JPH03229618A - Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 - Google Patents
Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法Info
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- JPH03229618A JPH03229618A JP2024470A JP2447090A JPH03229618A JP H03229618 A JPH03229618 A JP H03229618A JP 2024470 A JP2024470 A JP 2024470A JP 2447090 A JP2447090 A JP 2447090A JP H03229618 A JPH03229618 A JP H03229618A
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＣｌＦ３を含有する排ガスの処理方法に係り
、特に半導体工業で、ＣｌＦ３により装置内面等をドラ
イクリーニングする際、排出されるＣｌＦ３とともに５
ＩＣＩ４、ＳｉＦ、、Ｃ１２、Ｆ２等の排ガスを除去し
て無害化する方法に関する。
、特に半導体工業で、ＣｌＦ３により装置内面等をドラ
イクリーニングする際、排出されるＣｌＦ３とともに５
ＩＣＩ４、ＳｉＦ、、Ｃ１２、Ｆ２等の排ガスを除去し
て無害化する方法に関する。
近年、超ＬＳＩの微細化及び生産効率の向上要求により
、ＣＶＤ−ＰＶＤ装置の壁面及び関連治具類のオートク
リーニングのニーズが高まっている。
、ＣＶＤ−ＰＶＤ装置の壁面及び関連治具類のオートク
リーニングのニーズが高まっている。
ＣｌＦ３はプラズマレスで、しかも低濃度、低温でのク
リーニングが可能のため、その有効性が注目されている
。しかし、ＣｌＦ３はＴＬＶ値が０．ｌｐｐｍときわめ
て毒性が強く、その除害法の確立が急務とされている。
リーニングが可能のため、その有効性が注目されている
。しかし、ＣｌＦ３はＴＬＶ値が０．ｌｐｐｍときわめ
て毒性が強く、その除害法の確立が急務とされている。
ＣｌＦ３の除害方法としては、アルカリ水溶液による湿
式スクラバーやソーダ石灰、活性アルミナなどによる乾
式除害が一般的に行われている。
式スクラバーやソーダ石灰、活性アルミナなどによる乾
式除害が一般的に行われている。
従来技術では、アルカリ剤や活性アルミナ等の処理剤を
単独で用いても、ＣＩ Ｆ Ｇ自体の完全な除去が不可
能であるばかりでなく、処理剤との反応により酸化塩素
が遊離する。また、ＣｌＦ３と同時に排出される５ＩＣ
１４・ＳｉＦ４・Ｃ１２・Ｆ２等の酸性ガスについても
、一部は除去されないかまたは処理量が少ないなどの問
題点があった。
単独で用いても、ＣＩ Ｆ Ｇ自体の完全な除去が不可
能であるばかりでなく、処理剤との反応により酸化塩素
が遊離する。また、ＣｌＦ３と同時に排出される５ＩＣ
１４・ＳｉＦ４・Ｃ１２・Ｆ２等の酸性ガスについても
、一部は除去されないかまたは処理量が少ないなどの問
題点があった。
そこで、本発明は、酸性ガスが同時に排出されても［１
’ｌＦ、をＴＬＶ値以下に処理し、かつ共存する酸性ガ
スも合わせて有効に除去できる。ＣＩＦａ含有排ガスの
処理方法を提供することを目的とする。
’ｌＦ、をＴＬＶ値以下に処理し、かつ共存する酸性ガ
スも合わせて有効に除去できる。ＣＩＦａ含有排ガスの
処理方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、ＣｌＦ３を含
有する排ガスを、鉄の酸化物と常温で接触させることを
特徴とする排ガス処理方法としたものであり、また、鉄
の酸化物と接触させた後に、更に、アルカリ剤と接触さ
せることとしたものである。
有する排ガスを、鉄の酸化物と常温で接触させることを
特徴とする排ガス処理方法としたものであり、また、鉄
の酸化物と接触させた後に、更に、アルカリ剤と接触さ
せることとしたものである。
すなわち、本発明はＣｌＦ３の他に５ＩＣ１４・ＳｉＦ
４・Ｃ１２・Ｆ２等の酸性ガスを含む排ガスを処理する
にあたって、まず第１番目に鉄の酸化物と常温で接触さ
せてこれら排ガス成分を鉄のぶつ化物や塩化物として酸
化物表面に固定する。次いで、副生物として発生するガ
ス状のぶつ化物や塩化物を、第２番目のアルカリ剤で完
全に除去して無害化する方法を提供するものである。
４・Ｃ１２・Ｆ２等の酸性ガスを含む排ガスを処理する
にあたって、まず第１番目に鉄の酸化物と常温で接触さ
せてこれら排ガス成分を鉄のぶつ化物や塩化物として酸
化物表面に固定する。次いで、副生物として発生するガ
ス状のぶつ化物や塩化物を、第２番目のアルカリ剤で完
全に除去して無害化する方法を提供するものである。
上記において、鉄の酸化物としては３価の鉄を用いるの
がよく、また、アルカリ剤としては、水酸化カルシウム
、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム又は酸化マグネ
シウムから選ばれるアルカリ土類金属化合物の１種以上
を用いるのがよい。
がよく、また、アルカリ剤としては、水酸化カルシウム
、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム又は酸化マグネ
