JPH0733997B2 - 回路基板検査装置 - Google Patents

回路基板検査装置

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JPH0733997B2
JPH0733997B2 JP2060189A JP6018990A JPH0733997B2 JP H0733997 B2 JPH0733997 B2 JP H0733997B2 JP 2060189 A JP2060189 A JP 2060189A JP 6018990 A JP6018990 A JP 6018990A JP H0733997 B2 JPH0733997 B2 JP H0733997B2
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明 仙福
信博 荒木
邦夫 三ノ宮
広門 鳥羽
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光走査を利用して回路部品を搭載された回路基
板の合否を判定する回路基板検査装置に関するものであ
る。
従来の技術 周完のように、回路部品を搭載された回路基板の検査工
程においては、光走査を利用して完成された回路基板の
合否を自動判定する場合があるが、従来の回路基板検査
装置は、例えば第4図に示されるような構成である。即
ち、光源10から発射された光ビーム11は回転多面鏡12、
fθレンズ13及びミラー16を介して検査回路基板14上に
照射され、この検査回路基板14で反射された反射光15
は、fθレンズ13、回転多面鏡12、集光レンズ17を介し
て受光素子18で受け、この受光素子18への反射光の入射
状況から回路基板14に取り付けられた部品の装着状態を
検査する。
発明が解決しようとする課題 しかし、この回路基板検査装置では、回路基板からの反
射光15を受光素子20で受光する際に、fθレンズ13の入
射面で反射していた光ビームの反射散乱光20をも、合わ
せて受光することになる。このため、fθレンズ13を通
過しない反射散乱光20がノイズ、つまり測定誤差の原因
となり、検査精度が悪化する課題がある。
本発明の目的は、前述した従来の回路基板検査装置の問
題を考慮して、fθレンズを通過しない反射散乱光の悪
影響を除去して検査精度を向上できる回路基板検査装置
を得るにある。
課題を解決するための手段 前記目的を達成するために、本発明では、光源部と、こ
の光源部から発する光ビームを反射偏向させる回転多面
鏡と、前記光ビームの歪曲収差を補正するfθレンズ
と、光ビームの回路基板からの反射光を受光しかつ同反
射光の入射状況から回路基板に対する部品の装着状態を
知る1つ以上の受光素子とを有し、前記fθレンズの表
面からの反射散乱光成分を除去する反射散乱光成分除去
用部材を前記受光素子の前方に配設するものである。
作用 このような構造によると、fθレンズからの反射散乱光
を除去する反射散乱光除去用部材を受光素子の前方に配
設するので、同反射散乱光の悪影響を除去して、検査精
度を向上できる。
実施例 以下、図面を用いて本発明の実施例について説明する。
第1図は本発明の回路基板検査装置の基本構成図であ
り、第2図はfθレンズ反射散乱発生部分の拡大図であ
る。即ち、光源10からの光ビーム11は、回転多面鏡12に
より偏向されて光ビームの歪曲収差を補正するfθレン
ズ13に向かい、このfθレンズ13を透過した後、検査回
路基板14上に走査する。このとき、光ビーム11の一部
は、fθレンズ13を透過せずに、fθレンズ13の入射面
で反射して反射散乱光20となる。
また、検査回路基板14からの反射光15は、ミラー16によ
りfθレンズ13へ入射し、このfθレンズ3を透過した
後、回転多面鏡12で反射され、集光レンズ17で集光さ
れ、受光素子18に入射することになる。
反射散乱光20の除去のため、本実施例においては、集光
レンズ17の前方にマスク19、即ち反射散乱光成分除去部
材が配設される。第3図に拡大して示す同マスク19は、
反射光15の反射野外に位置するマスクフレーム19aと、
このマスクフレーム19aの中心部に4本の支持リブ19bで
支持された正方形の遮光マスク本体19cとからなる。
図示実施例は、以上のような構成であるので、集光レン
ズ17へ入射する反射光15は、同反射光15の光軸aの周辺
反射野を通過するので、遮光マスク本体19cの影響を受
けずに、遮光マスク本体19cの周囲から集光レンズ17へ
入射する。また、fθレンズ13の入射面で反射した反射
散乱光は、反射光20の光軸aの中心部に集まるので、遮
光マスク本体19cにより集光レンズ17への入射が阻止さ
れる。このため、受光素子18に対しては、fθレンズ13
を通過した光ビーム11の反射光のみが入射されるので、
受光素子18に対するノイズ、即ち測定誤差が小さくな
り、検査精度が向上する。勿論、本発明で用いる反射散
乱光成分除去部材としては、前述したマスク19ばかりで
なく、反射光15から反射散乱光20を除去できる手段であ
れば、他の光学要素、例えば中心部に入射阻止マスク片
を貼着した集光レンズ17、中心部に入射した光だけを入
射面で全反射させる変形集光レンズ17で置換できる。
なお、前述した従来例説明及び実施例においては、受光
素子18を一個用いた場合について例示したけれども、第
1図に示されるように他の受光素子18′を用いる場合も
ある。この場合、本発明においては、受光素子18′の前
方に集光レンズ17′及びマスク19′を配置することによ
り、前述した作用効果と同様の作用効果を得ることがで
きる。
発明の効果 以上のように、本発明によれば、検査回路基板からの反
射光にノイズが含まれず、受光素子に対しては検査回路
基板からの反射光のみが入射するため、検査精度の高い
回路基板検査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による回路基板検査装置の基
本分解斜視図、第2図は第1図に示したfθレンズの反
射散乱光発生部の拡大図、第3図は第1図に示されるマ
スクの一例を示す斜視図、第4図は従来の回路基板検査
装置の分解斜視図である。 10……光源、11……光ビーム、12……回転多面鏡、13…
…fθレンズ、14……検査回路基板、15……反射光、16
……ミラー、17……集光レンズ、18……受光素子、19…
…マスク。
フロントページの続き (72)発明者 鳥羽 広門 神奈川県横浜市港北区綱島東4丁目3番1 号 松下通信工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−298035(JP,A) 特開 昭60−122358(JP,A) 特開 平2−114156(JP,A) 特開 昭49−83470(JP,A) 実開 平1−129648(JP,U)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光源部と、この光源部から発する光ビーム
    を反射偏向させる回転多面鏡と、前記光ビームの歪曲収
    差を補正するfθレンズと、光ビームの回路基板からの
    反射光を受光しかつ同反射光の入射状況から回路基板に
    対する部品の装着状態を知る1つ以上の受光素子とを有
    し、前記fθレンズの表面からの反射散乱光成分を除去
    する反射散乱光成分除去用部材を前記受光素子の前方に
    配設したことを特徴とする回路基板検査装置。
JP2060189A 1990-03-12 1990-03-12 回路基板検査装置 Expired - Fee Related JPH0733997B2 (ja)

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