された中空部２にコイル９が巻回される。
尚、第３図は本発明の製造方法によつて製造した
磁気ヘツド１の要部断面を示す。
以上説明したような本発明方法によれば、一対
の磁気コア間に高融点ガラスからなる所望幅のギ
ヤツプを持ち、さらに巻線用溝の両側に位置する
低融点ガラス部分により強固に結合され、その後
のトラツク幅切断加工やテープ摺動面の研磨等の
工程において接着ハガレやコア割れ等の不良を大
幅に改善できる。しかも磁気ヘツドの閉磁路形成
用の巻線用溝を形成する壁面に薄厚の絶縁ガラス
層を形成した磁気ヘツドを容易に製造することが
できる。従つて本発明方法により製造された磁気
ヘツドでは、特に巻線用溝を通して磁気コア部分
に巻回されたコイルの被膜が巻線用溝形成面角部
で破損しても、絶縁ガラス層により磁気コア自体
とコイルとが電気的に絶縁されるため、磁気ヘツ
ド自体の寿命が向上するという著大な利点があ
る。
の磁気コア間に高融点ガラスからなる所望幅のギ
ヤツプを持ち、さらに巻線用溝の両側に位置する
低融点ガラス部分により強固に結合され、その後
のトラツク幅切断加工やテープ摺動面の研磨等の
工程において接着ハガレやコア割れ等の不良を大
幅に改善できる。しかも磁気ヘツドの閉磁路形成
用の巻線用溝を形成する壁面に薄厚の絶縁ガラス
層を形成した磁気ヘツドを容易に製造することが
できる。従つて本発明方法により製造された磁気
ヘツドでは、特に巻線用溝を通して磁気コア部分
に巻回されたコイルの被膜が巻線用溝形成面角部
で破損しても、絶縁ガラス層により磁気コア自体
とコイルとが電気的に絶縁されるため、磁気ヘツ
ド自体の寿命が向上するという著大な利点があ
る。
第１図ないし第３図は本発明の方法の一実施例
を説明するための図で、第１図は本発明方法によ
り得られた磁気ヘツドを示す斜視図、第２図ａ〜
ｊは本発明方法の製造工程一例を示す図、第３図
は磁気ヘツドの要部断面図、第４図は従来の磁気
ヘツドを示す斜視図である。 １……磁気ヘツド、１ａ，１ｂ……コアブロツ
ク、３……ギヤツプ、４……ギヤツプを形成する
ガラス層、５……切欠き溝、６……補強用溝、７
……低融点ガラス、７ａ……低融点ガラス層、８
……コイル巻線用溝、９……コイル。
を説明するための図で、第１図は本発明方法によ
り得られた磁気ヘツドを示す斜視図、第２図ａ〜
ｊは本発明方法の製造工程一例を示す図、第３図
は磁気ヘツドの要部断面図、第４図は従来の磁気
ヘツドを示す斜視図である。 １……磁気ヘツド、１ａ，１ｂ……コアブロツ
ク、３……ギヤツプ、４……ギヤツプを形成する
ガラス層、５……切欠き溝、６……補強用溝、７
……低融点ガラス、７ａ……低融点ガラス層、８
……コイル巻線用溝、９……コイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁性材からなる一対の直方体状コアブロツク
の突合せ面において少なくとも一方のコアブロツ
ク側にその長手方向に巻線用溝を形成するととも
に、該巻線用溝に対し一側に位置する前記コアブ
ロツクのそれぞれの突合せ部分にその長手方向に
沿つて切欠き溝を所定間隔あけて複数形成し、さ
らに少なくとも一方のコアブロツクにおいて前記
巻線用溝に対し切欠き溝形成側と反対側の部分に
コアブロツクの長手方向に補強用溝を形成してお
き、該補強用溝、巻線用溝および複数の切欠き溝
内に低融点ガラスを充填した後、前記巻線用溝内
の低融点ガラス部分を切削加工して該溝形成面上
に薄厚の低融点ガラス層を形成し、ついで一対の
コアブロツクの少なくとも一方のコアブロツクの
突合せ面上にギヤツプ形成用の高融点ガラスを蒸
着またはスパツタリング等の手段により付着さ
せ、しかる後一対のコアブロツクを突合せ低融点
ガラスの溶融温度にて加熱処理することにより一
体化し、その一体化物を前記切欠き溝毎にコアブ
ロツクの短手方向に切断して所望形状にすること
を特徴とする磁気ヘツドの製造方法。 ２ 前記一対のコアブロツクを低融点ガラスの溶
着により一体化するとき、前記一対のコアブロツ
クを回転させながら接合することを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の磁気ヘツドの製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21598684A JPS61113109A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 磁気ヘツドの製造方法 |
| KR1019850005802A KR860003578A (ko) | 1984-10-15 | 1985-08-12 | 자기헤드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21598684A JPS61113109A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61113109A JPS61113109A (ja) | 1986-05-31 |
| JPH0349126B2 true JPH0349126B2 (ja) | 1991-07-26 |
Family
ID=16681514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21598684A Granted JPS61113109A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61113109A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61217915A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH07160644A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-23 | Nec Corp | アラーム伝達機能付電子手帳 |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP21598684A patent/JPS61113109A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61113109A (ja) | 1986-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS59142716A (ja) | 磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH0349126B2 (ja) | ||
| KR930000067B1 (ko) | 자기헤드 | |
| JPH0349125B2 (ja) | ||
| JPS59193516A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6231009A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0656645B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0425609B2 (ja) | ||
| JP2906641B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| KR0178783B1 (ko) | 자기헤드의 제조방법 | |
| JPS6316012Y2 (ja) | ||
| JPS60202506A (ja) | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2942114B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH07210809A (ja) | 磁気消去ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS6050608A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS6369008A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH03222109A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6251009A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH0546608B2 (ja) | ||
| JPH0516083B2 (ja) | ||
| JPH0689407A (ja) | 磁気ヘッドと製造法 | |
| JPH0227725B2 (ja) | Jikihetsudooyobisonoseizohoho | |
| JPS61227206A (ja) | 磁気ヘツド製造方法 | |
| JPH0447885B2 (ja) | ||
| JPH027210A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |