JPH03219450A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は基板上に六方晶フェライト粒子およびバインダ
を含む塗布型磁性層を設けてなる光磁気記録媒体に関す
る。

〔従来の技術〕

近年、高密度記録媒体として、半導体レーザ光を用いて
磁気記録を行う光磁気記録媒体が盛んに研究開発されて
いる。

従来、光磁気記録媒体は、磁性体としてＴｂＦｅ−ｃｏ
合金の如き希土類金属と遷移金属とからなる非晶質合金
が多く用いられ、この合金を通常真空蒸着やスパッタリ
ングなどの方法で透明基板上に薄膜形成して磁性層とす
ることにより、作製されている。

この種の光磁気記録媒体において、信号の記録は、磁性
層にレーザー光を照射してキュリー温度または補償温度
付近にまで磁性層を加熱して保磁力を低減させ、磁界に
より磁化を反転させることにより行われている。また再
生は、磁化反転している部分で反射した光の偏光面の回
転角度が異なることを利用して読み出すようにしている
。

しかるに、上記従来の光磁気記録媒体は、磁性層である
非晶質合金薄膜がレーザー光に対し高感度であるという
利点を有する反面、酸化されやすく、時間とともに記録
特性が低下するという問題がある。このため、通常磁性
層上に各種の保護膜を形成するようにしているが、いま
だに完全に酸化を防止できるには至っていない。

また、上記従来の光磁気記録媒体は、光の偏向角つまり
カー（Ｋｅｒｒ）回転角が高々０．３度程度であって、
再生出力が低いという問題もある。そこで、磁性層上に
ＳｉＯや５ｉｎ２などの誘電体層を設け、この層中を光
を透過させて多身干渉を利用することにより、カー回転
角を増加させる試みもあるが、このような誘電体層を形
成すると、カー回転角が増加する反面、光の反射率が低
下するため、再生特性の向上にはあまり寄与しない。

このような事情に鑑み、磁性体としてガーネットや六方
晶フェライトのような酸化物を用い、これを透明基板上
に薄膜形成して磁性層とした光磁気記録媒体も検討され
ている。この媒体によると、磁性体が酸化物のため前記
の如き酸化の問題は生じないが、酸化物は金属と違って
一般に数多くの元素から構成されているため、膜の組成
を一定に制御することが容易でな（、同一の特性を有す
る薄膜を再現性よく作製し難い。

一方、上記薄膜の再現性の問題を回避するため、特開昭
６２−１１４９号公報では、六方晶フェライト粒子を有
機または無機のバインダ中に分散させた塗布型磁性層を
透明基板上に設けるようにした光磁気記録媒体を提案し
ている。しかし、この媒体では、カー回転角の大きなも
のが得られにくく、また磁性層表面の光の反射率が小さ
いため、再生出力が低くなる問題があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

このように、従来公知の光磁気記録媒体は、耐酸化性の
問題かあるいは再生出力の問題を有し、またこれらの問
題が比較的少ないものでは磁性層作製上の問題があるな
ど実用上法して満足できるものとはいえなかった。

本発明は、以上の観点から、一定組成の磁性層を再現性
よく作製できると共に、この磁性層の耐酸化性にすぐれ
て、かつ再生出力の高い光磁気記録媒体を提供すること
を目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者は、上記の目的を達成するための鋭意検討の過
程において、まず前記提案に係る透明基板上に六方晶フ
ェライト粒子およびバインダを含む塗布型磁性層を設け
るようにした光磁気記録媒体に注目し、この媒体の再生
出力について詳細な検討を行った。

その結果、この種の光磁気記録媒体において、カー回転
角を大きくするためには、通常六方晶フェライト粒子お
よびバインダを含む塗布型磁性層をできるだけ厚くする
、たとえば０．８μｍ以上、特に約１．３μｍ程度の厚
さに設定するのがよいとされていたが、このような厚手
の磁性層では信号の記録に際しレーザー光を照射したと
きに磁性層の深部にまで均一に加熱できず、加熱による
保磁力の低減効果が充分に得られないため、磁界による
磁化反転が磁性層全体にわたって均一に行えないもので
あることがわかった。

このため、磁性層を厚くしているにもかかわらず、カー
回転角はむしろ小さくなるという期待に反した結果とな
り、しかも磁性層を厚くすると層内への光の吸収が大き
くなって充分な反射率が得られず、そのうえ磁性層表面
の平滑性に劣ってこの層表面での光の散乱も無視できず
、これが光の反射率をさらに一層小さくし、これらのこ
とが原因で再生出力が大きく低下してしまうものである
ことが判明した。

