JP2936644B2 - 異物検査装置 - Google Patents
異物検査装置Info
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- JP2936644B2 JP2936644B2 JP2117384A JP11738490A JP2936644B2 JP 2936644 B2 JP2936644 B2 JP 2936644B2 JP 2117384 A JP2117384 A JP 2117384A JP 11738490 A JP11738490 A JP 11738490A JP 2936644 B2 JP2936644 B2 JP 2936644B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/064—Stray light conditioning
- G01N2201/0642—Light traps; baffles
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- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガラス等の透明基板の光学式表面欠陥検査
装置に関するものであり、特に半導体製造工程において
用いられるレチクル等のマスクの表面の異物検査装置に
関するものである。
装置に関するものであり、特に半導体製造工程において
用いられるレチクル等のマスクの表面の異物検査装置に
関するものである。
従来この種の装置は、第２図に示すような構成のもの
が知られている。第２図において光源１から発生したレ
ーザビーム等の光束２は振動ミラー等のスキャナ３で掃
引され、走査レンズ４に入射する。光束２は走査レンズ
４によりレチクル８の表面上にスポット光Ｌとして照射
され、任意の範囲を走査する。このスポット光Ｌの走査
方向Ｘ軸とし、これにほぼ直交するＹ軸方向にレチクル
８を移動することによりレチクル全面を走査することが
できる。このときレチクル８の表面に異物等の欠陥があ
る場合、異物にスポット光Ｌが照射されることにより散
乱光が発生し、受光素子5,6,7によって光電検出され
る。ところで、この散乱光は異物のみならずレチクル上
に描かれた回路パターンのエッジからもパターン回折光
として発生する。このパターン回折光が受光素子に入射
すると異物からの散乱光として検出してしまい、正確な
異物検出が不可能となる。そこで、第２図に示すように
複数の受光素子5,6,7を夫々異なる方向から散乱光を受
光するように配置する。因みに前述のパターン回折光は
高い指向性を持っており、指向性の低い異物散乱光とは
区別できる。つまり、複数の受光素子5,6,7全てに散乱
光が入射した場合は、この散乱光は異物からのものであ
り、複数の受光素子の内、１つでも散乱光が入射しない
ものがあれば、この散乱光はパターンのエッジからのも
のであると判断できる。尚、この複数の受光素子5,6,7
は、輝度の高い低次のパターン回折光を受光しにくくす
るため低次のパターン回折光の発生する方向から離れた
角度で配置されている。
が知られている。第２図において光源１から発生したレ
ーザビーム等の光束２は振動ミラー等のスキャナ３で掃
引され、走査レンズ４に入射する。光束２は走査レンズ
４によりレチクル８の表面上にスポット光Ｌとして照射
され、任意の範囲を走査する。このスポット光Ｌの走査
方向Ｘ軸とし、これにほぼ直交するＹ軸方向にレチクル
８を移動することによりレチクル全面を走査することが
できる。このときレチクル８の表面に異物等の欠陥があ
る場合、異物にスポット光Ｌが照射されることにより散
乱光が発生し、受光素子5,6,7によって光電検出され
る。ところで、この散乱光は異物のみならずレチクル上
に描かれた回路パターンのエッジからもパターン回折光
として発生する。このパターン回折光が受光素子に入射
すると異物からの散乱光として検出してしまい、正確な
異物検出が不可能となる。そこで、第２図に示すように
複数の受光素子5,6,7を夫々異なる方向から散乱光を受
光するように配置する。因みに前述のパターン回折光は
高い指向性を持っており、指向性の低い異物散乱光とは
区別できる。つまり、複数の受光素子5,6,7全てに散乱
光が入射した場合は、この散乱光は異物からのものであ
り、複数の受光素子の内、１つでも散乱光が入射しない
ものがあれば、この散乱光はパターンのエッジからのも
のであると判断できる。尚、この複数の受光素子5,6,7
は、輝度の高い低次のパターン回折光を受光しにくくす
るため低次のパターン回折光の発生する方向から離れた
角度で配置されている。
さらに、レチクルに光を照射したときにレチクル表面
及び内部で発生する迷光が受光素子に入射しないように
するため、特開昭58−79240号公報に開示されたような
装置を用いることも知られている。これは、レチクルに
光ビームを照射、走査して、レチクル表面上の異物から
の散乱光をレチクル表面の空間に配置された受光器で受
光する構成の装置において、光ビームの走査方向に延び
た光吸収部材を迷光の発生する方向に配置し、又、光ビ
ームの光路、及び散乱光が受光器に達する光路を遮らな
いような方向に遮光部材を配置している。
及び内部で発生する迷光が受光素子に入射しないように
するため、特開昭58−79240号公報に開示されたような
装置を用いることも知られている。これは、レチクルに
光ビームを照射、走査して、レチクル表面上の異物から
の散乱光をレチクル表面の空間に配置された受光器で受
光する構成の装置において、光ビームの走査方向に延び
た光吸収部材を迷光の発生する方向に配置し、又、光ビ
ームの光路、及び散乱光が受光器に達する光路を遮らな
いような方向に遮光部材を配置している。
しかしながら、従来の技術においては、レチクルから
発生する迷光を十分に遮光することができなかった。レ
チクルに光を照射したときに発生する回折光は、例えば
第３図に示すようになる。ここでは、入射光束がレチク
ルに照射されることによりパターン回折光Ａ〜Ｅが発生
