JPH0314541A - シクロペンテノロン誘導体の製造法 - Google Patents
シクロペンテノロン誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPH0314541A JPH0314541A JP1147518A JP14751889A JPH0314541A JP H0314541 A JPH0314541 A JP H0314541A JP 1147518 A JP1147518 A JP 1147518A JP 14751889 A JP14751889 A JP 14751889A JP H0314541 A JPH0314541 A JP H0314541A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- usually
- palladium
- based catalyst
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 11
- -1 vinyl halide Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 10
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N bromoethene Chemical compound BrC=C INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 239000002728 pyrethroid Substances 0.000 abstract description 3
- VXSIXFKKSNGRRO-MXOVTSAMSA-N [(1s)-2-methyl-4-oxo-3-[(2z)-penta-2,4-dienyl]cyclopent-2-en-1-yl] (1r,3r)-2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-1-enyl)cyclopropane-1-carboxylate;[(1s)-2-methyl-4-oxo-3-[(2z)-penta-2,4-dienyl]cyclopent-2-en-1-yl] (1r,3r)-3-[(e)-3-methoxy-2-methyl-3-oxoprop-1-enyl Chemical class CC1(C)[C@H](C=C(C)C)[C@H]1C(=O)O[C@@H]1C(C)=C(C\C=C/C=C)C(=O)C1.CC1(C)[C@H](/C=C(\C)C(=O)OC)[C@H]1C(=O)O[C@@H]1C(C)=C(C\C=C/C=C)C(=O)C1 VXSIXFKKSNGRRO-MXOVTSAMSA-N 0.000 abstract description 2
- HYJYGLGUBUDSLJ-UHFFFAOYSA-N pyrethrin Natural products CCC(=O)OC1CC(=C)C2CC3OC3(C)C2C2OC(=O)C(=C)C12 HYJYGLGUBUDSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229940070846 pyrethrins Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- IVGYSSJKFLEVIX-UHFFFAOYSA-N (-(E)-Pyrethrolone Natural products CC1=C(CC=CC=C)C(=O)CC1O IVGYSSJKFLEVIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVGYSSJKFLEVIX-SNAWJCMRSA-N (E)-pyrethrolone Chemical compound CC1=C(C\C=C\C=C)C(=O)CC1O IVGYSSJKFLEVIX-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- JRNRNIVWOPETPW-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-3-methyl-2-pent-4-en-2-ynylcyclopent-2-en-1-one Chemical compound CC1=C(CC#CC=C)C(=O)CC1O JRNRNIVWOPETPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-N dichloropalladium;triphenylphosphanium Chemical compound Cl[Pd]Cl.C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- GHXZPUGJZVBLGC-UHFFFAOYSA-N iodoethene Chemical compound IC=C GHXZPUGJZVBLGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- ZOUWOGOTHLRRLS-UHFFFAOYSA-N palladium;phosphane Chemical class P.[Pd] ZOUWOGOTHLRRLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ピレトリン類の合成中間体として有用なシク
