JPH03268243A - 光ディスク - Google Patents

光ディスク

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JPH03268243A
JPH03268243A JP2064387A JP6438790A JPH03268243A JP H03268243 A JPH03268243 A JP H03268243A JP 2064387 A JP2064387 A JP 2064387A JP 6438790 A JP6438790 A JP 6438790A JP H03268243 A JPH03268243 A JP H03268243A
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oxide
reflective film
oxygen
film
atomic ratio
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Masayuki Tatewaki
館脇　政行
Hiromasa Kato
加藤　博正
Kenichi Obinata
健一 小日向
Masahiro Aoki
正裕 青木
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、デジタル・オーディオ・ディスク（いわゆる
コンパクトディスク）やビデオディスク等の光ディスク
に関するものであり、特にＡｌ反射膜を有する光ディス
クの改良に関するものである。
〔発明の概要〕
本発明は、光ディスクのＡｌ反射膜中に安定な酸化状態
のＡＩｌ酸化物を導入することにより、経時変化を解消
し耐久性の改善を図ろうとするものである。
〔従来の技術〕
デジタル・オーディオ・ディスクやビデオディスク等に
代表される光ディスクは、一般にポリカーボネートやア
クリル樹脂等からなる透明基板上に反射膜を成膜し、こ
の上に硬質の保護膜等を形成することで構成されている
。
そして、前記反射膜としては、高反射率を有するＡｊ２
反射膜が広く用いられている。
ところで、前記Ａｌ反射膜は、金属であるが故に長時間
保存時に外部要因により経時変化を受は易いという欠点
を有しており、その改善が望まれる。
そこで、例えばＡｌ反射膜の表面を予め酸化して酸化膜
を形成し、酸化アルミニウムーアルミニラム−酸化アル
ミニウムなる三層構造とすることで前記経時変化を抑え
ようとする試みがなされている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、Ａ４２反射膜を前述のような三層構造と
した場合には、Ａｌ反射膜の表面が酸化膜で覆われるこ
とになるため、反射率の低下が著しく、また耐久性改善
の効果も十分なものとは言えない。
そこで本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案さ
れたものであって、十分な反射率を有し且つ経時変化の
少ないＡ４２反射膜を提供し、これによって耐久性に優
れた光ディスクを提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者等は、前述の目的を達成せんものと鋭意研究を
重ね、特にへ！反射膜の膜構造を解析して耐性との関連
を調べた結果、Ａｌ反射膜全体に酸化物が分散した構造
をとる方が経時変化に強いとの結論を得るに至った。
本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものであっ
て、基板上にＡ４２反射膜が成膜されてなる光ディスク
において、前記Ａｆｆｉ反射膜がＡｌ酸化物を含有する
とともに、該Ａｐ、酸化物を構成するＡｌと酸素の原子
比（酸素／Ａｌ）が１．３以上であることを特徴とする
ものである。
本発明の光ディスクにおいては、Ａ４２反射膜中にＡＩ
！酸化物が分散されるが、ここでＡＩＶ、酸化物の酸化
状態が重要で、前記Ａｌ酸化物が安定な酸化物であるこ
とが必要である。前記Ａｌ酸化物が安定であるか否かは
、Ａｆｆｉ酸化物中のＡｌと酸素の比によって区別する
ことができ、ここで言う安定なＡｌ酸化物ではＡＡと酸
素の原子比〔酸素／Ａｆｆｉ）が１．３以上である。逆
に、前記原子比（酸素／Ａｌ）が１．３未満であると、
不安定な酸化物となる。
前記Ａｌ酸化物の状態は、１１反射膜の耐久性に大きく
影響を与え、Ａｌ酸化物の原子比（酸素／／ｌ）が１．
３未満で不安定な酸化物であると、Ａｌ反射膜中に分散
せしめても経時変化を抑えることは難しい。
そこで、本発明においては、Ａｌ酸化物の原子比（酸素
／Ａりを１．３以上とし、安定な酸化物とすることによ
りＡＡ反射膜の耐久性を確保することとする。前記原子
比（酸素／Ａｆｉ）は１．３以上であれば特に上限は制
約されないが、酸化物としての限度があり、したがって
Ａ乏二〇（酸素）は１：１．３〜．１：２．Ｏとするこ
とが好ましい。
本発明の光ディスクのＡＰ反射膜においては、前述のよ
うに酸素と結合しない純粋なＡｌと酸素と結合したＡｊ
２酸化物とが共存することになるが、ここで純粋なＡｌ
は反射率を確保するために必要であり、Ａｌ酸化物は経
時変化を抑えるために必要である。したがって、Ａｌ反
射膜中のＡｌ酸化物の量は、これらを考慮して設定する
必要がある。
実用的には、Ａｌ反射膜の反射率７０％以上を確保し、
