JPH0331261B2 - - Google Patents
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-
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光導電性感光層を用いた電子写真感光
体に関し、更に詳しくは導電性支持体と酸化亜鉛
分散型感光層との間に中間樹脂層を設けてなる電
子写真感光体に関するものである。
体に関し、更に詳しくは導電性支持体と酸化亜鉛
分散型感光層との間に中間樹脂層を設けてなる電
子写真感光体に関するものである。
光導電性酸化亜鉛を樹脂バインダー中に分散さ
せて成る電子写真感光層を導電性支持体上に、必
要なら中間層を介して設けて成る電子写真感光体
は、複写機や電子写真平版印刷材料として広く用
いられている。
せて成る電子写真感光層を導電性支持体上に、必
要なら中間層を介して設けて成る電子写真感光体
は、複写機や電子写真平版印刷材料として広く用
いられている。
中間層の重要性は、数多くの文献、特許に記載
されている如く、支持体と感光層の接着力、感
度、非画像部の汚れ、画像部での白斑点(点状に
トナーが付着しない現象)等に影響を及ぼし、特
に電子写真平版印刷材料として用いる場合、印刷
中に湿し水にさらされることもあつて、支持体と
感光層とを強く接着させる中間層が要求される。
近年、1万枚以上の高耐刷の電子写真平版印刷材
料が、印刷業界で要望されているが、従来より提
案されている中間層を用いても必ずしも支持体と
感光層の接着力は完全とは言えず、印刷中わずか
ながら剥離しなり、また画像部に白斑点が発生し
たりする欠点があつた。そこで本発明者等はこの
点を改良すべく鋭意研究した結果、中間層の成分
として有機溶剤可溶性樹脂並びにコロイド状シリ
カ及びコロイド状アルミナから選ばれた少なくと
も1種のコロイド状物質からなるものを用いるこ
とによつてこの問題を解決するに至つた。以下に
本発明について詳細に述べる。
されている如く、支持体と感光層の接着力、感
度、非画像部の汚れ、画像部での白斑点(点状に
トナーが付着しない現象)等に影響を及ぼし、特
に電子写真平版印刷材料として用いる場合、印刷
中に湿し水にさらされることもあつて、支持体と
感光層とを強く接着させる中間層が要求される。
近年、1万枚以上の高耐刷の電子写真平版印刷材
料が、印刷業界で要望されているが、従来より提
案されている中間層を用いても必ずしも支持体と
感光層の接着力は完全とは言えず、印刷中わずか
ながら剥離しなり、また画像部に白斑点が発生し
たりする欠点があつた。そこで本発明者等はこの
点を改良すべく鋭意研究した結果、中間層の成分
として有機溶剤可溶性樹脂並びにコロイド状シリ
カ及びコロイド状アルミナから選ばれた少なくと
も1種のコロイド状物質からなるものを用いるこ
とによつてこの問題を解決するに至つた。以下に
本発明について詳細に述べる。
本発明に用いられる導電性支持体としては、金
属、導電化処理紙、導電性プラスチツクシート、
Al等を蒸着したプラスチツク・シート、導電化
プラスチツクを紙にラミネートしたもの等があ
る。この中でも特に、導電化プラスチツクを紙に
ラミネートした支持体が最適である。導電化プラ
スチツク・ラミネート紙は、基紙の片面または両
面に導電化剤を含むポリオレフインラミネート層
を設けて構成される。
属、導電化処理紙、導電性プラスチツクシート、
Al等を蒸着したプラスチツク・シート、導電化
プラスチツクを紙にラミネートしたもの等があ
る。この中でも特に、導電化プラスチツクを紙に
ラミネートした支持体が最適である。導電化プラ
スチツク・ラミネート紙は、基紙の片面または両
面に導電化剤を含むポリオレフインラミネート層
を設けて構成される。
上記ポリオルフインとしては、ポリエチレンお
よびポリプロピレンが適しており、ポリエチレン
は密度0.92〜0.96、平均分子量20000〜50000、軟
化点110〜130℃、引張強度130〜300Kg/cm2、体積
固有抵抗1015Ωcm以上のものが特に好ましく、ま
たポリプロピレンは密度0.85〜0.92、軟化点75〜
170℃、引張強度280〜420Kg/cm2、体積固有抵抗
1015Ωcm以上のものが特に好ましく、これらの内
でもポリエチレンが最も好ましい。
よびポリプロピレンが適しており、ポリエチレン
は密度0.92〜0.96、平均分子量20000〜50000、軟
化点110〜130℃、引張強度130〜300Kg/cm2、体積
固有抵抗1015Ωcm以上のものが特に好ましく、ま
たポリプロピレンは密度0.85〜0.92、軟化点75〜
170℃、引張強度280〜420Kg/cm2、体積固有抵抗
1015Ωcm以上のものが特に好ましく、これらの内
でもポリエチレンが最も好ましい。
このようなポリオレフインラミネート層には、
最終的には得られる支持体の体積抵抗が1010Ω以
下となる様に電子導電性物質が含有させられる。
ここでいう体積抵抗は支持体の両面に半径2.5cm
の円形電極を対向して接触させ電極間に直流電圧
をかけたときの抵抗値である。これにより、湿度
変化(特に低湿度になつた場合)による写真性能
の変化を抑えることができ、画質の優れた高耐刷
力の平版印刷版を安定して得ることが可能とな
る。特に好ましい電子電導性物質は、仏国特許第
2277136号および米国特許第3597272号の各明細書
に記載されている金属酸化物、特に亜鉛、マグネ
シウム、錫、バリウム、インジウム、モリブデ
ン、アルミニウム、チタン、珪素からえらばれた
金属の酸化物、好ましくは結晶性酸化物又はその
複合酸化物の微粒子、又はカーボンブラツクが用
いられる。この中でも導電性カーボンブラツクは
安価で、ポリオレフインと混和しやすく有利であ
る。
最終的には得られる支持体の体積抵抗が1010Ω以
下となる様に電子導電性物質が含有させられる。
ここでいう体積抵抗は支持体の両面に半径2.5cm
の円形電極を対向して接触させ電極間に直流電圧
をかけたときの抵抗値である。これにより、湿度
変化(特に低湿度になつた場合)による写真性能
の変化を抑えることができ、画質の優れた高耐刷
力の平版印刷版を安定して得ることが可能とな
る。特に好ましい電子電導性物質は、仏国特許第
2277136号および米国特許第3597272号の各明細書
に記載されている金属酸化物、特に亜鉛、マグネ
シウム、錫、バリウム、インジウム、モリブデ
ン、アルミニウム、チタン、珪素からえらばれた
金属の酸化物、好ましくは結晶性酸化物又はその
複合酸化物の微粒子、又はカーボンブラツクが用
いられる。この中でも導電性カーボンブラツクは
安価で、ポリオレフインと混和しやすく有利であ
る。
このような電子電導性物質は、支持体の体積抵
抗が1010Ω以下、より好ましくは108Ω以下とな
る量使用される。このような抵抗値とする為の使
用量は、基紙、ポリオレフイン、電子電導性物質
の種類によつて変わるので一概には決定しえない
が、一般的な目安を示せばポリオレフインに対し
て5〜30重量%の範囲である。
抗が1010Ω以下、より好ましくは108Ω以下とな
る量使用される。このような抵抗値とする為の使
用量は、基紙、ポリオレフイン、電子電導性物質
の種類によつて変わるので一概には決定しえない
が、一般的な目安を示せばポリオレフインに対し
て5〜30重量%の範囲である。
上述のようなポリオレフインは基紙の少なくと
も一面、より好ましくは両面にラミネート法によ
つて被覆される。ラミネート法としては、湿式
法、乾式法、ホツトメルト法、押出し法などの当
業界で良く知られた方法を使用することができる
が、押出し法が特に好ましい。押出し法は、ポリ
オレフインを溶融し、これをフイルムにしてから
直ちに基紙に圧着後、冷却してラミネートする方
法であり、種々の装置が知られている。
も一面、より好ましくは両面にラミネート法によ
つて被覆される。ラミネート法としては、湿式
法、乾式法、ホツトメルト法、押出し法などの当
業界で良く知られた方法を使用することができる
が、押出し法が特に好ましい。押出し法は、ポリ
オレフインを溶融し、これをフイルムにしてから
直ちに基紙に圧着後、冷却してラミネートする方
