JPH03160642A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JPH03160642A JPH03160642A JP29984589A JP29984589A JPH03160642A JP H03160642 A JPH03160642 A JP H03160642A JP 29984589 A JP29984589 A JP 29984589A JP 29984589 A JP29984589 A JP 29984589A JP H03160642 A JPH03160642 A JP H03160642A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業１−の利用分野］
本発り１は，光ビームにより記録・再生・消去を行なう
ことが可能な光学的記録媒体に関し、特にｆａ＃Ａ変調
法によるオーバーライト（重ね書き）が可能な光磁気記
録媒体に関するものである．［従来の技術］ 従来，オーハーライトが可能な光磁気ディスク及びその
装置としては、例えば特開昭５１− １０７１２１号公
報，特開昭６３−２１７５４８号公報．特開昭５９ー２
１５００８号公報，特公１１／Ｊ ６０− ４８８０６
号公報等に記載されているように，記録する情帽に応じ
て光磁気記録層への印加磁場を変調される方式、或いは
アイ イー イー イ−（ＩＥＥＥ）ｒトランサクショ
ン オン マグネティクス（ ＴｒａｎｓａｃＬｉｏｎ
ｏｎＭａｇｎｅＬｉｃｓ） ＭＡＧ−２０Ｊ Ｖｏ
ｌ．５． １０１３頁（１９８４年）に報告されている
ように，２個の光スポットを用いる方式等が知られてい
る。
ことが可能な光学的記録媒体に関し、特にｆａ＃Ａ変調
法によるオーバーライト（重ね書き）が可能な光磁気記
録媒体に関するものである．［従来の技術］ 従来，オーハーライトが可能な光磁気ディスク及びその
装置としては、例えば特開昭５１− １０７１２１号公
報，特開昭６３−２１７５４８号公報．特開昭５９ー２
１５００８号公報，特公１１／Ｊ ６０− ４８８０６
号公報等に記載されているように，記録する情帽に応じ
て光磁気記録層への印加磁場を変調される方式、或いは
アイ イー イー イ−（ＩＥＥＥ）ｒトランサクショ
ン オン マグネティクス（ ＴｒａｎｓａｃＬｉｏｎ
ｏｎＭａｇｎｅＬｉｃｓ） ＭＡＧ−２０Ｊ Ｖｏ
ｌ．５． １０１３頁（１９８４年）に報告されている
ように，２個の光スポットを用いる方式等が知られてい
る。
上記の光磁気記録層を有する従来の光学的記録媒体の代
表的なものとしては、案内溝及びプリフォーマット信号
をイずする樹脂基板上に真空蒸着，スパッタリング等の
方法によりＳｉＮ， ＳｉＯｘ， ＺｎＳ，ＳｉＣ等の
焦ａ誘電体の一種あるいは二種以上を組み合わせた積層
膜を形成し，その上にＧｄＴｂ， ＴｂＦｅ， ＧｄＴ
ｂＦｅ， ＴｂＦｅＣｏ， ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非品
質光磁気記録層を設け、その光磁気記録層の上に前記無
４１誘電体と同様の積層膜を形成し、さらにその上に紫
外線硬化型アクリレート系樹脂組或物からなる保護層を
設けて光磁気記ＱＩＭを保護してなるものが挙げられる
． ［発明か解決しようとする課８］ この様な光磁気記ＱＰ４を有する光磁気記録媒体を用い
た、磁界変調方式のオーバーライト可能な光磁気記録シ
ステムては，特に始動時において、磁気ヘットと光磁気
記録媒体の摺動が激しいために、度々磁気ヘットかクラ
ッシュする問題か発生する．この磁気ヘットのクラッシ
ュの原因としては、摺動による発生する光磁気記録媒体
の削れくず、奴体摺動而の突赳や硬度等が適えられる．
従来、この磁気ヘットのクラッシュなＶｊ Ｉ１ユする
対策として、光磁気記録層の磁気ヘットと対向する側に
紫外線硬化型アクリレート系樹耐などの樹脂を，例えば
，１〜２０トーのＪ’Ｉさに積屑した保護唐な設けるこ
とが提案されているか、不十分てある．具体的には、磁
気ディスクに樹脂からなる保護層か設けられているか，
