JPH03164449A - 無光彩ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野］ 本発明は無光彩ガラスに関するものである。

［従来の技術］ 従来より第３図のようなガラス３０表面にコーディング
３ｌを施し、機能性ガラスを作製する手法が非常に多く
提案さわていることは周知の通りである。例えば干渉フ
ィルター、反射防止模、熱線反射ガラス、透明導電性ガ
ラス、電磁遮蔽ガラス，電熱風防ガラス等が挙げられる
。

こねらのうち、透明導電性ガラス、ヒーｉ・ミラ、電磁
遮蔽ガラス、電熱風防ガラス等では透明な酸化物導電体
を主要構成層３１として形成する場合が多く、特に，イ
ンジウム・スズ酸化物（　Ｉ　ｉ’　Ｏ　）やフッ累ド
ープの酸化スズ（ＳｎＯ，：Ｆ）ソは゛アルミニウムド
ープの酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａ　ｉ　）を用いることが多
い。また、紫外線カツｌ・ガラスどしては酸化曲鉛（Ｚ
ｎＯ）膜を紫外線吸収’８ヒじてびラス表面に被覆した
ちのが挙げられる。

？．：ろが、これらの透明酸化物祠料は、いずれも１＜
Ｂ折率が１．８　＝２．２とガラスに比して大きいｔ，
：め、干渉条件を満ｌ゛：ず波長での反射率が大きくな
ってしまう。これは分光反！ｌ＝ｔ　（透過）スベク１
・ルにおける｛Φ人（リップル）となって親（則さオ］
る。このため、大面積のガラスにこれらの，専膜がコー
テｆングさねた場合、面内の嘆厚変動（ムラ）：こより
、反射極大の波長がずれ、反ｑ寸Ｖミの巴ムラとなーっ
て目：こ’ｇ勺１される１二ど：こなる。

ガラス面ｉ士での膜厚分？ｆｉは、摸の形成手〆去；４
“もよるが、例えば１ｍＸ１ｍのガラスを考えた場詩、
算首やＣ　Ｖ　Ｄでは±５１．′６以内に１「ｉ］えろ
６＝とＩｆ．　Ｉ’＊めで高１プな技（・ＫＴを要ずろ
・，“）■ウく現１（てｒ）る。我々の研究によれば、
この程度の．摸厚分市を仮定すると、前記の透明酸化物
膜が０．１５ｌＬｍ以上ガラス基板上に形成きれた場合
、面内の色ムラが問題となるレベルに達する。一方、膜
厚を厚くしてゆくと、反ｑ−ｔ色の彩度は落ちるので、
０．６１１ｍ以上の厚さではあざやかさは減少してゆく
が、色ムラヒして］′リ別できるレベルを超えるために
は３μｍ以上、好ましくは５　ｌｔ．　ｍ以−ヒの膜厚
が必要である。

また例え、膜厚分布を極めて均一にコン１・ロールする
こヒができたとしても、分光スベク｝・ルでの大きなリ
ップルは残るのであざやかな色彩として目に感知される
ことになる。これが大面積ガラスに形成されるとガラス
面と視線のなす角、すなわち、視角により極大反射波長
がずれ色彩が変化するためやはり色ムラとして感知さわ
ることになる。従って、分光スベク１〜ルのノップル自
体を小さく抑えることが望ましいのである。

１９厚が０．１５ｌｙ−ｍより薄い場合には、嘆：１分
布の変化量が±７５人となるので面内の色ムラはほとん
ど感知されないが、視角による色ムラはやはり問題とな
る。

このように、高屈折率の透明膜をガラス基板へある程度
以上厚く形成する場合、面内の膜厚分布や視角の変化に
より、ガラスが光彩（色ムラ）を発してしまい、商品性
を著しく損なう場合がある。

これを防止するために、これまでにいくつかの提案がな
されている。特公昭６３−３９５３５には高屈折率透明
膜として赤外反射物質を用い、ガラスとの間に屈折率ｎ
＝１．７〜ｌ，８、膜厚ｄ＝０．６４〜０．　０８０μ
ｍの層を設けることが示されている。この層を与える具
体的な手段については、特に指定はないが、混合物の真
空蒸着又は常圧ＣＶＤが例記されており、大面積ガラス
へのコーティングを考えると常圧ＣＶＤが有利であると
し、実施例には、常圧ＣＶＤのみが記載されている。