そこで、この知見をもとにさらに検討を加えた結果、六
方晶フェライト粒子およびバインダを含む塗布型磁性層
を０．５μｍ以下の厚さに規制すると、レーザー光によ
ってその深部にまで均一に加熱でき、したがって磁界に
よる磁化反転を磁性層全体にわたって均一に達成できる
ことから、この磁性層中に含ませるべき六方晶フェライ
ト粒子やバインダの種類などを適宜選択することより、
六回転角を従来に比し著しく増大できるものであること
を究明した。

また、このような光磁気記録媒体においては、塗布型磁
性層の厚さが薄いことから、この層内での光の吸収が小
さくなってそのふん反射率が高くなり、しかも前記磁性
体粒子およびバインダをサンドグラインダミルなどで非
常に均一に分散した磁性塗料を調製しこれを基板上にス
ピンコードして表面平滑性の良好な磁性層を作製するよ
うにすれば、層表面での光の散乱も可及的に防止でき、
これら要因によって磁性層表面の光の反射率を大きく高
めうろこともわかった。

このような手法にて、カー回転角を大きくしかつ反射率
を高くした光磁気記録媒体によると、再生出力を前記従
来のものに比し飛躍的に向上できることが見い出された
。しかも、この光磁気記録媒体は、用いる磁性体粒子つ
まり六方晶フェライト粒子に起因して耐酸化性にすぐれ
ている共に、上述のように磁性体粒子およびバインダを
含む磁性塗料を基板上に塗布するだけで均一組成の磁性
層を簡単にしかも再現性よく作製できる。

本発明は、以上の知見をもとにして完成されたものであ
り、その要旨とするところは、基板上に六方晶フェライ
ト粒子およびバインダを含む厚さが０．５μｍ以下の塗
布型磁性層を設けてなり、この磁性層に１０キロエルス
テッドの磁場を印加したのちの残留磁化状態において波
長８３０ｎｍの光で測定したときのカー回転角が０．３
度以上であると共に、上記同様の光で測定したときの上
記磁性層表面の反射率が３０％以上であることを特徴と
する光磁気記録媒体にある。

〔発明の構成・作用〕

以下、本発明の光磁気記録媒体を、図面を参考にして説
明する。

第１図は本発明の光磁気記録媒体の一例を示したもので
、図中、１は透明基板、２は六方晶フェライト粒子およ
びバインダを含む塗布型磁性層、３は光の反射層である
。

透明基板１としては、ポリメチルメタクリレトやポリカ
ーボネートなどの樹脂基板のほか、パイレックスガラス
のようなガラス基板が用いられ、通常これら基板上に予
め記録再生のための所定の案内溝を形成したものが使用
される。

塗布型磁性層２に含ませる磁性体としての六方晶フェラ
イト粒子としては、つぎの−殺伐；％式％）） で表されるものが好ましい。これとは異なる六方晶フェ
ライト粒子は、たとえば室温付近で高保磁力を示しても
キュリー温度が４００℃程度と高（なるなど光磁気記録
媒体用として適した特性が得られないことが多い。

上記の一般式中、ＡはＢ　ａ　＋　　Ｓ　ｒ　＋　　Ｐ
　ｂ　＋　Ｃａから選ばれる少なくとも一種の元素、Ｍ
はＣ。

Ｔｉ、　　Ｎｉ、　　Ｚｎ、　　Ｚｒ、　　Ｓｎ、　　
Ｉｎ、　　Ｇｅ、　　Ｃｕ、Ｍｎから選ばれる少なくと
も一種の元素であって、特にＣＯとＴｉとの二種の元素
を含んでいるのが好ましい。ｎは４から１０までの数、
Ｘは０．０１から０．１５の数であり、これらｎおよび
Ｘは上記Ａ、Ｍの種類２組み合わせに応じて上記範囲の
中から適切な値が選択される。

このような六方晶フェライト粒子の粒子径としては、平
均直径が通常０．０１〜０．０８μｍの範囲にあるのが
望ましい。粒子径が大きすぎると、ノイズ（Ｎ）が大き
くなるため、出力（Ｓ）が大きくてもＳ／Ｎ比が低下す
る。また、粒子径が小さすぎると、この粒子をバインダ
中に均一に分散させにくくなり、その結果垂直配向させ
にくくなるために、出力が低下する。