ＣＳＳ試験（ＣｏｎｔａｃｔＳｔａｒｔ ＳＬｏｐ
Ｔｅｓｔ）を行うと，ｌ００万バスをクリアすることか
てきず、ヘットクラッシュか発生する状況である． 即ち，従来の紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物な
どの樹脂保護層ては，耐摺動性が悪いものか多いい問題
かあった。
表的なものとしては、案内溝及びプリフォーマット信号
をイずする樹脂基板上に真空蒸着，スパッタリング等の
方法によりＳｉＮ， ＳｉＯｘ， ＺｎＳ，ＳｉＣ等の
焦ａ誘電体の一種あるいは二種以上を組み合わせた積層
膜を形成し，その上にＧｄＴｂ， ＴｂＦｅ， ＧｄＴ
ｂＦｅ， ＴｂＦｅＣｏ， ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非品
質光磁気記録層を設け、その光磁気記録層の上に前記無
４１誘電体と同様の積層膜を形成し、さらにその上に紫
外線硬化型アクリレート系樹脂組或物からなる保護層を
設けて光磁気記ＱＩＭを保護してなるものが挙げられる
． ［発明か解決しようとする課８］ この様な光磁気記ＱＰ４を有する光磁気記録媒体を用い
た、磁界変調方式のオーバーライト可能な光磁気記録シ
ステムては，特に始動時において、磁気ヘットと光磁気
記録媒体の摺動が激しいために、度々磁気ヘットかクラ
ッシュする問題か発生する．この磁気ヘットのクラッシ
ュの原因としては、摺動による発生する光磁気記録媒体
の削れくず、奴体摺動而の突赳や硬度等が適えられる．
従来、この磁気ヘットのクラッシュなＶｊ Ｉ１ユする
対策として、光磁気記録層の磁気ヘットと対向する側に
紫外線硬化型アクリレート系樹耐などの樹脂を，例えば
，１〜２０トーのＪ’Ｉさに積屑した保護唐な設けるこ
とが提案されているか、不十分てある．具体的には、磁
気ディスクに樹脂からなる保護層か設けられているか，
ＣＳＳ試験（ＣｏｎｔａｃｔＳｔａｒｔ ＳＬｏｐ
Ｔｅｓｔ）を行うと，ｌ００万バスをクリアすることか
てきず、ヘットクラッシュか発生する状況である． 即ち，従来の紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物な
どの樹脂保護層ては，耐摺動性が悪いものか多いい問題
かあった。
本発ＩＪ１は、この様な従来技術の問題を解決するする
ためになされたものてあり，保ｇＮとして反心性シリコ
ーン化合物を含右する紫外線硬化型樹脂相成物を用いる
ことにより、保ｍＷの表面の潤滑姓か優れ、耐摺動性か
良好て、ヘットクラッシュの発生かなく、長期間の信頼
性を維持することができる光学的記録媒体を提供するこ
とを目的とするものてある． ［課題を解決するための手段］ すなわち，本発明は，円板状の基板上に少なくとも光磁
気記録層をイｊし、その上に保２！屑を形成してなる光
学的記録媒体において，前記保護居が反応性シリコーン
化合物を含イＩする紫外線硬化型樹脂組成物からなるこ
とを特徴とする光学的記録奴休てある． 以下，本発明を詳細に説明する． 本発明名は、上記目的を達成するために、鋭意研究を行
なった結果、磁気ヘッドのクラッシュ発生の原因は、保
護層の表而潤滑性か不十分であることを見い出した．し
たがって、本発明は、保護屑に表而潤滑性を付Ｉ−する
ために、上記の従来の紫外線硬化型アクリレート糸捌脂
組成物に比べ、表而潤滑性の優れた反応性シリコーン化
合物を含イｉする紫外線硬化型樹脂組成物を用いること
を特徴とするものである。
ためになされたものてあり，保ｇＮとして反心性シリコ
ーン化合物を含右する紫外線硬化型樹脂相成物を用いる
ことにより、保ｍＷの表面の潤滑姓か優れ、耐摺動性か
良好て、ヘットクラッシュの発生かなく、長期間の信頼
性を維持することができる光学的記録媒体を提供するこ
とを目的とするものてある． ［課題を解決するための手段］ すなわち，本発明は，円板状の基板上に少なくとも光磁
気記録層をイｊし、その上に保２！屑を形成してなる光
学的記録媒体において，前記保護居が反応性シリコーン