法であり、種々の装置が知られている。
このようにしてラミネートされるポリオレフイ
ン層の厚さは5〜50μの範囲が適当である。5μよ
り薄くなると、基紙に対する防水性が不十分とな
り、一方、50μより厚くした場合にはそれ以上の
性能上の向上は最早望めず、コストアツプとなる
だけである。
ン層の厚さは5〜50μの範囲が適当である。5μよ
り薄くなると、基紙に対する防水性が不十分とな
り、一方、50μより厚くした場合にはそれ以上の
性能上の向上は最早望めず、コストアツプとなる
だけである。
基紙と上記ポリオレフインラミネート層との接
着力を向上させる為、予め基紙上にエチレン−酢
酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共
重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、エチレン−アクリロ
ニトリル−アクリル酸共重合体、エチレン−アク
リロニトリル−メタクリル酸共重合体などのポリ
エチレン誘導体を塗布したり、基紙の表面をコロ
ナ放電処理しておくことが好ましい。別法とし
て、特開昭49−24126号、同52−36176号、同52−
121683号、同53−2612号、同54−111331号及び特
公昭51−25337号に記載されている表面処理を基
紙に施こすこともできる。
着力を向上させる為、予め基紙上にエチレン−酢
酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共
重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレ
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ニトリル−アクリル酸共重合体、エチレン−アク
リロニトリル−メタクリル酸共重合体などのポリ
エチレン誘導体を塗布したり、基紙の表面をコロ
ナ放電処理しておくことが好ましい。別法とし
て、特開昭49−24126号、同52−36176号、同52−
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公昭51−25337号に記載されている表面処理を基
紙に施こすこともできる。
一方、本発明に使用される基紙としては、従来
より電子写真感光材料に用いられる導電性基紙な
らば使用でき、例えばイオン伝導性物質や米国特
許第3597272号および仏国特許第2277136号に記載
されているような無機金属化合物、カーボンなど
の電子電導性物質を紙に含浸させたもの、又は抄
紙時に混合させたものや、特公昭52−4239号、同
53−19031号及び同53−19684号に記載された合成
紙が使用できる。イオン伝導性物質としては、例
えばアルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキ
ルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベ
ンジルアンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤
や、例えばポリジメチルジアリルアンモニウムク
ロリド、ポリビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロリド等の高分子電解質などが好ましい。
これらの単独あるいは混合物を基紙の両面に3〜
15g/m2、より好ましくは5〜10g/m2の量を塗
布・乾燥し、導電性基紙とする。
より電子写真感光材料に用いられる導電性基紙な
らば使用でき、例えばイオン伝導性物質や米国特
許第3597272号および仏国特許第2277136号に記載
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紙時に混合させたものや、特公昭52−4239号、同
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紙が使用できる。イオン伝導性物質としては、例
えばアルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキ
ルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベ
ンジルアンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤
や、例えばポリジメチルジアリルアンモニウムク
ロリド、ポリビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロリド等の高分子電解質などが好ましい。
これらの単独あるいは混合物を基紙の両面に3〜
15g/m2、より好ましくは5〜10g/m2の量を塗
布・乾燥し、導電性基紙とする。
本発明に用いられる中間層の成分の有機溶剤可
溶性樹脂としては、ポリエチレン、ポリブタジエ
ン、ポリスチレン、スチレン・ブタジエン共重合
体、酢酸ビニル樹脂などのビニル系樹脂、ポリエ
ステル、アルコール可溶性ポリアミド、ポリカー
ボネートなどの縮合共重合体、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、アクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、シリコン樹脂、アルキツド樹脂、
セルロースエステル樹脂など樹脂中間層として従
来よく使用されている樹脂が用いられる。
溶性樹脂としては、ポリエチレン、ポリブタジエ
ン、ポリスチレン、スチレン・ブタジエン共重合
体、酢酸ビニル樹脂などのビニル系樹脂、ポリエ
ステル、アルコール可溶性ポリアミド、ポリカー
ボネートなどの縮合共重合体、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、アクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、シリコン樹脂、アルキツド樹脂、
セルロースエステル樹脂など樹脂中間層として従
来よく使用されている樹脂が用いられる。
本発明において、特に好ましい中間層を構成す
る樹脂は次式()及び()で示される構造単
位を含み、酸価が10〜100である重合体(A)とガラ
ス転位点(Tg)が−70〜20℃の範囲の重合体(B)
とからなる混合物である。
る樹脂は次式()及び()で示される構造単
位を含み、酸価が10〜100である重合体(A)とガラ
ス転位点(Tg)が−70〜20℃の範囲の重合体(B)
とからなる混合物である。
(R1はHまたはCH3;R2はH,CH3,C2H5ま
たはクロルメチル基;nは1〜10の整数を表わ
す) (R3はHまたはCH3を表わす) 重合体(A)は、例えば、下記一般式()で示さ
れる化合物、アクリロニトリルあるいはメタクリ
ロニトリル、及びα,β不飽和カルボン酸および
必要とするならば他の付加重合性不飽和化合物と
の三元、四元あるいは多元共重合体、 (式中、R1,R2およびnは一般式()の場
合と同義) および上記一般式()で示される化合物とア
クリロニトリルあるいはメタクリロニトリルおよ
び必要とするならば他の付加重合性不飽和化合物
との二元、三元あるいは多元共重合体に環状酸無
水物を酸エステルによつて反応せしめた共重合体
を包含する。
たはクロルメチル基;nは1〜10の整数を表わ
す) (R3はHまたはCH3を表わす) 重合体(A)は、例えば、下記一般式()で示さ
れる化合物、アクリロニトリルあるいはメタクリ
ロニトリル、及びα,β不飽和カルボン酸および
必要とするならば他の付加重合性不飽和化合物と
の三元、四元あるいは多元共重合体、 (式中、R1,R2およびnは一般式()の場
合と同義) および上記一般式()で示される化合物とア
クリロニトリルあるいはメタクリロニトリルおよ
び必要とするならば他の付加重合性不飽和化合物
との二元、三元あるいは多元共重合体に環状酸無
水物を酸エステルによつて反応せしめた共重合体
を包含する。
α,β不飽和カルボン酸としてはアクリル酸、
メタクリル酸、エタクリル酸、無水マレイン酸、
