JPH0319112A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH0319112A JPH0319112A JP15417089A JP15417089A JPH0319112A JP H0319112 A JPH0319112 A JP H0319112A JP 15417089 A JP15417089 A JP 15417089A JP 15417089 A JP15417089 A JP 15417089A JP H0319112 A JPH0319112 A JP H0319112A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は磁気ヘッドに関し、特に高抗磁力の磁気記録媒
体への信号の記録再生に通した磁気ヘッドに関する． ［従来の技術］ 近年の、ビデオテーブレコーダ（ＶＴＲ）、デジタルオ
ーディオテーブレコーダ（ＤＡＴ）ステルビデオカメラ
（ＳＶ）或いは高容量のフロッピーディスクドライブ装
置（ＦＤＤ）等に用いられる磁気ヘッドでは、高抗磁力
媒体に対する記録を可能にするため、磁気コアの材料と
して高い飽和磁束密度の材料が必要である．又磁気記録
媒体の面内の記録密度を向上させるために狭トラック化
が要求されている。更に磁気コアの磁束を外部に出す磁
気ギャップのギャップ長も極めて狭くする必要がある。
体への信号の記録再生に通した磁気ヘッドに関する． ［従来の技術］ 近年の、ビデオテーブレコーダ（ＶＴＲ）、デジタルオ
ーディオテーブレコーダ（ＤＡＴ）ステルビデオカメラ
（ＳＶ）或いは高容量のフロッピーディスクドライブ装
置（ＦＤＤ）等に用いられる磁気ヘッドでは、高抗磁力
媒体に対する記録を可能にするため、磁気コアの材料と
して高い飽和磁束密度の材料が必要である．又磁気記録
媒体の面内の記録密度を向上させるために狭トラック化
が要求されている。更に磁気コアの磁束を外部に出す磁
気ギャップのギャップ長も極めて狭くする必要がある。
このような磁気ヘッドで磁気コアの高飽和磁束密度化を
実現するため、最近では磁気コアの磁路全体がフエライ
トから成る従来のフエライトヘッドに代わって、主にフ
エライトから成る磁気コア半体の磁気ギャップ材を介し
突き合わせる突き合わせ面にセンダストやアモルファス
合金等の高飽和磁束密度の金属磁性薄膜をスパッタリン
グ蒸着、イオンブレーティング等の真空薄膜形成技術に
より成膜した複合ヘッド、いわゆるメタルインギャップ
ヘッド（Ｍ Ｉ Ｇヘッド）が主流となっている． ［発明が解決しようとする問題点］ 上述のフエライトと金属磁性薄膜を用いたいわゆるＭＩ
Ｇヘッドでは、酸化物磁性材であるフエライトと金属磁
性薄膜の界面に反応が起こり、非磁性層が生じて擬似ギ
ャップとして働くため、電磁変換特性、特に再生周波数
特性に擬似ピークが現れ、うねりを生じる問題、いわゆ
るコンター効果に伴う問題があった． このような擬似ギャップ生成問題に対しては一般には、
アジマスロスを利用し、擬似ギャップとなる接合部と磁
気ギャップとが斜めになるようにアジマス角を設けるこ
とにより対処していたがこのような構造では金属磁性薄
膜を２Ｏμｍから３０μｍ程度に厚く被着形成する必要
があり、膜剥離による歩留りの低下あるいは被着形成に
長時間を要して生産性が悪いなどの問題があった。
実現するため、最近では磁気コアの磁路全体がフエライ
トから成る従来のフエライトヘッドに代わって、主にフ
エライトから成る磁気コア半体の磁気ギャップ材を介し
突き合わせる突き合わせ面にセンダストやアモルファス
合金等の高飽和磁束密度の金属磁性薄膜をスパッタリン
グ蒸着、イオンブレーティング等の真空薄膜形成技術に
より成膜した複合ヘッド、いわゆるメタルインギャップ
ヘッド（Ｍ Ｉ Ｇヘッド）が主流となっている． ［発明が解決しようとする問題点］ 上述のフエライトと金属磁性薄膜を用いたいわゆるＭＩ
Ｇヘッドでは、酸化物磁性材であるフエライトと金属磁
性薄膜の界面に反応が起こり、非磁性層が生じて擬似ギ
