JPH03197527A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 27
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 22
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 30
- -1 imidazole compound Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 11
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 10
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- UALAKBZSBJIXBP-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethane-1,1,2,2-tetrol Chemical compound OC(O)C(O)(O)C1=CC=CC=C1 UALAKBZSBJIXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- PUKLCKVOVCZYKF-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)ethyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CCN1C(=O)C=CC1=O PUKLCKVOVCZYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFMQZXBCADIWFI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-[4-[2-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]cyclohexyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1C1CCC(C=2C(=CC=CC=2)N2C(C=CC2=O)=O)CC1 GFMQZXBCADIWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(N2C(C=CC2=O)=O)=C1 IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNMVPPPCZKPIJ-UHFFFAOYSA-N 1-[3-[3-[3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenoxy]phenoxy]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(C=CC=3)N3C(C=CC3=O)=O)C=CC=2)=C1 MBNMVPPPCZKPIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKEACNYLDYJTTP-UHFFFAOYSA-N 1-[3-[4-[4-[3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenoxy]phenoxy]phenoxy]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=CC(OC=4C=C(C=CC=4)N4C(C=CC4=O)=O)=CC=3)=CC=2)=C1 BKEACNYLDYJTTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJRVZIYCCJCRD-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenoxy]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XOJRVZIYCCJCRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUIACFHOZIQGKX-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]sulfonylphenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(=CC=2)N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 GUIACFHOZIQGKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIRFWAADGFIXIJ-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)cyclohexyl]methyl]cyclohexyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCC(CC2CCC(CC2)N2C(C=CC2=O)=O)CC1 LIRFWAADGFIXIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYVHLZLQVWXBDZ-UHFFFAOYSA-N 1-[6-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)hexyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CCCCCCN1C(=O)C=CC1=O PYVHLZLQVWXBDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHXUFCBZBJDGE-UHFFFAOYSA-N 