上記の六方晶フェライト粒子は、たとえば以下の如き方
法で製造される。塩化鉄、塩化バリウム、塩化コバルト
、塩化チタンなどの金属塩を水に溶解し、これに水酸化
ナトリウムなどのアルカリ水溶液を加えて上記金属塩の
水酸化物の共沈物を生０ 成させ、この共沈物を熟成したのち、オートクレブ中１
５０〜４００℃で１〜８時間加熱反応させ、ついで反応
生成物を水洗乾燥したのち、空気中またはフラックス中
で６００〜１，０００℃、１〜１０時間加熱焼成して、
製造される。

このようにして製造される六方晶フェライト粒子の結晶
組成は、添加する元素の種類や添加量を変えることによ
り任意に制御でき、またその粒子径は、アルカリ土類金
属塩の濃度を変えることにより容易に制御できる。

この六方晶フェライト粒子よりなる磁性体を分散結着さ
せるために使用するバインダとしては、そのガラス転移
温度（Ｔｇ）が１５０℃以上であるものが好ましく、特
に好適には２００℃以上であるものが用いられる。これ
は、レーザー光による記録時に磁性層は瞬時であるが３
００℃程度にまで加熱されるため、ガラス転移温度が１
５０℃未満のバインダでは、記録再生を繰り返す間にバ
インダが劣化して、カー回転角の低下ひいては再生出力
の低下を招くためである。

このような高いガラス転移温度を有するバインダとして
は、架橋剤にエポキシ系樹脂を用いたものが適しており
、たとえばポリビニルブチラールやフェノール系樹脂に
エポキシ系樹脂を添加して充分に架橋させたものや、ポ
リイミド樹脂などが好適なものとして使用される。

塗布型磁性層２ば、上記の六方晶フェライト粒子とその
バインダとを均一に混合分散させた磁性塗料を、透明基
板１上にスピンコードなどの適宜の手段で塗布し、この
塗布中または塗布後の乾燥中にＮ−８対向磁石で磁界を
印加して、上記粒子の磁化容易軸を透明基板１に垂直方
向に磁場配向することにより、作製される。

このような塗布型磁性層２の厚さは、０．５μｍ以下で
あることが必要で、特に好ましくは０．０５〜０．３μ
ｍ程度であるのがよい。０．５μｍより厚くなると、信
号記録時にレーザー光による保磁力低減効果が充分に得
られず、カー回転角が小さくなると共に、光の磁性層中
での吸収が大きくなって反射率が低下してくることから
、再生出力を向１ ２ 上させることが難しくなる。

また、この塗布型磁性層２の保磁力としては、０〜１５
０℃の温度領域で基板１に垂直方向に測定した保磁力が
５００エルステッド以上、２５０℃以上の温度領域で上
記同様に測定した保磁力が２００エルステッド以下、に
それぞれ設定されているのが望ましい。

これは、０〜１５０　’Ｃの温度領域で基板１に垂直方
向に測定した保磁力が５００エルステッド未満となると
、記録した磁区が不安定になるためであり、特にレーザ
ー光を照射して再生する際には磁性層は１００〜１５０
℃に加熱されるため、室温だけでなく、上記の如き広い
温度範囲で５００エルステッド以上の保磁力を有する必
要があるためである。

また、信号記録時にはレーザー光でキュリー温度付近ま
で磁性層を加熱して保磁力を低下させ、この状態で磁界
により磁化反転させるが、その際−船釣に用いられてい
る半導体レーザー光は通常２５０℃程度の加熱温度とな
るため、この温度下で基板１に垂直方向に測定した保磁
力が２００エルステッド以下となっているのが望ましく
、これより大きいと磁界により磁化反転させることが難
しくなるからである。２５０℃で保磁力が２００エルス
テッド以下であれば、それより高温ではさらに保磁力が
低下するため、半導体レーザー光により安定した信号を
記録できる。

このような塗布型磁性層２は、上述のような特定の保磁
力を有するほか、その角型（残留磁化／飽和磁化）が、
基板１に垂直方向に測定して０．６以上、好ましくは０
．７以上であるのがよい。この角型が０．６未満になる
と、磁性体そのものの六回転角が太き（でも、再生する
時の反射光の偏向面が分散する結果、再生出力が低下し
てくることになる。

なお、塗布型磁性層２の保磁力および角型を上述の如く
設定するには、既述した特定の六方晶フェライト粒子お
よびバインダを用いて、かつこれら成分を充分均一に混
合分散させて基板１上に塗布すればよく、これら手段に
よって上記保磁力および角型を有する一定組成の磁性層
を安定して再現性よく作製することができる。

