JPH0331785B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0331785B2 JPH0331785B2 JP1098938A JP9893889A JPH0331785B2 JP H0331785 B2 JPH0331785 B2 JP H0331785B2 JP 1098938 A JP1098938 A JP 1098938A JP 9893889 A JP9893889 A JP 9893889A JP H0331785 B2 JPH0331785 B2 JP H0331785B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten solder
- leads
- solder
- qfp
- plated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 18
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/08—Soldering by means of dipping in molten solder
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/20—Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K3/00—Tools, devices, or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
- B23K3/06—Solder feeding devices; Solder melting pans
- B23K3/0646—Solder baths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
- C23C2/08—Tin or alloys based thereon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G13/00—Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/50—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多数の被メツキ部が並設された物体、
たとえば四辺にリードのあるQFPや両側にリー
ドのあるSOICのように多数のリードを有する電
子部品リードに、はんだメツキを施す方法および
その装置に関する。
たとえば四辺にリードのあるQFPや両側にリー
ドのあるSOICのように多数のリードを有する電
子部品リードに、はんだメツキを施す方法および
その装置に関する。
QFP(Ouad Flat Package IC)やSOIC
(Small Outlet IC)のような電子部品はリード
の材料として鉄合金や銅合金を用いているが、
IC回路とリードとを金線で接続するため、リー
ドには、金線となじみの良い金メツキが施されて
いる。しかしながら金メツキされたリードは、は
んだ付け性が悪いばかりでなく、はんだ付け時
に、はんだ中に金が溶け出してしまうため、はん
だ付け部のはんだ中に金と錫の胞い金属間化合物
を作つて接着力を弱くしてしまう。従つて、従来
より金メツキされたリードには、溶融はんだメツ
キを行つておき、はんだ付け性や接着力を向上さ
せることがなされていた。
(Small Outlet IC)のような電子部品はリード
の材料として鉄合金や銅合金を用いているが、
IC回路とリードとを金線で接続するため、リー
ドには、金線となじみの良い金メツキが施されて
いる。しかしながら金メツキされたリードは、は
んだ付け性が悪いばかりでなく、はんだ付け時
に、はんだ中に金が溶け出してしまうため、はん
だ付け部のはんだ中に金と錫の胞い金属間化合物
を作つて接着力を弱くしてしまう。従つて、従来
より金メツキされたリードには、溶融はんだメツ
キを行つておき、はんだ付け性や接着力を向上さ
せることがなされていた。
従来の電子部品リードのはんだ付け方法として
は、たとえばQFPでは、リードにフラツクス塗
布した後、一辺のリードが溶融はんだの液面に対
して垂直になるようにQFPを立てて、先ずその
一辺のリードを溶融はんだに浸漬し、次にQFP
を45度回転して隣のリードが溶融はんだの液面に
対して垂直になるようにしてからその一辺のリー
ドを浸漬する。このようにして45度づつ回転して
4回溶融はんだに浸漬させることにより1個の
QFPの全辺のはんだメツキが終了する。
は、たとえばQFPでは、リードにフラツクス塗
布した後、一辺のリードが溶融はんだの液面に対
して垂直になるようにQFPを立てて、先ずその
一辺のリードを溶融はんだに浸漬し、次にQFP
を45度回転して隣のリードが溶融はんだの液面に
対して垂直になるようにしてからその一辺のリー
ドを浸漬する。このようにして45度づつ回転して
4回溶融はんだに浸漬させることにより1個の
QFPの全辺のはんだメツキが終了する。
従来のはんだメツキ方法は、QFPのように四
辺にリードのあるものでは4回も溶融はんだへの
浸漬を行わなければならず生産性の悪いものであ
つた。しかも、リードを溶融はんだに浸漬するだ
けでは、リード間隔が狭いものではリード間に、
はんだが跨つて付着するという所謂ブリツヂを発
生させてしまうことがあつた。
辺にリードのあるものでは4回も溶融はんだへの
