JPH03283009A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｌｔ上Δ村且分肚 この発明は、磁気記録再生装置、特にＦＤＤ。

ＨＤＤ、ＶＴＲ等に使用される金属強磁性薄膜スパッタ
型磁気ヘッドの製造方法に関する。

礼未二伎血 従来のこの種の磁気ヘッドの製造方法について説明する
。第１０図に示すように、酸化物強磁性体もしくは非磁
性基板にトラック幅規制溝とデプス規制溝をほどこした
コアブロック半体２１に、第１１図に示すように下地膜
、金属強磁性薄膜。

およびギャップ膜を含むスパッタ膜２２を成長する。こ
のとき、スパッタ膜２２には、スパッタ粒子の最も飛来
し易い入射方向２３と略平行に柱状構造のコラム２４が
生じ、その隙間にフレバス２５が生じる。その後にコア
ブロック半体２１を第１λ図に示す通り溶着ガラス２６
を用いて接合し、破線に沿ってスライスする。しかる後
に第９図に示す摺動面２７およびコアチップ側面２８を
研磨加工してコアチップ２９が完成する。

ところで、上記の従来のスパッタリングでは、スパッタ
粒子の入射方向２３が摺動面２７およびコアチップ側面
２８の研磨加工面に対して車行となっているので、スパ
ッタ膜２２において生じるコラム２４Ａとコラム２４Ｂ
の間のクレバス２５と上記研磨加工面が平行になり、研
磨加工に対して弱い方向で研磨することになるため、フ
レバス２５が広がり、フレバス２５から溶着ガラス２６
に向かってクラック３０が生じ、コアチップ２９の歩留
りが低下するという欠点があった。

・　　　５の この発明は、スパッタリングにおけるスパッタ粒子の入
射方向と平行に生じるフレバスが少なくとも摺動面を含
むコアチップの研磨加工面に対して非平行となるように
スパッタリングの基板ホルダおよびターゲットを配置す
ることを特徴とする。

■ 上記の構成によると、スパッタ粒子の入射方向と平行に
生じるスパッタ膜のコラム間のフレバスは、スパッタリ
ング後の工程における摺動面もしくはコアチップ側面の
いずれの研磨加工の面とも平行ではないので、研磨加工
によりフレバスには強い力がかからなくなり、フレバス
が広がることもなくフレバスから溶着ガラスに向かって
クラックが生じなくなり、コアチップの歩留りを改善で
きる。

支丘性 以下、この発明について図面を参照して説明する。第１
図は第１の実施例の磁気ヘッドのコアチおいて１はコア
ブロック半休、２は下地膜、金属強磁性薄膜、およびギ
ャップ膜からなるスパッタ膜、３はスパッタ粒子の最も
飛来し易い入射方向を示す矢印、４はスパッタ膜におい
て発生するコラム、５はフレバス、６は溶着ガラス、７
は研磨加工を行う摺動面、８は研磨加工を行うコアチッ
プ側面である。

次に上記のコアチップ９の製造方法について説明する。

本実施例においては、第２図に示すようにスパッタ粒子
の最も飛来し易い入射方向３は、右斜め４５°、仰角４
５″になるようにスパッタリングの基板ホルダおよびタ
ーゲットを配置してスパッタリングを行う。

しかるのちに第４図に示すように一対のコアブロック半
体１，１を突き合わせて溶着ガラス６を用いて接着し、
破線に沿って切り離し、第１図に示すように摺動面７お
よびコアチップ側面８を研磨加工してコアチップ９を得
る。

この実施例によれば、第３図に示すように柱状構造のコ
ラム４はスパッタ粒子の入射方向３に成長するので、フ
レバス５も第１図に示すように記録媒体摺動面７および
コアチップ側面のいずれの研磨加工面とも４５″の角度
をもち、研磨加工時の力はフレバス５に対して４５″の
角度をもってかかるので、研磨加工に対して強くなり、
フレバス５が広がることにより発生する溶着ガラス６の
クラックは減少してコアチップ９の歩留りが良くなると
いう利点がある。

実１舛２゜ 第５図はこの発明の第２の実施例の斜視図である。この
実施例は前記第１の実施例のスパッタリングに代えて、
第６図に示すようにマスク１０を用いてシバツタ膜１１
をトラック溝の底に付着しないようにしていることと、
スパッタ粒子の最も飛来し易い入射方向１３が仰角４５
″　となっている点を除いては第１の実施例と同様であ
るため、同一部分には同一符号を付してその説明を省略
する。この実施例では、第５図に示すようにコアチップ
側面８の研磨加工面にはスパッタ膜１１が出ないように
スパッタリングの時に第６図のごとく上記マスク１０を
用いているので、コアチップ側面８の研磨加工において
スパッタ膜１１のフレバス１５から溶着ガラス６にクラ
ックが生じることはないので、第６図におけるスパッタ
粒子の最も飛来し易い入射方向１３は仰角４５″のみと
なっているが、摺動面７の研磨加工では上記仰角により
、コラム１４は上記摺動面７の研磨加工の面とは４５″
の角度をもつことになり、溶着ガラス６にはクラックは
発生せず、安定した高いチップ歩留りが得られるという
利点がある。

ｉ１Δ熱果 以上説明したように、この発明は金属強磁性薄膜を酸化
物磁性体基板または非磁性基板にスパッタリングにより
成膜したものを磁気ヘッドコア材とした磁気ヘッドにお
いて、スパッタ粒子の入射方向がスパッタリングの後の
工程における少なくとも摺動面を含むコアチップの研磨
加工面に対して非平行となるようにスパッタリングの基
板ホルダおよびターゲットを配置したことによって、ス
パッタリングにおいてスパッタ粒子の最も飛来し易い入
射方向と平行に生じる柱状構造のコラムとコラムの隙間
にフレバスが生じても、フレバスは研磨加工に対して平
行ではなく強い向きに生じるため、研磨加工によりフレ
バスを境としてコラム同志がハガレることかなくなり、
そこから溶着ガラスに向かってクラックが生じることも
なく、安定した高いチップ歩留りが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明における磁気ヘッドの第１実施例の斜
視図、第２図ないし第４図は第１実施例の製造工程を示
す斜視図、第５図はこの発明における第２実施例の斜視
図、第６図ないし第８図は第２実施例の製造工程を示す
斜視図、第　を図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第１０
図ないし第１２図は従来例の製造工程の斜視図である。 １・・・・・・コアブロック半休、 ２．１１・・・・・・スパッタ膜、 ３．１３・・・・・・スパッタ粒子の最も飛来し易い入
射方向、 ４．１４・・・・・・コラム、 ５．１５・・・・・・フレバス、 ６・・・・・・溶着ガラス、 ７・・・・・・摺動面、 ８・・・・・・コアチップ側面、 ９．１６・・・・・・コアチップ、 １０・・・・・・マスク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 金属強磁性薄膜を酸化物磁性体、または非磁性基板にス
   パッタリングにより成膜したものを磁気ヘッドコア材と
   した磁気ヘッドにおいて、 スパッタ粒子の入射方向がスパッタリングの後の工程に
   おける少なくとも摺動面を含むコアチップの研磨加工面
   に対して非平行とすることを特徴とする磁気ヘッドの製
   造方法。