このように構成される塗布型磁性層２は、磁性体粒子が
六方晶フェライトという酸化物タイプのものからなるた
め、前記従来の非晶質合金薄膜のような酸化の問題が木
質的にない。

光の反射層３は、塗布型磁性層２上に光の反射面を形成
させて、磁性層表面での光の反射率を高めるためのもの
であり、たとえば、ＡＡ、Ｃｕ。

Ａｕ、Ａｇなどの金属薄膜のほか、Ｔｅａ、ＴｅＣ，Ｔ
ｉＮ、ＴａＮなどの化合物薄膜が用いられる。この反則
層３は、通常真空蒸着法やスパッタリング法で作製され
るが、上記各材料の粒子を磁性層上に塗布することによ
って作製してもよい。

その厚さは、特に限定されないが、通常は０．０５〜１
μｍ程度である。

第２図は、上記第１図の光磁気記録媒体における塗布型
磁性層２と光の反射層３との間に、さらに透明な誘電体
層４を介在させて、カー回転角をより一層大きくした例
である。

ここで、透明な誘電体層４としては、たとえばＳｉｎ、
ＳｉＯ，、ＴｉＯ，、ＴｉＯ２、ＳｉＮｘなどが好まし
く用いられる。このような誘電体層４は、通常真空蒸着
法やスパッタリング法で作製されるが、前記の反射層の
場合と同様に、上記各材料の粒子を塗布することによっ
ても作製できる。

その厚さは、特に限定されないが、通常は０．０３〜０
．２μｍ程度である。

本発明の光磁気記録媒体は、上記した第１図または第２
図に示すような層構成に基づいて、その塗布型磁性層２
に対し１０キロエルステッドの磁場を印加したのちの残
留磁化状態において波長８記同様の光で測定したときの
上記磁性層表面の反射率が３０％以上、好適には３５％
以上に設定されていることを大きな特徴とする。

ここで、上記のカー回転角は、塗布型磁性層２の厚さが
０．５μｍ以下に規制されていることにより、この磁性
層２に含ませるべき磁性体粒子およ５ ６ びバインダとして前記特定のものを用いて、かつこの層
２の保磁力や角型を前述の如く規定することなどにより
、０．３度以上の値に任意に設定することができる。

また、上記の反射率についても、塗布型磁性層２の厚さ
が上述のように規制されて、この層中に吸収される光の
量が少なくなっていることから、磁性塗料の均一分散化
により表面平滑性の良好な上記磁性層を形成して磁性層
表面の光の散乱を可及的に防ぐことにより、３０％以上
の値に任意に設定することができる。

このようなカー回転角および光の反射率を存する本発明
の光磁気記録媒体において、信号の記録再生は、第１．
２図に示すように、透明基板１側からレーザー光りを入
射する方式にて行われる。

すなわち、信号の記録は、光の反射層３側から磁界を印
加しながら透明基板１側よりレーザー光りを入射して磁
化反転させればよく、再生に際しては、透明基板ｌ側か
らレーザー光りを入射し、塗布型磁性層２（および透明
な誘電体層４）を透過し反射層３で反射して再び塗布型
磁性層２　（および透明な誘電体層４）と透明基板１を
透過することにより偏光を受け、外部に取り出される。

このときの再生出力は、前記大きなカー回転角および高
い光の反射率によって、従来に比し格段にすくれたもの
となる。

ところで、以上に説明した光磁気記録媒体は、上述のよ
うに、透明基板１側からレーザー光りを入射して信号の
記録再生を行うようにしたものであるが、これとは逆に
レーザー光りを塗布型磁性層２側から入射させて信号の
記録再生を行うことも可能である。

第３図および第４図は、このような記録再生方式を採用
する場合の光磁気記録媒体の二つの例を示したもので、
第３図では基板１上に光の反射層３が形成されてその上
に塗布型磁性層２が形成されており、また第４図では上
記反射層３と塗布型磁性層２との間にさらに透明な誘電
体層４が形成されている。

これらの例では、基板１が透明である必要は特になく、
たとえば表面研摩したアルミニウム板などを使用しても
よい。また、このような表面研摩やその他メツキなどに
より表面を平滑にした基板１を用いる場合、光の反射層
３を省くことも場合により可能である。

