JPH03261850A - 回路基板検査装置 - Google Patents
回路基板検査装置Info
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- JPH03261850A JPH03261850A JP6018990A JP6018990A JPH03261850A JP H03261850 A JPH03261850 A JP H03261850A JP 6018990 A JP6018990 A JP 6018990A JP 6018990 A JP6018990 A JP 6018990A JP H03261850 A JPH03261850 A JP H03261850A
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 abstract 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
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- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光走査を利用して回路部品を搭載された回路基
板の合否を判定する回路基板検査装置に関するものであ
る。
板の合否を判定する回路基板検査装置に関するものであ
る。
従来の技術
周完のように、回路部品を搭載された回路基板の検査工
程に釦いては、光走査を利用して完成された回路基板の
合否を自動判定する場合があるが、従来の回路基板検査
装置は、例えば第４図に示されるような構成である。即
ち、光源１０から発射された光ビーム１１は回転多面鏡
１２、ｆθレンズ１３及びミラー１６を介して検査回路
基板１４上に照射され、この検査回路基板１４で反射さ
れた反射光１５は、ｆθレンズ１３、回転多面鏡１２、
集光レンズ１７を介して受光素子１８で受け、この受光
素子１８への反射光の入射状況から回路基板１４に取り
付けられた部品の装着状態を検査する。
程に釦いては、光走査を利用して完成された回路基板の
合否を自動判定する場合があるが、従来の回路基板検査
装置は、例えば第４図に示されるような構成である。即
ち、光源１０から発射された光ビーム１１は回転多面鏡
１２、ｆθレンズ１３及びミラー１６を介して検査回路
基板１４上に照射され、この検査回路基板１４で反射さ
れた反射光１５は、ｆθレンズ１３、回転多面鏡１２、
集光レンズ１７を介して受光素子１８で受け、この受光
素子１８への反射光の入射状況から回路基板１４に取り
付けられた部品の装着状態を検査する。
発明が解決しようとする課題
しかし、この回路基板検査装置では、回路基板からの反
射光１５を受光素子２０で受光する際に、ｆθレンズ１
３の入射面で反射していた光ビームの反射散乱光２０ｔ
−も、合わせて受光することになる。このため、ｆθレ
ンズ１３を通過しない反射散乱光２０がノイズ、つ１り
測定誤差の原因となり、検査精度が悪化する課題がある
。
射光１５を受光素子２０で受光する際に、ｆθレンズ１
３の入射面で反射していた光ビームの反射散乱光２０ｔ
−も、合わせて受光することになる。このため、ｆθレ
ンズ１３を通過しない反射散乱光２０がノイズ、つ１り
測定誤差の原因となり、検査精度が悪化する課題がある
。
本発明の目的は、前述した従来の回路基板検査装置の問
題を考慮して、ｆθレンズを通過しない反射散乱光の悪
影響を除去して検査精度を向上できる回路基板検査装置
を得るにある。
題を考慮して、ｆθレンズを通過しない反射散乱光の悪
影響を除去して検査精度を向上できる回路基板検査装置
を得るにある。
課題を解決するための手段
前記目的を達成するために、本発明では、光源部と、こ
の光源部から発する光ビームを反射偏向させる回転多面
鏡と、前記光ビームの歪曲収差を補正するｆθレンズと
、光ビームの回路基板からの反射光を受光しかつ同反射
光の入射状況から回路基板に対する部品の装着状態を知
る１つ以上の受光素子とを有し、前記ｆθレンズからの
反射散乱光成分を除去する反射散乱光成分除去用部材を
前記受光素子の前方に配設するものである。
の光源部から発する光ビームを反射偏向させる回転多面
鏡と、前記光ビームの歪曲収差を補正するｆθレンズと
、光ビームの回路基板からの反射光を受光しかつ同反射
光の入射状況から回路基板に対する部品の装着状態を知
る１つ以上の受光素子とを有し、前記ｆθレンズからの
反射散乱光成分を除去する反射散乱光成分除去用部材を
前記受光素子の前方に配設するものである。
作 用
このような構造によると、ｆθレンズからの反射散乱光
を除去する反射散乱光除去用部材を受光素子の前方に配
設するので、同反射散乱光の悪影響を除去して、検査精
度を向上できる。
を除去する反射散乱光除去用部材を受光素子の前方に配
設するので、同反射散乱光の悪影響を除去して、検査精
度を向上できる。
実施例
以下、図面を用いて本発明の実施例について説明する。
第１図は本発明の回路基板検査装置の基本構成図であり
、第２図はｆθレンズ反射散乱光発生部分の拡大図であ
る。即ち、光源１０からの光ビーム１１は、回転多面鏡
１２によシ偏向されて光ビームの歪曲収差を補正するｆ
θレンズ１３に向かい、とのｆθレンズ１３を透過した