1-[[4-[(2,5-dioxopyrrol-1-yl)methyl]cyclohexyl]methyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1CCC(CN2C(C=CC2=O)=O)CC1 JZHXUFCBZBJDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFRPTDABLAIJMY-UHFFFAOYSA-N 1-[[4-[(2,5-dioxopyrrol-1-yl)methyl]phenyl]methyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC(C=C1)=CC=C1CN1C(=O)C=CC1=O XFRPTDABLAIJMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylimidazole Chemical compound C1=NC=CN1C1=CC=CC=C1 SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVHFXJOCUKBZFS-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)-2-methyloxirane Chemical compound ClCC1(C)CO1 VVHFXJOCUKBZFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100100082 Oryza sativa subsp. japonica TPP4 gene Proteins 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCDXIADKBDSBJU-UHFFFAOYSA-N phenylmethanetriol Chemical compound OC(O)(O)C1=CC=CC=C1 CCDXIADKBDSBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体封止用の樹脂組成物に関わり、特に、表
面実装型の半導体装置のように半田耐熱性を要求される
半導体装置を封止するのに適した樹脂組成物に関する。
面実装型の半導体装置のように半田耐熱性を要求される
半導体装置を封止するのに適した樹脂組成物に関する。
電気機器、電子部品、とりわけ半導体の分野では、高密
度実装化、多機能化の傾向にあり、これを封止する材料
には、実装工程における高温半田に対して、耐熱性に優
れた樹脂組成物の開発が強く望まれている。
度実装化、多機能化の傾向にあり、これを封止する材料
には、実装工程における高温半田に対して、耐熱性に優
れた樹脂組成物の開発が強く望まれている。
従来、半導体封止用樹脂組成物としては、0−クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂に代表されるエポキシ樹脂
、その硬化剤およびシリカを主成分とする樹脂組成物が
成形性、信頼性の点で優れているため、主流となってい
る。
ルノボラック型エポキシ樹脂に代表されるエポキシ樹脂
、その硬化剤およびシリカを主成分とする樹脂組成物が
成形性、信頼性の点で優れているため、主流となってい
る。
〔発明が解決しようとする課題]
最近の傾向として樹脂封止型半導体装置については、前
述の高密度実装化の流れにより、表面実装型の半導体装
置に変わりつつある。
述の高密度実装化の流れにより、表面実装型の半導体装
置に変わりつつある。
このような表面実装型の半導体装置においては、従来の
挿入型半導体装置と違って、基盤への半田付は工程にお
いて半導体装置全体が200°C以上の半田付は温度に
曝される。この際、封止樹脂にクラックが発生し、半導
体装置の信顛性を大幅に低下させるという問題が生じて
来た。
挿入型半導体装置と違って、基盤への半田付は工程にお
いて半導体装置全体が200°C以上の半田付は温度に
曝される。この際、封止樹脂にクラックが発生し、半導
体装置の信顛性を大幅に低下させるという問題が生じて
来た。
この点から、樹脂強度の向上を目的として耐熱性に優れ
たイミド系の樹脂を使用する研究が多くなされて来たが
、イミド樹脂の硬化物は、可撓性、成形性の点で問題が
あり、エポキシ樹脂と併用することにより成形性と耐熱
性のバランスを取ることが検討されて来た。
たイミド系の樹脂を使用する研究が多くなされて来たが
、イミド樹脂の硬化物は、可撓性、成形性の点で問題が
あり、エポキシ樹脂と併用することにより成形性と耐熱
性のバランスを取ることが検討されて来た。
しかしながら、イミド樹脂とエポキシ樹脂とでは、反応
速度が異なり、特にイミド樹脂として、付加型のポリマ
レイミドを使用した場合、ポリマレイミドの反応が速く
、エポキシ樹脂の反応が遅くなる傾向にあり、このよう
な場合、硬化物の硬度の発現が遅れ、硬化物の金型より
の離型性が悪化するという問題があった。
速度が異なり、特にイミド樹脂として、付加型のポリマ
レイミドを使用した場合、ポリマレイミドの反応が速く
、エポキシ樹脂の反応が遅くなる傾向にあり、このよう
な場合、硬化物の硬度の発現が遅れ、硬化物の金型より
の離型性が悪化するという問題があった。
本発明の目的は、半田耐熱性を要求される樹脂封止型半
導体装置に適用できる封止用樹脂組成物を提供すること
にある。
導体装置に適用できる封止用樹脂組成物を提供すること
にある。
本発明者らは、エポキシ樹脂とイミド樹脂を併用して樹
脂組成物の耐熱性を向上させる目的で鋭意研究を重ねる
中で、良好な離型性を付与するためには、金型よりの離
型時に十分な熱時硬度が必要であることを知り、さらに
、ある種の硬化促進剤を組み合わせて使用すれば、エポ
キシ樹脂とイミド樹脂を併用した場合でも十分な熱時硬
度を得ることができ、良好な離型性と優れた耐熱性を両
立させることに成功し、本発明を完成するに至った。
脂組成物の耐熱性を向上させる目的で鋭意研究を重ねる
中で、良好な離型性を付与するためには、金型よりの離
型時に十分な熱時硬度が必要であることを知り、さらに
、ある種の硬化促進剤を組み合わせて使用すれば、エポ