している。これらのうちパターン回折光Ｅは、複数の受
光器5,6,7の内の例えば１つの受光器６の受光面6aに入
射するが、このパターン回折光Ｅは高い指向性を持って
いるので他の受光器には入射しない。よって、複数の受
光器の信号の論理積を求めることにより異物散乱光と弁
別できる。即ち複数の受光器全てに散乱光が入射したと
きのみ、異物散乱光として検出する。ところが、パター
ン回折光Ｃ及びＤはその一部がレチクル８の内部を反
射、伝播し、レチクル端面8aに達する。レチクル端面8a
は、通常すりガラス状の処理が施されているため、端面
8aに達したパターン回折光Ｃ及びＤは散乱光11として射
出する。この散乱光11は、指向性が低いので複数の受光
器に入射し、同じく指向性の低い異物散乱光として誤検
出してしまうという不都合が生じる。
発生する迷光を十分に遮光することができなかった。レ
チクルに光を照射したときに発生する回折光は、例えば
第３図に示すようになる。ここでは、入射光束がレチク
ルに照射されることによりパターン回折光Ａ〜Ｅが発生
している。これらのうちパターン回折光Ｅは、複数の受
光器5,6,7の内の例えば１つの受光器６の受光面6aに入
射するが、このパターン回折光Ｅは高い指向性を持って
いるので他の受光器には入射しない。よって、複数の受
光器の信号の論理積を求めることにより異物散乱光と弁
別できる。即ち複数の受光器全てに散乱光が入射したと
きのみ、異物散乱光として検出する。ところが、パター
ン回折光Ｃ及びＤはその一部がレチクル８の内部を反
射、伝播し、レチクル端面8aに達する。レチクル端面8a
は、通常すりガラス状の処理が施されているため、端面
8aに達したパターン回折光Ｃ及びＤは散乱光11として射
出する。この散乱光11は、指向性が低いので複数の受光
器に入射し、同じく指向性の低い異物散乱光として誤検
出してしまうという不都合が生じる。
本発明は上記の様な問題点に鑑みて成されたものであ
り、レチクル端面からのパターン回折光の受光を防止
し、異物散乱光以外の疑似散乱光に対する受光感度をレ
チクル全面に渡って低く、且つほぼ一定にし、異物散乱
光の検出可能な最低レベルを改善することを目的とす
る。
り、レチクル端面からのパターン回折光の受光を防止
し、異物散乱光以外の疑似散乱光に対する受光感度をレ
チクル全面に渡って低く、且つほぼ一定にし、異物散乱
光の検出可能な最低レベルを改善することを目的とす
る。
上記問題点解決のため本発明では、ガラス基板等の被
検査物（８）の被検査面上に光束（２）を照射する光源
（１）と、被検査物（８）と光束（２）との位置を相対
的に移動させる駆動部（3,9）と、光束（２）が被検査
面上に付着した異物に照射されて発生する散乱光を受光
する受光器（5,6,7）とを備えた異物検査装置におい
て、前記照射手段により照射された前記被検査物の被検
査面から端面に前記被検査物内部を伝搬する光を遮光す
る遮光手段（10）を備える。
検査物（８）の被検査面上に光束（２）を照射する光源
（１）と、被検査物（８）と光束（２）との位置を相対
的に移動させる駆動部（3,9）と、光束（２）が被検査
面上に付着した異物に照射されて発生する散乱光を受光
する受光器（5,6,7）とを備えた異物検査装置におい
て、前記照射手段により照射された前記被検査物の被検
査面から端面に前記被検査物内部を伝搬する光を遮光す
る遮光手段（10）を備える。
本発明では、レチクル等の被検査物の端面と対向する
位置に遮光部材を設けたことにより、被検査物の端面か
ら発生する散乱光を遮光することができる。
位置に遮光部材を設けたことにより、被検査物の端面か
ら発生する散乱光を遮光することができる。
第１図は本発明の実施例による異物検査装置の概略的
な構成を示す図である。光源１から発生したレーザビー
ム等の光束２は振動ミラー３によって掃引され、走査レ
ンズ４に入射する。光束２は走査レンズによりレチクル
８の表面上にスポット光Ｌとして照射され、Ｘ軸方向の
任意の範囲を走査する。レチクル８はＹ軸方向に移動可
能なステージ９上に載置されており、スポット光ＬのＸ
軸方向の走査とステージ９のＹ軸方向の移動によりレチ
クル８全面の走査が可能である。又、ステージ９上には
レチクル８の端面を覆うように遮光枠10が固設されてい
る。この遮光枠10の高さは、レチクル８の表面とほぼ等
しいか、若干高めにしておく。又、遮光枠10の内レチク
ル８の端面と対向する表面には、レチクル端面から射出
した散乱光が再びレチクル８内に進入することを防ぐた
め、光束２の波長に見合った反射防止膜等の処理を施し
てある。更に遮光枠10とレチクル８の端面との間には一
定の間隔があり、遮光枠10とレチクル８との接触による
ゴミの発生を防止している。尚、この遮光枠10はレチク
ル８の全周囲を覆うものである必要はなく、受光器5,6,
7がレチクル８を見込む方向の端面を覆うものであれば
十分である。また、本実施例では反射散乱光を受光する
構成にしたが、透過散乱光を受光する構成にしても勿論
構わない。
な構成を示す図である。光源１から発生したレーザビー
ム等の光束２は振動ミラー３によって掃引され、走査レ
ンズ４に入射する。光束２は走査レンズによりレチクル
８の表面上にスポット光Ｌとして照射され、Ｘ軸方向の
任意の範囲を走査する。レチクル８はＹ軸方向に移動可
能なステージ９上に載置されており、スポット光ＬのＸ
軸方向の走査とステージ９のＹ軸方向の移動によりレチ
クル８全面の走査が可能である。又、ステージ９上には
レチクル８の端面を覆うように遮光枠10が固設されてい
る。この遮光枠10の高さは、レチクル８の表面とほぼ等
しいか、若干高めにしておく。又、遮光枠10の内レチク
ル８の端面と対向する表面には、レチクル端面から射出
した散乱光が再びレチクル８内に進入することを防ぐた
め、光束２の波長に見合った反射防止膜等の処理を施し
てある。更に遮光枠10とレチクル８の端面との間には一
定の間隔があり、遮光枠10とレチクル８との接触による
ゴミの発生を防止している。尚、この遮光枠10はレチク
ル８の全周囲を覆うものである必要はなく、受光器5,6,