ロペンテノロン誘導体の製造ｌ去に関する。
ロペンテノロン誘導体の製造ｌ去に関する。
さらに詳しくは、後記の一般式（ＩＩ３で示されるペン
ター４−エンー２−イニルシク口ペンテノロン誘導体の
有利な製造法に関する。
ター４−エンー２−イニルシク口ペンテノロン誘導体の
有利な製造法に関する。
く従来の技術〉
従来、ペンター４−エンー２−イニルシクロベンテノロ
ン誘導体の製造法としては、Ｊ． Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
， １９５６． ３９６３−３９７１に記載の方法が
知らレテいる。
ン誘導体の製造法としては、Ｊ． Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
， １９５６． ３９６３−３９７１に記載の方法が
知らレテいる。
く発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、該方法は用いられるオクト７−エンー５
−イン−２−オンの調製が煩雑であること等の問題があ
り、満足すべきものとは言い難い。
−イン−２−オンの調製が煩雑であること等の問題があ
り、満足すべきものとは言い難い。
く課題を解決するための手段〉
本発明者らは、こうした課題を解決すべく鋭意検討した
結果、一般式〔！〕 Ｃ式中、Ｒは有機残基を表す。〕 で示されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導体とビ
ニルハライドとを、パラジウム系触媒、銅系触媒および
アルキルアミンの存在下に反応させることにより一般式
〔■〕 〔式中、Ｒは有機残基を表す。〕 で示されるシクロペンテノロン誘導体が容易に製造され
ることを見出し本発明に至った。
結果、一般式〔！〕 Ｃ式中、Ｒは有機残基を表す。〕 で示されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導体とビ
ニルハライドとを、パラジウム系触媒、銅系触媒および
アルキルアミンの存在下に反応させることにより一般式
〔■〕 〔式中、Ｒは有機残基を表す。〕 で示されるシクロペンテノロン誘導体が容易に製造され
ることを見出し本発明に至った。
本発明で用いられるビニルハライドとしては塩化ビニル
、臭化ビニルおよび沃化ビニルが挙げられ、その使用量
は一般式ＣＩ）で示されるフロパルギルシク口ペンテノ
ロン誘導体１当量に対して通常１〜２０当量である。
、臭化ビニルおよび沃化ビニルが挙げられ、その使用量
は一般式ＣＩ）で示されるフロパルギルシク口ペンテノ
ロン誘導体１当量に対して通常１〜２０当量である。
パラジウム系触媒としては、例えばテトラキス（トリフ
エニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフエニルホ
スフィン）パラジウムジクロリド、ビス（ジフエニルホ
スフィノ）エタンパラジウムジクロリド等のパラジウム
ホスフィン錯体などが挙げられ、その使用量は一般式〔
■〕で示されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導体
１モルに対して通常０．００１〜０．５モルである。
エニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフエニルホ
スフィン）パラジウムジクロリド、ビス（ジフエニルホ
スフィノ）エタンパラジウムジクロリド等のパラジウム
ホスフィン錯体などが挙げられ、その使用量は一般式〔
■〕で示されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導体
１モルに対して通常０．００１〜０．５モルである。
銅系触媒としては通常ハロゲン化銅が用いられ、特に沃
化銅の使用が好ましく、その使用量は一般式〔■〕で示
されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導体１モルに
対して通常０．００１〜０．５モルである。
化銅の使用が好ましく、その使用量は一般式〔■〕で示
されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導体１モルに
対して通常０．００１〜０．５モルである。
また、アルキルアミンとしては例えばｎ−プチルアミン
、ジエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は一般式
［Ｉ］で示されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導
体１モルに対して通常１−１０モルである。
、ジエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は一般式
［Ｉ］で示されるプロバルギルシク口ペンテノロン誘導
体１モルに対して通常１−１０モルである。
反応温度は通常５〜５０°Ｃ、好ましくは１５〜２５℃
であり、反応時間は通常２４時間以内である。
であり、反応時間は通常２４時間以内である。
本反応は通常トルエン、ベンセン等の芳香族炭化水素類
、テトラヒド口フラン等のエーテル類、アセトニトリル
、ジメチルホルムアミドなどの溶媒中で行われる。
、テトラヒド口フラン等のエーテル類、アセトニトリル
、ジメチルホルムアミドなどの溶媒中で行われる。
尚、一般式（１）で示されるプロパルギルシク口ペンテ
ノロン誘導体は、例えば特公昭６１２６９７５号公報に
記載の方法などにより得ることができる。
ノロン誘導体は、例えば特公昭６１２６９７５号公報に
記載の方法などにより得ることができる。
一般式〔Ｉ〕中のＲとしては、メチル基等のアルキル基
のみならず、上記のパラジウム系触媒によるカップリン
グ反応に不活性な任意の有機残基が挙げられ、例えば３
−（２−メチルーｌ−プロペニル）−２．２−ジメチル
ンク口プロビル基、３−（２−メトキシ力ルボニル−■
−プロペニル）−２．２−ジメチルシク口プロピル基、
３−（２−エトキシ力ルボニル−１プロペニル）−２．
２−ジメチルシク口プロピル基等のピレスロイド酸残基
でもよい。
のみならず、上記のパラジウム系触媒によるカップリン
グ反応に不活性な任意の有機残基が挙げられ、例えば３
−（２−メチルーｌ−プロペニル）−２．２−ジメチル
ンク口プロビル基、３−（２−メトキシ力ルボニル−■
−プロペニル）−２．２−ジメチルシク口プロピル基、
３−（２−エトキシ力ルボニル−１プロペニル）−２．
２−ジメチルシク口プロピル基等のピレスロイド酸残基
でもよい。
一般式（ＩＩ３で示されるシクロペンテノロン誘導体は
、例えば低級アルコール中炭酸アルカリ等の塩基存在下
で鹸化することにより、２一メチル−３−（ペンター４
−エンー２−イニル）シクロペンタ−２−エンー４−オ
ン−■一オールに導かれる。該鹸化反応は、通常メタノ
ールまたはエタノール中、一般式（ＩＩ）で示されるシ
クロペンテノロン誘導体に対して０．０１−１倍モルの
炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム存在下に０〜５０℃
、好ましくは２０９Ｃ付近で２〜２４時間かけて行われ
る。
、例えば低級アルコール中炭酸アルカリ等の塩基存在下
で鹸化することにより、２一メチル−３−（ペンター４
−エンー２−イニル）シクロペンタ−２−エンー４−オ
ン−■一オールに導かれる。該鹸化反応は、通常メタノ
ールまたはエタノール中、一般式（ＩＩ）で示されるシ
クロペンテノロン誘導体に対して０．０１−１倍モルの
炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム存在下に０〜５０℃
、好ましくは２０９Ｃ付近で２〜２４時間かけて行われ
る。
２−メチル−３−（ペンター４−エンー２一イニル）シ
クロペンタ−２−エンー４−オンーＩ−オールはリンド
ラー触媒による還元等の既知の方法により、容易にピレ
スロロンに導かれる（ Ｊ． Ｃｈｅｒｎ． Ｓｏｃ．
， １９５６． ３９６３ ）。
クロペンタ−２−エンー４−オンーＩ−オールはリンド
ラー触媒による還元等の既知の方法により、容易にピレ
スロロンに導かれる（ Ｊ． Ｃｈｅｒｎ． Ｓｏｃ．
， １９５６． ３９６３ ）。
尚、本発明の製造法において、光学活性な一般式〔Ｉ〕
で示されるプロパルギルシク口ペンテノロン誘導体を用
いることにより、光学活性な一般式〔■〕で示されるシ
クロペンテノロン誘導体を得ることができ、さらに光学
活性なピレスロロンが得られる。
で示されるプロパルギルシク口ペンテノロン誘導体を用
いることにより、光学活性な一般式〔■〕で示されるシ
クロペンテノロン誘導体を得ることができ、さらに光学
活性なピレスロロンが得られる。
〈実施例〉
以下、本発明を製造例にて説明する。
また、一般式（Ｉｌｌで示されるシクロペンテノロン誘
導体の鹸化反応の例を参考例として示す。
導体の鹸化反応の例を参考例として示す。
製造例ｌ
（＋）− （Ｓ）−４−オキソー２−メチルー３−プル
パルギル−２−シクロペンテニル アセタート０． ５
０ ｇをベンゼン１０ｍｌに溶解し、テトラキス（トリ
フエニルホスフィン）パラジウム０．１５ｇ，沃化第一
銅０． ０５ ｇおよびｎ−プチルアミン０． ３８
ｇを順次加えた。この混合液にビニルブロミド２．８ｇ
を速やかに加え、窒素雰囲気下室温にて一夜攪拌し、希