シウムから選ばれるアルカリ土類金属化合物の１種以上
を用いるのがよい。
ＣｌＦ３を含む排ガスを鉄の酸化物と接触させると、［
：ｌＦ３は鉄の酸化物の表面に鉄のぶつ化物や塩化物と
して固定される。Ｃ１ｈと鉄の酸化物の反応例を次に示
す。
：ｌＦ３は鉄の酸化物の表面に鉄のぶつ化物や塩化物と
して固定される。Ｃ１ｈと鉄の酸化物の反応例を次に示
す。
３ＣＩＦ３＋２Ｆｅ２［１ｚ →３ＦｅＦ３＋ＦｅＣｌ
３＋３［］２ＣＩＦ３はＦｅＦ３’ ＦｅＣｌ３に固定
されるが、このときガス状のぶつ化物や塩化物が遊離す
る。例えば、ＣＩＯ□・ＦＯ２・）１Ｃ１・ＨＦ等であ
る。これらガス成分はアルカリ剤と接触させることによ
り、いずれも中和反応により除去される。一方、他の酸
性ガスは鉄の酸化物に接触させるだけで完全に鉄のぶつ
化物と塩化物に固定される。
３＋３［］２ＣＩＦ３はＦｅＦ３’ ＦｅＣｌ３に固定
されるが、このときガス状のぶつ化物や塩化物が遊離す
る。例えば、ＣＩＯ□・ＦＯ２・）１Ｃ１・ＨＦ等であ
る。これらガス成分はアルカリ剤と接触させることによ
り、いずれも中和反応により除去される。一方、他の酸
性ガスは鉄の酸化物に接触させるだけで完全に鉄のぶつ
化物と塩化物に固定される。
本発明で使用される鉄の酸化物は、３価の酸化鉄（Ｆｅ
２０３）を主体とするものであれば、通常の市販品でも
よく、また形状も粒状・棒状・板状等操作性がよければ
特に限定されず、特殊な処理・加工・純度等は必要でな
い。
２０３）を主体とするものであれば、通常の市販品でも
よく、また形状も粒状・棒状・板状等操作性がよければ
特に限定されず、特殊な処理・加工・純度等は必要でな
い。
アルカリ剤はアルカリ土類金属の化合物がよく、例えば
水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウ
ム、酸化マグネシウム等を用い、形状も特に限定するも
のではない。これら処理剤の粒度は排ガス通過時に通気
抵抗が上昇しない範囲であれば、接触面積を大きくとる
ために細かい方がよく、７〜１６ｍｅｓｈが望ましい。
水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウ
ム、酸化マグネシウム等を用い、形状も特に限定するも
のではない。これら処理剤の粒度は排ガス通過時に通気
抵抗が上昇しない範囲であれば、接触面積を大きくとる
ために細かい方がよく、７〜１６ｍｅｓｈが望ましい。
ガス処理時の温度は常温でよく、高温にすると装置の材
質や構造も耐熱性にする必要があるため経済的ではない
。
質や構造も耐熱性にする必要があるため経済的ではない
。
実際、これら排ガスと接触せしめる手段としては、充て
ん塔に、ガスの負荷量に応じて鉄の酸化物及びアルカリ
剤を必要な割合で２段に充てんし、ガスを下向流あるい
は上向流のいずれかで充てん塔に導入し、初めに鉄の酸
化物、次にアルカリ剤の順に排ガスと接触せしめるとよ
い。
ん塔に、ガスの負荷量に応じて鉄の酸化物及びアルカリ
剤を必要な割合で２段に充てんし、ガスを下向流あるい
は上向流のいずれかで充てん塔に導入し、初めに鉄の酸
化物、次にアルカリ剤の順に排ガスと接触せしめるとよ
い。
以下、本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらの
実施例に限定されない。
実施例に限定されない。
実施例１及び比較例１〜３
４０ｍｍφのアクリル製容器に層高５０ｍｍｈになるよ
うに処理剤を充てんし、常温でＮ２ガスで希釈したＣｌ
Ｆ３を０．３ｊ２／ｍｉｎで流した。出口側のＣｌＦ３
濃度を追跡するため、検知管で酸化塩素濃度を求め、定
量下限０． ｌｐｐｍを超えるまで処理を行い、それま
でに導入したＣｌＦ３の容積と処理剤の充てん量から処
理容量を求め比較した。また、同時に処理剤層出口で処
理反応により副生物として発生するガス状のふっ素化合
物量や塩素化合物量を、アルカリ溶液吸収−イオンクロ
マトゲラフイーより求めた。
うに処理剤を充てんし、常温でＮ２ガスで希釈したＣｌ
Ｆ３を０．３ｊ２／ｍｉｎで流した。出口側のＣｌＦ３
濃度を追跡するため、検知管で酸化塩素濃度を求め、定
量下限０． ｌｐｐｍを超えるまで処理を行い、それま
でに導入したＣｌＦ３の容積と処理剤の充てん量から処
理容量を求め比較した。また、同時に処理剤層出口で処
理反応により副生物として発生するガス状のふっ素化合
物量や塩素化合物量を、アルカリ溶液吸収−イオンクロ
マトゲラフイーより求めた。
処理剤はいずれも市販品を用Ｇ）、形状（′！粒状で粒
径は７〜１６ｍｅｓｈとした。
径は７〜１６ｍｅｓｈとした。
その結果を表−１に示す。Ｆｅ２Ｌが１３１ＣｌＦ３／
１と最も高い処理容量があった力（、晶１１生物とし
てぶつ化物や塩化物の発生力＜δ忍められた。
１と最も高い処理容量があった力（、晶１１生物とし
てぶつ化物や塩化物の発生力＜δ忍められた。
比較例として用いた、八１□０３、ＣａＤ・Ｎａ［ｌＨ
，Ｃａ （ＯＨ） ２はいずれも処理容量も低く 、Ｍ
ｌ生物の発生量も多かった。
，Ｃａ （ＯＨ） ２はいずれも処理容量も低く 、Ｍ
ｌ生物の発生量も多かった。
実施例２〜５
実施例１と同一装置で、Ｆｅ２ｅｓによる酸性ガスの処
理能力を求めた。Ｆｅ２（ｌｌ＋は実施例１と同じもの
を用いた。常温にてＮ２ガスで希釈した５ｉＣ１＝ ・
５ＩＦ４ ・ＣＩ□・Ｐ２を０．３１／ｍｉｎでそれぞ