特開平１　−　２０１０４６には、この下地層を形成す
る現実的な手段として、ＳｉＣｘＯｙを形成する手法が
示されている。これは板ガラスの製造工程としてフロー
ト法を想定し、スズ槽窯中でシランと不飽和炭化水素化
合物と二酸化炭素の混合ガスをガラス表面に当てるとい
うもので、基本的には常圧ＣＶＤにより、中間屈折率透
明膜を形成する方法である。

常圧ＣＶＤによる成膜は大量のガラスを製造プロセス中
で連続的に（いわゆるオンラインで）処理する場合に特
にコストの点で非常に有力な方法であるが、他方多品種
少量生産や多層或膜には不向きという欠点がある。この
ため、現在の建築用、自動車用の熱線反射ガラスはスパ
ッタリング方式による製造方式をとる場合が多い。スパ
ッタリング方式による利点は、膜厚の均一性、制御性に
優れろこと、多品種少量生産や多層膜の成膜が容易であ
ること等が挙げられる。また、蒸着やプラズマＣＶＤな
ど他の真空成膜手段との組み合せが装置設計上容易であ
るという利点もある。このため、スパツタリングによる
光彩防止の為の中間屈折率下層膜の作製が望まれていた
。一方、スパッタリング法の欠点としては、成膜スピー
ドが遅く、コストが高いことである。このため、スパッ
タリングの成膜スピードを上げるための研究が盛んに行
なわれているのが現状である。中でも金属酸化物被膜を
金属ターゲットからの反応性スパッタリングで形成する
際の或膜速度が著しく遅いのが、この方式の最大の欠点
であり、安定で耐久性に優れる中間屈折率透明材料をス
パッタリングで高速に成膜することは難しいとされてい
た。

［発明の解決しようとする課題］ 本発明の目的は０．１５μｍ以上の厚さで高屈折率透明
膜をガラス基板に形成した場合に問題となる光彩（色ム
ラ）を防止した無光彩ガラスを提供することである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、ガラス基板上′に屈折率ｎが１．８以上で厚
みｄが０．１５μｍ以上の高屈折率透明薄膜が形成され
、該高屈折率透明薄膜とガラス基板との間にｎ　＝　１
．６５〜１．８の透明下層膜が光学膜厚ｎｄ＝Ｏ．１〜
０．ｌ８μｍの厚みに形或されている無光彩ガラスであ
って、該透明下層膜が、Ｚｒ，　Ｔｉ，Ｔａ，｝Ｉｆ，
Ｍｏ，Ｗ，Ｎｂ，Ｓｎ，Ｌａ，Ｃｒのうち少なくとも１
種とＳｉとを含む複合酸化物を主成分とする膜であるこ
とを特徴とする無光彩ガラスを提供するものである。

第１図は本発明の無光彩ガラスの一例の断面図である。

ｌＯはガラス基板、１ｌはｎ≧１．８　、ｄ≧０．１５
μｍ以上の高屈折率透明薄膜、ｌ２は透明下層膜である
。

本発明の高屈折率透明薄膜１１としては、インジウムス
ズ酸化物、フッ素ドープ酸化スズ、酸化亜鉛等が挙げら
れるがこれらに限らない。

本発明の透明下層膜１２は、光彩を防止するためにｎ（
屈折率）　＝１．６５〜１．８　ｎ　ｄ　（光学膜厚）
＝０．１〜０．１８μｍの薄膜である。その構或材料と
しては、Ｚｒ，　Ｔｉ，　Ｔａ，　Ｈｆ，　Ｍｏ，　Ｗ
，　Ｎｂ，　Ｓｎ，　Ｌａ，　Ｃｒのうち少なくとも１
種と、Ｓｉとを含む複合酸化物を土成９とする膜である
ことが望ましい。という／ｊｌ’ｊ）は、かかる膵は、
Ｚｒ等の金属とＳｉの含金夕・−ゲッ１・を使用して酸
コ｝＝含Ｎ雰囲気中で直流スパッタリング法によｌ）反
応スパッタリングで高津Ｓ，欣酊能であり、又、杓理的
、及び化学的１耐久件に１゛暫れでいるからである。中
でもＺｒとＳｉを含む複合酸化物は、耐酸性、耐アルカ
リ性ともに優れてｉハるので好ましい。又、Ｚｒ等の金
属’二Ｓｉどの複合酸化’ｔ’ｆＪは、その混名割音を
変化さ＋，４ることでｍ折率を所望の（直に調整できる
といで）ｆり点ちある。Ｚｒ−Ｓｉ−Ｄ系の膜の場合、
ｒ）＝１．６５−１．８とするためにｌ：Ｊ：、Ｚｒ５
０原子に対してＳ　ｉ　５　０　：（ｊ（ｉ子以Ｌ１５
０原子以Ｆとずるのが好ましい。