7がレチクル８を見込む方向の端面を覆うものであれば
十分である。また、本実施例では反射散乱光を受光する
構成にしたが、透過散乱光を受光する構成にしても勿論
構わない。
以上のように本発明によれば、レチクル内部を伝播し
てレチクル端面から発生するパターン回折光を遮光する
ので、パターン回折光等の疑似信号に対する感度をレチ
クル全面に渡って低く、且つほぼ一定とすることが可能
となり、従って異物散乱光の検出可能な最低受光量を引
き下げることができる。
てレチクル端面から発生するパターン回折光を遮光する
ので、パターン回折光等の疑似信号に対する感度をレチ
クル全面に渡って低く、且つほぼ一定とすることが可能
となり、従って異物散乱光の検出可能な最低受光量を引
き下げることができる。
第１図は本発明の実施例による異物検査装置の概略的な
構成を示す図、第２図は従来の技術による異物検査装置
の概略的な構成を示す図、第３図はレチクルに光を照射
したときのパターン回折光の発生する様子を示す図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 １……光源、３……振動ミラー、5,6,7……受光器、８
……レチクル、９……ステージ、10……遮光枠。
構成を示す図、第２図は従来の技術による異物検査装置
の概略的な構成を示す図、第３図はレチクルに光を照射
したときのパターン回折光の発生する様子を示す図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 １……光源、３……振動ミラー、5,6,7……受光器、８
……レチクル、９……ステージ、10……遮光枠。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−79144（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−79240（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−173732（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−33834（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−69023（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 21/88 H01L 21/66
Claims (3)
- 【請求項１】透明な被検査物の被検査面上に光束を照射
する照射手段と、前記被検査物と前記光束との位置を相
対的に移動する移動手段と、前記光束が前記被検査面上
に付着した異物に照射されて発生する散乱光を受光する
受光手段とを備えた異物検査装置において、 前記照射手段により照射された前記被検査物の被検査面
から端面に前記被検査物内部を伝搬する光を遮光する遮
光手段を備えたことを特徴とする異物検査装置。 - 【請求項２】前記遮光手段は前記被検査物の端面に対し
て一定の間隔をおいて対向配置したことを特徴とする請
求項１記載の異物検査装置。 - 【請求項３】前記移動手段は前記照射手段に対して前記
検査物を移動させるステージ部材を有し、前記遮光手段
は該ステージ部材と一体に移動することを特徴とする請
求項１記載の異物検査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117384A JP2936644B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 異物検査装置 |
| US07/825,811 US5149982A (en) | 1990-05-07 | 1992-01-21 | Foreign particle inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117384A JP2936644B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 異物検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413951A JPH0413951A (ja) | 1992-01-17 |
| JP2936644B2 true JP2936644B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=14710319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2117384A Expired - Lifetime JP2936644B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2936644B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE8915726U1 (de) * | 1989-12-22 | 1991-11-21 | Trützschler GmbH & Co KG, 4050 Mönchengladbach | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Faservlieses aus Textilfasern, z. B. Baumwolle o.dgl. |
-
1990
- 1990-05-07 JP JP2117384A patent/JP2936644B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0413951A (ja) | 1992-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611 Year of fee payment: 9 |
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