JPH0714169A - 光情報記録媒体及び再生方法 - Google Patents

光情報記録媒体及び再生方法

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JPH0714169A
JPH0714169A JP5173820A JP17382093A JPH0714169A JP H0714169 A JPH0714169 A JP H0714169A JP 5173820 A JP5173820 A JP 5173820A JP 17382093 A JP17382093 A JP 17382093A JP H0714169 A JPH0714169 A JP H0714169A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度に記録された光情報記録媒体の記録マ
ークをピックアップの光学的回折限界により微小マーク
を読み出すのが不可能であるという問題を打破すると共
に、あらゆるタイプの光情報記録媒体について適用可能
である超解像再生方法を提供する。 【構成】 少なくとも記録層の読み取り面側に温度変化
により透過率が変化する透過率可変膜が複数層設ける。
これら複数の透過率可変膜としては、室温において透過
率が大きく、高温側において透過率が減少するタイプの
もの、あるいは室温において透過率が小さく、高温側に
おいて透過率が増加するタイプのものが用いられる。こ
のような透過率可変膜を設けたことにより、レーザ光の
スポット径内に、透過率が小さい領域と透過率が室温時
に近い大きい値である領域、或いは透過率が大きい領域
と透過率が室温時に近い小さい値である領域が形成さ
れ、透過率が大きい領域がレーザ光のスポット径より小
さい径となり、小さな記録マークを再生することが可能
となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光を用いて情報の
記録/再生を行う光情報記録媒体とそれに記録された情
報を再生する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現状で
の光ディスク(光磁気ディスクを含め)の記録再生密度
の限界を決めているのは再生の条件である。なぜなら記
録層のある温度以上になったところが記録領域となるの
で入射光パワーを制御することで記録領域は原理的には
いくらでも小さくできるが、再生の場合は光学的な回折
限界が再生能力を決定してしまうからである。回折理論
によれば、カットオフ空間周波数は、波長をλ、レンズ
の開口をNAとすると2(NA)/λで与えられ、これ
より大きな空間周波数の記録マークは再生することがで
きない。記録、再生密度を向上させるには、短波長のレ
ーザ光を用いるか、ピックアップ光学系においてレンズ
の開口数を大きくすればよい。ところが、短波長レーザ
光を用いる方法としては、非線形光学材料を用いたSH
Gを利用したものなどがあるが、SHG光は高速外部変
調が困難であるなど、実用化レベルに至るにはまだ時間
を要する。一方、レンズの開口数を上げると焦点深度が
浅くなるためにフォーカスサーボがかかりにくくなる、
球面収差が大きくなるなどの問題が生ずる。
【0003】このような再生限界を打破する方法とし
て、記録媒体に工夫を凝らした磁気誘導超解像(MS
R)方式が提案されている(日本応用磁気学会誌;Vo
l.15,No.5,1991,p.838−843、
等)。この方式は、従来の記録層上に読み出し層あるい
は読み出し層及びスイッチング層を設け、さらに磁石を
用いて、高密度に記録されたマークを高密度のまま読み
出すことのできる方式である。この方式には、2つの方
法があり、それぞれFAD(Front Aperture Detectio
n)、RAD(Rear Aperture Detection)と称されてい
る。
【0004】FADでは、図11に示すように、基本的
に記録層11、スイッチング層12及び読み出し層13
からなる交換結合3層膜を有する光磁気記録媒体10を
用い、記録は通常の方法で記録層11に対して行われる
が、交換結合力により、スイッチング層12及び読み出
し層13にも同じ記録が行われる。再生は、通常より高
い1.5mW以上の再生パワーでレーザ光を照射し、読
み出し磁界Hrを加えて行う。この再生パワーのレーザ
光照射により、レーザ光のスポットSの後方に温度の高
い領域Rができ、その温度がスイッチング層12のキュ
