JPH03264574A - テトラカルボン酸二無水物の製造方法 - Google Patents
テトラカルボン酸二無水物の製造方法Info
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- JPH03264574A JPH03264574A JP2054376A JP5437690A JPH03264574A JP H03264574 A JPH03264574 A JP H03264574A JP 2054376 A JP2054376 A JP 2054376A JP 5437690 A JP5437690 A JP 5437690A JP H03264574 A JPH03264574 A JP H03264574A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はエポキシ樹脂の硬化剤、ポリイミド樹脂及びポ
リエステル樹脂の原料として有用な下記構造式[1]で
表わされるテトラカルボン酸二無水物(以下、無水物A
と呼ぶ)の製造方法に関する。
リエステル樹脂の原料として有用な下記構造式[1]で
表わされるテトラカルボン酸二無水物(以下、無水物A
と呼ぶ)の製造方法に関する。
ピ2
(従来の技術)
テトラカルボン酸二無水物(無水物A)は、スチレン系
化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる。
化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる。
この反応には、スチレン系化合物の重合を防止するため
重合禁止剤が使用されるのが一般的である。例えば、−
酸化窒素の雰囲気下でのフェノチアジン系化合物(特開
昭6075474号)、置換ピロール系化合物(特開平
1]68682号)等が提案されている。しかしながら
、前者の場合は有害な一酸化窒素を併用するために、こ
れを反応後に回収し、後処理する必要がある。又、後者
の場合は、置換ピロール系化合物が高価であり、かつ必
ずしも満足のいく収率が得られていないという欠点があ
った。
重合禁止剤が使用されるのが一般的である。例えば、−
酸化窒素の雰囲気下でのフェノチアジン系化合物(特開
昭6075474号)、置換ピロール系化合物(特開平
1]68682号)等が提案されている。しかしながら
、前者の場合は有害な一酸化窒素を併用するために、こ
れを反応後に回収し、後処理する必要がある。又、後者
の場合は、置換ピロール系化合物が高価であり、かつ必
ずしも満足のいく収率が得られていないという欠点があ
った。
(発明が解決しようとする課題)
そこで本発明の目的は、無水物Aを、容易に、安価にか
つ高収率で製造する方法を提供することにある。
つ高収率で製造する方法を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明は、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒド
ロキシアミンアルミニウム塩の存在下、もしくはN−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩と芳香
族アルコール系化合物との存在下、スチレン系化合物と
無水マレイン酸とを付加反応させることを特徴とする前
記無水物Aの製造方法に関する。
ロキシアミンアルミニウム塩の存在下、もしくはN−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩と芳香
族アルコール系化合物との存在下、スチレン系化合物と
無水マレイン酸とを付加反応させることを特徴とする前
記無水物Aの製造方法に関する。
本発明は、スチレン系化合物と無水マレイン酸とを付加
反応させるにあたり、N−ニトロソフェニルヒドロキシ
アミンアルミニウム塩、もしくはN−ニトロソフェニル
ヒドロキシアミンアルミニウム塩と芳香族アルコール系
化合物とを共存させることにより、反応中に無水物A(
構造式[1]で表わされるテトラカルボン酸二無水物)
が結晶化し、これを濾取できること、及びさらに濾液を
冷却するか、あるいはエーテル系溶媒もしくはケトン系
溶媒との混合溶媒を用いて再沈澱させることにより無水
物Aを高収率で得ることができるという、知見に基くも
のである。
反応させるにあたり、N−ニトロソフェニルヒドロキシ
アミンアルミニウム塩、もしくはN−ニトロソフェニル
ヒドロキシアミンアルミニウム塩と芳香族アルコール系
化合物とを共存させることにより、反応中に無水物A(
構造式[1]で表わされるテトラカルボン酸二無水物)
が結晶化し、これを濾取できること、及びさらに濾液を
冷却するか、あるいはエーテル系溶媒もしくはケトン系
溶媒との混合溶媒を用いて再沈澱させることにより無水
物Aを高収率で得ることができるという、知見に基くも
のである。
以下本発明について説明する。
本発明の方法に用いられる、芳香族アルコール化合物と
して、2.4−ジニトロフェノール、2゜6−ジターシ
ャリ−ブチル−4−メチルフェノール、2.6−シシク
ロペンチルー4−メチルフェノール、2.2′−メチレ
ンビス(4−エチル−6−ターシャリ−ブチルフェノー
ル)、4.4’メチレンビス(2,6−ジターシャリ−
ブチルフェノール)、4.4’−チオビス(3−メチル