上〕・１）の照光影ガラスをプラスチック中間膜を介し
てもう一枚のガラス基板と積層し、ガラス／透明１′−
′贋膜／高屈折毛透明薄膜／中間膜／ガラスという構成
とした自せガラスについてち、同様の効果が得られる。

ｒ作用コ そもそも色八ラの発現する原因は高屈折透明薄膜の上下
ｙｌ而における光の干渉作用である。

このｌ：−．め、分光スベク１・ルに極大、極小（リッ
プル）な生じ、該高屈折率薄膜の膜厚変動による極大極
小のずれが決ムラとして感知されるのである。

そこで本発明の透明下層股は、ガラスと高屈折率透明薄
膜の界面における反射を防止する働きをする。この結果
、等価的には、この界面が消失したことになり、反射、
透過における光の干渉がなくなる。すなわち分光スベク
１−ルにおｈ−ｊるリップルが消失し，膜厚が変動して
もスペクトルが変化しなくなるのである。

この光の干渉による反射防止作用は、厳密には特定の１
点の波長（主波長）でしか成立しないので、他の波長で
は若干のリップルが残存する。

そこで、さらに効果的にリップルを防止する方法として
第２図のように該高屈折率透明薄膜の上層にも反射を防
止する透明上層膜を設けるこども身子ましい。

第２図は本発明の無光彩ガラスの別の一例の断面図であ
り、２０はガラス基板、２１は高屈折率透明薄膜（第１
図の１１と同じ薄膜）、２２は透明下地ｌ漠（第１図の
１２と同じ薄膜）、２３は透明−Ｊ二層膜である。こ）
するヒ高屈折率透明薄膜の上下界而両方にお：１−Ｊる
光の｝０渉作用を消失させることが可能で、ほぼ完全に
光彩のない無光彩ガラスかを得ることができる。

かかる透明上層膜２３とし，ては、ｎ　＝　１．３５〜
ｌ，５５、ｎ　ｄ　＝　０．０４５　−０．０７５　１
１ｍであることが好まし２い。その構成材科としては、
特に限定されず、Ｓｉｎ２も１更用できるが、Ｚｒ，Ｔ
ｉ，Ｔａ，Ｈｆ，ＭｏＷ，　Ｎｂ，　Ｓｎ，　Ｌａ，　
Ｃｒのうち少なくともｌ　ｆｍとＳｉとを含む複合酸化
物膜が、その徂成削合に応じてｎ＝　１．　３５−１．
　５５の膜が直流スパッタリングによる反応［主スパッ
タリング法により高速成膜が可能なので好ましい，　Ｚ
ｒとＳｉを含む混合酸化物膜に関してｉｔ、Ｚｒ２０原
子に対してＳｉ８０原子以上の組成であればｎ＄１．５
５となる０で好ましい。

一方、Ｚｒ　４原子に対してＳｉ９６原子以下であれば
、反応性スパッタリング時におけるかかる合金ターゲッ
１・表面酸化にＪ；る導電性の低下を防止できるので、
直流スバッタによる反応性スパッタリングを安定して行
なうことができる。