キシ樹脂とイミド樹脂を併用した場合でも十分な熱時硬
度を得ることができ、良好な離型性と優れた耐熱性を両
立させることに成功し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、ポリマレイミド(A)、エポキシ
樹脂(B)、エポキシ硬化剤(C)および無機充填剤(
D)から本質的になる樹脂組成物において、硬化促進剤
として一般式(I):(R1は水素原子またはメチル基
を表し、R2はフェニル基または炭素数10〜20のア
ルキル基を表す。) で表されるイミダゾール化合物(E)と、テトラフェニ
ルホスホニウムテトラフェニルボレートおよび/または
トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレートのテト
ラフェニルボレート化合物(F)を必須成分きして含有
することを特徴とする半導体対土用樹脂組成物である。
樹脂(B)、エポキシ硬化剤(C)および無機充填剤(
D)から本質的になる樹脂組成物において、硬化促進剤
として一般式(I):(R1は水素原子またはメチル基
を表し、R2はフェニル基または炭素数10〜20のア
ルキル基を表す。) で表されるイミダゾール化合物(E)と、テトラフェニ
ルホスホニウムテトラフェニルボレートおよび/または
トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレートのテト
ラフェニルボレート化合物(F)を必須成分きして含有
することを特徴とする半導体対土用樹脂組成物である。
本発明に使用されるポリマレイミド(A)としては、例
えば、N、 N’−エチレンビスマレイミド、N、N’
−ヘキサメチレンビスマレイミド、N、N’(1,3−
フェニレン)ビスマレイミド、N、N″(1,4−フェ
ニレン)ビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル
、ビス(3−クロロ−4=マレイミドフエニル)メタン
、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4
−マレイミドシクロヘキシル)メタン、1.4−ビス(
マレイミドメチル)シクロヘキサン、l、4−ビス(マ
レイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4−ビス(マ
レイミドメチル)ベンゼン、ポリマレイミドフェニルメ
チレン 等があるが、本発明においては、次の2種類の
ポリマレイミドが好ましく用いられる。
えば、N、 N’−エチレンビスマレイミド、N、N’
−ヘキサメチレンビスマレイミド、N、N’(1,3−
フェニレン)ビスマレイミド、N、N″(1,4−フェ
ニレン)ビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル
、ビス(3−クロロ−4=マレイミドフエニル)メタン
、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4
−マレイミドシクロヘキシル)メタン、1.4−ビス(
マレイミドメチル)シクロヘキサン、l、4−ビス(マ
レイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4−ビス(マ
レイミドメチル)ベンゼン、ポリマレイミドフェニルメ
チレン 等があるが、本発明においては、次の2種類の
ポリマレイミドが好ましく用いられる。
第1の種類としては下記の一般式(■):よりなる2価
の基を表し、Xは直接結合、炭素数1〜10の2価の炭
化水素基、六フッ素化されたイソプロピリデン、カルボ
ニル、チオ、スルフイニル、スルホニルまたはオキシか
らなる群より選ばれる基を示す。) で表されるビスマレイミドである。
の基を表し、Xは直接結合、炭素数1〜10の2価の炭
化水素基、六フッ素化されたイソプロピリデン、カルボ
ニル、チオ、スルフイニル、スルホニルまたはオキシか
らなる群より選ばれる基を示す。) で表されるビスマレイミドである。
このようなビスマレイミドは、通常公知の方法により一
般式(■): (R3は一般式(II)の場合と同じ意味を示す。)で
表されるジアミンと無水マレイン酸を縮合・脱水反応さ
せて容易に製造できる。
般式(■): (R3は一般式(II)の場合と同じ意味を示す。)で
表されるジアミンと無水マレイン酸を縮合・脱水反応さ
せて容易に製造できる。
上記のビスマレイミドとして具体的には、1.3−ビス
(3−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタン、1.1
−ビス(4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕
エタン、1.2−ビス(4−(3−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕エタン、2.2−ビス(4−(3−マレ
イミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2.2−ビス
〔4(3−マレイミドフェノキシ)フェニル]ブタン、
2.2−ビス(,1(3−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル) −1,Ll、3.3.3−ヘキサフルオロプロ
パン、4.4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ビ
フェニル、ビス(1−(3−マレイミドフェノキシ)フ
ェニルコケトン、ビス(,1(3−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕スルフィド、ビス(4−(3−マレイミ
ドフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス(1−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス
(4−(3マレイミドフエノキシ)フェニルフェーテル
等が挙げられる。