−6−ターシャリ−ブチルフェノール)、4−メトキシ
フェノール等のフェノール系化合物、ヒドロキノン、ベ
ンジルヒドロキノン、ジターシャリ−ブチルヒドロキノ
ン、カテコール、p−ターシャリ−ブチルカテコール、
ジターシャリ−ブチルカテコール、ピロガロール等のキ
ノン系化合物があげられる。
して、2.4−ジニトロフェノール、2゜6−ジターシ
ャリ−ブチル−4−メチルフェノール、2.6−シシク
ロペンチルー4−メチルフェノール、2.2′−メチレ
ンビス(4−エチル−6−ターシャリ−ブチルフェノー
ル)、4.4’メチレンビス(2,6−ジターシャリ−
ブチルフェノール)、4.4’−チオビス(3−メチル
−6−ターシャリ−ブチルフェノール)、4−メトキシ
フェノール等のフェノール系化合物、ヒドロキノン、ベ
ンジルヒドロキノン、ジターシャリ−ブチルヒドロキノ
ン、カテコール、p−ターシャリ−ブチルカテコール、
ジターシャリ−ブチルカテコール、ピロガロール等のキ
ノン系化合物があげられる。
N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩
の使用量は、スチレン系化合物100に対してモル比で
0.01〜10、好ましくは0.1〜2とすることが高
収率で無水物Aを得るために適当である。
の使用量は、スチレン系化合物100に対してモル比で
0.01〜10、好ましくは0.1〜2とすることが高
収率で無水物Aを得るために適当である。
又、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウ
ム塩と芳香族アルコール系化合物を併用する場合、両者
の合計をスチレン系化合物100に対してモル比で、0
.01〜10、好ましくは0.1〜2の範囲とすること
が、高収率で無水物Aを得るために適当である。尚、N
−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミニウム塩に
対する芳香族アルコール系化合物のモル比は0.1〜2
0、好ましくは0.5〜10の範囲とすることが適当で
ある。
ム塩と芳香族アルコール系化合物を併用する場合、両者
の合計をスチレン系化合物100に対してモル比で、0
.01〜10、好ましくは0.1〜2の範囲とすること
が、高収率で無水物Aを得るために適当である。尚、N
−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミニウム塩に
対する芳香族アルコール系化合物のモル比は0.1〜2
0、好ましくは0.5〜10の範囲とすることが適当で
ある。
上記範囲にすることにより反応時に目的物が結晶として
析出し、容易に結晶が得られる。また、反応時に析出し
てくる無水物Aは冷却することなくそのままの温度で濾
過でき、濾液は再び反応容器へ循環し、反応させること
もできるし、さらにそのまま冷却して濾液をエーテル系
溶媒もしくはケトン系溶媒との混合溶媒を用いて再沈澱
させることにより高収率で無水物Aを得ることができる
。
析出し、容易に結晶が得られる。また、反応時に析出し
てくる無水物Aは冷却することなくそのままの温度で濾
過でき、濾液は再び反応容器へ循環し、反応させること
もできるし、さらにそのまま冷却して濾液をエーテル系
溶媒もしくはケトン系溶媒との混合溶媒を用いて再沈澱
させることにより高収率で無水物Aを得ることができる
。
本発明に使用されるスチレン系化合物とは下記構造式[
2]で表わされるものである。
2]で表わされるものである。
(式中、R1は水素またはメチル基を表わし、R2は水
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)具体例
をあげるとスチレン、p−メチルスチレン、p−エチル
スチレン、p−イソプロピルスチレン、p−イソブチル
スチレン、α−メチルスチレン等である。
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)具体例
をあげるとスチレン、p−メチルスチレン、p−エチル
スチレン、p−イソプロピルスチレン、p−イソブチル
スチレン、α−メチルスチレン等である。
本発明において、通常スチレン系化合物1モル当り無水
マレイン酸を1.5〜4モル、好ましくは1.8〜3モ
ルの範囲とすることが適当である。
マレイン酸を1.5〜4モル、好ましくは1.8〜3モ
ルの範囲とすることが適当である。
また本発明においては反応に不活性な溶媒をスチレン系
化合物と無水マレイン酸の合計量に対して0.05〜1
0倍量、好ましくは0.1〜5倍量用いることが好まし
い。溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ペプタン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒、四
塩化炭素、三塩化エタン、二塩化エタン等の塩素系溶媒
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
、アセトン、メチルエチルケト・ン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン系溶媒及びこれらの混合溶媒が挙げら
れる。
化合物と無水マレイン酸の合計量に対して0.05〜1
0倍量、好ましくは0.1〜5倍量用いることが好まし
