JPH03241856A - ダイシング方法 - Google Patents
ダイシング方法Info
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- JPH03241856A JPH03241856A JP2038831A JP3883190A JPH03241856A JP H03241856 A JPH03241856 A JP H03241856A JP 2038831 A JP2038831 A JP 2038831A JP 3883190 A JP3883190 A JP 3883190A JP H03241856 A JPH03241856 A JP H03241856A
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- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims abstract description 16
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- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 abstract 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体ウェハをチップに分割するダイシング方法に関し
。
。
ウェハの切断後に生ずる背面欠けの発生を減少させて、
デバイスの信頼性と製造歩留を向上させることを目的と
し。
デバイスの信頼性と製造歩留を向上させることを目的と
し。
1)ウェハ(2)を該ウェハ(2)の表面に形成された
分割線に沿って切断して個々のチップ(2A)に分割す
るに際し、該ウェハ(2)が分割されないようにして縦
及び横方向の分割線の一部に切断線(X) 、 (Y)
を入れ、該ウェハ(2)の背面に現れた該切断線(X)
。
分割線に沿って切断して個々のチップ(2A)に分割す
るに際し、該ウェハ(2)が分割されないようにして縦
及び横方向の分割線の一部に切断線(X) 、 (Y)
を入れ、該ウェハ(2)の背面に現れた該切断線(X)
。
(Y)を基準に位置合わせして、該ウェハ(2)の分割
線が背面に射影する線に沿って、該ウェハ(2)の背面
より厚さ方向の途中まで切断する背面ハーフカットを行
う工程と、該ウェハ(2)の背面に粘着テープ(7)を
貼り付けて、該ウェハ(2)の表面の分割線に沿って該
ウェハ(2)を切断する工程とを有するように構成する
。
線が背面に射影する線に沿って、該ウェハ(2)の背面
より厚さ方向の途中まで切断する背面ハーフカットを行
う工程と、該ウェハ(2)の背面に粘着テープ(7)を
貼り付けて、該ウェハ(2)の表面の分割線に沿って該
ウェハ(2)を切断する工程とを有するように構成する
。
2)前記背面ハーフカットを行う工程において。
該ウェハの横、縦方向の周辺不良域(2X) 、 (2
Y)を直交する分割線(x) 、 (y)に沿って除去
して、該分割線(x) 、 (y)を背面ハーフカット
の位置合わせの基準とするように構成する。
Y)を直交する分割線(x) 、 (y)に沿って除去
して、該分割線(x) 、 (y)を背面ハーフカット
の位置合わせの基準とするように構成する。
3)前記ウェハ(2)を切断する工程の後に、該粘着テ
ープ(7)を貼り付けた該ウェハ(2)を加熱するよう
に構成する。
ープ(7)を貼り付けた該ウェハ(2)を加熱するよう
に構成する。
本発明は半導体ウェハをチップに分割するダイシング方
法に関する。
法に関する。
近年5半導体デバイスの高集積化とともに、高信頼性が
要求されている。このためにウェハのダイシング工程に
おけるウェハの破片を除去する必要がある。
要求されている。このためにウェハのダイシング工程に
おけるウェハの破片を除去する必要がある。
本発明はこの目的に対処したダイシング方法として利用
できる。
できる。
従来のダイシング工程は、粘着テープにウェハ背面を貼
り付け9回転するダイシングブレードで粘着テープの一
部まで切断するようにしてウェハをフルカットし1分割
された個々のチップをピックアップしトレイに並べてい
た。
り付け9回転するダイシングブレードで粘着テープの一
部まで切断するようにしてウェハをフルカットし1分割
された個々のチップをピックアップしトレイに並べてい
た。
チップをピックアップする際、切断溝の中に溜まったウ
ェハの破片(ウェハ背面の欠け)が飛び出したり、また
後程のアセンブリ工程でウェハ背面に被着された金属膜
によりつながっていた破片がチップから脱落して、チッ
プ表面に付着してアセンブリ工程でのワイヤ間短絡やパ
ッド間短絡の原因となっていた。