(3−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタン、1.1
−ビス(4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕
エタン、1.2−ビス(4−(3−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕エタン、2.2−ビス(4−(3−マレ
イミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2.2−ビス
〔4(3−マレイミドフェノキシ)フェニル]ブタン、
2.2−ビス(,1(3−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル) −1,Ll、3.3.3−ヘキサフルオロプロ
パン、4.4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ビ
フェニル、ビス(1−(3−マレイミドフェノキシ)フ
ェニルコケトン、ビス(,1(3−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕スルフィド、ビス(4−(3−マレイミ
ドフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス(1−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス
(4−(3マレイミドフエノキシ)フェニルフェーテル
等が挙げられる。
第2の種類としては、下記の一般式(■):(式中、l
は平均値で0〜10である。)で表されるポリマレイミ
ドである。
は平均値で0〜10である。)で表されるポリマレイミ
ドである。
このようなポリマレイミドは一般式(■):(式中、2
は平均値でO〜10である。)で表されるポリアミンと
無水マレイン酸を縮合・脱水反応させて容易に製造でき
る。
は平均値でO〜10である。)で表されるポリアミンと
無水マレイン酸を縮合・脱水反応させて容易に製造でき
る。
これらのポリマレイミドの1種類または2種類以上が使
用される。
用される。
エポキシ樹脂(B)は、1分子中に少なくとも2個のエ
ポキシ基を有するものであれば全て使用可能である。
ポキシ基を有するものであれば全て使用可能である。
これらについて、以下に例示する。フェノール、クレゾ
ール、レゾルシノール等のフェノール類とアルデヒド類
との反応生成物であるノボラック樹脂から誘導されるノ
ボラック型エポキシ樹脂、および上記のフェノール類と
アラルキルエーテル類との反応生成物であるアラルキル
樹脂から誘導されるアラルキル型エポキシ樹脂が耐熱性
、電気特性の点から好ましい。
ール、レゾルシノール等のフェノール類とアルデヒド類
との反応生成物であるノボラック樹脂から誘導されるノ
ボラック型エポキシ樹脂、および上記のフェノール類と
アラルキルエーテル類との反応生成物であるアラルキル
樹脂から誘導されるアラルキル型エポキシ樹脂が耐熱性
、電気特性の点から好ましい。
その他、1分子中に2個以上の活性水素を有する化合物
から誘導されるエポキシ樹脂、例えば、ビスフェノール
A1ビスフェノールFルゾルシン、ビスヒドロキシジフ
ェニルエーテル、ビスヒドロキシビフェニル、テトラブ
ロムビスフェノールA。
から誘導されるエポキシ樹脂、例えば、ビスフェノール
A1ビスフェノールFルゾルシン、ビスヒドロキシジフ
ェニルエーテル、ビスヒドロキシビフェニル、テトラブ
ロムビスフェノールA。
トリヒドロキシフェニルメタン、テトラヒドロキシフェ
ニルエタン、アルカンテトラキスフェノール等の多価フ
ェノール類;エチレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リスリトール、ジエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等の多価アルコール類;エチレンジアミン、
アニリン、ビス(4−アミノフェニル)メタン等のアミ
ン類;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸等の多価カ
ルボン酸類とエピクロルヒドリンまたは2−メチルエピ
クロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂があ
り、これらのエポキシ樹脂の1種類または2種類以上が
使用される。
ニルエタン、アルカンテトラキスフェノール等の多価フ
ェノール類;エチレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リスリトール、ジエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等の多価アルコール類;エチレンジアミン、
アニリン、ビス(4−アミノフェニル)メタン等のアミ
ン類;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸等の多価カ
ルボン酸類とエピクロルヒドリンまたは2−メチルエピ
クロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂があ
り、これらのエポキシ樹脂の1種類または2種類以上が
使用される。
また、前記のエポキシ樹脂(B)として、オイル状、ゴ
ム状等のシリコーン化合物で変性したエポキシ樹脂を使
用することもできる。
ム状等のシリコーン化合物で変性したエポキシ樹脂を使
用することもできる。
例えば、特開昭62−270617号、特開昭62−2
73222号に開示された方法により製造されるシリコ
ーン変性エポキシ樹脂等がある。
73222号に開示された方法により製造されるシリコ
ーン変性エポキシ樹脂等がある。
エポキシ硬化剤(C)については公知のものが全て使用
できるが、特に、1分子中に2個以上のフェノール性水
酸基を有する化合物が好ましく使用される。
できるが、特に、1分子中に2個以上のフェノール性水
酸基を有する化合物が好ましく使用される。