叉、上記透明下層膜２２（屈折率ｎ２．光学．嘆厚ｎ２
ｄ。）及び透明上Ｎ膜２３（屈折率ｎ１光学膜厚ｎ，ｄ
ｌ）の反射を防止できる主波長尤＋　＝４ｒｚ　ａｌ　
ｘ　　えａ　＝４ｎ．ｄ．を適当にずらすこヒにより、
残存リップルが十分に抑制されている波長範囲を拡大す
るここができ、光彩防止効果を更に高めることができる
。例えば、λ、ｌコＯ、５５７１ｍかつス、２　’；ｍ
　Ｏ．　５５μｍ、又はえ＋　＄０．５５ＬＪｍかつえ
ｚ？０．５５ｇｍとすることにより可視域の広い波長範
囲にわたって残存リップルを十分に抑制することができ
る。この際、λ、１とえ，が０．０５ｐ．ｍ以上離れて
いると，なお好ましい。これは透明上漬膜によりえ，付
再の波長におけるリップルを抑制し、透明下，饗膜によ
りλ２付近の波長のリップルを抑制することができるた
めである。

また、特に、ある特定の波長範囲に相当する色調を嫌う
ような場合には、その波長範囲内に２つの波長を設定し
、これらがえ，、ル２に相当するように透明上層膜及び
透明下層膜の膜厚を調整してやることができる．例えば
、赤系統の色調を嫌う場合にはえ，　：０．５８μｍ．
ル２＝０．６５μｍ等とすることにより、この範囲の波
長域のリップルを抑制することができる。

かかる無光彩ガラスを、薄膜が形成されている側を内側
にして、プラスチック中間膜を介してもう一枚のガラス
基板と積層した無光彩合せガラスを形成することもでき
る。第４図は本発明の無光彩合せガラスの一例の断面図
である。

４０はガラス基板、４ｌは高屈折率透明薄膜（第１図１
１，第２図２１と同じ）、４２は透明下層膜（第１図１
２、第２図２２と同じ）、４３は透明上層膜、４４はプ
ラスチック中間膜である。

この場合には、透明上層膜４３は、高屈折率透明薄膜４
１とプラスチック中間膜４４との界面での干渉による反
射を抑制する為に、屈折率ｎ＝１．６５　〜１．８　、
光学膜厚ｎ　ｄ　＝　０．１　〜０．１８μｍであるこ
とが望ましい。材料としては、透明下層膜１２と同様の
膜を用いることができる。

又、第２図の例と同様に、透明上層膜４３（屈折率ｎｕ
、光学膜厚ｎｌ　ｄｓ　）　、及び透明下層膜４２（屈
折率ｎ４、光学膜厚ｎ４ｄ４）の反射を防止できる主波
長九Ｂ　＝　４　ｎ　３ｄ　ｓ　ｓ　ル．＝４ｒｘｄａ
を適当にずらすことにより、例えばえ，≧０．５５μｍ
かつ丸．≦０．５５μｍ，又はえ，≦０．５５μｍかつ
丸．≧０．５５μｍとすることにより、残存リップルが
十分に抑制されている波長範囲を拡大できる。

［実施例】 実施例Ｉ Ｚｒ：Ｓｉ：１：２の合金ターゲットを用い、Ａｒと酸
素の混合雰囲気のＩ　Ｘ　１０−”〜Ｉ　Ｘ　１０−２
Ｔｏｒｒの真空中でＤＣスパッタリングにより、ＺｒＳ
ｉ．Ｏ，の膜をガラス基板上に９００人形成した。この
膜？屈折率は１．７４であり、ｎｄ＝０．１６μｍ％１
．ｚ＝０．６３μｍに相当する。この上にイオンブレー
ティングによりＩＴＯ薄膜を８０００人形成した。

別に同様にして成膜したＩＴＯ膜の屈折率を測定したと
ころ２．０であった。この試料をサンプルｌとした。（
第１図の構成） 実施例２ サンプルｌの上に蒸着によりＳｉＯ■膜を９００入形成
した。別に同様に成膜したＳｉｆ２薄膜の屈折率は１．
４７であり、ｎｄ＝０．１３μｍ１　Ｌ．＝０．５２μ
ｍに相当する。この試料をサンプル２とした。（第２図
の構成） 実施例３ サンプル１をＰＶＢ　（ポリビニルブチラール）の中間
膜を用い合せガラスとしサンプル３とした．（第４図の
構成） 実施例４ サンプル１のＩＴＯ膜の上に実施例１と同じ条件で、Ｚ
ｒＳｉ．Ｏｙの膜に７００人形成した。この膜の屈折率
は１．７４であり、ｎｄ＝０．１２μｍ，丸２＝０．４
９μｍに相当する。この試料をＰＶＢの中間膜を介しも
う１枚のガラスと接着して合せガラスを作製した。この
試料をサンプル４とした。（第４図の構成） 比較例ｌ ガラス基板上にイオンブレーティングにょりＩＴＯ薄膜
を直接８０００入形成した。この膜の屈折率は２、Ｏで
あった。このサンプルを５とした。（第３図の構成） 比較例２ サンプル５をＰＶＢの中間膜を介しもう１枚のガラスと
接着して合せガラスを作製した。この試料をサンプルを
６とした。