ャップとして働くため、電磁変換特性、特に再生周波数
特性に擬似ピークが現れ、うねりを生じる問題、いわゆ
るコンター効果に伴う問題があった． このような擬似ギャップ生成問題に対しては一般には、
アジマスロスを利用し、擬似ギャップとなる接合部と磁
気ギャップとが斜めになるようにアジマス角を設けるこ
とにより対処していたがこのような構造では金属磁性薄
膜を２Ｏμｍから３０μｍ程度に厚く被着形成する必要
があり、膜剥離による歩留りの低下あるいは被着形成に
長時間を要して生産性が悪いなどの問題があった。
本発明は上述の如き背景下に於いて金属磁性薄膜の膜厚
を大きくすることなく良好な電磁変換特性の得られる磁
気ヘッドを提供することを目的とする。
を大きくすることなく良好な電磁変換特性の得られる磁
気ヘッドを提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための千段］
斯かる目的下に於いて本発明においては、夫々酸化物磁
性材ブロックの端面に金属磁性材膜を堆積してなる一対
のコア半体を磁気ギャップ材を介して突合わせてなる磁
気ヘッドにおいて、酸化物磁性材と金属磁性材間の界面
にＣｒ，０３薄膜を設ける構造を採用した． ［作用］ 上述の如き構造の磁気ヘッドによれば、酸化物磁性材と
金属磁性材間の界面の反応を防止でき、コンター効果に
よる電磁変換特性のうねりを低減することができる．ま
た、これに伴って上記界面を磁気ギャップに対して斜め
に配置する必要がなく、金属磁性材膜の膜厚を充分小さ
くすることができ、生産性の向上も図れる。
性材ブロックの端面に金属磁性材膜を堆積してなる一対
のコア半体を磁気ギャップ材を介して突合わせてなる磁
気ヘッドにおいて、酸化物磁性材と金属磁性材間の界面
にＣｒ，０３薄膜を設ける構造を採用した． ［作用］ 上述の如き構造の磁気ヘッドによれば、酸化物磁性材と
金属磁性材間の界面の反応を防止でき、コンター効果に
よる電磁変換特性のうねりを低減することができる．ま
た、これに伴って上記界面を磁気ギャップに対して斜め
に配置する必要がなく、金属磁性材膜の膜厚を充分小さ
くすることができ、生産性の向上も図れる。
［実施例］
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細を説明
する．まず第２図は本発明の実施例によるメタルインギ
ャップ型の磁気ヘッドの磁気コアの外観を示している。
する．まず第２図は本発明の実施例によるメタルインギ
ャップ型の磁気ヘッドの磁気コアの外観を示している。
第２図において符号２．２゜はそれぞれ磁気コア半体（
以下コア半体と略す）を構成するフエライトブロック、
６．６′はフエライトブロック２．２゜の端面に堆積さ
れた積層膜である。この積層膜６．６゜の詳細について
は後述する． 第２図に於いて、上面が不図示の磁気記録媒体に接触す
る媒体摺勤面となっている。一対のコア半体は第２図に
示す如く磁気ギャップを介して突合され、溶着ガラス５
により溶着され、磁気コアが構成される。また、コア半
体の突合せ面の中間部は不図示のコイル巻線を巻装する
ための巻線溝７が形威されている。更にコア半体の突合
せ面の両側に沿ってガラス溝８が形成され、上記溶着ガ
ラス５が充填される。
以下コア半体と略す）を構成するフエライトブロック、
６．６′はフエライトブロック２．２゜の端面に堆積さ
れた積層膜である。この積層膜６．６゜の詳細について
は後述する． 第２図に於いて、上面が不図示の磁気記録媒体に接触す
る媒体摺勤面となっている。一対のコア半体は第２図に
示す如く磁気ギャップを介して突合され、溶着ガラス５
により溶着され、磁気コアが構成される。また、コア半
体の突合せ面の中間部は不図示のコイル巻線を巻装する
ための巻線溝７が形威されている。更にコア半体の突合
せ面の両側に沿ってガラス溝８が形成され、上記溶着ガ
ラス５が充填される。
このような本施実例の磁気ヘッドの磁気コアは上述のよ
うにメタル・イン・ギャップ型であり、磁気ギャップ周