塩酸に注加した。ベンゼン層を分取し、水層よりさらに
ベンゼン抽出した。ベンゼン層を合わせ、飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
に溶媒を留去して得た残渣をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーにて処理し（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２ ＋ １） 、目的とする（＋）− （Ｓ）−４−
オキソー２−メチル−３（ペンター４一二ンー２−イニ
ル）−２−シクロペンテニル アセタート０． ３２
ｇを得た。
パルギル−２−シクロペンテニル アセタート０． ５
０ ｇをベンゼン１０ｍｌに溶解し、テトラキス（トリ
フエニルホスフィン）パラジウム０．１５ｇ，沃化第一
銅０． ０５ ｇおよびｎ−プチルアミン０． ３８
ｇを順次加えた。この混合液にビニルブロミド２．８ｇ
を速やかに加え、窒素雰囲気下室温にて一夜攪拌し、希
塩酸に注加した。ベンゼン層を分取し、水層よりさらに
ベンゼン抽出した。ベンゼン層を合わせ、飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
に溶媒を留去して得た残渣をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーにて処理し（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２ ＋ １） 、目的とする（＋）− （Ｓ）−４−
オキソー２−メチル−３（ペンター４一二ンー２−イニ
ル）−２−シクロペンテニル アセタート０． ３２
ｇを得た。
ｎ Ｄ ” ’ １． ５２３１
（（Ｚ） ｏ ” ＋３３．０° （ Ｃ ＝ １．
０ ， ＣＨＣｌｚ）Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣＩ，中、
ＴＭＳ内部標準）δ値（ｐｐｍ） ２．０５ 〜２．４
５（ｍ，７Ｈ） ２．８８（ｄｄ，ＩＨ）３．２６（ｓ
，２Ｈ） ５．３０ 〜５．７０（ｍ，４Ｈ）参考例
ｌ 製造例１で得た（＋）− （Ｓ）−４−オキソー２−メ
チル−３−（ペンター４−エンー２一イニル）−２−シ
クロベンテニル アセタート０． ３０ ｇをメタノー
ル３０ｍ ｌに溶解し、炭酸カリウム２０ｍｇを加え、
室温で２時間攪拌した。次いで減圧下に溶媒を留去し、
残渣をジクロ口メタンに溶解して飽和食塩水で２回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去して目的とする（＋）− （Ｓ）−２−メチル−３−
（ベンター４−エンー２−イニル）シクロペンタ−２−
エンー４−オン−１−オール０． ２４ ｇを得た。
０ ， ＣＨＣｌｚ）Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣＩ，中、
ＴＭＳ内部標準）δ値（ｐｐｍ） ２．０５ 〜２．４
５（ｍ，７Ｈ） ２．８８（ｄｄ，ＩＨ）３．２６（ｓ
，２Ｈ） ５．３０ 〜５．７０（ｍ，４Ｈ）参考例
ｌ 製造例１で得た（＋）− （Ｓ）−４−オキソー２−メ
チル−３−（ペンター４−エンー２一イニル）−２−シ
クロベンテニル アセタート０． ３０ ｇをメタノー
ル３０ｍ ｌに溶解し、炭酸カリウム２０ｍｇを加え、
室温で２時間攪拌した。次いで減圧下に溶媒を留去し、
残渣をジクロ口メタンに溶解して飽和食塩水で２回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去して目的とする（＋）− （Ｓ）−２−メチル−３−
（ベンター４−エンー２−イニル）シクロペンタ−２−
エンー４−オン−１−オール０． ２４ ｇを得た。
ｎ ｏ ”” １． ５５７８
Ｃα） ，” ＋２３．０° （ ｃ ＝ １， １
， ＣＨＣＩ３）Ｈ − Ｎ Ｍ Ｒ （ＣＤＣＩａ
中、ＴＭＳ内部標準）δ値（ｐｐｍ） ２． １５ 〜
２． ３８（ｍ． ４Ｈ）２． ６５ 〜２． ９３（
ｍ， ２１｛） ３． ２０（ｓ， ２Ｈ）４．７０（
ｍ，ＩＨ） ５．２６〜５，７３（ｍ，３｝１）製造
例２ （ＲＳ）−４−オキソー２−メチル−３−プルパルギル
−２−シクロペンテニル アセター１− １．０ｇを
ベンゼン２０ｍ ｌに溶解し、テトラキス（トリフエニ
ルホスフィン）パラジウム０． ３０ ｇ、沃化第一銅
０．１０ｇおよびｎ−プチルアミン０．７６ｇを順次加
えた。この混合液にビニルブロミド５．６ｇを速やかに
加え、窒素雰囲気下室温にて一夜攪拌し、希塩酸に注加
した。ベンゼン層を分取し、水層よりさらにベンゼン抽
出した。ベンゼン層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留
去して得た残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーに
て処理し（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２ ：
ｌ） 、目的とする（ＲＳ）４−オキソー２−メチル，
３− （ペンター４一エンー２−イニル）−２−シクロ
ペンテニルアセタート０．６１ｇを得た。
， ＣＨＣＩ３）Ｈ − Ｎ Ｍ Ｒ （ＣＤＣＩａ
中、ＴＭＳ内部標準）δ値（ｐｐｍ） ２． １５ 〜
２． ３８（ｍ． ４Ｈ）２． ６５ 〜２． ９３（
ｍ， ２１｛） ３． ２０（ｓ， ２Ｈ）４．７０（
ｍ，ＩＨ） ５．２６〜５，７３（ｍ，３｝１）製造
例２ （ＲＳ）−４−オキソー２−メチル−３−プルパルギル
−２−シクロペンテニル アセター１− １．０ｇを
ベンゼン２０ｍ ｌに溶解し、テトラキス（トリフエニ
ルホスフィン）パラジウム０． ３０ ｇ、沃化第一銅
０．１０ｇおよびｎ−プチルアミン０．７６ｇを順次加
えた。この混合液にビニルブロミド５．６ｇを速やかに
加え、窒素雰囲気下室温にて一夜攪拌し、希塩酸に注加
した。ベンゼン層を分取し、水層よりさらにベンゼン抽
出した。ベンゼン層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留
去して得た残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーに
て処理し（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２ ：
ｌ） 、目的とする（ＲＳ）４−オキソー２−メチル，
３− （ペンター４一エンー２−イニル）−２−シクロ
ペンテニルアセタート０．６１ｇを得た。
ｎＤ工４・● ｌ．５２２９
Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣＩ，中、ＴＭＳ内部標準）δ値（
ｐｐｍ） ２．０５ 〜２．４５（ｍ，７Ｈ） ２．８
８（ｄｄ，ＩＨ）３．２６（ｓ，２ｔ｛） ５．３０
〜５．７０（ｍ，４｝１）参考例２ 製造例ｌで得た（ＲＳ）−４−オキソー２＝メチル−３
−（ペンター４−エンー２−イニル）一２−シクロペン
テニル アセタート０． ５０ ｇをメタノール５０ｍ
１に溶解し、炭酸カリウム３０ｍｇを加え、室温で２時
間攪拌した。次いで減圧下に溶媒を留去し、残渣をジク
ロロメタンに溶解して飽和食塩水で２回先浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して目的
とする（ＲＳ）−２−メチル−３−（ペンター４−エン
ー２−イニル）シクロペンタ−２−エン−４−オン−１
−オール０．３８ｇを得た。
ｐｐｍ） ２．０５ 〜２．４５（ｍ，７Ｈ） ２．８
８（ｄｄ，ＩＨ）３．２６（ｓ，２ｔ｛） ５．３０
〜５．７０（ｍ，４｝１）参考例２ 製造例ｌで得た（ＲＳ）−４−オキソー２＝メチル−３
−（ペンター４−エンー２−イニル）一２−シクロペン
テニル アセタート０． ５０ ｇをメタノール５０ｍ
１に溶解し、炭酸カリウム３０ｍｇを加え、室温で２時
間攪拌した。次いで減圧下に溶媒を留去し、残渣をジク
ロロメタンに溶解して飽和食塩水で２回先浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して目的
とする（ＲＳ）−２−メチル−３−（ペンター４−エン
ー２−イニル）シクロペンタ−２−エン−４−オン−１
−オール０．３８ｇを得た。
ｎ ． ２１・’ １． ５５８１
Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣＩ，中、ＴＭＳ内部標準）δ値（
ｐｐｍ） ２． １５ 〜２． ３８（ｍ． ４Ｈ）２
． ６５ 〜２． ９３（ｍ， ２Ｈ） ３． ２０（
ｓ， ２Ｈ）４．７０（ｍ，ＩＨ） ５．２６ 〜５
．７３（ｍ，３Ｈ）〈発明の効果〉 本発明方法により、一般式（ＩＩ）で示されるシクロペ
ンテノロン誘導体が容易に製造できる。
ｐｐｍ） ２． １５ 〜２． ３８（ｍ． ４Ｈ）２
． ６５ 〜２． ９３（ｍ， ２Ｈ） ３． ２０（
ｓ， ２Ｈ）４．７０（ｍ，ＩＨ） ５．２６ 〜５
．７３（ｍ，３Ｈ）〈発明の効果〉 本発明方法により、一般式（ＩＩ）で示されるシクロペ
ンテノロン誘導体が容易に製造できる。
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは有機残基を表す。〕 で示されるプロパルギルシクロペンテノロン誘導体とビ
ニルハライドとを、パラジウム系触媒、銅系触媒および
アルキルアミンの存在下に反応させることを特徴とする