サンプル１、２、５の分光反射スペクトルを図５に示す
。図中５１．　５２、５３がサンプル１、２、５に対応
している。本発明による透明下層膜を形成した場合（５
ｌ）、これがない場合（５３）に比べて明らかにリップ
ルが減少しており、光彩防止効果のあることが見てとれ
る。更に透明上層膜を施す（５２）とさらに効果が著し
いのも分か？ンブル３、４、（３の分光レ射スベク１・
）１・を１）．ｋｌ　＋’３に不−Ｊ′。図中６１、６
２、６３は、り〉・ブル３、４、（；に−付［心１、，
てい）：）．．１ツ１５の場合１トニ同様（こ１て７ｉ
ｒｒｒｌ折率ユごち明３専１ｊ，３の上−ト１，″．ト
ｆこ明による】丹明下ｊ曽１１（サ咬び透明−１−，Ｋ
ダ膜ｌ！：ｊじ成した場畠がり・ソブル防１Ｆの効果が
はち大きいことがわかる。

「発ｆｊｆｌの効双コ 本発明は、人面｛貞ガラスに高屈折率ｊ３明薄：漠をあ
る程廷“以上の厚６カに形成し２た場合に問題となる）
ｖ，龍をＩ３ノｊ止ずる。

以上、実９ｉｉｉ例からも明らかなように、本究明は、
ガラス基板に高屈折率透明薄膜をある程度以七・Ｊ）ｉ
’＋ｇみに｝じ成しＦ　編畠、分光スベクｌ・ルにざ（
滉ずζ）リップルを抑制ず｛バ；ｊ果がある。

これにより高屈折率，′４膜の摸厚ムラや視山変ｌ′．
ｌこ、ｊ：る魚ムラ０１二彩）を防止する２７Ｊ果が得
らｔ１う。持に大面積のガラス基板｝こ適用された場，
−”，ｌ（二■＋ｒ＋　衿な２カ渠イご０ずるものであ
る。

本発明の透明Ｆ層膜や透明上履１９と１〜で、？ｒ。Ｔ
ｉ■・Ｉの金属とＳｉとを含む複合酸化物な土成分と−
Ｆる．膜な用い／′）と、直流スパッタｌ去で反応性ス
パッタリング法により成膜でき，従って高屈＋Ｉｉ率透
明薄膵を含めて全薄膜を、連続して，インラインで真空
ブ０しスにより無光彩ガラスを形成することが可能とｌ
Ｊり、製造効率が著しく向上する。

又、本発問に用いるＺｒＳｉｘＯｙ膜は非晶Ｗ膜であり
、ガラス基｛反からのアノレノノリのマイク１ノーショ
ン防止の効果も（４じでいる６これ（ｊ′、表示用の透
明導電基板としてて適用された場合に大きなメリットと
なる。

本発明を用い、大而積ガラスに高屈折率透明膜を色ムラ
な《形成することにより、３１Ｓ築用ヒー１・ミラー、
電６葺遮蔽ガラス、自切Ｊ重用電熟用風［［Ｊ５ガラス
、表示用透明導電基板、太陽電１也用透明導電基板、紫
外線カッ１−ガラス等を外観を損なうことなく大面積の
用途に応用することができる。

［図１角の簡ｔ鉄な説１月 第１図は本発明の−実施例の（析面を模式的にｉ”ｆ＜
　Ｌ　ｌ：：ちのである。閉において１０はガラス基板
、１１ぱ高屈折率透明薄膜、１２ぱ透明下５習膜を１、
し５ている。

第２図は本発明の−実施例の断面を模式的に巧＜　１，
　７’：：ものである。図（こおいて２０はガラス基坂
、２１は高屈折率透明薄膜、２２は透明下荀摸、２３は
透明−Ｌ層膜を示している。