れ単独で流し、出口側でこれら成分が検出されるまでの
導入量から処理容量を求めた。結果を表−２に示す。Ｆ
ｅ２Ｏ＋で上記酸性ガスがいずれも除去できることを確
Ｓ忍した。
理能力を求めた。Ｆｅ２（ｌｌ＋は実施例１と同じもの
を用いた。常温にてＮ２ガスで希釈した５ｉＣ１＝ ・
５ＩＦ４ ・ＣＩ□・Ｐ２を０．３１／ｍｉｎでそれぞ
れ単独で流し、出口側でこれら成分が検出されるまでの
導入量から処理容量を求めた。結果を表−２に示す。Ｆ
ｅ２Ｏ＋で上記酸性ガスがいずれも除去できることを確
Ｓ忍した。
実施例６
４０ｍｍφのアルカリ製容器を２段に分け、１段目に層
高２００ｍｍｈになるようにＦｅ２Ｏ３を、２段目に層
高５ＱｍｍｈのＣａ （ＤＨ） ２をそれぞれ充てんし
た。Ｆｅ２Ｏ３とＣａ （ＯＨ） ２は実施例１及び比
較例３で用いたのと同じ処理剤とした。常温でＮ２ガス
で希釈したＣｌＦ３及びＳｉＦ、の混合ガスを０．３ｆ
ｆ／ｍｉｎで、まず１段目のＦｅ２Ｏ３、次に２段目の
Ｃａ（Ｏｆ（Ｌの順に流した。ＣｌＦ３及びＳｉＦ４の
人口ガス濃度はいずれも１％とした。
高２００ｍｍｈになるようにＦｅ２Ｏ３を、２段目に層
高５ＱｍｍｈのＣａ （ＤＨ） ２をそれぞれ充てんし
た。Ｆｅ２Ｏ３とＣａ （ＯＨ） ２は実施例１及び比
較例３で用いたのと同じ処理剤とした。常温でＮ２ガス
で希釈したＣｌＦ３及びＳｉＦ、の混合ガスを０．３ｆ
ｆ／ｍｉｎで、まず１段目のＦｅ２Ｏ３、次に２段目の
Ｃａ（Ｏｆ（Ｌの順に流した。ＣｌＦ３及びＳｉＦ４の
人口ガス濃度はいずれも１％とした。
２段目のＣａ （ＤＨ） ２の出口で酸化塩素・ぶつ化
物・塩化物の排出量を求めた。その結果、８３０ｍ１ｎ
まで処理を行い、これら成分がいずれも検出限界以下（
ＣＩＦ３換算でＯ，ｌｐｐｍ）に除去されていることを
確言忍した。
物・塩化物の排出量を求めた。その結果、８３０ｍ１ｎ
まで処理を行い、これら成分がいずれも検出限界以下（
ＣＩＦ３換算でＯ，ｌｐｐｍ）に除去されていることを
確言忍した。
本発明によれば、酸性ガスが同時に排出されても［１：
ｌＦ３をはじ杓共存する酸性ガスも合わせて有効に除去
でき、しかも、処理容量が大きく、長時間にわたって処
理剤を交換する必要がない。
ｌＦ３をはじ杓共存する酸性ガスも合わせて有効に除去
でき、しかも、処理容量が大きく、長時間にわたって処
理剤を交換する必要がない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ＣｌＦ＿３を含有する排ガスを、鉄の酸化物と常温
で接触させることを特徴とする排ガス処理方法。 ２、ＣｌＦ＿３を含有する排ガスを、鉄の酸化物と常温
で接触させた後、アルカリ剤と接触させることを特徴と
する排ガス処理方法。 ３、鉄の酸化物が、３価の鉄からなる請求項１又は２記
載の排ガス処理方法。 ４、アルカリ剤が、水酸化カルシウム、酸化カルシウム
、水酸化マグネシウム、又は酸化マグネシウムからなる
アルカリ土類金属の化合物の１種以上から選ばれる請求
項２記載の排ガス処理方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024470A JPH06177B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 |
| US07/647,352 US5094825A (en) | 1990-02-05 | 1991-01-29 | Process for treating waste gases containing clf3 |
| DE69102294T DE69102294T2 (de) | 1990-02-05 | 1991-01-30 | Verfahren zur Behandlung von Abgasen, die ClF3 enthalten. |
| EP91101192A EP0441236B1 (en) | 1990-02-05 | 1991-01-30 | Process for treating waste gases containing ClF3 |
| KR1019910001845A KR0173468B1 (ko) | 1990-02-05 | 1991-02-04 | ClF3를 함유한 폐가스 처리방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024470A JPH06177B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03229618A true JPH03229618A (ja) | 1991-10-11 |
| JPH06177B2 JPH06177B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=12139055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024470A Expired - Lifetime JPH06177B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 |
Country Status (5)
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR950031187A (ko) * | 1994-05-26 | 1995-12-18 | 시미즈 슘뻬이 | 산성 배가스의 처리방법 |