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは有機残基を表す。〕 で示されるシクロペンテノロン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1147518A JPH0314541A (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | シクロペンテノロン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1147518A JPH0314541A (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | シクロペンテノロン誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0314541A true JPH0314541A (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=15432147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1147518A Pending JPH0314541A (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | シクロペンテノロン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0314541A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225605A (en) * | 1991-07-01 | 1993-07-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing pyrethrolone and its intermediate compound |
-
1989
- 1989-06-09 JP JP1147518A patent/JPH0314541A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225605A (en) * | 1991-07-01 | 1993-07-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing pyrethrolone and its intermediate compound |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2618220B2 (ja) | 殺虫剤製造用中間体の製造方法 | |
| JPH0314541A (ja) | シクロペンテノロン誘導体の製造法 | |
| JP2587272B2 (ja) | ３ｚ，６ｚ，８ｅ‐ドデカトリエノールの製造方法並びにこの製造方法において使用する中間体及びこれら中間体の製造方法 | |
| JPWO2010100990A1 (ja) | グリニャール反応を利用した求核付加体の製造方法及び求核付加反応剤 | |
| JP4940429B2 (ja) | トリアリールエチルエテン誘導体の製造方法 | |
| JP2003081979A (ja) | 有機金属化合物の新規調製法 | |
| JPH0321549B2 (ja) | ||
| JPS60218349A (ja) | ベンズアルデヒド類の製造法 | |
| JP4420386B2 (ja) | カルボニル化合物の製造方法 | |
| JP2653138B2 (ja) | ハロアリルフランカルビノール類およびその製法 | |
| JPS6118539B2 (ja) | ||
| JP4104402B2 (ja) | アリル化合物の製造方法 | |
| JPH03170450A (ja) | アルキニルケトン誘導体の製法 | |
| JPH07267968A (ja) | （ｚ）−３−メチル−２−シクロペンタデセン−１−オンの製造法 | |
| JPH059148A (ja) | ピレスロロンおよびその製造中間体の製造法 | |
| JP4243397B2 (ja) | 新規な不飽和２級アルコールおよびその製造法 | |
| JPH0386840A (ja) | α，β―不飽和カルボニル化合物の製造方法 | |
| JPH0662481B2 (ja) | Ｅ，ｚ−９−アルケニル−１−アルデヒドの製造方法 | |
| JP2011213624A (ja) | インダノン誘導体の製造方法 | |
| JP2003238474A (ja) | シクロアルカノンの製造方法 | |
| JPS5936627A (ja) | イソブチルベンゼンの製造法 | |
| JPS63156754A (ja) | ４−オキソ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法 | |
| GB2351735A (en) | Synthesis of (r)-1-(3,5-bis(trifluoromethyl)-phenyl)ethan-1-ol by asymmetric hydrogenation | |
| JPH0539236A (ja) | アルコール類の製造方法 | |
| JPS6143335B2 (ja) |