い。溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ペプタン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒、四
塩化炭素、三塩化エタン、二塩化エタン等の塩素系溶媒
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
、アセトン、メチルエチルケト・ン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン系溶媒及びこれらの混合溶媒が挙げら
れる。
反応温度は30〜200℃の範囲とすることが適当であ
り、好ましくは50〜150℃であり、反応時間は1〜
20時間、好ましくは2〜12時間とすることが適当で
ある。
り、好ましくは50〜150℃であり、反応時間は1〜
20時間、好ましくは2〜12時間とすることが適当で
ある。
また、反応雰囲気は不活性なガス、例えば窒素またはア
ルゴン雰囲気下で反応させることが適切である。
ルゴン雰囲気下で反応させることが適切である。
反応終了後、析出した無水物Aの結晶は、反応液を冷却
することなく濾取することができる。濾液は、冷却する
ことなしに反応器へ循環させても良い。又は、反応終了
後に結晶を除いた濾液は冷却し、再沈溶媒を添加して、
さらに無水物Aの結晶を析出させ、これを濾取すること
もできる。
することなく濾取することができる。濾液は、冷却する
ことなしに反応器へ循環させても良い。又は、反応終了
後に結晶を除いた濾液は冷却し、再沈溶媒を添加して、
さらに無水物Aの結晶を析出させ、これを濾取すること
もできる。
再沈澱用溶媒としてエチルエーテル、プロピルエーテル
、ブチルエーテル、アミルエーテル等のエーテル系溶媒
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒があげられ、
これらの二種以上を併用してもよい。
、ブチルエーテル、アミルエーテル等のエーテル系溶媒
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒があげられ、
これらの二種以上を併用してもよい。
このようにして得られる結晶中には、無水物Aの他に下
記構造式[3]で示されるテトラカルボン酸二無水物(
無水物Bと呼ぶ)が含まれる。この無水物Bの占める割
合は通常全結晶の10〜40%程度である。
記構造式[3]で示されるテトラカルボン酸二無水物(
無水物Bと呼ぶ)が含まれる。この無水物Bの占める割
合は通常全結晶の10〜40%程度である。
(式中、R1は水素またはメチル基を表わし、R2は水
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)但し、
通常無水物AとBは分離することなく、そのまま、前述
の用途に用いることができる。
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)但し、
通常無水物AとBは分離することなく、そのまま、前述
の用途に用いることができる。
(発明の効果)
本発明によれば、スチレン系化合物と無水マレイン酸と
を付加反応させるにあたり、N−ニトロ0 ソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、もしくは
N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩
と芳香族アルコール系化合物を併用することにより、高
収率で無水物Aが製造できる。
を付加反応させるにあたり、N−ニトロ0 ソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、もしくは
N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩
と芳香族アルコール系化合物を併用することにより、高
収率で無水物Aが製造できる。
本発明によって得られたテトラカルボン酸二無水物は、
エポキシ樹脂硬化剤、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹
脂の原料として有用である。
エポキシ樹脂硬化剤、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹
脂の原料として有用である。
以下、実施例により詳細を説明する。
実施例1
撹拌機、冷却コンデンサー、温度計を装備した四つロセ
パラブルフラスコに無水マレイン酸58.8g、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩0.6
g、ヒドロキノン0.08g。
パラブルフラスコに無水マレイン酸58.8g、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩0.6
g、ヒドロキノン0.08g。
トルエン70m1を加え、N2雰囲気下ioo°Cまで
昇温し、α−メチルスチレン39m1滴下した。2時間
後、結晶が析出し、さらに120°Cに昇温し2時間反
応を続け、結晶を濾過し、濾液にメチルエチルケトン2
0m1を加え、ブチルエーテル:エチルエーテル=5:
3の混合溶液500m1中へ注ぎ結晶物が析出し、これ
らを合わせて86.6 g(収率91.8%)の結晶が