具体的には、フェノール、クレゾール、レゾルシノール
等のフェノール類とアルデヒド類との反応生成物である
ノボラックフェノール樹脂、上記のフェノール類とアラ
ルキルエーテル類との反応生成物であるアラルキルフェ
ノール樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン、テトラヒ
ドロキシフェニルエタン、アルカンテトラキスフェノー
ル等の多価フェノール類等が挙げられ、これらの1種類
または2種類以上が使用される。
等のフェノール類とアルデヒド類との反応生成物である
ノボラックフェノール樹脂、上記のフェノール類とアラ
ルキルエーテル類との反応生成物であるアラルキルフェ
ノール樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン、テトラヒ
ドロキシフェニルエタン、アルカンテトラキスフェノー
ル等の多価フェノール類等が挙げられ、これらの1種類
または2種類以上が使用される。
また、上記化合物にアミン類、酸無水物を併用すること
もできる。
もできる。
ポリマレイミド(A)、エポキシ樹脂(B)およびエポ
キシ硬化剤(C)の配合量はポリマレイミド(A)10
0重量部に対して、エポキシ樹脂(B)とエポキシ硬化
剤(C)の合計量は、10〜500重量部、好ましくは
25〜300重量部である。
キシ硬化剤(C)の配合量はポリマレイミド(A)10
0重量部に対して、エポキシ樹脂(B)とエポキシ硬化
剤(C)の合計量は、10〜500重量部、好ましくは
25〜300重量部である。
また、エポキシ樹脂(B)とエポキシ硬化剤(C)の割
合は、エポキシ樹脂(B)に対してエポキシ硬化剤(C
)が当量比で0.1〜10Φ範囲、好ましくは0.5〜
2の範囲である。
合は、エポキシ樹脂(B)に対してエポキシ硬化剤(C
)が当量比で0.1〜10Φ範囲、好ましくは0.5〜
2の範囲である。
無機充填剤(D)としてはシリカ、アルミナ、窒化ケイ
素、炭化ケイ素、タルク、ケイ酸カルシウム、炭酸カル
シウム、マイカ、クレー、チタンホワイト等の粉体;ガ
ラス繊維、カーボン繊維等の繊維体が例示される。
素、炭化ケイ素、タルク、ケイ酸カルシウム、炭酸カル
シウム、マイカ、クレー、チタンホワイト等の粉体;ガ
ラス繊維、カーボン繊維等の繊維体が例示される。
これらの中で熱膨張率と熱伝導率の点から、結晶性シリ
カおよび/または溶融性シリカが好ましい。
カおよび/または溶融性シリカが好ましい。
さらに、樹脂組成物の成形時の流動性を考えると、その
形状は球形、または球形と不定形の混合物が好ましい。
形状は球形、または球形と不定形の混合物が好ましい。
無機充填剤(D)の配合量は、ポリマレイミド(A)、
エポキシ樹脂(B)およびエポキシ硬化剤(C)の合計
量100重量部に対して100〜900重量部であるこ
とが必要であり、好ましくは200〜600重量部であ
る。
エポキシ樹脂(B)およびエポキシ硬化剤(C)の合計
量100重量部に対して100〜900重量部であるこ
とが必要であり、好ましくは200〜600重量部であ
る。
また上記の無機充填剤(D)は、機械的強度、耐熱性等
の点から、樹脂との接着性向上の目的でカップリング剤
を併用することが好ましく、かかるカップリング剤とし
ては、シラン系、チタネート系、アルミネート系および
ジルコアルミネート系等のカップリング剤が使用できる
。
の点から、樹脂との接着性向上の目的でカップリング剤
を併用することが好ましく、かかるカップリング剤とし
ては、シラン系、チタネート系、アルミネート系および
ジルコアルミネート系等のカップリング剤が使用できる
。
その中でもシラン系カップリング剤が好ましく、特に、
熱硬化性樹脂と反応する官能基を有するシラン系カップ
リング剤が最も好ましい。
熱硬化性樹脂と反応する官能基を有するシラン系カップ
リング剤が最も好ましい。
かかるシラン系カップリング剤の例としては、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(
2−アミノエチル)3〜アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、3−アニリノプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、3−グ
リシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、2− (
3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシ
シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン 等を
挙げることができ、これらの1種類または2種類以上が
使用される。
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(
2−アミノエチル)3〜アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、3−アニリノプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、3−グ
リシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、2− (
3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシ
シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン 等を
挙げることができ、これらの1種類または2種類以上が
使用される。
本発明において、樹脂組成物を硬化するにあたっては、
2種類の硬化促進剤を必須成分とするが、第1の種類と
しては一般式(I): (R1は水素原子またはメチル基を表し、R2はフェニ
ル基または炭素数10〜20のアルキル基を表す。) で表されるイミダゾール化合物(E)である。
2種類の硬化促進剤を必須成分とするが、第1の種類と