本発明の光磁気記録媒体の形状としては、円板状やカー
ド状が一般的であるが、用途目的に応じて上記以外の各
種の形状をとることができる。

〔発明の効果〕

以上のように、本発明は、基板上に六方晶フェライト粒
子およびバインダを含む特定厚みの塗布型磁性層を設け
て、この磁性層に１０キロエルステッドの磁場を印加し
たのちの残留磁化状態において波長８３０ｎｍの光で測
定したときのカー回転角が０．３度以上となり、かつ上
記同様の光で測定したときの上記磁性層表面の反射率が
３０％以上となるようにしたことにより、一定組成の磁
性層の作製が容易であって、かつ酸化の問題のない、し
かも再生出力の非常に大きな光磁気記録媒体を提供する
ことができる。

〔実施例〕

つぎに、本発明の実施例を記載して、より具体的に説明
する。なお、以下において部とあるのは重量部を意味す
る。また、以下の実施例および比較例で用いた７種の六
方晶フェライト粒子くいずれもＢａ−フェライト粒子）
は、下記の方法で製造したものである。

く六方晶フェライト粒子の製造〉 塩化鉄と塩化バリウムと塩化コバルトと塩化チタン（ま
たは塩化ジルコニウム）とからなる４種の塩を所定量水
に溶解したのち、水酸化ナトリウムの水溶液をＰＨが約
１２になるまで加えて、これら金属塩の水酸化物の共沈
物を生成させた。この共沈物を室温で約２０時間熟成し
たのち、オドクレープ中に仕込み、３００℃で４時間加
熱反応させた。反応生成物を水洗したのち、その懸濁液
中に、共沈物の１／２の重量の塩化ナトリウムを加えて
溶解した。

つぎに、この懸濁液をろ過したのち、空気中で１００°
Ｃで乾燥させ、その後空気中でさらに８０９ ０ ０℃で２時間加熱焼成した。加熱焼成粉を水洗して塩化
ナトリウムを除去したのち、空気中で乾燥させて、Ｂａ
０・６　（（Ｆｅ、−、Ｍｘ）ｚｏ３）の組成を有する
７種の六方晶フェライト粒子Δ１．Ａ２くいずれもｘ＝
ｏ、　Ｌ　２）　、　Ｂｌ、　Ｂ２　（いずれもＸ−０
，０９）　、　　Ｃ（ｘ＝０．０５）　、　　Ｄ　（ｘ
＝０．０８）Ｅ（ｘ＝０．２０）を製造した。

各六方晶フエライ粒子の組成と粒子径（平均直径）を調
べた結果は、つぎの第１表に示されるとおりであった。

第　　１　表 実施例１ 磁性体として六方晶フェライト粒子Ａ１を使用し、この
粒子１００部に対してポリビニルブチラール１０部と酢
酸セロソルブ１５０部とを加え、サンドグラインダミル
を用いて４時間混合分散させた。

この分散物を撹拌しながらさらにエポキシ樹脂を１０部
加えて、磁性塗料を調製した。

この磁性塗料を案内溝が形成されたガラス基板上にスピ
ンコードし、Ｎ−８対向磁場中で塗膜を乾燥させたのち
、バインダを充分に架橋硬化させるために２００℃で約
１０時間加熱して、バインダのＴｇが２９０℃となる０
、２９μｍの厚さの磁性層を形成した。

つぎに、この磁性層上に真空蒸着法により金属ＡＮを蒸
着して、厚さが０．３μｍの光の反射層を形成し、光磁
気記録媒体とした。

実施例２〜８ 磁性体として六方晶フェライト粒子Ａ１．　Ａ２．　Ｂ
ｌまたはＢ２を使用し、かつ磁性層の厚さを０．１４〜
０．４８μｍの範囲の所定厚さに設定して、他はは２ ぼ実施例１に準じて、後記の第２表に示す７種の光磁気
記録媒体を作製した。

なお、実施例２のみ、バインダの使用量を、ポリビニル
ブチラール１５部、エポキシ樹脂５部に変更して、架橋
硬化後のバインダのＴｇが１７０°Ｃとなるようにした
。また、磁性塗料の調製にあたり、各実施例ごとに混合
分散時間などを多少変更して行った。

比較例１〜５ 磁性体として六方晶フェライト粒子Ａ１．　　Ｃ，Ｄま
たはＥを使用し、磁性塗料調製時の混合分散条件を多少
変更すると共に、磁性層の厚さを０．１４〜０．７１μ
ｍの範囲の所定厚さに設定した以外は、実施例１と同様
にして、後記の第２表に示す５種の光磁気記録媒体を作
製した。

