JPH03235355A - チツプキヤリア - Google Patents
チツプキヤリアInfo
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- JPH03235355A JPH03235355A JP3208790A JP3208790A JPH03235355A JP H03235355 A JPH03235355 A JP H03235355A JP 3208790 A JP3208790 A JP 3208790A JP 3208790 A JP3208790 A JP 3208790A JP H03235355 A JPH03235355 A JP H03235355A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
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-
- H—ELECTRICITY
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子機器等の配線基板に実装されるICをキ
ャンプに内蔵してなるチップキャリアに関するものであ
る。
ャンプに内蔵してなるチップキャリアに関するものであ
る。
従来、この種の千ノブキャリアは、チップの回路にα線
による悪影響を防止する必要上、基板に対するICの実
装前にチップの回路面に高粘度のα線遮蔽用のシリコー
ン樹脂がボッティングによって塗布されている。
による悪影響を防止する必要上、基板に対するICの実
装前にチップの回路面に高粘度のα線遮蔽用のシリコー
ン樹脂がボッティングによって塗布されている。
ところで、従来のチップキャリアにおいては、シリコー
ン樹脂の塗布がボッティングによって行われるものであ
るため、回路面にシリコーン樹脂が山伏に形成されてい
た。この結果、IC上のシリコーン樹脂と基板との間に
寸法が均一に設定されず、ICのリード成形を困難なも
のにするという問題があった。また、シリコーン樹脂を
塗布硬化させる際にICに高温熱が加わり、ICの信軌
性が低下するという問題もあった。
ン樹脂の塗布がボッティングによって行われるものであ
るため、回路面にシリコーン樹脂が山伏に形成されてい
た。この結果、IC上のシリコーン樹脂と基板との間に
寸法が均一に設定されず、ICのリード成形を困難なも
のにするという問題があった。また、シリコーン樹脂を
塗布硬化させる際にICに高温熱が加わり、ICの信軌
性が低下するという問題もあった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、IC
のリード成形を簡単に行うことができると共に、ICの
信頬性を向上させることができるチップキャリアを提供
するものである。
のリード成形を簡単に行うことができると共に、ICの
信頬性を向上させることができるチップキャリアを提供
するものである。
本発明に係るチップキャリアは、基板上にスペーサを介
して実装されかつキャップに内蔵されその回路面にリー
ドを有するICを備えたチップキャリアにおいて、スペ
ーサを、ICの回路面に対向する面にα線放射用のシリ
コーン樹脂が塗布されたシリコーンラバーによって形成
したものである。
して実装されかつキャップに内蔵されその回路面にリー
ドを有するICを備えたチップキャリアにおいて、スペ
ーサを、ICの回路面に対向する面にα線放射用のシリ
コーン樹脂が塗布されたシリコーンラバーによって形成
したものである。
本発明においては、α線放射用のシリコーン樹脂が塗布
されたスペーサの厚さを所定の寸法に設定することがで
きる。
されたスペーサの厚さを所定の寸法に設定することがで
きる。
以下、本発明の構成等を図に示す実施例によって詳細に
説明する。
説明する。
図は本発明に係るチップキャリアの一実施例を示す断面
図である。同図において、符号1で示すものは絶縁性を
有する基板で、表面には後述するTABIC(以下、単
にICと称する)のリードに例えば金−金熱圧着法によ
って接続する複数のバッド2が形成されており、裏面に
はこのバッド2に内部配線3を介して複数のバンプ4が
形成されている。
図である。同図において、符号1で示すものは絶縁性を
有する基板で、表面には後述するTABIC(以下、単
にICと称する)のリードに例えば金−金熱圧着法によ
って接続する複数のバッド2が形成されており、裏面に
はこのバッド2に内部配線3を介して複数のバンプ4が
形成されている。
5は絶縁性を有するキャンプで、前記基板1上に設けら
れている。6はその回路面7に複数のり一ド8を有する
ICで、前記基板1上に複数のバッド2を介して実装さ
れ、かつ前記キャップ5内に接着剤9によって固着され
ている。1oはシリコーンラバーからなるスペーサで、
前記基板1上に接着剤11によって固着されており、前
記IC6を前記基板1上に保持するように構成されてい
る。このスペーサ10には、前記回路面7を覆うα線遮
蔽用のシリコーン樹脂12 (例えば東しシリコーン製
JCR6110あるいは東芝シリコ−ンTSJ3130
等)によって塗布・硬化処理が施されている。このシリ
コーン樹脂12は、前記基板1および前記スペーサlO
から発生するα線を遮断し得る厚さ(50μ「)より大
きい寸法に設定されている。
れている。6はその回路面7に複数のり一ド8を有する
ICで、前記基板1上に複数のバッド2を介して実装さ
れ、かつ前記キャップ5内に接着剤9によって固着され
ている。1oはシリコーンラバーからなるスペーサで、
前記基板1上に接着剤11によって固着されており、前
記IC6を前記基板1上に保持するように構成されてい
る。このスペーサ10には、前記回路面7を覆うα線遮
蔽用のシリコーン樹脂12 (例えば東しシリコーン製
JCR6110あるいは東芝シリコ−ンTSJ3130
等)によって塗布・硬化処理が施されている。このシリ
コーン樹脂12は、前記基板1および前記スペーサlO
から発生するα線を遮断し得る厚さ(50μ「)より大
きい寸法に設定されている。
このように構成された千ノブキャリアにおいては、α線
放射用のシリコーン樹脂12によって基板1.リート8
およびスペーサ10から発生するα線を遮断することが
できる。
放射用のシリコーン樹脂12によって基板1.リート8
およびスペーサ10から発生するα線を遮断することが
できる。
また、本実施例においては、α線放射用のシリコーン樹
脂12が塗布されたスペーサ10の厚さを所定の寸法に
設定することができるから、IC6と基板1間の寸法を
均一な寸法に設定することができる。
脂12が塗布されたスペーサ10の厚さを所定の寸法に
設定することができるから、IC6と基板1間の寸法を
均一な寸法に設定することができる。