しては一般式(I): (R1は水素原子またはメチル基を表し、R2はフェニ
ル基または炭素数10〜20のアルキル基を表す。) で表されるイミダゾール化合物(E)である。
このようなイミダゾール化合物としては、2−ウンデシ
ルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−
フェニルイミダゾール、2フェニル−4−メチルイミダ
ゾール 等が挙げられる。
ルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−
フェニルイミダゾール、2フェニル−4−メチルイミダ
ゾール 等が挙げられる。
これらの化合物は四国化成■より各々、キュアゾールC
,,Z、キュアゾールC27Z、キュアゾール2PZ、
キュアゾール2P4MZとして市販されている。
,,Z、キュアゾールC27Z、キュアゾール2PZ、
キュアゾール2P4MZとして市販されている。
その中でも2−ヘプタデシルイミダゾールが最も好まし
く用いられる。
く用いられる。
第2の種類としては、テトラフェニルホスホニウムテト
ラフェニルボレートおよび/またはトリエチルアンモニ
ウムテトラフェニルボレートのテトラフェニルボレート
化合物(F)でアル。
ラフェニルボレートおよび/またはトリエチルアンモニ
ウムテトラフェニルボレートのテトラフェニルボレート
化合物(F)でアル。
これらは各々北興化学01よりTPP4 、 TEA−
にの商品名で市販されている。
にの商品名で市販されている。
このような硬化促進剤の組み合わせをエポキシ樹脂に適
用した例は公知である。例えば、特公昭53−2835
9号に2−ヘプタデシルイミダゾールとトリエチルアン
モニウムテトラフェニルボレートの組み合わせによる硬
化促進剤を使った例が開示されている。
用した例は公知である。例えば、特公昭53−2835
9号に2−ヘプタデシルイミダゾールとトリエチルアン
モニウムテトラフェニルボレートの組み合わせによる硬
化促進剤を使った例が開示されている。
しかしながら、イミド樹脂を併用した樹脂組成物に上述
のような硬化促進剤を通用した例は未だ知られていない
。
のような硬化促進剤を通用した例は未だ知られていない
。
イミド樹脂を使用した樹脂組成物の硬化促進剤としては
トリフェニルホスフィンを主体とする硬化促進剤が使用
されているが、このような樹脂組成物ではイミド樹脂と
エポキシ樹脂の硬化のバランスが取り難く、硬化物の硬
度の発現に時間がかかり、短時間での離型性が不十分で
あった。
トリフェニルホスフィンを主体とする硬化促進剤が使用
されているが、このような樹脂組成物ではイミド樹脂と
エポキシ樹脂の硬化のバランスが取り難く、硬化物の硬
度の発現に時間がかかり、短時間での離型性が不十分で
あった。
しかし、本発明の樹脂組成物は硬化物の硬度が短時間で
発現し、十分な離型性および半田耐熱性を得られること
が特徴である。
発現し、十分な離型性および半田耐熱性を得られること
が特徴である。
本発明における2種類の硬化促進剤の使用量はポリマレ
イミド(A)、エポキシ樹脂CB)およびエポキシ硬化
剤(C)の合計量100重量部に対して、2種類の硬化
促進剤の合計量で1.5〜3重量部である。
イミド(A)、エポキシ樹脂CB)およびエポキシ硬化
剤(C)の合計量100重量部に対して、2種類の硬化
促進剤の合計量で1.5〜3重量部である。
また、イミダゾール化合物(E)とテトラフェニルボレ
ート化合物(F)の比率は、重量比でイミダゾール化合
物(E)1に対してテトラフェニルボレート化合物(F
)0.5〜2倍量が好ましい。
ート化合物(F)の比率は、重量比でイミダゾール化合
物(E)1に対してテトラフェニルボレート化合物(F
)0.5〜2倍量が好ましい。
該樹脂組成物には、上記各成分の他、必要に応じて、脂
肪酸、脂肪酸塩、ワックス等の離型剤、ブロム化合物、
アンチモン、リン等の難燃剤、カーボンブラック等の着
色側、各種シリコーンオイル等を配合し、混合・混練し
、成形材料とすることができる。
肪酸、脂肪酸塩、ワックス等の離型剤、ブロム化合物、
アンチモン、リン等の難燃剤、カーボンブラック等の着
色側、各種シリコーンオイル等を配合し、混合・混練し
、成形材料とすることができる。
〔実施例]
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
合成例1 (ポリマレイミド(1))
攪拌機、温度計を装着した反応容器に、無水マレイン酸
43.2g (0゜44モル)とアセトン130gを
投入し溶解する。これに4,4゛−ビス(3−アミノフ
ェノキシ)ビフェニル736g (0,2モル)をア
セトン515gに溶解した溶液を室温で滴下し、さらに
、23〜27゛Cで3時間攪拌する。 反応終了後、乾
燥してビスマレアミド酸を黄色結晶として得た。
43.2g (0゜44モル)とアセトン130gを
投入し溶解する。これに4,4゛−ビス(3−アミノフ
ェノキシ)ビフェニル736g (0,2モル)をア
セトン515gに溶解した溶液を室温で滴下し、さらに
、23〜27゛Cで3時間攪拌する。 反応終了後、乾
燥してビスマレアミド酸を黄色結晶として得た。
このビスマレアミド酸112gをアセトン300gに懸
濁させ、トリエチルアミン 9.6gを添加し、室温で
30分撹拌する。
濁させ、トリエチルアミン 9.6gを添加し、室温で
30分撹拌する。
酸化マグネシウム(If ) 0.4g、酢酸コバルト
(旧 ・4H200,04gを添加後、無水酢酸52g
を25°Cで30分間かけて滴下し、さらに3時間撹拌
する。
(旧 ・4H200,04gを添加後、無水酢酸52g
を25°Cで30分間かけて滴下し、さらに3時間撹拌
する。
反応終了後、生成した結晶を濾過、洗浄後、乾燥してポ
リマレイミド化合物(1)を得た。
リマレイミド化合物(1)を得た。
収量は84.5g 、理論収量に対する割合は80χ、
融点は195〜200°Cであった。
融点は195〜200°Cであった。
合成例2(ポリマレイミド(2))
攪拌機、温度計を装着した反応容器にアニリン111.
6g (1,2モル)と、α、α゛−ジクロローpキシ