| US6309618B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-10-30 | Showa Denko K. K. | Method for treating exhaust gas containing fluorine-containing interhalogen compound, and treating agent and treating apparatus |
| JP2004351364A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Ebara Corp | 三フッ化塩素を含む無機ハロゲン化ガス含有排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 |
| WO2005077496A1 (en) * | 2004-02-17 | 2005-08-25 | Ebara Corporation | Method and apparatus for treating gas containing fluorine-containing compounds |
| JP2015112546A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-22 | 宇部興産株式会社 | ガスの処理装置及びガスの処理カートリッジ |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0702078B1 (en) * | 1994-09-14 | 2001-12-05 | Toda Kogyo Corporation | Method of incinerating combustible wastes and chlorine scavenger |
| JP3566995B2 (ja) * | 1994-10-05 | 2004-09-15 | 日本パイオニクス株式会社 | ハロゲンガスの精製方法 |
| GB9626327D0 (en) * | 1996-12-19 | 1997-02-05 | British Nuclear Fuels Plc | Improvements in and relating to the removal and re-use of chloride trifluoride |
| US6060034A (en) * | 1998-06-02 | 2000-05-09 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Abatement system for ClF3 containing exhaust gases |
| US6352676B1 (en) * | 1999-02-16 | 2002-03-05 | Air Products And Chemicals, Inc. | Abatement of F2 using small particle fluidized bed |
| TWI302476B (en) * | 2005-07-06 | 2008-11-01 | Ind Tech Res Inst | Cleaning agent of treating acid gas and method for cleaning with the cleaning agent |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62152519A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-07 | Iwatani & Co | ハロゲン系廃ガスの乾式処理方法 |
| JPS63137736A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | エッチング排ガス除害方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3469936A (en) * | 1967-12-13 | 1969-09-30 | Atomic Energy Commission | Bromine pentafluoride disposal |
| DE2017531A1 (en) * | 1970-04-13 | 1971-05-06 | Steuler Industriewerke Gmbh | Hydrogen fluoride absorption from effluent - gases with iron salt solutions |
| US4201751A (en) * | 1975-05-06 | 1980-05-06 | Heinz Gresch | Gas purification |
| DD232030A1 (de) * | 1983-03-22 | 1986-01-15 | Radeberg Emailschmelze | Verfahren zur endreinigung fluorhaltiger abgase |