ェハの破片(ウェハ背面の欠け)が飛び出したり、また
後程のアセンブリ工程でウェハ背面に被着された金属膜
によりつながっていた破片がチップから脱落して、チッ
プ表面に付着してアセンブリ工程でのワイヤ間短絡やパ
ッド間短絡の原因となっていた。
第3図(a)、 (b)は従来例によるダイシング方法
を説明する断面図である。
を説明する断面図である。
第3図(a)において、ウェハ2の背面を粘着テープ1
に貼り付はダイシングブレード3でテープを20〜30
μm程度切り込み、ウェハ2をフルカットしてチップ2
Aに分割していた。
に貼り付はダイシングブレード3でテープを20〜30
μm程度切り込み、ウェハ2をフルカットしてチップ2
Aに分割していた。
フルカットの際に、チップ背面に欠けが発生していた。
第3図(b)において、ピックアツプ針4を粘着テープ
1の下側より突き上げ、チップ2Aをピックアップする
。
1の下側より突き上げ、チップ2Aをピックアップする
。
第4図は従来例工程により発生したウェハ背面の閉じた
ヒどの様子を示す模式断面図である。
ヒどの様子を示す模式断面図である。
図において、ウェハ背面に金属膜が被着されている場合
はこのようなヒビが発生して金属膜で閉じ込められて、
アセンブリ工程において破片が脱落することが多い。
はこのようなヒビが発生して金属膜で閉じ込められて、
アセンブリ工程において破片が脱落することが多い。
従来のダイシング工程では、チップ背面の欠けの発生を
減少させることはできないため、前記のように1次の問
題が起こっていた。
減少させることはできないため、前記のように1次の問
題が起こっていた。
■ 発生した欠けは隣のチップ表面等に付着していた。
これがチップ表面の傷や短絡の問題を起こしていた。
■ また、チップ背面に金属膜が被着されている場合は
、欠けが金属膜によりチップより分離されずに、アセン
ブリ工程で脱落して前記のような問題を引き起こす。
、欠けが金属膜によりチップより分離されずに、アセン
ブリ工程で脱落して前記のような問題を引き起こす。
本発明はダイシング工程において、ウェハのフルカット
後に生ずる背面欠けの発生を減少させて。
後に生ずる背面欠けの発生を減少させて。
その結果としてデバイスの信頼性と製造歩留を向上させ
ることを目的とする。
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題の解決は、ウェハ(2)を該ウェハ(2)の表
面に形成された分割線に沿って切断して個々のチップ(
2A)に分割するに際し、該ウェハ(2)が分割されな
いようにして縦及び横方向の分割線の一部に切断線(X
) 、 (Y)を入れ、該ウェハ(2)の背面に現れた
該切断線(X) 、 (Y)を基準に位置合わせして、
該ウェハ(2)の分割線が背面に射影する線に沿って。
面に形成された分割線に沿って切断して個々のチップ(
2A)に分割するに際し、該ウェハ(2)が分割されな
いようにして縦及び横方向の分割線の一部に切断線(X
) 、 (Y)を入れ、該ウェハ(2)の背面に現れた
該切断線(X) 、 (Y)を基準に位置合わせして、
該ウェハ(2)の分割線が背面に射影する線に沿って。
該ウェハ(2)の背面より厚さ方向の途中まで切断する
背面ハーフカットを行う工程と、該ウェハ(2)の背面
に粘着テープ(7)を貼り付けて、該ウェハ(2)の表
面の分割線に沿って該ウェハ(2)を切断する工程とを
有するダイシング方法。
背面ハーフカットを行う工程と、該ウェハ(2)の背面
に粘着テープ(7)を貼り付けて、該ウェハ(2)の表
面の分割線に沿って該ウェハ(2)を切断する工程とを
有するダイシング方法。
あるいは、前記背面ハーフカットを行う工程において、
該ウェハの横、縦方向の周辺不良域(2X)。
該ウェハの横、縦方向の周辺不良域(2X)。
(2Y)を直交する分割線(x) 、 (y)に沿って
除去して、該分割線(x) 、 (y)を背面ハーフカ
ットの位置合わせの基準とするダイシング方法。
除去して、該分割線(x) 、 (y)を背面ハーフカ
ットの位置合わせの基準とするダイシング方法。
あるいは、前記ウェハ(2)を切断する工程の後に。
該粘着テープ(7)を貼り付けた該ウェハ(2)を加熱
することを特徴とするダイシング方法により達成される
。
することを特徴とするダイシング方法により達成される
。
本発明は先ずウェハ表面からウェハが分割されないよう
に縦、横の分割線(スクライブライン)の一部だけフル
カットしてこの切断線を、あるいは縦、横のウェハ周辺
不良域を除去した境界の分割線を位置合わせ基準にして
、ウェハ背面における分割線を射影する部分をハーフカ
ットすることにより、ウェハを表面からフルカットして
チップに分割する際に発生する背面欠けを防止するよう