しかも経時変化をなるべく抑え得るような量に設定する
ことが好ましい。最も好適な範囲としては、酸素と結合
しない純粋なＡｆと酸素と結合したＡｌの原子比で見た
ときに、酸素と結合したＡｌの割合が概ね２６〜３３原
子％となる範囲である。
上述のＡＩｌ酸化物は、Ａｌ反射膜を蒸着、スパッタリ
ング等の手法によって成膜する際に、雰囲気中に微量の
酸素を導入することで生成される。
酸素の導入量は、成膜されたＡｌ反射膜が先に述べた要
件を満たすように成膜レート等に応じて適宜設定すれば
よい。
Ａｌ反射膜は、上述のようにＡｌ酸化物が分散されたＡ
ｆからなる単層構造であってもよいし、さらに表面に薄
い酸化膜を形成し表面近傍においてＡｊ２酸化物が多く
存在するようなかたちとしてもよい。
本発明は、Ａｌ反射膜を有する光ディスクであればいず
れにも適用することができ、例えばデジタル・オーディ
オ・ディスク、ビデオディスク等の他、光磁気ディスク
等の書き換え可能型光ディスクや追記型光ディスク等で
あってもＡｌ反射膜を有するものであれば適用可能であ
る。
光ディスクの基板材料も特に限定されず、公知のものが
いずれも使用可能であり、例示するならばアクリル樹脂
やポリカーボネート等の透明樹脂材料が挙げられる。
〔作用〕
Ａｌ反射膜中に安定な状態のＡｌ酸化物を共存させると
、経時変化が抑えられ、耐久性が改善される。
また１、１１反射膜の反射率は、酸素と結合していない
純粋なＡｌ金属／ｌ）によって確保される。
〔実施例〕
以下、本発明を具体的な実験結果に基づいて説明する。
先ず、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基板上に
酸素を導入しながら／ｌを蒸着し、Ａｌ反射膜を形成し
た。成膜したＡｌ反射膜の膜厚は、およそ７０〜８０ｎ
ｍ程度である。
成膜したＡｌ反射膜について、ｘｐｓ　（Ｘ線光電子分
光法）によって膜の解析を行った。結果を第１図に示す
。
ＸＰＳは、Ｘ線の照射によって原子から放出される光電
子の運動エネルギーを順次測定して、構成元素とその量
、結合状況についての情報を得るもので、したがって酸
素と結合していない純粋な／ｌ（金属ＡＥ）と酸素と結
合し酸化物となっているＡ／２を区別して定量すること
ができる。なお、ここではＡｌ反射膜の深さ方向の分析
を行うため、Ａｒイオンスパッタを併用した。
第１図は、酸素と結合していないＡｉ以下、金属Ａｊ２
と称する。）、酸素と結合したＡｌ（以下酸化物Ａｌと
称する。）、酸素及び炭素の各元素についてのＡｌ反射
膜膜厚方向での濃度プロファイルを示すものである。図
中、横軸は膜厚をスパッタ時間として表している。また
、縦軸は各元素の原子百分率（原子％）を表している。
この第１図を見ると、酸素を導入しながら蒸着した。１
１反射膜中には、Ａｌ酸化物がＡＮの原子比で３０原子
％程度混入していることがわかる。
また、このＡｌ酸化物におけるＡＩと酸素の原子比Ｏ／
Ａｌは１．３以上である。
次に、このようにしてＡｌ反射膜を形成した光ディスク
について、加速劣化試験を行って経時変化を有無を調べ
た。加速劣化試験の条件は、６０°Ｃ２相対湿度８５％
、２００時間である。
その結果、加速劣化試験の後にも前記Ａｌ反射膜には経
時変化はほとんど認められなかった。
第２図に加速劣化試験後のＡｊ２反射膜のプロファイル
を示す。第２図を見ると、加速劣化試験後もＡ、ｆ反射
膜のプロファイルには変化が見られない。
比較のために酸素を導入しないでＡｌ反射膜を成膜した
光ディスクについても同様の試験を行った。酸素を導入
しないで成膜したＡｆｆｉ反射膜にもＡＰ酸化物が若干
台まれていたが、このＡｌ酸化物におけるＡＩ２と酸素
の原子比０／Ａｌはほぼ１であった。この場合にも、加
速劣化試験前と加速劣化試験後での濃度プロファイルの
間にはほとんど変化がなかったが、加速劣化試験後のＡ
ｌ反射膜は明らかに経時変化を起こしていた。
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明の光ディスク
においては、Ａｌ反射膜中に安定なＡＰ酸化物を共存さ
せているので、当該Ａｌ反射膜の経時変化を抑えること
ができ、耐久性に優れた光ディスクを提供することが可
能である。
また、Ａ４２反射膜の反射率を酸素と結合していないＡ
ｆｆｉによって確保することができ、高い反射率を有す
る光ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は酸素を導入して蒸着されたＡ４２反
射膜における膜厚方向の濃度プロファイルを示す特性図
であり、第１図は加速劣化試験前のプロファイルを、第
２図は加速劣化試験後のプルファイルをそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基板上にＡｌ反射膜が成膜されてなる光ディスクにおい
    て、 前記Ａｌ反射膜がＡｌ酸化物を含有するとともに、該Ａ
    ｌ酸化物を構成するＡｌと酸素の原子比（酸素／Ａｌ）
    が１．３以上であることを特徴とする光ディスク。
JP2064387A 1990-03-16 1990-03-16 光ディスク Pending JPH03268243A (ja)

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