リー温度付近のマスキング温度以上になると、読み出し
層13と記録層11の間の交換結合力が弱くなり、保磁
力の小さな読み出し層13の磁化は読み出し磁界Hrの
向きに揃えられて、高温領域Rにおける読み出し層13
の磁化はすべて“0”となり、それより低い温度領域に
おける読み出し層13では記録層11の磁化と同じ状態
が保存される。換言すれば、高温領域Rは情報が読み出
せないマスク領域となり、情報はスポットSの内の三日
月状の領域からだけ読み出せるようになる。従って、実
効的にレーザ光のスポット径が小さくなったと同じ状態
となり、該レーザ光のスポット径より小さい記録マーク
を読み出すことが可能となる。なお、図中Mは記録マー
クを示す。
【0005】RADでは、図12に示すように、基本的
に記録層21及び読み出し層22からなる交換結合2層
膜を有する光磁気記録媒体20を用い、記録は通常の方
法で記録層21に対して行われるが、交換結合力によ
り、読み出し層22にも同じ記録が行われる。再生は、
先ず予め初期化磁界Hiを印加して読み出し層22の磁
化を反転させ、次いで2.5mW程度の再生パワーでレ
ーザ光を照射するとともに読み出し磁界Hrを加えて行
う。この場合、スポットS内の読み出し層22は初期化
されているため、情報が読み出せないマスク領域とな
り、スポットB内で高温領域Rとなっている部分におい
てのみ、読み出し磁界Hrの下で記録層21の磁化情報
が読み出し層22にコピーされ、情報の読み出しが可能
となる。従って、上記と同様、実効的にレーザ光のスポ
ット径が小さくなったと同じ状態となり、該レーザ光の
スポット径より小さい記録マークを読み出すことが可能
となる。従来法では、トラックピッチがレーザ光のスポ
ット径より小さくなっている場合、スポットが隣のトラ
ックにはみ出してしまい、クロストークが増大するが、
RADでは、上述したように、高温領域である信号検出
領域が隣のトラックにはみ出さない限りクロストークは
発生しないので、トラック幅方向の密度を向上させるこ
とができる。
【0006】また、FAD、RAD等は光磁気記録媒体
に適用されるもので、他の色素等の記録膜を備えた光情
報記録媒体には適するものではなかった。
【0007】そこで、本発明は上述したような高密度に
記録された光情報記録媒体の記録マークをピックアップ
の光学的回折限界により微小マークを読み出すのが不可
能であるという問題を打破すると共に、あらゆるタイプ
の光情報記録媒体について適用可能である超解像再生方
法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明よれば、上記課題
を解決するため、レーザ光により情報の記録/再生を行
う光情報記録媒体において、少なくとも記録層の読み取
り面側に温度変化により透過率が変化する透過率可変膜
が複数層設けられていることを特徴とする光情報記録媒
体が提供される。また、本発明によれば、上記構成にお
いて、各透過率可変膜は、透過率が所定値となるしきい
値温度が、記録層から離れるに従って小さくなるように
若しくは記録層から離れるに従って大きくなるように設
定されていることを特徴とする光情報記録媒体が提供さ
れる。また、本発明によれば、上記構成において、前記
複数の透過率可変膜は、室温において透過率が大きく、
高温側において透過率が減少するものであることを特徴
とする光情報記録媒体が提供される。また、本発明によ
れば、上記構成において、前記複数の透過率可変膜は、
室温において透過率が小さく、高温側において透過率が
増加するものであることを特徴とする光情報記録媒体が
提供される。また、本発明によれば、上記光情報記録媒
体に基板側から、前記透過率可変膜をしきい値温度以上
に昇温させるパワーのレーザ光を照射し、レーザ光のス
ポット径内の領域のうち、前記透過率可変膜の透過率が
所定値以下に減少する領域以外の領域から記録情報を読
み出すことを特徴とする再生方法が提供される。さら
に、本発明によれば、上記光情報記録媒体に基板側か
ら、前記透過率可変膜をしきい値温度以上に昇温させる
パワーのレーザ光を照射し、レーザ光のスポット径内の
領域のうち、前記透過率可変膜の透過率が所定値以上に
増加する領域から記録情報を読み出すことを特徴とする
再生方法が提供される。
【0009】
【作用】室温付近で透過率が大きく、高温側において透
過率が増加する透過率可変膜を複数層設けたことによ
り、レーザ光のスポット径内に、透過率が小さい領域と