にしたものである。
に縦、横の分割線(スクライブライン)の一部だけフル
カットしてこの切断線を、あるいは縦、横のウェハ周辺
不良域を除去した境界の分割線を位置合わせ基準にして
、ウェハ背面における分割線を射影する部分をハーフカ
ットすることにより、ウェハを表面からフルカットして
チップに分割する際に発生する背面欠けを防止するよう
にしたものである。
さらにウェハ背面のハーフカット幅をウェハ表面から行
うフルカット幅より大きくすれば、発生する破片が溜る
余裕空間(ハーフカットにより生じた空間)を形威し一
層効果がある。
うフルカット幅より大きくすれば、発生する破片が溜る
余裕空間(ハーフカットにより生じた空間)を形威し一
層効果がある。
また、背面のハーフカットの際、ウェハ背面に金属膜が
被着されている場合はこの金属膜も一緒にカットして除
去することにより、前記の閉じたヒビをなくすることが
できる。
被着されている場合はこの金属膜も一緒にカットして除
去することにより、前記の閉じたヒビをなくすることが
できる。
さらに本発明は、フルカット後に、粘着テープを貼り付
けたウェハを加熱することにより9発生した破片をテー
プに接着させて除去するようにした。
けたウェハを加熱することにより9発生した破片をテー
プに接着させて除去するようにした。
第1図(a)〜(d)は第1発明の一実施例を説明する
平面図と断面図である。
平面図と断面図である。
第1図(a)はウェハの平面図で、先ず、ウェハ2のス
クライブラインの横、縦各1本、x、yをウェハの直径
より短く中央部のみフルカットする。
クライブラインの横、縦各1本、x、yをウェハの直径
より短く中央部のみフルカットする。
第1図中)はこの工程の断面図で、粘着テープ(UVテ
ープ:紫外線を照射することにより硬化し接着力をなく
して剥離できるテープ)1にウェハ2を貼り付け、ダイ
シングブレード3でカットする。
ープ:紫外線を照射することにより硬化し接着力をなく
して剥離できるテープ)1にウェハ2を貼り付け、ダイ
シングブレード3でカットする。
次に、UVテープ1をウェハ2より剥離し、ウェハ2を
洗浄、乾燥する。
洗浄、乾燥する。
第1図(C)において、素子面保護テープ5にウェハ表
面を貼り付け、前記切断線X、Yを基準に位置合わせし
てスクライブラインに相当するラインに沿ってウェハ背
面より背面カット用ブレード6でハーフカットする。
面を貼り付け、前記切断線X、Yを基準に位置合わせし
てスクライブラインに相当するラインに沿ってウェハ背
面より背面カット用ブレード6でハーフカットする。
図のAはスクライブラインの幅、Bは背面ハーフカット
幅で、Aより大きめにする。
幅で、Aより大きめにする。
ウェハ背面に金属層が被着されている際は、背面ハーフ
カットの際に金属膜を含んでカットするようにする。
カットの際に金属膜を含んでカットするようにする。
素子面保護テープ5は9例えば、グラインダ用テープを
用いる。
用いる。
第1図(d)において、素子面保護テープ5をウェハ2
より剥離し、ウェハ2を水洗、乾燥してウェハ2を別の
UVテープ7に貼り付け、ダイシングブレード3により
UVテープ7まで切り込みフルカットを行う。
より剥離し、ウェハ2を水洗、乾燥してウェハ2を別の
UVテープ7に貼り付け、ダイシングブレード3により
UVテープ7まで切り込みフルカットを行う。
この後は、従来例のようにチップのピックアップを行う
。
。
第2図(a)〜(ロ)は第2.第3発明の一実施例を説
明する平面図と断面図である。
明する平面図と断面図である。
第2図(a)において、粘着テープ(UVテープ)1を
貼り付けたフレーム8に素子面(表面)を上にしたウェ
ハ2を貼り付ける。
貼り付けたフレーム8に素子面(表面)を上にしたウェ
ハ2を貼り付ける。
ウェハの横、縦方向の周辺不良域2X、 2YをX。
yの分割線に沿って除去して1分割線x、yを背面ハー
フカットの位置合わせの基準とする。
フカットの位置合わせの基準とする。
第2図(C)において、ウェハの周辺不良域2X、 2
YをX、yの分割線に沿ってフルカットし、Uvを照射
して不良域2X、 2Yを除去する。
YをX、yの分割線に沿ってフルカットし、Uvを照射
して不良域2X、 2Yを除去する。
素子面保護テープ5を貼り付けたフレーム9に背面を上
にしてウェハ2を貼り付ける。
にしてウェハ2を貼り付ける。
前記分割線x、yを背面ハーフカットの位置合わせの基
準として、ウェハ表面の分割線を背面に射影した線上を
ハーフカットする。
準として、ウェハ表面の分割線を背面に射影した線上を
ハーフカットする。
次に、素子面保護テープ5をウェハ2より剥離し、ウェ
ハ2を水洗、乾燥する。
ハ2を水洗、乾燥する。
第2図(d)は背面ハーフカット後の、ウェハ2の断面