メチル無水マレイン酸、フエニル無水マレイン
酸、クロトン酸、イタコン酸、ビニル安息香酸、
ソルビン酸、桂皮酸、アリルスルホン酸、ビニル
スルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸等を代表
例としてあげることができる。
メタクリル酸、エタクリル酸、無水マレイン酸、
メチル無水マレイン酸、フエニル無水マレイン
酸、クロトン酸、イタコン酸、ビニル安息香酸、
ソルビン酸、桂皮酸、アリルスルホン酸、ビニル
スルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸等を代表
例としてあげることができる。
必要に応じて共重合させられる他の付加重合性
不飽和化合物は、例えばアクリル酸エステル類、
アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メ
タクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテ
ル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン
酸エステル類などがあり、付加重合性不飽和結合
を1個有する化合物から選ばれる。具体的には、
例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキルア
クリレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オク
チル、クロルエチルアクリレート、2,2−ジメ
チルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒド
ロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトール
モノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレ
ート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレートなど);アリールアクリレ
ート(例えばフエニルアクリレートなど);メタ
クリル酸エステル類、例えば、アルキルメタアク
リレート(例えばメチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、ベンジルメタクリレート、クロル
ベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−
ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジ
メチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレートな
ど)、アリールメタクリレート(例えば、フエニ
ルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナ
フチルメタクリレートなど);アクリルアミド類、
例えばアクリルアミド、N−アルキルアクリルア
ミド(該アルキル基としては、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル
基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基などがあ
る。)、N−アリールアクリルアミド(該アリール
基としては、例えばフエニル基、トリル基、ニト
ロフエニル基、ナフチル基、ヒドロキシフエニル
基などがある。)、N,N−ジアルキルアクリルア
ミド(該アルキル基としては、メチル基、エチル
基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基などがある。)、N,N−ジ
アリールアクリルアミド(該アリール基として
は、例えばフエニル基などがある。)、N−メチル
−N−フエニルアクリルアミド、N−ヒドロキシ
エチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−ア
セトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド
など;メタクリルアミド類、例えばメタクリルア
ミド、N−アルキルメタクリルアミド(該アルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、t−ブチル
基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シ
クロヘキシル基などがある。)、N−アリールメタ
クリルアミド(該アリール基としては、フエニル
基などがある。)、N,N−ジアルキルメタクリル
アミド(該アルキル基としては、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基などがある。)、N,N−ジアリ
ールメタクリルアミド(該アリール基としては、
フエニル基などがある。)、N−ヒドロキシエチル
−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N
−フエニルメタクリルアミド、N−エチル−N−
フエニルメタクリルアミドなど;アリル化合物、
例えばアリルエステル類(例えば酢酸アリル、カ
プロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸
アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリ
ル、安息香酸アリル、アセトン酢酸アリル、乳酸
アリルなど)、アリルオキシエタノールなど;ビ
ニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテル
(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキ
シビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテ
ル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチ
ルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチ
ルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエ
チレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミ
ノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチル
ビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエー
テル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフ
ルフリルビニルエーテルなど)、ビニルアリール
エーテル(例えばビニルフエニルエーテル、ビニ
ルトリルエーテル、ビニルクロルフエニルエーテ
ル、ビニル−2,4−ジクロルフエニルエーテ
ル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニ
ルエーテルなど);ビニルエステル類、例えばビ
ニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニル
トリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテー
ト、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビ
ニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニル
アセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−
β−フエニルブチレート、ビニルシクロヘキシル
カルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸
ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安
息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン(例えば
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチル
スチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、
イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシ
ルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルス
チレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチ
ルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、
アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、
4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシ
スチレンなど)、ハロゲノスチレン(例えばクロ
ルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチ
レン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチ
レン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨー
ドスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルス
チレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルス
チレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチル
スチレンなど);クロトン酸エステル類、例えば、
クロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチル、
クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
トなど);イタコン酸ジアルキル類(例えばイタ
コン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン
酸ジブチルなど);マレイン酸あるいはフマール
酸のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、
ジブチルフマレートなど)等がある。その他、一
般的には前記一般式()で示される化合物及び
アクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルと
共重合可能である付加重合性不飽和化合物であれ
ばよい。ただし、β−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートの水酸基と室温で反応するような官
能基を有する付加重合性不飽和化合物や1分子に
2個以上の重合性ビニル基を有する多官能付加重
合性不飽和化合物は望ましくない。
不飽和化合物は、例えばアクリル酸エステル類、
アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メ
タクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテ
ル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン
酸エステル類などがあり、付加重合性不飽和結合
を1個有する化合物から選ばれる。具体的には、
例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキルア
クリレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オク
チル、クロルエチルアクリレート、2,2−ジメ
チルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒド
ロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトール
モノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレ
ート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレートなど);アリールアクリレ
ート(例えばフエニルアクリレートなど);メタ
クリル酸エステル類、例えば、アルキルメタアク
リレート(例えばメチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、ベンジルメタクリレート、クロル
ベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−
ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジ
メチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレートな
ど)、アリールメタクリレート(例えば、フエニ
ルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナ
フチルメタクリレートなど);アクリルアミド類、
例えばアクリルアミド、N−アルキルアクリルア
ミド(該アルキル基としては、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル
基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基などがあ
る。)、N−アリールアクリルアミド(該アリール
基としては、例えばフエニル基、トリル基、ニト
ロフエニル基、ナフチル基、ヒドロキシフエニル
基などがある。)、N,N−ジアルキルアクリルア
ミド(該アルキル基としては、メチル基、エチル
基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基などがある。)、N,N−ジ
アリールアクリルアミド(該アリール基として
は、例えばフエニル基などがある。)、N−メチル
−N−フエニルアクリルアミド、N−ヒドロキシ
エチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−ア
セトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド
など;メタクリルアミド類、例えばメタクリルア
ミド、N−アルキルメタクリルアミド(該アルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、t−ブチル
基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シ
クロヘキシル基などがある。)、N−アリールメタ
クリルアミド(該アリール基としては、フエニル
基などがある。)、N,N−ジアルキルメタクリル
アミド(該アルキル基としては、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基などがある。)、N,N−ジアリ
ールメタクリルアミド(該アリール基としては、
フエニル基などがある。)、N−ヒドロキシエチル
−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N
−フエニルメタクリルアミド、N−エチル−N−
フエニルメタクリルアミドなど;アリル化合物、
例えばアリルエステル類(例えば酢酸アリル、カ
プロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸
アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリ
ル、安息香酸アリル、アセトン酢酸アリル、乳酸
アリルなど)、アリルオキシエタノールなど;ビ
ニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテル
(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキ
シビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテ
ル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチ
ルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチ
ルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエ
チレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミ
ノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチル
ビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエー
テル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフ
ルフリルビニルエーテルなど)、ビニルアリール
エーテル(例えばビニルフエニルエーテル、ビニ
ルトリルエーテル、ビニルクロルフエニルエーテ
ル、ビニル−2,4−ジクロルフエニルエーテ
ル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニ
ルエーテルなど);ビニルエステル類、例えばビ
ニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニル
トリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテー
ト、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビ
ニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニル
アセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−
β−フエニルブチレート、ビニルシクロヘキシル
カルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸
ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安
息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン(例えば
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチル
スチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、
イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシ
ルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルス
チレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチ
ルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、
アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、
4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシ
スチレンなど)、ハロゲノスチレン(例えばクロ
ルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチ
レン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチ
レン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨー
ドスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルス
チレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルス
チレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチル
スチレンなど);クロトン酸エステル類、例えば、
クロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチル、
クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
トなど);イタコン酸ジアルキル類(例えばイタ
コン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン
酸ジブチルなど);マレイン酸あるいはフマール
酸のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、
ジブチルフマレートなど)等がある。その他、一
般的には前記一般式()で示される化合物及び
アクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルと
共重合可能である付加重合性不飽和化合物であれ
ばよい。ただし、β−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートの水酸基と室温で反応するような官
能基を有する付加重合性不飽和化合物や1分子に
2個以上の重合性ビニル基を有する多官能付加重
合性不飽和化合物は望ましくない。
前記一般式()で示される化合物とアクリロ
ニトリルあるいはメタクロニトリルおよび必要と
するならば他の付加重合性不飽和化合物との共重
合体に半エステル化される環状酸無水物として
は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドメチ
レン−△4−テトラヒドロ無水フタル酸、3,6
−エンドオキシ−△4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン
酸、クロル無水マレイン酸、無水コハク酸、n−
ドデシル無水コハク酸等がある。
ニトリルあるいはメタクロニトリルおよび必要と
するならば他の付加重合性不飽和化合物との共重
合体に半エステル化される環状酸無水物として
は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドメチ
レン−△4−テトラヒドロ無水フタル酸、3,6
−エンドオキシ−△4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン
酸、クロル無水マレイン酸、無水コハク酸、n−
ドデシル無水コハク酸等がある。
上記重合体の酸価は10〜100でより好ましくは
15〜40である。酸価は100以上では、トナー現像
した際、画像部に白斑点(点状にトナーが付着し
ない現象)が発生する傾向があり、10以下では、
支持体と中間層の密着が劣化する傾向がある。
15〜40である。酸価は100以上では、トナー現像
した際、画像部に白斑点(点状にトナーが付着し
ない現象)が発生する傾向があり、10以下では、
支持体と中間層の密着が劣化する傾向がある。
本発明に使用される重合体(A)におけるアクリロ
ニトリルあるいはメタクリロニトリルの構造単
位、すなわち前記一般式()で示される構造単
位の含有量は5〜60重量%でより好ましくは10〜