レン70.0g (0,4モル)を装入し、窒素ガス
を通しながら昇温した。 内温30°C位から発熱が認
められたがそのまま昇温し、85〜too ’cで3時
間一定に保った。 この後、引続き昇温して190〜2
00°Cで20時間反応させた。 次いで、冷却して内
温を95°Cに下げ、これに15%苛性ソーダ水溶液2
30gを加え、撹拌中和を行った。 静置後、下層の水
層を分液除去し、飽和食塩水300gを加え、洗浄分液
を行った。 次に、窒素気流下で加熱脱水を行った後、
加圧濾過して無機塩等を除いた。
6g (1,2モル)と、α、α゛−ジクロローpキシ
レン70.0g (0,4モル)を装入し、窒素ガス
を通しながら昇温した。 内温30°C位から発熱が認
められたがそのまま昇温し、85〜too ’cで3時
間一定に保った。 この後、引続き昇温して190〜2
00°Cで20時間反応させた。 次いで、冷却して内
温を95°Cに下げ、これに15%苛性ソーダ水溶液2
30gを加え、撹拌中和を行った。 静置後、下層の水
層を分液除去し、飽和食塩水300gを加え、洗浄分液
を行った。 次に、窒素気流下で加熱脱水を行った後、
加圧濾過して無機塩等を除いた。
これを2〜3 Torrの真空下で真空濃縮して未反応
のアニリンを回収した。
のアニリンを回収した。
次に、撹拌機、温度計を装着した反応容器に無水マレイ
ン酸35.8g (0,358モル)とアセトン40
gを装入し溶解した。 上記アニリン樹脂50gをアセ
トン50gに溶解した溶液を滴下すると結晶が析出し、
25℃で3時間攪拌した。 その後、トリエチルアミン
8.5gを添加後、25℃で30分間攪拌する。
ン酸35.8g (0,358モル)とアセトン40
gを装入し溶解した。 上記アニリン樹脂50gをアセ
トン50gに溶解した溶液を滴下すると結晶が析出し、
25℃で3時間攪拌した。 その後、トリエチルアミン
8.5gを添加後、25℃で30分間攪拌する。
酸化マグネシウム(II ) 0.35g 、酢酸コバ
ルト(II) ・48z00.035gを添加後、無
水酢酸45.5゜を装入し、50〜55℃で3時間攪拌
し、25℃に冷却後、反応液を水12中に攪拌しながら
滴下し、生成した結晶を濾過、水洗後、乾燥して褐色結
晶のポリマレイミド化合物(2)を得た。
ルト(II) ・48z00.035gを添加後、無
水酢酸45.5゜を装入し、50〜55℃で3時間攪拌
し、25℃に冷却後、反応液を水12中に攪拌しながら
滴下し、生成した結晶を濾過、水洗後、乾燥して褐色結
晶のポリマレイミド化合物(2)を得た。
このポリマレイミド化合物(2)を高速液体クロマトグ
ラフィーにより組成分析した結果、一般式%式% 収量は74.2g 、理論収量に対する割合は98.1
%、融点は115〜130℃であった。
ラフィーにより組成分析した結果、一般式%式% 収量は74.2g 、理論収量に対する割合は98.1
%、融点は115〜130℃であった。
(カップリング剤の無機充填剤表面への固定)平均粒径
20μの溶融シリカ(ハリミック5−CO1■マイクロ
ン製)100重量部に対して、N−(2−アミノエチル
)3−アミノプロピルトリメトキシシラン 1重量部を
加え、ヘンシェルミキサーにより20分間混合した。
次いで、この混合物をステンレス類のバットに広げ、
110℃で2時間乾燥し、処理シリカを得た。
20μの溶融シリカ(ハリミック5−CO1■マイクロ
ン製)100重量部に対して、N−(2−アミノエチル
)3−アミノプロピルトリメトキシシラン 1重量部を
加え、ヘンシェルミキサーにより20分間混合した。
次いで、この混合物をステンレス類のバットに広げ、
110℃で2時間乾燥し、処理シリカを得た。
実施例1〜6および比較例1〜4
第1表に示す組成(重量部)の配合物をヘンシェルミキ
サーで混合し、さらに100〜130°Cの熱ロールに
て3分間溶融・混練した。
サーで混合し、さらに100〜130°Cの熱ロールに
て3分間溶融・混練した。
この混合物を冷却、粉砕し、打錠して成形用樹脂組成物
を得た。
を得た。
なお、第1表中で使用した原料で、合成例1゜2による
もの以外は、次のものを使用した。
もの以外は、次のものを使用した。
・エポキシ樹脂(1); o−タレゾールノボラック
型エポキシ樹脂(EOCN−1020、日本化薬■製) ・エポキシ樹脂(2); 4.4’−ビス(2,3−
エポキシプロポキシ) −3,3’、5.5”−テトラ
メチルビフェニル(YX−4000、油化シェルエポキ
シ■製) ・エポキシ硬化剤; ノボラックフェノール樹脂(PN
−80、日本化薬■製) ・硬化促進剤(]);]2−ヘプタデシルイミダゾール
CI?Z、四国化成11勾製) ・硬化促進剤(2); テトラフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート(TPP−K 、北興化学■製
) ・硬化促進剤(3)i )リエチルアンモニウムテト
ラフェニルボレート(TH^−に1北興化学■製) ・硬化促進剤(4); )リフェニルホスフィン(T
PP 、北興化学■製) 以上のようにして得られた成形用樹脂組成物を用いてト
ランスファー成形(180°C% 30kg/cm2.
3分間)により、物性測定用の試験片を成形した。
型エポキシ樹脂(EOCN−1020、日本化薬■製) ・エポキシ樹脂(2); 4.4’−ビス(2,3−
エポキシプロポキシ) −3,3’、5.5”−テトラ
メチルビフェニル(YX−4000、油化シェルエポキ
シ■製) ・エポキシ硬化剤; ノボラックフェノール樹脂(PN
−80、日本化薬■製) ・硬化促進剤(]);]2−ヘプタデシルイミダゾール
CI?Z、四国化成11勾製) ・硬化促進剤(2); テトラフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート(TPP−K 、北興化学■製
) ・硬化促進剤(3)i )リエチルアンモニウムテト
ラフェニルボレート(TH^−に1北興化学■製) ・硬化促進剤(4); )リフェニルホスフィン(T
PP 、北興化学■製) 以上のようにして得られた成形用樹脂組成物を用いてト
ランスファー成形(180°C% 30kg/cm2.