辺の構造は第１図に示すようになっている。
うにメタル・イン・ギャップ型であり、磁気ギャップ周
辺の構造は第１図に示すようになっている。
第１図において符号２，２゛はフェライトであり、第２
図の磁気ヘッドのコア半体の本体部分はこのフエライト
２．２゜から成っている。そしてフエライト２．２゛か
ら成るコア半体の磁気ギャップｇに面する突き合せ面の
それぞれには符号１．１′で示す高飽和磁束密度の金属
磁性薄膜（例えばセンダスト薄膜）が成膜されている。
図の磁気ヘッドのコア半体の本体部分はこのフエライト
２．２゜から成っている。そしてフエライト２．２゛か
ら成るコア半体の磁気ギャップｇに面する突き合せ面の
それぞれには符号１．１′で示す高飽和磁束密度の金属
磁性薄膜（例えばセンダスト薄膜）が成膜されている。
また、この金属磁性薄［１，１゜とフェライト２，２゛
の界面にはＣｒｙ’３ｆｆ膜４ ． ４ ’が成膜さ
れている。
の界面にはＣｒｙ’３ｆｆ膜４ ． ４ ’が成膜さ
れている。
次に金属磁性薄ｆｌｉｔ，ｔ’の磁気ギャップｇに面す
る表面上にはＳｉｎ２薄膜３．３゛が成膜されている。
る表面上にはＳｉｎ２薄膜３．３゛が成膜されている。
そしてこのようにフエライト２，２゛の突き合せ面に薄
膜４，１．３及び薄膜４゛ １゜ ３゜を成膜して
成るコア半体同志を突き合せてｍ着ガラス５により溶着
し、接合して磁気コアが構成されておりＳｉｎ２薄膜３
．３゜が磁気コアの磁気ギャップｇを構成する磁気ギャ
ップ材となっている。
膜４，１．３及び薄膜４゛ １゜ ３゜を成膜して
成るコア半体同志を突き合せてｍ着ガラス５により溶着
し、接合して磁気コアが構成されておりＳｉｎ２薄膜３
．３゜が磁気コアの磁気ギャップｇを構成する磁気ギャ
ップ材となっている。
次に第３図，第４図を参照して磁気コアの製造工程を説
明しておく。
明しておく。
まず第３図において符号２は第２図のコア半体の母材と
なるフエライトブロックであり、フエライトから細長い
長方形に形成する。磁気コアの製造工程ではまずこのフ
エライトブロック２の突き合せ面となる図中上面に回転
砥石（よる加工によりトラック溝９を磁気ギャップｇに
対応した間隔が形成する。このトラック溝９の形成後積
層膜６を堆積し、続いて巻線溝７とガラス溝８を加工す
る。
なるフエライトブロックであり、フエライトから細長い
長方形に形成する。磁気コアの製造工程ではまずこのフ
エライトブロック２の突き合せ面となる図中上面に回転
砥石（よる加工によりトラック溝９を磁気ギャップｇに
対応した間隔が形成する。このトラック溝９の形成後積
層膜６を堆積し、続いて巻線溝７とガラス溝８を加工す
る。
積層ｌＩｉ６の形成は第３図のフエライトブロック２Ｏ
図中上面に第１図のＣｒ２Ｏ３薄膜４を成膜した後に第
１図の金属磁性薄膜（センダスト薄膜）１を成膜する。
図中上面に第１図のＣｒ２Ｏ３薄膜４を成膜した後に第
１図の金属磁性薄膜（センダスト薄膜）１を成膜する。
そして、その上にＳｔｏｗ薄膜３を成膜する。薄１ｉ４
，１．３の成膜はスパッタリング等による。これらの薄
膜４，１．３により積層膜６が形成される。
，１．３の成膜はスパッタリング等による。これらの薄
膜４，１．３により積層膜６が形成される。
次に以下の加工と薄膜形成を行ったコア半体ブロックの
１対を第４図に示すように突き合せ、不図示の溶着ガラ
スのガラス棒をセットして５００℃〜６００℃の温度で
１時間程度加熱して接合する． 次に一対のコア半体ブロックの接合体の第４図中上面を
媒体摺動面として円筒形状に加工した後、この一対のコ
ア半体ブロックの接合体を第４図中の一点鎖線ａに沿っ
て切断して第２図に示す磁気コアが得゛られる．そして
巻線・溝７を通して不図示のコイル巻線を磁気コアに巻
装して磁気ヘッドが完成する． このような製造工程でＤＡＴ対応ヘッドを作って再生出
力の周波数特性を調べた．なおＣｒ２Ｏ３薄膜の膜厚は
５人から２Ｏ０人まで変化させたものと比較のために従
来のセンダスト薄膜のみのヘッドを製作して再生出力の
さいのコンターを調べた結果第１表のようになった．第