得られた。得られた結晶中には重合物は認められなかっ
た。得られた結晶中の無水物Aの含有率は、NMR測定
の結果、76.3%であった。
昇温し、α−メチルスチレン39m1滴下した。2時間
後、結晶が析出し、さらに120°Cに昇温し2時間反
応を続け、結晶を濾過し、濾液にメチルエチルケトン2
0m1を加え、ブチルエーテル:エチルエーテル=5:
3の混合溶液500m1中へ注ぎ結晶物が析出し、これ
らを合わせて86.6 g(収率91.8%)の結晶が
得られた。得られた結晶中には重合物は認められなかっ
た。得られた結晶中の無水物Aの含有率は、NMR測定
の結果、76.3%であった。
実施例2
撹拌機、冷却コンデンサー、温度計を装備した四つロセ
パラブルフラスコに無水マレイン酸58.8g、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩0.6
g、2.6−ジターシャリ−ブチル−4−メチルフェノ
ール0.08g、トルエン70m1を加え、N2雰囲気
下100°Cまで昇温し、α−メチルスチレン39m1
滴下した。2時間後、結晶が析出し、さらに1]0℃で
1時間反応した後、室温まで冷却し濾過したところ、7
2.6g(収率77.0%)の結晶が得られた。得られ
た結晶中の無水物Aの含有率は、70.4%であった。
パラブルフラスコに無水マレイン酸58.8g、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩0.6
g、2.6−ジターシャリ−ブチル−4−メチルフェノ
ール0.08g、トルエン70m1を加え、N2雰囲気
下100°Cまで昇温し、α−メチルスチレン39m1
滴下した。2時間後、結晶が析出し、さらに1]0℃で
1時間反応した後、室温まで冷却し濾過したところ、7
2.6g(収率77.0%)の結晶が得られた。得られ
た結晶中の無水物Aの含有率は、70.4%であった。
実施例3
ヒドロキノンの代わりに2.4−ジニトロフェノール0
.13 gを加え、ブチルエーテル:エチルエーテル=
5:3の代わりにブチルエーテル;ア1 2 セトン50:lの混合溶液500m1を用いた以外は実
施例1と同様に行なったところ、87.3 g(収率9
2.6%)の結晶が得られた。得られた結晶中の無水物
Aの含有率は、76.5%であった。
.13 gを加え、ブチルエーテル:エチルエーテル=
5:3の代わりにブチルエーテル;ア1 2 セトン50:lの混合溶液500m1を用いた以外は実
施例1と同様に行なったところ、87.3 g(収率9
2.6%)の結晶が得られた。得られた結晶中の無水物
Aの含有率は、76.5%であった。
実施例4
ヒドロキノンの代わりにp−ターシャリ−ブチルカテコ
ール0.12 gを加え、ブチルエーテル:エチルエー
テル−5=3の代わりにブチルエーテル500m1を用
いた以外は実施例1と同様に行なったところ、82g(
収率85.9%)の結晶が得られた。得られた結晶中の
無水物Aの含有率は、78.4%であった。
ール0.12 gを加え、ブチルエーテル:エチルエー
テル−5=3の代わりにブチルエーテル500m1を用
いた以外は実施例1と同様に行なったところ、82g(
収率85.9%)の結晶が得られた。得られた結晶中の
無水物Aの含有率は、78.4%であった。
実施例5
ヒドロキノンを用いない以外は実施例1と同様に行なっ
たところ、81.1g(収率86.0%)の結晶が得ら
れた。得られた結晶中の無水物Aの含有率は、76.7
%であった。
たところ、81.1g(収率86.0%)の結晶が得ら
れた。得られた結晶中の無水物Aの含有率は、76.7
%であった。
実施例6
α−メチルスチレンの代わりにp−メチルスチレン40
m1を加え、ブチルエーテル:エチルエーテル=5:3
の代わりにブチルエーテル:エーテル=l:5の混合溶
液500m1を用いた以外は実施例1と同様に行なった
ところ、72.9g(収率77.3%)の結晶が得られ
た。得られた結晶中の無水物Aの含有率は、67.3%
であった。
m1を加え、ブチルエーテル:エチルエーテル=5:3
の代わりにブチルエーテル:エーテル=l:5の混合溶
液500m1を用いた以外は実施例1と同様に行なった
ところ、72.9g(収率77.3%)の結晶が得られ
た。得られた結晶中の無水物Aの含有率は、67.3%
であった。
実施例7
撹拌機、冷却コンデンサー、温度計を装備した四つロセ
パラブルフラスコに無水マレイン酸58.8g、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩0.6
g、ヒドロキノン0.08g。
パラブルフラスコに無水マレイン酸58.8g、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩0.6
g、ヒドロキノン0.08g。
トルエン20m1を加え、N2雰囲気下90℃に昇温し
、スチレン34.4m1滴下した。12時間反応した後
、室温まで冷却し濾過したところ70.3 g(収率7
80%)の結晶が得られた。得られた結晶中の無水物A
の含有率は、89.0%であった。
、スチレン34.4m1滴下した。12時間反応した後
、室温まで冷却し濾過したところ70.3 g(収率7
80%)の結晶が得られた。得られた結晶中の無水物A
の含有率は、89.0%であった。
比較例1