透過率が室温時に近い大きい値である領域が形成され、
透過率が大きい領域がレーザ光のスポット径より小さい
径となり、小さな記録マークを再生することが可能とな
る。また、室温付近で透過率が小さく、高温側において
透過率が減少する透過率可変膜を複数層設けたことによ
り、レーザ光のスポット径内に、透過率が大きい領域と
透過率が室温時に近い小さい値である領域が形成され、
透過率が大きい領域がレーザ光のスポット径より小さい
径となり、小さな記録マークを再生することが可能とな
る。
【0010】
【実施例】以下本発明を詳細に説明する。図1に本発明
による光情報記録媒体の一構成例を示す。この光情報記
録媒体は、基板1上に、複数層の透過率可変膜2、第1
の保護膜3、磁性膜4、第2の保護膜3’及び反射膜5
を順に積層した構成であり、従来の層構成に比し、複数
層の透過率可変膜2を設けたことに特徴がある。なお、
第1の保護膜3は本来の保護機能に加えカー回転角をエ
ンハンスする機能も有し、また第2の保護膜3’はレー
ザ光の熱をためる機能も有する。
【0011】本構成例で使用される透過率可変膜として
は、次の2つのタイプのものが使用可能である。 (1)温度により透過率が変化するもので、室温において
透過率が大きく、高温側において透過率が減少する性質
の膜 (2)温度により透過率が変化するもので、室温において
透過率が小さく、高温側において透過率が増加する性質
の膜 前者の膜は、具体的には例えば波長780nmのレーザ
光に対して室温で透過率が90%近く(反射率は約10
%)を示し、温度を100℃以上にした場合、透過率が
逆に10%近くまで、望ましくは0%まで減少するよう
な性質の膜である。図2にこの透過率可変膜の室温及び
温度T’における透過率と波長の関係の一例を示す。こ
こでT’は波長780nmのレーザ光を照射したときに
透過率が10%以下となる温度である。また、後者の膜
は、具体的には前者の膜と反対の挙動を示すような膜で
ある。
【0012】透過率可変膜2を構成する層の数は少なく
とも2以上であり、ここである透過率可変膜の透過率が
所定値になる温度をしきい値温度Ttとすると、各膜に
おけるしきい値温度Ttは熱伝導率との関係で適当に選
択することにより、全体として、図3に示すように、透
過率の高い領域(以下、開口部と称する)が透過率可変
膜ごとに磁性膜4に近づくにつれて狭くなるようにす
る。図3は透過率可変膜を4層(基板1側から順にa,
b,c,d)設けた場合の温度分布を示す図で、図3
(a)はしきい値温度Tt以上となる高温領域を示し、
図3(b)は各透過率可変膜における温度と距離との関
係を示している。例えば、各透過率可変膜を構成する材
料として熱伝導率が小さいものを使用する場合には、図
4に示すように、各透過率可変膜のしきい値温度Ttが
磁性層4に近づくにつれて(基板1から離れるにつれ
て)次第に小さくなるように材料選択を行う。熱伝導率
が小さい透過率可変膜を使用すると、磁性膜4に近づく
につれて温度分布が平坦で均一に近くなるため、開口部
が狭くなりすぎ、場合によっては開口しない恐れがある
が、各透過率可変膜間のしきい値温度の関係を上記のよ
うに設定すると、適当な大きさの開口の形成が可能とな
る。一方、各透過率可変膜を構成する材料として熱伝導
率が大きいものを使用する場合には、図5に示すよう
に、各透過率可変膜のしきい値温度Ttが磁性層4に近
づくにつれて(基板1から離れるにつれて)次第に大き
くなるように材料選択を行う。熱伝導率が大きい透過率
可変膜を使用すると、各透過率可変膜の間で温度分布に
大差がないため、磁性膜4側の透過率可変膜の開口部が
大きくなりすぎる恐れがあるが、各透過率可変膜間のし
きい値温度の関係を上記のように設定すると、適当な大
きさの開口の形成が可能となる。
【0013】上記では、適当な開口の形成を、各透過率
可変膜のしきい値温度と熱伝導率との関係において説明
したが、その他の特性が開口の形成に関わる場合は、上
記に限定されるものではなく、磁性膜上での開口部の大
きさがレーザ光のスポット径よりも小さくなるような積
層構造であれば、任意の層構成とすることができる。
【0014】透過率可変膜2のうち上記(1)のタイプ、
即ち高温側で透過率が減少するタイプの膜の材料として
は、例えば波長600〜800nmの範囲で80〜90
%と特に高い透過率を示すTiO2/Ag/TiO2積層
膜を用いることができる。金属酸化物膜は透明な高屈折
率誘電体膜であり、間に挟まれた金属としてはAg以外