図である。
図である。
図のAはスクライブラインの幅、Bは背面ハーフカット
幅で、Aより大きめにする。
幅で、Aより大きめにする。
これは2表面スクライブ時の位置合わせ精度を考慮して
、背面ハーフカットに使用するブレードの幅はフルカッ
ト用のそれの5〜6倍のものを使用するとよい。
、背面ハーフカットに使用するブレードの幅はフルカッ
ト用のそれの5〜6倍のものを使用するとよい。
第2図(e)において、UVテープ7を張り付けたフレ
ーム10に素子面を上にしたウェハ2を貼り付けて分割
線のフルカットを行う。
ーム10に素子面を上にしたウェハ2を貼り付けて分割
線のフルカットを行う。
第2図(f)はフルカット後のウェハの断面図である。
11はフルカット後のウェハの破片を示す。
第2図(g)において、フルカット後のウェハの破片1
1を除去するために、UVテープ7を貼り付けたままウ
ェハ2を炉内に入れ、温度75〜80°Cで15〜20
分間程度加熱して、 UVテープ7を柔らかにして粘着
性を高めて、ウェハの破片11を接着させた後UVテー
プ7をウェハ2より剥離するようにする。
1を除去するために、UVテープ7を貼り付けたままウ
ェハ2を炉内に入れ、温度75〜80°Cで15〜20
分間程度加熱して、 UVテープ7を柔らかにして粘着
性を高めて、ウェハの破片11を接着させた後UVテー
プ7をウェハ2より剥離するようにする。
第2図(5)は、加熱終了後UVテープ7を剥がした後
の個々に分割さたチップ2Aの断面図である。
の個々に分割さたチップ2Aの断面図である。
〔発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、ダイシング工程に
おいて、ウェハのフルカット後に生ずる背面欠けの発生
を減少でき、デバイスの信頼性と製造歩留を向上させる
ができる。
おいて、ウェハのフルカット後に生ずる背面欠けの発生
を減少でき、デバイスの信頼性と製造歩留を向上させる
ができる。
第1図(a)〜(d)は第1発明の一実施例を説明する
平面図と断面図。 第2図(a)〜(ロ)は第2.第3発明の一実施例を説
明する平面図と断面図である。 第3図(a)、 (b)は従来例によるダイシング方法
を説明する断面図。 第4図は従来例工程により発生したウェハ背面の閉じた
ヒどの様子を示す模式断面図である。 図において。 lは粘着テープで、 UVテープ。 2はウェハ。 3はダイシングブレード。 4はピックアツプ針。 5は素子面保護テープ。 6は背面カット用ブレード。 7は粘着テープで、 UVテープ。 8.9.10はフレーム。 11は破片。 X、 Yは位置合わせ基準の分割線。 2X、 2Yは横、N方向の周辺不良域。 x、yは位置合わせ基準の分割線 v−Jlづe8月の実施例 第 1 図 第2. gfIJ3魔明の実於伊J T12 図(堂の2) 第2、祐3発明の芙力色例 第2図(ぞの1) 従来例の断面図 vJ 3 図 閉じたヒビと示す断面図 第4図
平面図と断面図。 第2図(a)〜(ロ)は第2.第3発明の一実施例を説
明する平面図と断面図である。 第3図(a)、 (b)は従来例によるダイシング方法
を説明する断面図。 第4図は従来例工程により発生したウェハ背面の閉じた
ヒどの様子を示す模式断面図である。 図において。 lは粘着テープで、 UVテープ。 2はウェハ。 3はダイシングブレード。 4はピックアツプ針。 5は素子面保護テープ。 6は背面カット用ブレード。 7は粘着テープで、 UVテープ。 8.9.10はフレーム。 11は破片。 X、 Yは位置合わせ基準の分割線。 2X、 2Yは横、N方向の周辺不良域。 x、yは位置合わせ基準の分割線 v−Jlづe8月の実施例 第 1 図 第2. gfIJ3魔明の実於伊J T12 図(堂の2) 第2、祐3発明の芙力色例 第2図(ぞの1) 従来例の断面図 vJ 3 図 閉じたヒビと示す断面図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ウェハ(2)を該ウェハ(2)の表面に形成された
分割線に沿って切断して個々のチップ(2A)に分割す
るに際し、 該ウェハ(2)が分割されないようにして縦及び横方向
の分割線の一部に切断線(X)、(Y)を入れ、該ウェ
ハ(2)の背面に現れた該切断線(X)、(Y)を基準
に位置合わせして、該ウェハ(2)の分割線が背面に射
影する線に沿って、該ウェハ(2)の背面より厚さ方向
の途中まで切断する背面ハーフカットを行う工程と、 該ウェハ(2)の背面に粘着テープ(7)を貼り付けて
、該ウェハ(2)の表面の分割線に沿って該ウェハ(2
)を切断する工程とを有することを特徴とするダイシン
グ方法。 2)前記背面ハーフカットを行う工程において、該ウェ
ハの横、縦方向の周辺不良域(2X)、(2Y)を直交