化合物を含イＩする紫外線硬化型樹脂組成物からなるこ
とを特徴とする光学的記録奴休てある． 以下，本発明を詳細に説明する． 本発明名は、上記目的を達成するために、鋭意研究を行
なった結果、磁気ヘッドのクラッシュ発生の原因は、保
護層の表而潤滑性か不十分であることを見い出した．し
たがって、本発明は、保護屑に表而潤滑性を付Ｉ−する
ために、上記の従来の紫外線硬化型アクリレート糸捌脂
組成物に比べ、表而潤滑性の優れた反応性シリコーン化
合物を含イｉする紫外線硬化型樹脂組成物を用いること
を特徴とするものである。
本発明において、保護層を形成する紫外線硬化型樹脂糾
成物としては、特に制限することなく光学的記録媒体の
保護層に通常使用されている紫外線の照射により硬化す
る樹脂組成物を用いることができるか，特に紫外線硬化
型アクリレート系樹脂組成物が好ましい。
成物としては、特に制限することなく光学的記録媒体の
保護層に通常使用されている紫外線の照射により硬化す
る樹脂組成物を用いることができるか，特に紫外線硬化
型アクリレート系樹脂組成物が好ましい。
紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物としては，通常
、（Ａ）プレボリマー成分，（Ｂ）反応性箱釈剤成分，
（Ｃ）光重合開始剤成分を混合した組成物よりなり，そ
の成分（＾）． （Ｂ）． （Ｃ）の使用割合は、（＾
）成分５〜９５％：（Ｂ）成分９５〜５％（重量比）
． （Ｃ）成分は０．１〜ｌＯ％（重量比）で組み入れ
た組成物か用いられる．（八）プレボリマー成分として
は、ボリオールボリアクリレート，ポリエステルアクリ
レート，ウレタンアクリレート，エボキシアクリレート
等が挙げられる。また、（Ｂ）反応性箱釈剤成分として
は，多価アルコールのアクリル酸エステルか用いられて
いる。（Ｃ）光重合開始剤成分としては，公知の光重合
開始剤が用いられ、特に配合後の貯蔵安定性のよいもの
が好ましく、例えば、ペンゾインアルキルエーテル系、
アセトフエノン系，プロピオフエノン系，アントラキノ
ン系，チオキサントン系などである．これらは一種また
は二種以上を任意の割合で混合して用いられている． 次に、前記紫外線硬化聖樹脂組成物に含右される反応性
シリコーン化合物としては，例えば片末端、両末端反応
性シリコーンか用いられ、末端官能基としては，紫外線
により屯合硬化が可能なメタクリロキシ基が挙げられる
．例えば、下記の式（Ｉ）で表される化合物か挙げられ
る．ｎ ＝ １ 〜１：１１ Ｍｗ＝ ４２
３ 〜１０，０００これらの反応性シリコーン化合物
は末端宜能基か紫外線により虫合・硬化するため、上記
の紫外ｍ硬化型アクリレート系樹脂組Ｉ＆物に配合して
用いると、該樹脂硬化物に潤滑性を付与することが＋ｒ
（能である。
、（Ａ）プレボリマー成分，（Ｂ）反応性箱釈剤成分，
（Ｃ）光重合開始剤成分を混合した組成物よりなり，そ
の成分（＾）． （Ｂ）． （Ｃ）の使用割合は、（＾
）成分５〜９５％：（Ｂ）成分９５〜５％（重量比）
． （Ｃ）成分は０．１〜ｌＯ％（重量比）で組み入れ
た組成物か用いられる．（八）プレボリマー成分として
は、ボリオールボリアクリレート，ポリエステルアクリ
レート，ウレタンアクリレート，エボキシアクリレート
等が挙げられる。また、（Ｂ）反応性箱釈剤成分として
は，多価アルコールのアクリル酸エステルか用いられて
いる。（Ｃ）光重合開始剤成分としては，公知の光重合
開始剤が用いられ、特に配合後の貯蔵安定性のよいもの
が好ましく、例えば、ペンゾインアルキルエーテル系、
アセトフエノン系，プロピオフエノン系，アントラキノ
ン系，チオキサントン系などである．これらは一種また
は二種以上を任意の割合で混合して用いられている． 次に、前記紫外線硬化聖樹脂組成物に含右される反応性
シリコーン化合物としては，例えば片末端、両末端反応
性シリコーンか用いられ、末端官能基としては，紫外線
により屯合硬化が可能なメタクリロキシ基が挙げられる
．例えば、下記の式（Ｉ）で表される化合物か挙げられ
る．ｎ ＝ １ 〜１：１１ Ｍｗ＝ ４２