浸漬を行わなければならず生産性の悪いものであ
つた。しかも、リードを溶融はんだに浸漬するだ
けでは、リード間隔が狭いものではリード間に、
はんだが跨つて付着するという所謂ブリツヂを発
生させてしまうことがあつた。
本発明はQFPのように四辺リードを有する電
子部品でも一度の溶融はんだへの浸漬で四辺のリ
ードがはんだメツキできるばかりでなく、ブリツ
ヂの形成も起こさないというはんだメツキ方法お
よび装置を提供することにある。
子部品でも一度の溶融はんだへの浸漬で四辺のリ
ードがはんだメツキできるばかりでなく、ブリツ
ヂの形成も起こさないというはんだメツキ方法お
よび装置を提供することにある。
長尺材を溶融はんだに浸漬して傾斜させながら
引上げると、長尺材に付着した溶融はんだは溶融
はんだ槽の液面とリードとが離れる部分で溶融は
んだ槽の多量の溶融はんだに引つ張られて付着量
が少なくなる。本発明者は、その状態が順次、長
尺材と溶融はんだ液面の離れる方向に移動してゆ
き、長尺材は多量にはんだの付着する部分がなく
なり均一なメツキとなることに着目して本発明を
完成させた。
引上げると、長尺材に付着した溶融はんだは溶融
はんだ槽の液面とリードとが離れる部分で溶融は
んだ槽の多量の溶融はんだに引つ張られて付着量
が少なくなる。本発明者は、その状態が順次、長
尺材と溶融はんだ液面の離れる方向に移動してゆ
き、長尺材は多量にはんだの付着する部分がなく
なり均一なメツキとなることに着目して本発明を
完成させた。
SOICの二辺のリードまたはQFPの四辺のリー
ドではこれらのリードを一度に溶融はんだに浸漬
すると、リードを傾斜させて溶融はんだから離脱
させることはできない。そこで本発明では上部が
傾斜し、しかも溶融はんだに濡れる金属板を用
い、該金属板に付着した多量の溶融はんだでリー
ドに付着した溶融はんだを順次引つ張つて均一な
はんだメツキを得ようとするものである。
ドではこれらのリードを一度に溶融はんだに浸漬
すると、リードを傾斜させて溶融はんだから離脱
させることはできない。そこで本発明では上部が
傾斜し、しかも溶融はんだに濡れる金属板を用
い、該金属板に付着した多量の溶融はんだでリー
ドに付着した溶融はんだを順次引つ張つて均一な
はんだメツキを得ようとするものである。
本発明は、多数の被メツキ部が並設された物体
の下方に上部が傾斜し、しかもはんだに濡れる金
属製の吸取板を置いて該物体とともに溶融はんだ
に接触させ、しかる後これらを溶融はんだから離
脱させることを特徴とするはんだメツキ方法であ
り、また上部が傾斜し、しかも溶融はんだに濡れ
る吸取板、該吸取板を立設した溶融はんだ槽、物
体に並設された多数の被メツキ部以外に被う治
具、該治具を前記溶融はんだ槽まで降下させる昇
降装置、から成ることを特徴とするはんだメツキ
装置である。
の下方に上部が傾斜し、しかもはんだに濡れる金
属製の吸取板を置いて該物体とともに溶融はんだ
に接触させ、しかる後これらを溶融はんだから離
脱させることを特徴とするはんだメツキ方法であ
り、また上部が傾斜し、しかも溶融はんだに濡れ
る吸取板、該吸取板を立設した溶融はんだ槽、物
体に並設された多数の被メツキ部以外に被う治
具、該治具を前記溶融はんだ槽まで降下させる昇
降装置、から成ることを特徴とするはんだメツキ
装置である。
第1図はリードのはんだメツキを行うEFPの
平面図、第2図は第1図−線断面図である。
EFPは本体1の中にICが組込まれ、IC回路と本
体周囲のリード2…とが金線でワイヤボンデイン
グされている。リード2…は使用前の強度を持た
せるため周囲が枠3で一体形成されている。リー
ド2は全体が金メツキされており、このうち本体
に近い部分を被メツキ部Pとして、この部分に溶
融はんだメツキを施すものである。リードは溶融
はんだメツキ後、該メツキ部の端部から切り離し
てプリント基板とのはんだ付けに用いる。
平面図、第2図は第1図−線断面図である。
EFPは本体1の中にICが組込まれ、IC回路と本
体周囲のリード2…とが金線でワイヤボンデイン
グされている。リード2…は使用前の強度を持た
せるため周囲が枠3で一体形成されている。リー
ド2は全体が金メツキされており、このうち本体
に近い部分を被メツキ部Pとして、この部分に溶
融はんだメツキを施すものである。リードは溶融
はんだメツキ後、該メツキ部の端部から切り離し
てプリント基板とのはんだ付けに用いる。
上記QFPのリードの溶融はんだメツキ方法を
第3図a〜dで説明する。
第3図a〜dで説明する。
(a) QFPを水平にし、リード2の被メツキ部以
外を被つてから、被メツキ部を吸取板7の上に
置く。
外を被つてから、被メツキ部を吸取板7の上に
置く。
(b) QFPのリード2の吸取板7の所定の位置に
置いた後、下方から溶融はんだSを噴流させリ
ード2を溶融はんだ中に浸漬する。
置いた後、下方から溶融はんだSを噴流させリ
ード2を溶融はんだ中に浸漬する。
(c) リード2が溶融はんだ中に完全に浸漬したな
らば、溶融はんだの噴流を止めて、溶融はんだ
を降下させる。この時、溶融はんだは吸取板と
遠距離にある方(図中左端)からリードと離れ
るが、リードと離れる溶融はんだは吸取板に多
量のはんだが付着しているため、この多量のは
んだに引つ張られてリードへの付着量は適当な
メツキ量となり、必要以上に付着しない。
らば、溶融はんだの噴流を止めて、溶融はんだ
を降下させる。この時、溶融はんだは吸取板と
遠距離にある方(図中左端)からリードと離れ
るが、リードと離れる溶融はんだは吸取板に多
量のはんだが付着しているため、この多量のは