重合禁止剤として2,4−ジニトロフェノール0、26
gのみを用いた他は実施例と同様に反応したところ重
合物が多量に析出し、反応を中断した。
gのみを用いた他は実施例と同様に反応したところ重
合物が多量に析出し、反応を中断した。
以上の結果より、本発明による高収率でテトラ3
4
カルボン酸二無水物が得られることがわかる。
手続補正書
平成2年4月IO日
平成2年特許願第54376号
2、発明の名称
テトラカルボン酸二無水物の製造方法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
名 称 新大協和石油化学株式会社4、代理人
〒171 6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲及び発明の
詳細な説明の欄 7、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙の如く訂正する。
〒171 6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲及び発明の
詳細な説明の欄 7、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙の如く訂正する。
5
(2)明細書中、以下の箇所の”N−ニトロソフェニル
ヒドロキシ”を「N−ニトロソフェニルヒドロキシル」
に訂正する。
ヒドロキシ”を「N−ニトロソフェニルヒドロキシル」
に訂正する。
特許請求の範囲
(1)N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩の存在下、スチレン系化合物と無水マレイン酸
とを付加反応させることを特徴とする下記構造式[1]
で表わされるテトラカルボン酸二無水物の製造方法。
ニウム塩の存在下、スチレン系化合物と無水マレイン酸
とを付加反応させることを特徴とする下記構造式[1]
で表わされるテトラカルボン酸二無水物の製造方法。
(3)明細書14頁18行の”実施例”を「実施例1」
に訂正する。
に訂正する。
2
(式中、R1は水素またはメチル基を表わし、R2は水
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。) (2)N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩に加えて芳香族アルコール系化合物を共存させ
る請求項1記載の製造方法。
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。) (2)N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩に加えて芳香族アルコール系化合物を共存させ
る請求項1記載の製造方法。
Claims (2)
- (1)N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニ
ウム塩の存在下、スチレン系化合物と無水マレイン酸と
を付加反応させることを特徴とする下記構造式[1]で
表わされるテトラカルボン酸二無水物の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼[1] (式中、R_1は水素またはメチル基を表わし、R_2
は水素または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。) - (2)N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニ
ウム塩に加えて芳香族アルコール系化合物を共存させる
請求項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2054376A JPH03264574A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | テトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2054376A JPH03264574A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | テトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03264574A true JPH03264574A (ja) | 1991-11-25 |
Family
ID=12968959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2054376A Pending JPH03264574A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | テトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03264574A (ja) |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP2054376A patent/JPH03264574A/ja active Pending
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