以上の実施例１〜８および比較例１〜５の各光磁気記録
媒体につき、磁気特性として保磁力および角型を、光特
性としてカー回転角および光の反射率を、さらに書き込
み特性として書き込み後の磁区のサイズないし形状を、
それぞれ以下の要領で調べた。これらの測定結果を、用
いた六方晶フェライト粒子の種類および磁性層の厚さと
共に、後記の第２表に示す。

〈磁気特性〉 ０℃、２５℃、１２０°Ｃ，１５０℃、２５０”Ｃでの
保磁力を基板に垂直方向に測定した。また、２５℃での
角型を上記同様に測定した。

〈カー回転角〉 磁区構造観察装置を用いて測定した。光の波長は８３０
ｎｍで、１０キロエルステッドの磁界を印加したのちの
残留磁化状態におけるカー回転角を測定した。

〈光の反射率〉 分光光度計を用いて測定した。キセノンランプを光源に
して、８３０ｎｍの光を分光して取り出し、照射した。

光の反射率は、リファレンス膜（、ｌの蒸着膜）を１０
０％として、その相対値を求めた。

〈書き込み特性〉 基板と反対側から永久磁石により磁性層に５０３ ４ ０エルステッドの磁界を印加しながら、波長が８３０ｎ
ｍの半導体レーザー光をビーム径が約１μｍになるよう
に基板側から一定時間照射して磁化反転させた。書き込
み後の磁区のサイズないし形状から書き込み特性を評価
した。

上記の第２表より明らかなように、本発明の光磁気記録
媒体（実施例１〜８）は、六方晶フェライト粒子および
バインダを含む塗布型磁性層の厚さを０．５μｍ以下に
規制し、その保磁力や角型さらに表面平滑性などを適宜
選択して、カー回転角を０．３度以上、光の反射率を３
０％以上としていることにより、レーザー光によるすく
れた書き込み特性と共に、再生特性の大幅な向上を図れ
るものであることがわかる。

これに対し、上記磁性層の厚さが０．５μｍを超えるも
の（比較例１，２）では、カー回転角は高くても光の反
射率が低いために、書き込み特性および再生特性の向上
を望めない。また、磁性層の厚さを０．５μｍ以下とす
るときでも、その保磁力や表面平滑性などが適切に選択
されなければ、六回転角が本発明の範囲外となり（比較
例３〜５）、この場合も書き込み特性や再生特性の面で
良好な結果が得られない。

なお、上記本発明の光磁気記録媒体は、磁性層のバイン
ダがいずれも１５０℃以上の高いＴｇを有するために、
レーザー光による記録再生を長期にわたり繰り返しても
再生出力が大きく低下することはなかったが、バインダ
として８０°ＣのＴｇを有する塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体を用いて実施例１，５と同様に作製した光磁気
記録媒体では、記録再生時に磁性層の破損が認められ、
六回転角が極めて小さくなって再生出力が大きく低下し
てしまった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光磁気記録媒体の一例を示す断面図、
第２図、第３図および第４図はそれぞれ上記媒体の他の
例を示す断面図である。 １・・・基板、２・・・塗布型磁性層、３・・・光の反
射層、４・・・誘電体層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に六方晶フェライト粒子およびバインダを
   含む厚さが０．５μｍ以下の塗布型磁性層を設けてなり
   、この磁性層に１０キロエルステッドの磁場を印加した
   のちの残留磁化状態において波長８３０ｎｍの光で測定
   したときのカー（Ｋｅｒｒ）回転角が０．３度以上であ
   ると共に、上記同様の光で測定したときの上記磁性層表
   面の反射率が３０％以上であることを特徴とする光磁気
   記録媒体。
2. （２）塗布型磁性層における基板に対し垂直方向に測定
   される保磁力が０〜１５０℃の温度領域で５００エルス
   テッド以上、２５０℃以上の温度領域で２００エルステ
   ッド以下である請求項（１）に記載の光磁気記録媒体。
3. （３）塗布型磁性層におけるバインダのガラス転移温度
   が１５０℃以上である請求項（１）または（２）に記載
   の光磁気記録媒体。
4. （４）基板が透明であり、この透明基板上に塗布型磁性
   層が設けられ、さらにこの上に光の反射層が設けられて
   なる請求項（１）〜（３）のいずれかに記載の光磁気記
   録媒体。
5. （５）透明基板上の塗布型磁性層と光の反射層との間に
   透明な誘電体層が設けられてなる請求項（４）に記載の
   光磁気記録媒体。