３ 〜１０，０００これらの反応性シリコーン化合物
は末端宜能基か紫外線により虫合・硬化するため、上記
の紫外ｍ硬化型アクリレート系樹脂組Ｉ＆物に配合して
用いると、該樹脂硬化物に潤滑性を付与することが＋ｒ
（能である。
また、故樹脂硬化物中のボリマー３次元ネットワーク中
に、上記反応外シリコーン化合物かＭｔみ込まれるため
に、潤滑性の持＆ｌの点ても優れている。
に、上記反応外シリコーン化合物かＭｔみ込まれるため
に、潤滑性の持＆ｌの点ても優れている。
紫外線硬化型樹廂組成物に添加される反応性シリコーン
化合物の配合量としては、通常２〜ｌ５ｗＬ％の範囲て
あり、特に５ｗＬ％〜ｌＯｗＬ％のａ四か好ましい。配
合＠埴か２ｗＬ％未猫ては十分な潤滑性の効果か得られ
ず、ｌｓｗｔ％をこえるとメタクリロキシノフによる硬
化性か悪くなること、また表面硬度か低ドすることかあ
るために好ましくない．また、保護層の厚さは２〜３〇
一量、好ましくは５〜１０，Ｌ■の範囲が望ましい．２
μ■未満では外部からの傷に対する保護層の保護機能が
十分てなく２３０一一をこえると樹脂保Ｍ屑の硬化収縮
により剥離を生じるために好ましくない． 本発明における保護屑の形成方法は、例えば，スピンコ
ーター、ロールコーター，バーコーター等により紫外線
硬化型樹尉組１＆物を記録層上に塗７Ｉｉ Ｌ／て，紫
外線を照射して樹脂組成物を硬化させることによって形
成することがてきる．また、保２ｆｆＪｆ’？は、光学
的記録媒体の片面あるいは画而に設けることができる． 本発明の光学的記Ｑ媒体において、記録層には、光磁気
記録層やそれ以外のものでもよく，例えば染料を用いた
記録層も用いることかてきる．光磁気記録層には、例え
ばＧｄＴｂ， ＴｂＦｅ， ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣ
ｏ， ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非品質磁気記録層が挙げら
れる． また、県板には、特に限定することはないが，例えば案
内溝及びプリフォーマット信号を有するボリカーボネー
ト樹脂，アクリル樹脂，ボリスチレン樹脂，ポリオレフ
ィン系樹脂等よりなるものか用いられる． ［実施例］ 以下，実施例を示し本発明をさらに共体的に説明する。
化合物の配合量としては、通常２〜ｌ５ｗＬ％の範囲て
あり、特に５ｗＬ％〜ｌＯｗＬ％のａ四か好ましい。配
合＠埴か２ｗＬ％未猫ては十分な潤滑性の効果か得られ
ず、ｌｓｗｔ％をこえるとメタクリロキシノフによる硬
化性か悪くなること、また表面硬度か低ドすることかあ
るために好ましくない．また、保護層の厚さは２〜３〇
一量、好ましくは５〜１０，Ｌ■の範囲が望ましい．２
μ■未満では外部からの傷に対する保護層の保護機能が
十分てなく２３０一一をこえると樹脂保Ｍ屑の硬化収縮
により剥離を生じるために好ましくない． 本発明における保護屑の形成方法は、例えば，スピンコ
ーター、ロールコーター，バーコーター等により紫外線
硬化型樹尉組１＆物を記録層上に塗７Ｉｉ Ｌ／て，紫
外線を照射して樹脂組成物を硬化させることによって形
成することがてきる．また、保２ｆｆＪｆ’？は、光学
的記録媒体の片面あるいは画而に設けることができる． 本発明の光学的記Ｑ媒体において、記録層には、光磁気
記録層やそれ以外のものでもよく，例えば染料を用いた
記録層も用いることかてきる．光磁気記録層には、例え
ばＧｄＴｂ， ＴｂＦｅ， ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣ
ｏ， ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非品質磁気記録層が挙げら
れる． また、県板には、特に限定することはないが，例えば案
内溝及びプリフォーマット信号を有するボリカーボネー
ト樹脂，アクリル樹脂，ボリスチレン樹脂，ポリオレフ
ィン系樹脂等よりなるものか用いられる． ［実施例］ 以下，実施例を示し本発明をさらに共体的に説明する。
尖施例ｌ