40重量%である。また前記一般式()で示され
る構造単位の含有量は30〜80重量%でより好まし
くは40〜60重量%である。これらの範囲外では支
持体との密着、画像部の白斑点、非画像部の汚れ
(非画像部へのトナー付着)、画像部としてのトナ
ーの付着量等の評価項目のうちいずれかまたはい
くつかについて性能が劣化してしまう。
ニトリルあるいはメタクリロニトリルの構造単
位、すなわち前記一般式()で示される構造単
位の含有量は5〜60重量%でより好ましくは10〜
40重量%である。また前記一般式()で示され
る構造単位の含有量は30〜80重量%でより好まし
くは40〜60重量%である。これらの範囲外では支
持体との密着、画像部の白斑点、非画像部の汚れ
(非画像部へのトナー付着)、画像部としてのトナ
ーの付着量等の評価項目のうちいずれかまたはい
くつかについて性能が劣化してしまう。
本発明に用いられる中間層の成分の有機溶剤可
溶性樹脂としての重合体(B)については、ガラス転
移点(Tg)が−70〜20℃の範囲内のホモポリマ
ー及び/または多元共重合体が含まれ、好ましく
は、Tgが−20〜20℃のホモポリマー及び/また
は多元共重合体を、重合体(A)100重量部に対し5
〜30重量部の割合で混合して用いるのが好適であ
る。(5重量部以下では白斑が出易く、30重量部
以上では感光層との接着性が劣化する傾向があ
る。) 重合体(B)の例としてはホモポリマーではポリメ
タクリル酸ブチル(Tg:18℃)、ポリアクリル酸
メチル(Tg:8℃)、ポリアクリル酸エチル
(Tg:−24℃)、ポリアクリル酸ブチル(Tg:−
55℃)、ポリアクリル酸2−エチルヘキシル
(Tg:−70℃)等があり、多元共重合体の例とし
てはメタクリル酸メチル/メタクリル酸エチル/
アクリル酸2−エチルヘキシル=27/37/36(数
値は共重合モル比を表わす。Tg:18℃)、メタク
リル酸メチル/アクリル酸メチル/アクリル酸エ
チル=30/40/30(Tg:−8℃)、スチレン/ア
クリル酸メチル/アクリル酸ブチル=20/10/70
(Tg:−32℃)等が好ましい。
溶性樹脂としての重合体(B)については、ガラス転
移点(Tg)が−70〜20℃の範囲内のホモポリマ
ー及び/または多元共重合体が含まれ、好ましく
は、Tgが−20〜20℃のホモポリマー及び/また
は多元共重合体を、重合体(A)100重量部に対し5
〜30重量部の割合で混合して用いるのが好適であ
る。(5重量部以下では白斑が出易く、30重量部
以上では感光層との接着性が劣化する傾向があ
る。) 重合体(B)の例としてはホモポリマーではポリメ
タクリル酸ブチル(Tg:18℃)、ポリアクリル酸
メチル(Tg:8℃)、ポリアクリル酸エチル
(Tg:−24℃)、ポリアクリル酸ブチル(Tg:−
55℃)、ポリアクリル酸2−エチルヘキシル
(Tg:−70℃)等があり、多元共重合体の例とし
てはメタクリル酸メチル/メタクリル酸エチル/
アクリル酸2−エチルヘキシル=27/37/36(数
値は共重合モル比を表わす。Tg:18℃)、メタク
リル酸メチル/アクリル酸メチル/アクリル酸エ
チル=30/40/30(Tg:−8℃)、スチレン/ア
クリル酸メチル/アクリル酸ブチル=20/10/70
(Tg:−32℃)等が好ましい。
他方、本発明で用いるコロイド状シリカおよ
び/またはアルミナとしては粒径5×10-5〜10-7
cmのものがよく、中間塗布液の調液の際は予じめ
メタノールなどの分散溶媒に分散したものが最も
適している。前記有機溶剤可溶性樹脂に対する比
率は樹脂固型分100重量部に対し固型分で30〜300
重量部の範囲で接着性の向上と非画像部の汚れ
(以下「地汚れ」と記す)の減少に効果がある。
30重量部以下では、接着性が弱く、地汚れも発生
することがあり300重量部以上では接着性と地汚
れは良いが、塗布乾燥後の樹脂中間層がもろくな
り、ヒビが入りやすくなつたり、帯電時に最高表
面電位が下がつてトナーの付着量が下がつたりし
てしまう。特に好ましくは50〜200重量部である。
び/またはアルミナとしては粒径5×10-5〜10-7
cmのものがよく、中間塗布液の調液の際は予じめ
メタノールなどの分散溶媒に分散したものが最も
適している。前記有機溶剤可溶性樹脂に対する比
率は樹脂固型分100重量部に対し固型分で30〜300
重量部の範囲で接着性の向上と非画像部の汚れ
(以下「地汚れ」と記す)の減少に効果がある。
30重量部以下では、接着性が弱く、地汚れも発生
することがあり300重量部以上では接着性と地汚
れは良いが、塗布乾燥後の樹脂中間層がもろくな
り、ヒビが入りやすくなつたり、帯電時に最高表
面電位が下がつてトナーの付着量が下がつたりし
てしまう。特に好ましくは50〜200重量部である。
本発明による中間層の塗布重量としては1.5〜
10.0g/m2が有効であり、3.0〜6.0g/m2が最も
好ましい。1.5g/m2以下では画像部に白斑が出
やすくなる傾向があり、10.0g/m2以上では地汚
れが発生することがある。
10.0g/m2が有効であり、3.0〜6.0g/m2が最も
好ましい。1.5g/m2以下では画像部に白斑が出
やすくなる傾向があり、10.0g/m2以上では地汚
れが発生することがある。
本発明の感光層に用いられる光導電性物質とし
ては無機質では硫化カドミウム、酸化亜鉛、硫化
亜鉛等があり、有機質ではスダンレツド、ダイア
ンブルー等のアゾ顔料、ピレンキノン、アルゴー
ルイエロー等のキノン顔料、インジゴ顔料、フタ
ロシアニン顔料等がある。前記光導電性顔料のバ
インダーとしてはポリウレタン樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステル
の単独または共重合樹脂、ポリエステル、ポリア
ミド、エポキシ樹脂、スチレン−ブタジエン共重
合体、ポリエチレン、ポリスチレン及びこれらの
組み合わせによる混合物がある。その他増感色素
として例えばローズベンガル、オーラミン、ブロ
ムフエノルブルー、フルオレセイン等が添加され
る。電子写真平版印刷材料として通常に用いられ
る光導電性物質は、価格、公害性、性能等の点で
酸化亜鉛が最適であり多くの特許、文献に記され
ている通りである。前記感光層は乾燥塗布重量と
しては通常無機質の場合は15〜35g/m2、有機質
の場合は1〜10g/m2である。以下本発明の実施
例を述べる。
ては無機質では硫化カドミウム、酸化亜鉛、硫化
亜鉛等があり、有機質ではスダンレツド、ダイア
ンブルー等のアゾ顔料、ピレンキノン、アルゴー
ルイエロー等のキノン顔料、インジゴ顔料、フタ
ロシアニン顔料等がある。前記光導電性顔料のバ
インダーとしてはポリウレタン樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステル
の単独または共重合樹脂、ポリエステル、ポリア
ミド、エポキシ樹脂、スチレン−ブタジエン共重
合体、ポリエチレン、ポリスチレン及びこれらの
組み合わせによる混合物がある。その他増感色素
として例えばローズベンガル、オーラミン、ブロ
ムフエノルブルー、フルオレセイン等が添加され
る。電子写真平版印刷材料として通常に用いられ
る光導電性物質は、価格、公害性、性能等の点で
酸化亜鉛が最適であり多くの特許、文献に記され
ている通りである。前記感光層は乾燥塗布重量と
しては通常無機質の場合は15〜35g/m2、有機質
の場合は1〜10g/m2である。以下本発明の実施
例を述べる。
実施例 1
窒素気流下にジオキサン300gを100℃に加熱
し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート150g、
アクリロニトリル60g、メチルメタクリレート
79.5g、メタクリル酸10.5g及び過酸化ベンゾイ
ル1.2gの混合液を2時間かかつて滴下した。滴
下終了15分後にジオキサン300gと過酸化ベンゾ
イル0.3gを加えてそのまま4時間反応させた。
反応終了後メタノールで希釈して水中に投じて共
重合体を沈澱させ、70℃で真空乾燥させた。この
2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体