さらに、本実施例において、IC6にシリコーン樹脂を
塗布硬化させる必要がないことは、スペーサ10に対す
るシリコーン樹脂12の塗布時にIC6に高温熱が加わ
ることがなくなる。
塗布硬化させる必要がないことは、スペーサ10に対す
るシリコーン樹脂12の塗布時にIC6に高温熱が加わ
ることがなくなる。
なお、本実施例におけるチップキャリアの製造は、接着
剤11によって基板1上にスペーサ10を固着し、次い
でリード8が成形されたIC6をスペーサIO上に保持
し、しかる後リード8とバッド2を金−金熱圧着法によ
って接続してから、接着剤9によってキャップ5にIC
6を固着すると共に、基板1にキャンプ5を固着するこ
とにより行つ。
剤11によって基板1上にスペーサ10を固着し、次い
でリード8が成形されたIC6をスペーサIO上に保持
し、しかる後リード8とバッド2を金−金熱圧着法によ
って接続してから、接着剤9によってキャップ5にIC
6を固着すると共に、基板1にキャンプ5を固着するこ
とにより行つ。
また、本実施例におけるスペーサ10を製造するには、
所定の厚さをもつシリコーンラバーシートに所定の厚さ
をもつシリコーン樹脂12をスピンコータ等によって塗
布し、次にこれを硬化させてから所定の形状、大きさに
切断するか、あるいは打ち抜くことにより行う。
所定の厚さをもつシリコーンラバーシートに所定の厚さ
をもつシリコーン樹脂12をスピンコータ等によって塗
布し、次にこれを硬化させてから所定の形状、大きさに
切断するか、あるいは打ち抜くことにより行う。
以上説明したように本発明によれば、基板上にスペーサ
を介して実装されかつキャップに内蔵されその回路面に
リードを有するICを備えたチップキャリアにおいて、
スペーサを、ICの回路面に対向する面にα線放射用の
シリコーン樹脂が塗布されたシリコーンラバーによって
形成したので、α線放射用のシリコーン樹脂によって基
板、リードおよびスペーサから発生するα線を遮断する
ことができ、ICのα線によるソフトエラーの発生を防
止することができる。また、α線放射用のシリコーン樹
脂が塗布されたスペーサの厚さを所定の寸法に設定する
ことができるから、ICと基板間の寸法を均一な寸法に
設定することができ、ICのリード成形を簡単に行うこ
ともできる。さらに、従来のようにICにシリコーン樹
脂を塗布硬化させる必要がないことは、スペーサに対す
るシリコーン樹脂の塗布時にICに高温熱が加わること
がないから、ICの信顛性を向上させることができると
いった利点もある。
を介して実装されかつキャップに内蔵されその回路面に
リードを有するICを備えたチップキャリアにおいて、
スペーサを、ICの回路面に対向する面にα線放射用の
シリコーン樹脂が塗布されたシリコーンラバーによって
形成したので、α線放射用のシリコーン樹脂によって基
板、リードおよびスペーサから発生するα線を遮断する
ことができ、ICのα線によるソフトエラーの発生を防
止することができる。また、α線放射用のシリコーン樹
脂が塗布されたスペーサの厚さを所定の寸法に設定する
ことができるから、ICと基板間の寸法を均一な寸法に
設定することができ、ICのリード成形を簡単に行うこ
ともできる。さらに、従来のようにICにシリコーン樹
脂を塗布硬化させる必要がないことは、スペーサに対す
るシリコーン樹脂の塗布時にICに高温熱が加わること
がないから、ICの信顛性を向上させることができると
いった利点もある。
図は本発明に係るチップキャリアを示す断面図である。
1・・・・基板、2・・・・パッド、4・・・・バンブ
、5・・・・キャップ、6・・・・IC。 7・・・・回路面、8・・・・リード、10・・・・ス
ペーサ、12・・・・シリコーン樹脂。
、5・・・・キャップ、6・・・・IC。 7・・・・回路面、8・・・・リード、10・・・・ス
ペーサ、12・・・・シリコーン樹脂。
Claims (1)
- 基板上にスペーサを介して実装されかつキャップに内蔵
されその回路面にリードを有するICを備えたチップキ
ャリアにおいて、前記スペーサを、前記ICの回路面に
対向する面にα線放射用のシリコーン樹脂が塗布された
シリコーンラバーによって形成したことを特徴とするチ
ップキャリア。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3208790A JP2836166B2 (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | チツプキヤリア |
FR9009314A FR2650121B1 (fr) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | Support de puce electronique |
CA 2021682 CA2021682C (en) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | Chip-carrier with alpha ray shield |
US07/962,074 US5264726A (en) | 1989-07-21 | 1992-10-16 | Chip-carrier |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3208790A JP2836166B2 (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | チツプキヤリア |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03235355A true JPH03235355A (ja) | 1991-10-21 |
JP2836166B2 JP2836166B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=12349099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3208790A Expired - Lifetime JP2836166B2 (ja) | 1989-07-21 | 1990-02-13 | チツプキヤリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2836166B2 (ja) |
-
1990
- 1990-02-13 JP JP3208790A patent/JP2836166B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2836166B2 (ja) | 1998-12-14 |
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