んだに引つ張られてリードへの付着量は適当な
メツキ量となり、必要以上に付着しない。
(d) さらに溶融はんだが降下していくと、溶融は
んだは最後に吸取板に一番近いリード(図中右
端)から離れる。この時もリードに付着した溶
融はんだ吸取板に引つ張られて適当なメツキと
なる。
んだは最後に吸取板に一番近いリード(図中右
端)から離れる。この時もリードに付着した溶
融はんだ吸取板に引つ張られて適当なメツキと
なる。
次に本発明のメツキ方法を実施する装置につい
て説明する。
て説明する。
本発明のメツキ装置は治具4、昇降装置5、溶
融はんだ槽6、吸取板7から構成されている。治
具4は基台8、蓋9から成り、溶融はんだに漏れ
にくいチタンやSUS403ステンレス等でできてい
る。基台8および蓋9はQFPを載置した時、
QFPのリードの被メツキ部となるところだけに
開口10が形成されている。基台8は昇降装置5
に載置されており、溶融はんだ槽まで矢印Aの如
く降下できるようになつている。基台8に載置さ
れたピン11は基台8と蓋9を一致させるための
ガイドであり、ピン12はQFPを治具の所定の
位置に載置するためのガイドである。治具4の下
部には溶融はんだ槽6が載置されている。溶融は
んだ槽6は第8図に示すように基台と蓋の開口1
0と一致した口字状の噴流口13を有しており、
該噴流口の略中央には上部が傾斜した吸取板7が
立設されている。
融はんだ槽6、吸取板7から構成されている。治
具4は基台8、蓋9から成り、溶融はんだに漏れ
にくいチタンやSUS403ステンレス等でできてい
る。基台8および蓋9はQFPを載置した時、
QFPのリードの被メツキ部となるところだけに
開口10が形成されている。基台8は昇降装置5
に載置されており、溶融はんだ槽まで矢印Aの如
く降下できるようになつている。基台8に載置さ
れたピン11は基台8と蓋9を一致させるための
ガイドであり、ピン12はQFPを治具の所定の
位置に載置するためのガイドである。治具4の下
部には溶融はんだ槽6が載置されている。溶融は
んだ槽6は第8図に示すように基台と蓋の開口1
0と一致した口字状の噴流口13を有しており、
該噴流口の略中央には上部が傾斜した吸取板7が
立設されている。
四辺にリードのあるQFPのリードをメツキす
るためには吸取板は四筒所に設置する。吸取板は
溶融はんだに濡れる材料を用いる。本発明者の実
験によれば吸取板の上部の傾斜は3〜7度がはん
だの吸取に適していた。
るためには吸取板は四筒所に設置する。吸取板は
溶融はんだに濡れる材料を用いる。本発明者の実
験によれば吸取板の上部の傾斜は3〜7度がはん
だの吸取に適していた。
次に上記構成から成る本発明のメツキ装置での
QFPのリードのはんだメツキについて説明する。
QFPのリードのはんだメツキについて説明する。
先ず基台8の所定の位置にQFPを搭載し、そ
の上に蓋9を載せて図示しないクランプで蓋を固
定する(第6図)。そして昇降装置5で治具4を
溶融はんだ槽6上まで下げる(第7図)。治具の
基台8が溶融はんだ槽6と接したならば溶融はん
だ槽内の溶融はんだを図示しないポンプで噴流さ
せる。すると噴流して上昇した溶融はんだは治具
の開口10内に入り、開口内にある。QFPのリ
ードを濡らす。この様にしてリードを溶融はんだ
で濡れたならばポンプの稼働を止めて溶融はんだ
を降下させる。この時、降下する溶融はんだは前
述第3図a〜dの如くにしてリードは均一なはん
だメツキを行うものである。
の上に蓋9を載せて図示しないクランプで蓋を固
定する(第6図)。そして昇降装置5で治具4を
溶融はんだ槽6上まで下げる(第7図)。治具の
基台8が溶融はんだ槽6と接したならば溶融はん
だ槽内の溶融はんだを図示しないポンプで噴流さ
せる。すると噴流して上昇した溶融はんだは治具
の開口10内に入り、開口内にある。QFPのリ
ードを濡らす。この様にしてリードを溶融はんだ
で濡れたならばポンプの稼働を止めて溶融はんだ
を降下させる。この時、降下する溶融はんだは前
述第3図a〜dの如くにしてリードは均一なはん
だメツキを行うものである。
なお、実施例ではQFPのように多数のリード
を有する電子部品のリードのはんだメツキについ
て説明したが、本発明は電子部品のリードに限ら
ず被メツキ部が多数並設されたものであれば如何
なるものにでも応用できるものである。
を有する電子部品のリードのはんだメツキについ
て説明したが、本発明は電子部品のリードに限ら
ず被メツキ部が多数並設されたものであれば如何
なるものにでも応用できるものである。
本発明によれば、リード間隔の狭い電子部品で
もリード間にブリツヂを形成させることがないば
かりか、多辺にリードを有する電子部品でも一度
の溶融はんだとの接触だけで全ての辺のリードの
はんだメツキが行えるという信頼性、生産性に優
れた効果を奏することができる。
もリード間にブリツヂを形成させることがないば
かりか、多辺にリードを有する電子部品でも一度
の溶融はんだとの接触だけで全ての辺のリードの
はんだメツキが行えるという信頼性、生産性に優
れた効果を奏することができる。
第1図はリードに溶融はんだメツキを行う
QFPの平面図、第2図は第1図−線断面図、
第3図a〜第3図dは本発明の方法を説明する
図、第4図は治具の基台にQFPを載置した平面
図、第5図は同正面図、第6図は本発明の装置の
正面図であり、メツキ前を説明する図、第7図は
同メツキ中を説明する図、第8図は溶融はんだ槽
の平面図である。 1……QFP本体、2……被メツキリード、4
……治具、5……昇降装置、6……溶融はんだ