3分間)により、物性測定用の試験片を成形した。
また、フラットパッケージ型半導体装置用リードフレー
ムの素子搭載部に、試験用素子(10mmX10mm角
)を搭載し、トランスファー成形(180°C130k
g/cm”、3分間)により、試験用半導体装置を得た
。
ムの素子搭載部に、試験用素子(10mmX10mm角
)を搭載し、トランスファー成形(180°C130k
g/cm”、3分間)により、試験用半導体装置を得た
。
これらの試験用成形物は、各試験を行う前に、180℃
で6時間、後硬化を行った。
で6時間、後硬化を行った。
試験結果を第2表に示す。
なお、試験方法は次の通りである。
・ガラス転移温度n TMA法
・曲げ強度、 JIS K−6911・溶融粘度;
品性フローテスターにて測定。
品性フローテスターにて測定。
・硬度 ; 成形直後の硬化物で、パーコール硬度計
にて測定。
にて測定。
・離型性 ; 試験用半導体装置を成形後、金型から試
験用半導体装置を離型する際、ランナーの変形、ゲート
残りおよび金型よりの取外し易さ等を定性的に判断。
験用半導体装置を離型する際、ランナーの変形、ゲート
残りおよび金型よりの取外し易さ等を定性的に判断。
・v、p、s、テスト; 試験用半導体装置をプレ・ノ
シャークッカーテスター(121°C12気圧)に24
時間放置した後、直ちに溶融半田浴(260°C)に投
入し、パッケージ樹脂にクラックの発生した半導体装置
の数を数えた。
シャークッカーテスター(121°C12気圧)に24
時間放置した後、直ちに溶融半田浴(260°C)に投
入し、パッケージ樹脂にクラックの発生した半導体装置
の数を数えた。
試験値を分数で示し、分子はクランクの発生した半導体
装置の数、分母は試験に供した半導体装置の総数である
。
装置の数、分母は試験に供した半導体装置の総数である
。
23
〔発明の効果〕
実施例および比較例にて説明したごとく、本発明による
半導体封止用樹脂組成物は、イミド樹脂の耐熱性とエポ
キシ樹脂の成形性を効率良く付与することのできるもの
である。
半導体封止用樹脂組成物は、イミド樹脂の耐熱性とエポ
キシ樹脂の成形性を効率良く付与することのできるもの
である。
さらに、この樹脂組成物でリフローおよびフロー半田付
は方法が適用される表面実装型の半導体装置を封止した
場合、優れた半田耐熱性と成形性を示し、信頼性の高い
樹脂封止型半導体装置を得ることができ、工業的に有益
な発明である。
は方法が適用される表面実装型の半導体装置を封止した
場合、優れた半田耐熱性と成形性を示し、信頼性の高い
樹脂封止型半導体装置を得ることができ、工業的に有益
な発明である。
Claims (1)
- (1)、ポリマレイミド(A)、エポキシ樹脂(B)、
エポキシ硬化剤(C)および無機充填剤(D)から本質
的になる樹脂組成物において、硬化促進剤として、一般
式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R_1は水素原子またはメチル基を表し、R_2はフ
ェニル基または炭素数10〜20のアルキル基を表す。 ) で表されるイミダゾール化合物(E)と、テトラフェニ
ルホスホニウムテトラフェニルボレートおよび/または
トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレートのテト
ラフェニルボレート化合物(F)を必須成分として含有
することを特徴とする半導体封止用樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33481589A JP2870903B2 (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33481589A JP2870903B2 (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03197527A true JPH03197527A (ja) | 1991-08-28 |
JP2870903B2 JP2870903B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=18281528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33481589A Expired - Lifetime JP2870903B2 (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2870903B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011219674A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 回路基板用熱硬化樹脂性組成物 |
JP2012041386A (ja) * | 2010-08-12 | 2012-03-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 回路基板用熱硬化性樹脂組成物 |
US20130026660A1 (en) * | 2011-07-29 | 2013-01-31 | Namics Corporation | Liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, and semiconductor device using the same |
US8470936B2 (en) | 2011-07-29 | 2013-06-25 | Namics Corporation | Liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation |
CN106062075A (zh) * | 2014-02-19 | 2016-10-26 | 汉高股份有限及两合公司 | 用于密封液晶的可固化树脂组合物 |
-
1989
- 1989-12-26 JP JP33481589A patent/JP2870903B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011219674A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 回路基板用熱硬化樹脂性組成物 |
JP2012041386A (ja) * | 2010-08-12 | 2012-03-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 回路基板用熱硬化性樹脂組成物 |
US20130026660A1 (en) * | 2011-07-29 | 2013-01-31 | Namics Corporation | Liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, and semiconductor device using the same |
US8470936B2 (en) | 2011-07-29 | 2013-06-25 | Namics Corporation | Liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation |
CN103717634A (zh) * | 2011-07-29 | 2014-04-09 | 纳美仕有限公司 | 用于半导体封装的环氧树脂组合物、使用其的半导体器件以及用于制造半导体器件的方法 |
CN106062075A (zh) * | 2014-02-19 | 2016-10-26 | 汉高股份有限及两合公司 | 用于密封液晶的可固化树脂组合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2870903B2 (ja) | 1999-03-17 |
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