にAu、Cu等でもよく、金属の代わりにこれらの合金
でもよく、またCu等にハロゲン元素(Cl等)を添加
したものでもよい。ここでは光学的膜厚が重要である。
また、温度が上昇すると透過率が減少するためには、間
の金属が100〜200℃で金属酸化物膜の酸素と結合
し、光吸収が大きくなり、室温になると再び解離して元
に戻る上記のような元素が好ましい。したがって、1元
素に限らず複数元素(合金)でもよく、上記金属にハロ
ゲン元素を添加したものでもよい。膜厚としては、例え
ば金属酸化物膜が各々300Å、金属あるいは合金膜が
120〜130Åという構成で波長780nm付近で透
過率が約90%となる。金属酸化物としてはTiO2
他、Ta25等が使用可能である。本発明においては、
透過率可変膜を複数層設けるので、例えばTiO2/A
g/TiO2/Ag/TiO2等の構成にして使用するこ
とができる。
【0015】また、透過率可変膜2の(上記(1)及び(2)
のタイプのものを含む)膜材料としては、可逆的なサー
モクロミズムを示す導電性高分子が使用可能である。こ
のような導電性高分子としては、化1に示すような基本
骨格を有し、側鎖に適当なアルキル鎖等を付加したもの
が好ましく使用される。
【化1】
【0016】上記のような導電性高分子では、側鎖のコ
ンフォーメーション変化が立体障害を引き起こし、結果
として実効共役長が変化するため、サーモクロミズムに
よる吸収スペクトル変化の現象が起こる。そこでこの現
象を利用することにより所期の目的を達成することが可
能となる。ここで一例として、下記化2で表されるポリ
(3−ドコシルチオフェン)の温度による吸収スペクト
ルの変化(サーモクロミズム)を図6に示す。
【化2】
【0017】さらに、透過率可変膜2の膜材料(上記
(1)及び(2)のタイプのものを含む)としては、可逆的な
サーモクロミズムを示す金属錯塩類、縮合芳香環置換エ
チレン誘導体、液晶等を用いることができる。
【0018】本発明が適用される媒体の種類は、光で再
生できるものであれば制限はなく、光磁気ディスクであ
っても、色素系の光ディスクであっても適用できる。
【0019】本発明において、複数層の透過率可変膜の
積層の仕方、厚さ等は所望の再生最短マークに合わせて
選択することができ、また媒体の高温部を光透過部とす
るか、あるいは光遮断部とするかは、使用する透過率可
変膜の材料の性質によって決定される。
【0020】通常、光磁気記録媒体の磁性膜としてTb
FeCo系非晶質合金を用いた場合、磁性膜のキュリー
温度は200℃以上で、記録条件は、記録磁界200〜
300Oe、最適記録レーザパワー(C/Nが最大とな
る時のレーザパワー)7〜8mWである。波長780n
mのレーザ光のスポット径は約1.8μm程度である
が、キュリー点以上になる温度領域はレーザ光のスポッ
ト中心付近であるため、記録パワーとレーザ光のパルス
幅を調節すれば、高密度な記録が可能となる。そこで本
発明においては記録方法自体は従来通りであるが、記録
パワーとレーザ光のパルス幅を適切に設定することで、
より高密度記録できるようにする。
【0021】再生時においては、磁性膜(記録層)4に
記録されている情報を読み出すためにレーザ光を照射す
るわけであるが、このとき再生パワーの値を先に述べた
透過率可変膜2をTt以上の温度に昇温させるような値
に選ぶ。この場合、レーザ光のスポット径内の温度分布
は図7のような曲線になる。ディスクが回転している場
合は、この高温領域(T≧Tt)は、スポット径内で非対
称に分布している。この高温領域面積がスポット面積よ
り小さくなることを利用することにより、レーザ光のス
ポット径以下の微小な記録マークを再生することが可能
になる。図8、図9は、本発明の再生(読み出し)方法
を図式化したものである。本発明においては、読み出し
方法として通常透過OFF(透過率小の意味)で高温部
でON(透過率大の意味)あるいは通常透過率ONで高
温部でOFFという方法のどちらであってもかまわな
い。
【0022】ここで本発明による光情報記録媒体の作製
例として光磁気記録媒体を作製した場合につき述べる。
従来の光磁気記録媒体のAl/SiN/TbFeCo/
SiNの4層構成膜と基板の間にTiO2/Ag/Ti
2/Cu/TiO2から構成される透過率可変膜を新た
に設け、本発明による光磁気記録媒体とした。この光磁
気記録媒体と従来の光磁気記録媒体について記録/再生
波長λ=780nm、ディスク回転数1800rpm、