槽、7……吸取板、8……基台、9……蓋、10
……開口。
QFPの平面図、第2図は第1図−線断面図、
第3図a〜第3図dは本発明の方法を説明する
図、第4図は治具の基台にQFPを載置した平面
図、第5図は同正面図、第6図は本発明の装置の
正面図であり、メツキ前を説明する図、第7図は
同メツキ中を説明する図、第8図は溶融はんだ槽
の平面図である。 1……QFP本体、2……被メツキリード、4
……治具、5……昇降装置、6……溶融はんだ
槽、7……吸取板、8……基台、9……蓋、10
……開口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 多数の被メツキ部が並設された物体の下方に
上部が傾斜し、しかもはんだに濡れる金属製の吸
取板を置いて該物体とともに溶融はんだに接触さ
せ、しかる後これらを溶融はんだから離脱させる
ことを特徴とするはんだメツキ方法。 2 上部が傾斜し、しかも溶融はんだに濡れる吸
取板、 該吸取板を立設した溶融はんだ槽、 物体に並設された多数の被メツキ部以外を被う
治具、 該治具を前記溶融はんだまで降下させる昇降装
置、 から成ることを特徴とするはんだメツキ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1098938A JPH02277753A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | はんだメッキ方法およびその装置 |
US07/376,295 US4932585A (en) | 1989-04-20 | 1989-07-06 | Method and apparatus for solder plating an object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1098938A JPH02277753A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | はんだメッキ方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02277753A JPH02277753A (ja) | 1990-11-14 |
JPH0331785B2 true JPH0331785B2 (ja) | 1991-05-08 |
Family
ID=14233061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1098938A Granted JPH02277753A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | はんだメッキ方法およびその装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4932585A (ja) |
JP (1) | JPH02277753A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04363040A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-12-15 | Seiko Epson Corp | 半導体装置のはんだ被覆方法及びその装置 |
US5176312A (en) * | 1991-08-12 | 1993-01-05 | Brian Lowenthal | Selective flow soldering apparatus |
US5540378A (en) * | 1993-09-27 | 1996-07-30 | Olin Corporation | Method for the assembly of an electronic package |
US6013535A (en) * | 1997-08-05 | 2000-01-11 | Micron Technology, Inc. | Method for applying adhesives to a lead frame |
US6040205A (en) * | 1997-08-05 | 2000-03-21 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for controlling the depth of immersion of a semiconductor element in an exposed surface of a viscous fluid |
US6336973B1 (en) | 1997-08-05 | 2002-01-08 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for modifying the configuration of an exposed surface of a viscous fluid |
US8709870B2 (en) | 2009-08-06 | 2014-04-29 | Maxim Integrated Products, Inc. | Method of forming solderable side-surface terminals of quad no-lead frame (QFN) integrated circuit packages |