| AT379323B (de) * | 1983-10-07 | 1985-12-27 | Voest Alpine Ag | Verfahren zum abtrennen von schwefel oder schwefelverbindungen und anderen schadstoffen aus heissen gasen eines schmelzreduktionsreaktors |
| JPS6161619A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-03-29 | Asahi Glass Co Ltd | 排ガスの処理方法 |
| CA1298959C (en) * | 1985-09-28 | 1992-04-21 | Kohzo Hakuta | Method of refining rare gas halide excimer laser gas |
| JPS63151608A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 三弗化窒素ガスの精製方法 |
| JPH01301534A (ja) * | 1988-05-28 | 1989-12-05 | Hoya Corp | フッ化物ガラス中の酸化物および水酸基の除去方法 |
| JPH01309074A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Minolta Camera Co Ltd | 現像剤組成物 |
| JPH06212322A (ja) * | 1993-01-13 | 1994-08-02 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | すぐれた熱間加工性を有する洋白 |
-
1990
- 1990-02-05 JP JP2024470A patent/JPH06177B2/ja not_active Expired - Lifetime
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1991
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62152519A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-07 | Iwatani & Co | ハロゲン系廃ガスの乾式処理方法 |
| JPS63137736A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | エッチング排ガス除害方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR950031187A (ko) * | 1994-05-26 | 1995-12-18 | 시미즈 슘뻬이 | 산성 배가스의 처리방법 |
| US6309618B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-10-30 | Showa Denko K. K. | Method for treating exhaust gas containing fluorine-containing interhalogen compound, and treating agent and treating apparatus |
| JP2004351364A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Ebara Corp | 三フッ化塩素を含む無機ハロゲン化ガス含有排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 |
| SG111184A1 (en) * | 2003-05-30 | 2005-05-30 | Ebara Corp | Method, reagent and apparatus for treating emissions containing chlorine trifluoride and other inorganic halogenated gases |
| JP4564242B2 (ja) * | 2003-05-30 | 2010-10-20 | 株式会社荏原製作所 | 三フッ化塩素を含む無機ハロゲン化ガス含有排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 |
| WO2005077496A1 (en) * | 2004-02-17 | 2005-08-25 | Ebara Corporation | Method and apparatus for treating gas containing fluorine-containing compounds |
| JP2015112546A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-22 | 宇部興産株式会社 | ガスの処理装置及びガスの処理カートリッジ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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