する分割線(x)、(y)に沿って除去して、該分割線
(x)、(y)を背面ハーフカットの位置合わせの基準
とすることを特徴とする請求項1記載のダイシング方法
。 3)前記ウェハ(2)を切断する工程の後に、該粘着テ
ープ(7)を貼り付けた該ウェハ(2)を加熱すること
を特徴とする請求項1又は2記載のダイシング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2038831A JPH03241856A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | ダイシング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2038831A JPH03241856A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | ダイシング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03241856A true JPH03241856A (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=12536174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2038831A Pending JPH03241856A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | ダイシング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03241856A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6731012B1 (en) | 1999-12-23 | 2004-05-04 | International Business Machines Corporation | Non-planar surface for semiconductor chips |
JP2008263070A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | デバイスの製造方法 |
JP2009158648A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
CN102285007A (zh) * | 2010-06-16 | 2011-12-21 | 信越化学工业株式会社 | 用于稀土磁体的多重切割加工的方法 |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP2038831A patent/JPH03241856A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6731012B1 (en) | 1999-12-23 | 2004-05-04 | International Business Machines Corporation | Non-planar surface for semiconductor chips |
JP2008263070A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | デバイスの製造方法 |
JP2009158648A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
CN102285007A (zh) * | 2010-06-16 | 2011-12-21 | 信越化学工业株式会社 | 用于稀土磁体的多重切割加工的方法 |
JP2012000708A (ja) * | 2010-06-16 | 2012-01-05 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 希土類磁石のマルチ切断加工方法 |
TWI551413B (zh) * | 2010-06-16 | 2016-10-01 | 信越化學工業股份有限公司 | 用於多次切斷加工稀土磁體的方法 |
US10391602B2 (en) | 2010-06-16 | 2019-08-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for multiple cutoff machining of rare earth magnet |
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