()の酸価は20であり、これを有機溶剤可溶性
樹脂の(A)成分とする。
し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート150g、
アクリロニトリル60g、メチルメタクリレート
79.5g、メタクリル酸10.5g及び過酸化ベンゾイ
ル1.2gの混合液を2時間かかつて滴下した。滴
下終了15分後にジオキサン300gと過酸化ベンゾ
イル0.3gを加えてそのまま4時間反応させた。
反応終了後メタノールで希釈して水中に投じて共
重合体を沈澱させ、70℃で真空乾燥させた。この
2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体
()の酸価は20であり、これを有機溶剤可溶性
樹脂の(A)成分とする。
支持体として坪量100g/m2の上質紙にポリビ
ニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド
の5%水溶液を2〜3g/m2塗布した後、乾燥し
て導電加工紙を得た。この両面にエチレン−アク
リル酸メチル−アクリル酸共重合体(重量比65:
30:5)の水性ラテツクスを乾燥被覆量が0.2
g/m2となる様に塗布・乾燥した後、ポリエチレ
ン(密度0.92、平均分子量22000、軟化点112℃)
85%及び導電性カーボン15%を溶融混練したペレ
ツトメルトインデツクス:3)を用いて押し出し
法により片面あたり25μmの厚さで両面にラミネ
ートして導電性支持体を得た。次いで支持体の片
面のポリエチレン・ラミネート層の表面を
5KVA・sec/m2の条件でコロナ放電処理しこの
上に下記組成の塗布液をワイヤ・バーにより乾燥
被覆量が4.5g/m2となる様に塗布・乾燥して中
間層を設けた。
ニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド
の5%水溶液を2〜3g/m2塗布した後、乾燥し
て導電加工紙を得た。この両面にエチレン−アク
リル酸メチル−アクリル酸共重合体(重量比65:
30:5)の水性ラテツクスを乾燥被覆量が0.2
g/m2となる様に塗布・乾燥した後、ポリエチレ
ン(密度0.92、平均分子量22000、軟化点112℃)
85%及び導電性カーボン15%を溶融混練したペレ
ツトメルトインデツクス:3)を用いて押し出し
法により片面あたり25μmの厚さで両面にラミネ
ートして導電性支持体を得た。次いで支持体の片
面のポリエチレン・ラミネート層の表面を
5KVA・sec/m2の条件でコロナ放電処理しこの
上に下記組成の塗布液をワイヤ・バーにより乾燥
被覆量が4.5g/m2となる様に塗布・乾燥して中
間層を設けた。
2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体
8重量部 メタクリル酸メチル/メタクリル酸エチル/ア
クリル酸2−エチルヘキシル共重合体(モル比
27/37/36)(B成分) 2重量部 メタノール・シリカゾル(メタノール30wt
%:日産化学社製品) 28重量部 メチレングリコール 30重量部 メチルエチルケトン 18重量部 メチルセロソルブアセテート 42重量部 メタノール・シリカゾル中のシリカの粒径は粒
度分布測定器ナノサイザー(英国;クールター社
製)で測定したところ粒度分布の中心は0.18μm
であつた。
8重量部 メタクリル酸メチル/メタクリル酸エチル/ア
クリル酸2−エチルヘキシル共重合体(モル比
27/37/36)(B成分) 2重量部 メタノール・シリカゾル(メタノール30wt
%:日産化学社製品) 28重量部 メチレングリコール 30重量部 メチルエチルケトン 18重量部 メチルセロソルブアセテート 42重量部 メタノール・シリカゾル中のシリカの粒径は粒
度分布測定器ナノサイザー(英国;クールター社
製)で測定したところ粒度分布の中心は0.18μm
であつた。
この中間層の上に下記組成の塗布液を乾燥被覆
量が20g/m2となる様に塗布・乾燥して光導電層
を設け、電子写真平版印刷材料を得た。
量が20g/m2となる様に塗布・乾燥して光導電層
を設け、電子写真平版印刷材料を得た。
光導電性酸化亜鉛(堺化学工業(株)製のサゼツク
ス2000) 100重量部 ダイヤナールLR018(三菱レーヨン社製)
35重量部 ローズベンガル 0.1〃 フルオレセイン 0.2〃 メタノール 10〃 トルエン 150〃 この様にして得られた電子写真平版印刷材料
を、ELP280製版機(富士フイルム社製)を用い
て製版した。これをELPエツチ液(富士フイル
ム社製)で不感脂化処理し、オフセツト印刷機、
ハマダスター700で印刷した結果、25000枚の良好
な印刷物が得られた。
ス2000) 100重量部 ダイヤナールLR018(三菱レーヨン社製)
35重量部 ローズベンガル 0.1〃 フルオレセイン 0.2〃 メタノール 10〃 トルエン 150〃 この様にして得られた電子写真平版印刷材料
を、ELP280製版機(富士フイルム社製)を用い
て製版した。これをELPエツチ液(富士フイル
ム社製)で不感脂化処理し、オフセツト印刷機、
ハマダスター700で印刷した結果、25000枚の良好
な印刷物が得られた。
実施例 2
実施例1と同様な方法で、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート共重合体()を合成した。2
−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体
()の組成は、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート/アクリロニトリル/メチルメタクリレー
ル/メタクリル酸=60/10/27.5/2.5重量%で
あつた。これを有機溶剤可溶性樹脂のうちの(A)成
分とし、ポリメタクリル酸ブチル(Tg:18℃)
を(B)成分として実施例1と同様の方法で電子写真
平版材料を得、印刷した結果20000枚の良好な印
刷物を得た。
ルメタクリレート共重合体()を合成した。2
−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体
()の組成は、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート/アクリロニトリル/メチルメタクリレー
ル/メタクリル酸=60/10/27.5/2.5重量%で
あつた。これを有機溶剤可溶性樹脂のうちの(A)成
分とし、ポリメタクリル酸ブチル(Tg:18℃)
を(B)成分として実施例1と同様の方法で電子写真
平版材料を得、印刷した結果20000枚の良好な印
刷物を得た。
実施例 3
実施例1で用いた樹脂中間層成分のうちメタノ
ール・シリカをアルミナ・ゾルに替え下記の処方
で調液した。
ール・シリカをアルミナ・ゾルに替え下記の処方
で調液した。
2−ヒドロキシ・エチルメタクリレート共重合
体 9重量部 ポリアクリル酸メチル(Tg:8℃) 1重量部 アルミナ・ゾル200(水10wt%;日産化学社製
品) 80重量部 メチレングリコール 30〃 メチルエチルケトン 18〃 メチルセロソルブアセテート 42〃 これを実施例1と同様の導電性支持体に塗布
し、感光層も同様に塗布して、電子写真感光体と
した。これを実施例1と同様に製版し印刷したと
ころ20000枚の良好な印刷物を得た。
体 9重量部 ポリアクリル酸メチル(Tg:8℃) 1重量部 アルミナ・ゾル200(水10wt%;日産化学社製
品) 80重量部 メチレングリコール 30〃 メチルエチルケトン 18〃 メチルセロソルブアセテート 42〃 これを実施例1と同様の導電性支持体に塗布
し、感光層も同様に塗布して、電子写真感光体と
した。これを実施例1と同様に製版し印刷したと
ころ20000枚の良好な印刷物を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 導電性支持体上に中間層及び光導電性感光層
をこの順に設けてなる電子写真感光体において、
該中間層が有機溶剤可溶性樹脂、並びにコロイド
状シリカおよびコロイド状アルミナから選ばれた
少なくとも1つのコロイド状物質からなることを