第３図（Ｊユ従来例の断［狛を模式的に示しｌ゛：ちの
で，ある。同において３０はガラス基板、３１は高田＋
ＪＴ率透明薄膜を示している６第・４図は本発明の戦）
１「−彩合せガラスの−例の断面図である。図において
４０はガラス基板、４　１　ｉ：ｊ：高屈折率透明薄．
摸、４２．　４３は透明下ＩｇＪ膜及び透明上層摸、４
４はブつスチック中間膜を示している７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス基板上に屈折率ｎが１．８以上で厚みｄが０
   ．１５μｍ以上の高屈折率透明薄膜が形成され、該高屈
   折率透明薄膜とガラス基板との間にｎ＝１．６５〜１．
   ８の透明下層膜が光学膜厚ｎｄ＝０．１〜０．１８μｍ
   の厚みに形成されている無光彩ガラスであって、該透明
   下層膜が、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｂ、
   Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｒのうち少なくとも１種とＳｉとを含む
   複合酸化物を主成分とする膜であることを特徴とする無
   光彩ガラ ス。 ２、該透明下層膜がＺｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｗ
   、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｒのうち少なくとも１種とＳｉ
   との合金ターゲットを用いて反応性スパッタリングによ
   り形成された膜であることを特徴である請求項１記載の
   無光彩ガラス。 ３、該高屈折率透明薄膜がインジウム・スズ酸化物、フ
   ッ素ドープ酸化スズ、酸化亜鉛の内のいずれかを主成分
   とする膜であることを特徴とする請求項１又は２項記載
   の無光彩ガラス。 ４、該透明下層膜は、Ｚｒ５０原子に対しＳｉを５０原
   子以上１５０原子以下の割合で含むＺｒとＳｉの複合酸
   化物からなる膜であることを特徴とする請求項１〜３い
   ずれか１項記載の無光彩ガラス。 ５、請求項１〜４いずれか１項記載の無光彩ガラスにお
   いて、該高屈折率透明薄膜の上記透明下層膜の反対側に
   、屈折率ｎが１．３５〜１．５５で光学膜厚ｎｄ＝０．
   ０４５〜０．０７５μｍの透明上層膜が形成されている
   ことを特徴とする無光彩ガラス。 ６、請求項５記載の無光彩ガラスにおいて、該透明上層
   膜（屈折率ｎ、光学膜厚ｎ＿１ｄ＿１）の主波長をλ＿
   １＝４ｎ＿１ｄ＿１、該透明下層膜（屈折率ｎ＿２、光
   学膜厚ｎ＿２ｄ＿２）の主波長をλ＿２＝４ｎ＿２ｄ＿
   ２としたとき λ＿１≧０．５５μｍかつλ＿２≦０．５５μｍ又は λ＿１≦０．５５μｍかつλ＿２≧０．５５μｍを満た
   すように該透明上層膜及び下層膜の膜厚が設定されてい
   ることを特徴とする無光彩ガラス。 ７、請求項１〜４いずれか１項記載の無光彩ガラスの該
   高屈折率透明薄膜の上に屈折率ｎ＝１．６５〜１．８光
   学膜厚ｎｄ＝０．１〜０．１８μｍの透明上層膜が形成
   されており、かかる膜を内側にして、プラスチック中間
   膜を介してもう１枚のガラス基板と積層してなることを
   特徴とする無光彩合せガラス。 ８、請求項７記載の無光彩合せガラスにおいて、中間膜
   と接する側の透明上層膜（屈折率ｎ＿３、光学膜厚ｎ＿
   ３ｄ＿３）の主波長をλ＿３＝４ｎ＿３ｄ＿３、ガラス
   基板と接する側の透明下層膜（屈折率ｎ＿４、光学膜厚
   ｎ＿４ｄ＿４）の主波長をλ＿４＝４ｎ＿４ｄ＿４とし
   たとき λ＿３≧０．５５μｍかつλ＿４≦０．５５μｍ又は λ＿４≦０．５５μｍかつλ＿４≧０．５５μｍを満た
   すように該透明上層膜及び下層膜の膜厚が形成されてい
   ることを特徴とする無光彩合せガラス。