再生パワー約3mw(本発明の光磁気記録媒体の場合:
従来の光磁気記録媒体の場合は1.3mW)で各記録マ
ーク長に対するC/Nを調べた。結果は図10に示す通
り従来例に比べ本発明では記録マーク長0.4μmでも
C/N≧45dBが得られ、高密度に記録された記録マ
ークを高密度の状態のままで再生できる超解像再生が達
成されていることが明らかとなった。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、複数層設けられた透過
率可変膜により、回折限界を超えて高密度に記録された
記録マークを従来のピックアップ光学系を用いて高密度
の状態のまま再生できる超解像再生方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光磁気記録媒体の一構成例を示す
断面図である。
【図2】透過率可変膜の室温及びT’における透過率と
波長の関係を示す図である。
【図3】(a)は各透過率可変膜の高温領域を示す図、
(b)は各透過率可変膜における温度と距離との関係を
示す図である。
【図4】各透過率可変膜のしきい値温度が磁性膜に近づ
くに従って小さくなる場合の説明図である。
【図5】各透過率可変膜のしきい値温度が磁性膜に近づ
くに従って大きくなる場合の説明図である。
【図6】ポリ(3−ドコシルチオフェン)の温度による
吸収スペクトルの変化を示す図である。
【図7】再生レーザ光を照射したときのレーザ光のスポ
ット径内の温度分布を示す図である。
【図8】本発明の再生方法を図式化して示す図である。
【図9】本発明による別の再生方法を図式化して示す図
である。
【図10】本発明の光磁気記録媒体の作製例の特性を従
来媒体と比較して示す図である。
【図11】磁気誘導超解像方式のうちのFADの説明図
である。
【図12】磁気誘導超解像方式のうちのRADの説明図
である。
【符号の説明】
1 基板 2 透過率可変膜 3 保護膜 4 磁性膜(記録層) 5 反射膜 S レーザスポット A 光透過領域 B 光吸収領域

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光により情報の記録/再生を行う
    光情報記録媒体において、少なくとも記録層の読み取り
    面側に温度変化により透過率が変化する透過率可変膜が
    複数層設けられていることを特徴とする光情報記録媒
    体。
  2. 【請求項2】 各透過率可変膜は、透過率が所定値とな
    るしきい値温度が、記録層から離れるに従って小さくな
    るように若しくは記録層から離れるに従って大きくなる
    ように設定されていることを特徴とする請求項1に記載
    の光情報記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記複数の透過率可変膜は、室温におい
    て透過率が大きく、高温側において透過率が減少するも
    のであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光情
    報記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記複数の透過率可変膜は、室温におい
    て透過率が小さく、高温側において透過率が増加するも
    のであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光情
    報記録媒体。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかの光情報記録媒
    体に基板側から、前記透過率可変膜をしきい値温度以上
    に昇温させるパワーのレーザ光を照射し、レーザ光のス
    ポット径内の領域のうち、前記透過率可変膜の透過率が
    所定値以下に減少する領域以外の領域から記録情報を読
    み出すことを特徴とする再生方法。
  6. 【請求項6】 請求項1〜4のいずれかの光情報記録媒
    体に基板側から、前記透過率可変膜をしきい値温度以上
    に昇温させるパワーのレーザ光を照射し、レーザ光のス
    ポット径内の領域のうち、前記透過率可変膜の透過率が
    所定値以上に増加する領域から記録情報を読み出すこと
    を特徴とする再生方法。
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