第１図は本発明の光学的記録媒体の一実施例を示す説１
５１図である．同図に示す光学的記録媒体を作成した．
まず，案内溝および／またはプリフォーマット信号を右
する厚さ１．２厘一のボリカーボネート基板ｌ上に，ス
パッタリング法により層厚８００入のＳｉ，Ｎ．層２を
成膜し，次いで層厚４００人の非晶質ＧｄＴｂ，層厚４
００入の非晶質ＴｂＦｅを積層し光磁気記録層３を設け
、さらに層厚ｌ０００入のＳｉ：＋ｌＬ層４を成膜した
． 次に，以下の釦成の紫外線硬化ウレタンアクリレート樹
脂組成物をスピンコート（ ４０００ｒ．ｐ劃．，７秒
間）シ，層Ｐｉ ７ ｕ−の樹脂層を作成した後，Ｕｖ
ランブ（照射而上２３：ｌＷ／ｃ１，波長：ｌ６５ ｎ
ｍ）を７秒間照射して、樹脂を硬化させ、樹脂保護層５
を形成し、光学的記録媒体を得た． １Ｉ成 （Ａ）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート（６官能） （商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣ＾−３０．日本化薬
■製）８０重量％ （Ｂ）ウレタンアクリレート （商品名 アロニックスＭ−１１００ ） １０重量
％（Ｃ）光重合開始剤 （商品名 ＩＲＧ−１８４， 日本チバガイギー社製
）５重量％ （Ｄ）反応性シリコーン ｎ （計′Ｂ値） ＝ １０， Ｍｗ＝ １
０００（商品名 サイラブレーンＦＩｌｌ０７１１チッ
ソ■製） 実施例２ Ｓｆｆｉ量％ （Ａ）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート（６官能） ７５重量％ （Ｄ）反応性シリコーン １０重量％の
各配合量とする以外は実施例ｌと同様にして光学的記録
媒体を作成した． 実施例３ （＾）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート（６丁ｆ能）７５車量％ （Ｄ）反応性シリコーンとして，商品名 サイラブレー
ンＴＭＯ７０１ チッソ輛製 ３−メタクリロキシブ
ロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランＩＤｗｔ％
とする以外は，実施例ｌと同様にして光学的記録媒体を
作成した． 実施例４ （＾）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート《６官能〉 ８０ｇＸ量％ （Ｄ）反応性シリコーンとして、商品名 サイラプレー
ンＦＭＯ７２ １ チッソ■製 ｎ ＝ ６４， Ｍ
ｗ＝ ５０００５！ＩＩＭ％を用いる以外は、実施例ｌ
と同様にして光学的記録媒体を作成した． 比較例ｌ （Ａ）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート〈６宜能） ８５重星％ とし，（Ｄ）反応性シリコーンを用いない以外は、実施
例１と同様にして光゛７的記録奴休を作成した． 作成した各光学的記録奴体な用いて、第１図に示す様に
，浮上型磁気ヘット７を媒体表而に接触させた状態から
，２秒間で、媒体を浮し， ：ｌ６００ｒｐｍに回転さ
せる．（磁気ヘットの１テ上是１ ． ５一一〉その後
、２秒間で、媒体の回転を３６００ｒｐｍから落して悴
出させて磁気ヘットを媒体表而に接触させる．これをく
り返すＣＳＳ試験を行った結果、実施例１〜４はＣＳＳ
試験 １００万パスをクリアでき、ヘットクラッシュの
発生もなかった。一方，比較例ｌは． ＣＳＳ試験 １
００万パスをクリアできず、ヘットクラッシュが発生し
た． 即ち，本９．明により、長期間信頼性を維持する光磁気
ディスク装置システムを達成することが可能となった． ［発明の効果］ 以−Ｅ説明したように，本発明の光学的記録媒体によれ
ば、保護層として反応性シリコーン化合物を含有する紫
外線硬化型樹脂組成物を用いることにより，保護層の表
面の潤滑性が優れ、耐摺動性が良好で、ヘットクラッシ
ュの発生がなく、長期間の信頼性を維持することができ
る．
５１図である．同図に示す光学的記録媒体を作成した．