１表 第１表より明らかな様にセンダスト薄膜のみだとコンタ
ーが大きく現われているが、フエライトとセンダスト膜
の界面にＣｒ．０３薄膜を設けることによって、センダ
スト薄膜とフエライトの界面反応を防止できることがわ
かる． 次に本実験によればＣｒ２Ｏｓ薄膜自体が疑似ギャップ
とならないためには、１５０人の厚み以下とする必要が
ある。さらに、望ましくは１００人以下の範囲である。
１対を第４図に示すように突き合せ、不図示の溶着ガラ
スのガラス棒をセットして５００℃〜６００℃の温度で
１時間程度加熱して接合する． 次に一対のコア半体ブロックの接合体の第４図中上面を
媒体摺動面として円筒形状に加工した後、この一対のコ
ア半体ブロックの接合体を第４図中の一点鎖線ａに沿っ
て切断して第２図に示す磁気コアが得゛られる．そして
巻線・溝７を通して不図示のコイル巻線を磁気コアに巻
装して磁気ヘッドが完成する． このような製造工程でＤＡＴ対応ヘッドを作って再生出
力の周波数特性を調べた．なおＣｒ２Ｏ３薄膜の膜厚は
５人から２Ｏ０人まで変化させたものと比較のために従
来のセンダスト薄膜のみのヘッドを製作して再生出力の
さいのコンターを調べた結果第１表のようになった．第
１表 第１表より明らかな様にセンダスト薄膜のみだとコンタ
ーが大きく現われているが、フエライトとセンダスト膜
の界面にＣｒ．０３薄膜を設けることによって、センダ
スト薄膜とフエライトの界面反応を防止できることがわ
かる． 次に本実験によればＣｒ２Ｏｓ薄膜自体が疑似ギャップ
とならないためには、１５０人の厚み以下とする必要が
ある。さらに、望ましくは１００人以下の範囲である。
以上のような構造のヘッドによれば、疑似ギャップの効
果は実質的に問題とならない程度に著しく減少し、良好
な記録再生信号特性を有することができた。
果は実質的に問題とならない程度に著しく減少し、良好
な記録再生信号特性を有することができた。
第５図は、センダスト薄膜１．１′とフエライ｝２．２
”間にＣｒ２Ｏ３薄膜４が存在しない場合の再生周波数
特性、第６甲は厚み８０人のＣｒ．Ｏ．薄膜４をフエラ
イト２とセンダスト薄膜１の界面に設けた場合の再生周
波数特性である． また、第７図は従来のＭＩＧヘッドの媒体摺動面の要部
構造を示す図、第８図は本実施例のＭＩＧヘットの媒体
摺動面の要部構造を示す図である。第７図に於いて１０
．１０’はフエライト、１１．１１’はセンダスト膜、
１２．１２’は溶着ガラス、ｌ３は磁気ギャップである
。第７図から明らかな様に従来のＭＩＧヘッドではトラ
ック幅に対応する膜厚が必要であったが、本実施例のＭ
ＩＧヘッドではトラック幅に無関係な膜厚が設定できる
ので膜厚を薄くでき、膜剥離に伴う歩留りの低下、膜形
成時間の長時間化等が解決できた。
”間にＣｒ２Ｏ３薄膜４が存在しない場合の再生周波数
特性、第６甲は厚み８０人のＣｒ．Ｏ．薄膜４をフエラ
イト２とセンダスト薄膜１の界面に設けた場合の再生周
波数特性である． また、第７図は従来のＭＩＧヘッドの媒体摺動面の要部
構造を示す図、第８図は本実施例のＭＩＧヘットの媒体
摺動面の要部構造を示す図である。第７図に於いて１０
．１０’はフエライト、１１．１１’はセンダスト膜、
１２．１２’は溶着ガラス、ｌ３は磁気ギャップである
。第７図から明らかな様に従来のＭＩＧヘッドではトラ
ック幅に対応する膜厚が必要であったが、本実施例のＭ
ＩＧヘッドではトラック幅に無関係な膜厚が設定できる
ので膜厚を薄くでき、膜剥離に伴う歩留りの低下、膜形
成時間の長時間化等が解決できた。
［発明の効果］
以上、説明した様に本発明によれば、生産性が高く良好
な電磁変換特性を有する磁気ヘッドを得ることが可能に
なった。
な電磁変換特性を有する磁気ヘッドを得ることが可能に
なった。
第１図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの磁気ギャップ
周辺の構造を示す図、 第−１図は本発明の一実施例の磁気ヘッド全体の構造を