後、検査回路基板１４上を走査する。このとき、光ビー
ム１１の一部は、ｆθレンズ１３を透過せずに、ｆθレ
ンズ１３の入射面で反射して反射散乱光２０となる。
、第２図はｆθレンズ反射散乱光発生部分の拡大図であ
る。即ち、光源１０からの光ビーム１１は、回転多面鏡
１２によシ偏向されて光ビームの歪曲収差を補正するｆ
θレンズ１３に向かい、とのｆθレンズ１３を透過した
後、検査回路基板１４上を走査する。このとき、光ビー
ム１１の一部は、ｆθレンズ１３を透過せずに、ｆθレ
ンズ１３の入射面で反射して反射散乱光２０となる。
また、検査回路基板工４からの反射光１５は、ミラー１
６によ、９ｆθレンズ１３へ入射し、とのｆθレンズ３
を透過した後、回転多面鏡１２で反射され、集光レンズ
１７で集光され、受光素子１８に入射することになる。
６によ、９ｆθレンズ１３へ入射し、とのｆθレンズ３
を透過した後、回転多面鏡１２で反射され、集光レンズ
１７で集光され、受光素子１８に入射することになる。
反射散乱光２０の除去のため、本実施例にふ・いては、
集光レンズ１７の前方にマスク１９、即ち反射散乱光成
分除去部材が配設される。第３図に拡大して示す同マス
ク１９は、反射光１５０反射野外に位置するマスクフレ
ーム１９ａと、このマスクフレーム１９ａの中心部に４
本の支持リブ１９ｂで支持された正方形の遮光マスク本
体１９ｃとからなる。
集光レンズ１７の前方にマスク１９、即ち反射散乱光成
分除去部材が配設される。第３図に拡大して示す同マス
ク１９は、反射光１５０反射野外に位置するマスクフレ
ーム１９ａと、このマスクフレーム１９ａの中心部に４
本の支持リブ１９ｂで支持された正方形の遮光マスク本
体１９ｃとからなる。
図示実施例は、以上のような構成であるので、集光レン
ズ１７へ入射する反射光１５は、同反射光１５の光軸ａ
の周辺反射野を通過するので、遮光マスク本体１９ｃの
影響を受けずに、遮光マスク本体１９ｃの周囲から集光
レンズ１７へ入射する。普た、ｆθレンズ１３の入射面
で反射した反射散乱光は、反射光２０の光軸ａの中心部
に集壕るので、遮光マスク本体１９ｃによυ集光レンズ
１７への入射が阻止される。このため、受光素子１８に
対しては、ｆθレンズ１３を通過した光ビーム１１の反
射光のみが入射されるので、受光素子１８に対するノイ
ズ、即ち測定誤差が小さくなり、検査精度が向上する。
ズ１７へ入射する反射光１５は、同反射光１５の光軸ａ
の周辺反射野を通過するので、遮光マスク本体１９ｃの
影響を受けずに、遮光マスク本体１９ｃの周囲から集光
レンズ１７へ入射する。普た、ｆθレンズ１３の入射面
で反射した反射散乱光は、反射光２０の光軸ａの中心部
に集壕るので、遮光マスク本体１９ｃによυ集光レンズ
１７への入射が阻止される。このため、受光素子１８に
対しては、ｆθレンズ１３を通過した光ビーム１１の反
射光のみが入射されるので、受光素子１８に対するノイ
ズ、即ち測定誤差が小さくなり、検査精度が向上する。
勿論、本発明で用いる反射散乱光成分除去部材としては
、前述したマスク１９ばかりでなく、反射光１５から反
射散乱光２０を除去できる手段であれば、他の光学要素
、例えば中心部に入射阻止マスク片を貼着した集光レン
ズ１７、中心部に入射した光だけを入射面で全反射させ
る変形集光レンズ１７で置換できる。
、前述したマスク１９ばかりでなく、反射光１５から反
射散乱光２０を除去できる手段であれば、他の光学要素
、例えば中心部に入射阻止マスク片を貼着した集光レン
ズ１７、中心部に入射した光だけを入射面で全反射させ
る変形集光レンズ１７で置換できる。
なフ・、前述した従来例説明及び実施例においては、受
光素子１８を一個用いた場合について例示したけれども
、第１図に示されるように他の受光素子１８′を用いる
場合もある。この場合、本発明に釦いては、受光素子１
８′の前方に集光レンズ１７′及びマスク１９′を配置
することにより、前述した作用効果と同様の作用効果を
得ることができる。
光素子１８を一個用いた場合について例示したけれども
、第１図に示されるように他の受光素子１８′を用いる
場合もある。この場合、本発明に釦いては、受光素子１
８′の前方に集光レンズ１７′及びマスク１９′を配置
することにより、前述した作用効果と同様の作用効果を
得ることができる。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、検査回路基板からの反
射光にノイズが含１れず、受光素子に対しては検査回路
基板からの反射光のみが入射するため、検査精度の高い
回路基板検査装置を提供できる。
射光にノイズが含１れず、受光素子に対しては検査回路
基板からの反射光のみが入射するため、検査精度の高い
回路基板検査装置を提供できる。
第１図は本発明の一実施例による回路基板検査装置の基
本分解斜視図、第２図は第１図に示したｆθレンズの反
射散乱光発生部の拡大図、第３図は第１図に示されるマ
スクの一例を示す斜視図、第４図は従来の回路基板検査
装置の分解斜視図である。 １０・・・光源、１１・・・光ビーム、１２・・・回転
多面鏡、１３・・・ｆθレンズ、１４・・・検査回路基
板、１５・・・反射光、１６・・・ミラー １７・・・
集光レンズ、１８・・・受光素子、１９・・・マスク。
本分解斜視図、第２図は第１図に示したｆθレンズの反