特徴とする電子写真感光体。 2 該有機溶剤可溶性樹脂が、次式()及び
()で示される構造単位を含み且つ酸価が10〜
100である重合体(A)と、ガラス転移点(Tg)が−
70〜20℃の範囲内のホモポリマー及び/または多
元共重合体(B)とから成ることを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の電子写真感光体: (R1はHまたはCH3;R2はH,CH3,C2H5ま
たはクロルメチル基;nは1〜10の整数を表わ
す) (R3はHまたはCH3を表わす) 3 該導電性支持体が導電化剤を含んだ紙の片面
または両面をカーボンを5〜30重量%含んだポリ
エチレンをそれぞれ5〜50μmの厚さでラミネー
トしたものである特許請求の範囲第1項に記載の
電子写真感光体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58172832A JPS6064358A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | 電子写真感光体 |
US06/651,738 US4559288A (en) | 1983-09-19 | 1984-09-18 | Electrophotographic photoreceptor |
EP84306366A EP0138404B1 (en) | 1983-09-19 | 1984-09-18 | Electrophotographic photoreceptor |
DE8484306366T DE3465640D1 (en) | 1983-09-19 | 1984-09-18 | Electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58172832A JPS6064358A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6064358A JPS6064358A (ja) | 1985-04-12 |
JPH0331261B2 true JPH0331261B2 (ja) | 1991-05-02 |
Family
ID=15949174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58172832A Granted JPS6064358A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | 電子写真感光体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4559288A (ja) |
EP (1) | EP0138404B1 (ja) |
JP (1) | JPS6064358A (ja) |
DE (1) | DE3465640D1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5064715A (en) * | 1986-11-12 | 1991-11-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dielectric coating for recording member containing hydrophobic silica |
US5013624A (en) * | 1989-12-15 | 1991-05-07 | Xerox Corporation | Glassy metal oxide layers for photoreceptor applications |
JPH0588396A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-09 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真感光体 |
US6361921B1 (en) * | 1998-11-12 | 2002-03-26 | Andrew Michael Thompson | Priming composition for bonding photoresists on substrates |
EP1205808B1 (en) * | 2000-11-08 | 2010-03-17 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and method of preparation thereof and image forming method and apparatus using the photoreceptor |
US7014983B1 (en) * | 2004-10-05 | 2006-03-21 | Eastman Kodak Company | Multilayer imageable element |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3597272A (en) * | 1968-03-29 | 1971-08-03 | Eastman Kodak Co | Electrophotographic element and process |
US4064304A (en) * | 1973-06-18 | 1977-12-20 | Kanzaki Paper Manufacturing Company, Ltd. | Coated synthetic paper adapted for offset printing and method for production thereof |
JPS56143443A (en) * | 1980-04-11 | 1981-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Electrically conductive support for electrophotographic material |
JPS5781266A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-21 | Canon Inc | Electrophotographic receptor |
JPS5824149A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用感光材料 |
JPS58152253A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-09 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPS5912453A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光材料 |
-
1983
- 1983-09-19 JP JP58172832A patent/JPS6064358A/ja active Granted
-
1984
- 1984-09-18 DE DE8484306366T patent/DE3465640D1/de not_active Expired
- 1984-09-18 EP EP84306366A patent/EP0138404B1/en not_active Expired
- 1984-09-18 US US06/651,738 patent/US4559288A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0138404A1 (en) | 1985-04-24 |
EP0138404B1 (en) | 1987-08-26 |
JPS6064358A (ja) | 1985-04-12 |
DE3465640D1 (en) | 1987-10-01 |
US4559288A (en) | 1985-12-17 |
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