示す斜視図、 第３図、第４図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造
工程を示す図、 第５図は従来の磁気ヘッドの再生周波数特性を示す図、 第６図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの再生周波数特
性を示す図、 第７図は従来の磁気ヘッドの媒体摺勤面の構造を示す図
、 第８図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの媒体摺勅面の
構造を示す図である。 図中、１．１′はセンダスト膜、２．２′はフエライト
、３．３′はＳｉｎ２膜、４．４′はＣｒ２Ｏ，膜、５
は溶着ガラス、６は積層膜、７は巻線窓、８はガラス溝
、９はトラック溝である。 第−ｙ １２ １１
周辺の構造を示す図、 第−１図は本発明の一実施例の磁気ヘッド全体の構造を
示す斜視図、 第３図、第４図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造
工程を示す図、 第５図は従来の磁気ヘッドの再生周波数特性を示す図、 第６図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの再生周波数特
性を示す図、 第７図は従来の磁気ヘッドの媒体摺勤面の構造を示す図
、 第８図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの媒体摺勅面の
構造を示す図である。 図中、１．１′はセンダスト膜、２．２′はフエライト
、３．３′はＳｉｎ２膜、４．４′はＣｒ２Ｏ，膜、５
は溶着ガラス、６は積層膜、７は巻線窓、８はガラス溝
、９はトラック溝である。 第−ｙ １２ １１
Claims (2)
- （１）夫々酸化物磁性材ブロックの端面に金属磁性材膜
を堆積してなる一対のコア半体を磁気ギャップ材を介し
て突合せてなる磁気ヘッドであって、前記酸化物磁性材
と金属磁性材間の界面にＣｒ＿２Ｏ＿３薄膜を設けたこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）前記Ｃｒ＿２Ｏ＿３薄膜の膜厚を１５０Å未満と
したことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15417089A JPH0319112A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15417089A JPH0319112A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0319112A true JPH0319112A (ja) | 1991-01-28 |
Family
ID=15578365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15417089A Pending JPH0319112A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0319112A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102493369A (zh) * | 2011-11-30 | 2012-06-13 | 蔡冠之 | 一种地铁站台绝缘带的施工方法 |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP15417089A patent/JPH0319112A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102493369A (zh) * | 2011-11-30 | 2012-06-13 | 蔡冠之 | 一种地铁站台绝缘带的施工方法 |
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