まず，案内溝および／またはプリフォーマット信号を右
する厚さ１．２厘一のボリカーボネート基板ｌ上に，ス
パッタリング法により層厚８００入のＳｉ，Ｎ．層２を
成膜し，次いで層厚４００人の非晶質ＧｄＴｂ，層厚４
００入の非晶質ＴｂＦｅを積層し光磁気記録層３を設け
、さらに層厚ｌ０００入のＳｉ：＋ｌＬ層４を成膜した
． 次に，以下の釦成の紫外線硬化ウレタンアクリレート樹
脂組成物をスピンコート（ ４０００ｒ．ｐ劃．，７秒
間）シ，層Ｐｉ ７ ｕ−の樹脂層を作成した後，Ｕｖ
ランブ（照射而上２３：ｌＷ／ｃ１，波長：ｌ６５ ｎ
ｍ）を７秒間照射して、樹脂を硬化させ、樹脂保護層５
を形成し、光学的記録媒体を得た． １Ｉ成 （Ａ）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート（６官能） （商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣ＾−３０．日本化薬
■製）８０重量％ （Ｂ）ウレタンアクリレート （商品名 アロニックスＭ−１１００ ） １０重量
％（Ｃ）光重合開始剤 （商品名 ＩＲＧ−１８４， 日本チバガイギー社製
）５重量％ （Ｄ）反応性シリコーン ｎ （計′Ｂ値） ＝ １０， Ｍｗ＝ １
０００（商品名 サイラブレーンＦＩｌｌ０７１１チッ
ソ■製） 実施例２ Ｓｆｆｉ量％ （Ａ）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート（６官能） ７５重量％ （Ｄ）反応性シリコーン １０重量％の
各配合量とする以外は実施例ｌと同様にして光学的記録
媒体を作成した． 実施例３ （＾）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート（６丁ｆ能）７５車量％ （Ｄ）反応性シリコーンとして，商品名 サイラブレー
ンＴＭＯ７０１ チッソ輛製 ３−メタクリロキシブ
ロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランＩＤｗｔ％
とする以外は，実施例ｌと同様にして光学的記録媒体を
作成した． 実施例４ （＾）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート《６官能〉 ８０ｇＸ量％ （Ｄ）反応性シリコーンとして、商品名 サイラプレー
ンＦＭＯ７２ １ チッソ■製 ｎ ＝ ６４， Ｍ
ｗ＝ ５０００５！ＩＩＭ％を用いる以外は、実施例ｌ
と同様にして光学的記録媒体を作成した． 比較例ｌ （Ａ）カブロラクトン変性ジベンタエリスリトールへキ
サアクリレート〈６宜能） ８５重星％ とし，（Ｄ）反応性シリコーンを用いない以外は、実施
例１と同様にして光゛７的記録奴休を作成した． 作成した各光学的記録奴体な用いて、第１図に示す様に
，浮上型磁気ヘット７を媒体表而に接触させた状態から
，２秒間で、媒体を浮し， ：ｌ６００ｒｐｍに回転さ
せる．（磁気ヘットの１テ上是１ ． ５一一〉その後
、２秒間で、媒体の回転を３６００ｒｐｍから落して悴
出させて磁気ヘットを媒体表而に接触させる．これをく
り返すＣＳＳ試験を行った結果、実施例１〜４はＣＳＳ
試験 １００万パスをクリアでき、ヘットクラッシュの
発生もなかった。一方，比較例ｌは． ＣＳＳ試験 １
００万パスをクリアできず、ヘットクラッシュが発生し
た． 即ち，本９．明により、長期間信頼性を維持する光磁気
ディスク装置システムを達成することが可能となった． ［発明の効果］ 以−Ｅ説明したように，本発明の光学的記録媒体によれ
ば、保護層として反応性シリコーン化合物を含有する紫
外線硬化型樹脂組成物を用いることにより，保護層の表
面の潤滑性が優れ、耐摺動性が良好で、ヘットクラッシ
ュの発生がなく、長期間の信頼性を維持することができ
る．
第１図は本発明の光学的記録媒体の一実施例を示す説明
図である．
図である．
Claims (1)
- 円板状の基板上に少なくとも光磁気記録層を有し、その
上に保護層を形成してなる光学的記録媒体において、前