JP6501618B2 (ja) * | 2015-05-28 | 2019-04-17 | 三菱電機株式会社 | はんだ被膜形成装置、はんだ被膜形成方法および半導体装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3604609A (en) * | 1968-12-02 | 1971-09-14 | Western Electric Co | Apparatus for eliminating iciclelike formations on wave-soldered connections on circuit substrates |
NL7212888A (ja) * | 1971-09-29 | 1973-04-02 | ||
US3989180A (en) * | 1971-11-10 | 1976-11-02 | Electrovert Manufacturing Company, Limited | Wave soldering with supported inclined wave |
US4011980A (en) * | 1976-03-25 | 1977-03-15 | Western Electric Company, Inc. | Flow-over mass soldering |
US4162034A (en) * | 1978-05-03 | 1979-07-24 | Western Electric Company, Incorporated | Ejector controlled soldering device |
JPS5598477U (ja) * | 1978-12-27 | 1980-07-09 | ||
US4506820A (en) * | 1983-07-29 | 1985-03-26 | Brucker John P | Desoldering device |
JPS60144873A (ja) * | 1984-01-05 | 1985-07-31 | Agency Of Ind Science & Technol | メモリ装置 |
US4659002A (en) * | 1985-08-08 | 1987-04-21 | Pace, Incorporated | Apparatus for replacement of through-hole mounted PCB components |
-
1989
- 1989-04-20 JP JP1098938A patent/JPH02277753A/ja active Granted
- 1989-07-06 US US07/376,295 patent/US4932585A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02277753A (ja) | 1990-11-14 |
US4932585A (en) | 1990-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS59189069A (ja) | 電気部品の端子のハンダ塗布装置 | |
JPH0331785B2 (ja) | ||
JPS62108564A (ja) | 電気リ−ド線のはんだ被覆方法 | |
KR19990080573A (ko) | 반도체 패키지용 리드프레임 및 리드프레임 도금방법 | |
JPH08339838A (ja) | 多形直線型採取パッド | |
USH54H (en) | Soldering external leads to film circuits | |
JPS62211991A (ja) | 基板の埋込ピン上にはんだを平坦に充填する方法 | |
EP0250450A1 (en) | Lead finishing for a surface mount package | |
JPS62198195A (ja) | プリント基板等におけるはんだ付け方法 | |
JPS6223136A (ja) | 半導体装置 | |
US6924440B2 (en) | Printed wiring board, apparatus for electrically connecting an electronic element and a substrate, and method for manufacturing a printed wiring board | |
JP2903711B2 (ja) | フラットパッケージの予備半田方法 | |
JP2674789B2 (ja) | 端子ピン付き基板 | |
JPS58197897A (ja) | はんだ接合方法 | |
JPH0855946A (ja) | 半導体装置並びに外部接続用リード及び配線パターン | |
JP2535035B2 (ja) | 電子部品搭載パッケ―ジへの端子部品半田付け方法 | |
JPH06216507A (ja) | はんだプリコート回路基板 | |
JPH0385750A (ja) | 半導体装置およびその実装方法 | |
JPH04125987A (ja) | 混成集積回路 | |
JPS62144873A (ja) | はんだ付け方法および装置 | |
JPH07142665A (ja) | リード付電子部品 | |
JPH0846115A (ja) | 金属被膜形成装置 | |
JPH04162759A (ja) | リードの半田メッキ装置 | |
JPH04146688A (ja) | 電子部品のボンディング方法 | |
JPH11346052A (ja) | 表面実装部品の実装方法 |