射散乱光発生部の拡大図、第３図は第１図に示されるマ
スクの一例を示す斜視図、第４図は従来の回路基板検査
装置の分解斜視図である。 １０・・・光源、１１・・・光ビーム、１２・・・回転
多面鏡、１３・・・ｆθレンズ、１４・・・検査回路基
板、１５・・・反射光、１６・・・ミラー １７・・・
集光レンズ、１８・・・受光素子、１９・・・マスク。
Claims (1)
- 光源部と、この光源部から発する光ビームを反射偏向さ
せる回転多面鏡と、前記光ビームの歪曲収差を補正する
ｆθレンズと、光ビームの回路基板からの反射光を受光
しかつ同反射光の入射状況から回路基板に対する部品の
装着状態を知る１つ以上の受光素子とを有し、前記ｆθ
レンズからの反射散乱光成分を除去する反射散乱光成分
除去用部材を前記受光素子の前方に配設したことを特徴
とする回路基板検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2060189A JPH0733997B2 (ja) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | 回路基板検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2060189A JPH0733997B2 (ja) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | 回路基板検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03261850A true JPH03261850A (ja) | 1991-11-21 |
| JPH0733997B2 JPH0733997B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=13134969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2060189A Expired - Fee Related JPH0733997B2 (ja) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | 回路基板検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733997B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006106159A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光走査装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018116767A1 (ja) | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 株式会社パイロットコーポレーション | 摩擦体並びに筆記具及び筆記セット |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60122358A (ja) * | 1983-12-06 | 1985-06-29 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 明視野受光欠陥検出装置 |
| JPS63298035A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Toshiba Corp | 欠陥検査装置 |
| JPH01129648U (ja) * | 1988-02-19 | 1989-09-04 |
-
1990
- 1990-03-12 JP JP2060189A patent/JPH0733997B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60122358A (ja) * | 1983-12-06 | 1985-06-29 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 明視野受光欠陥検出装置 |
| JPS63298035A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Toshiba Corp | 欠陥検査装置 |
| JPH01129648U (ja) * | 1988-02-19 | 1989-09-04 |
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| JP2006106159A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光走査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0733997B2 (ja) | 1995-04-12 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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