記保護層が反応性シリコーン化合物を含有する紫外線硬
化型樹脂組成物からなることを特徴とする光学的記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1299845A JP2581983B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1299845A JP2581983B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03160642A true JPH03160642A (ja) | 1991-07-10 |
| JP2581983B2 JP2581983B2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
ID=17877631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1299845A Expired - Fee Related JP2581983B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2581983B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5585201A (en) * | 1995-06-05 | 1996-12-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable composition comprising a polydimethylsiloxane |
| US5609990A (en) * | 1995-02-08 | 1997-03-11 | Imation Corp. | Optical recording disk having a sealcoat layer |
| US5912061A (en) * | 1995-08-03 | 1999-06-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | UV-ray setting resin and a method for manufacturing a magneto-optical disk by the use of the UV-ray setting resin |
-
1989
- 1989-11-20 JP JP1299845A patent/JP2581983B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5609990A (en) * | 1995-02-08 | 1997-03-11 | Imation Corp. | Optical recording disk having a sealcoat layer |
| US5585201A (en) * | 1995-06-05 | 1996-12-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable composition comprising a polydimethylsiloxane |
| US5912061A (en) * | 1995-08-03 | 1999-06-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | UV-ray setting resin and a method for manufacturing a magneto-optical disk by the use of the UV-ray setting resin |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2581983B2 (ja) | 1997-02-19 |
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