JPH03142732A - 光磁気記録用媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録用媒体の製造方法Info
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- JPH03142732A JPH03142732A JP27852189A JP27852189A JPH03142732A JP H03142732 A JPH03142732 A JP H03142732A JP 27852189 A JP27852189 A JP 27852189A JP 27852189 A JP27852189 A JP 27852189A JP H03142732 A JPH03142732 A JP H03142732A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要］
交換結合をした２Ｎの磁性層を有する光磁気記録用媒体
の製造方法の改良に関し、 均質なターゲットを使用し、しかも、同一のターゲット
を使用して記録層と読み出し廣とを形成することによっ
て、低い製造コストをもって、組成の面内分布が均一で
ある光磁気記録用媒体を製造する方法を提供することを
目的とし、スパッタ法を使用して、基板上に、読み出し
層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合金の膜と記
録層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合金の膜と
を形成してなす光磁気記録用媒体の製造方法において、
希土類元素の第１のターゲットと少なく占も１種の遷移
金属を含む第２のターゲットとを使用し、第１のターゲ
ットと第２のターゲットとに対するスパッタ条件を各々
制御しながら、前記記録１１ （３）と前記読み出しＮ
（２）とを形成する工程を含む光磁気記録用媒体の製造
方法をもって構成される。
の製造方法の改良に関し、 均質なターゲットを使用し、しかも、同一のターゲット
を使用して記録層と読み出し廣とを形成することによっ
て、低い製造コストをもって、組成の面内分布が均一で
ある光磁気記録用媒体を製造する方法を提供することを
目的とし、スパッタ法を使用して、基板上に、読み出し
層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合金の膜と記
録層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合金の膜と
を形成してなす光磁気記録用媒体の製造方法において、
希土類元素の第１のターゲットと少なく占も１種の遷移
金属を含む第２のターゲットとを使用し、第１のターゲ
ットと第２のターゲットとに対するスパッタ条件を各々
制御しながら、前記記録１１ （３）と前記読み出しＮ
（２）とを形成する工程を含む光磁気記録用媒体の製造
方法をもって構成される。
本発明は、交換結合をした２Ｎの磁性層を有する光磁気
記録用媒体の製造方法の改良に関する。
記録用媒体の製造方法の改良に関する。
（従来の技術〕
光磁気記録用媒体として、従来希土類元素と遷移金属と
の非晶質合金よりなる磁性膜が使用されているが、読み
出し特性が十分でないため、いくつかの改良提案がなさ
れている。その１つに、記録層と読み出し層とを交換結
合した２層構造の磁性膜を有する光磁気記録用媒体があ
る。
の非晶質合金よりなる磁性膜が使用されているが、読み
出し特性が十分でないため、いくつかの改良提案がなさ
れている。その１つに、記録層と読み出し層とを交換結
合した２層構造の磁性膜を有する光磁気記録用媒体があ
る。
この２層構造の磁性膜を有する光磁気記録用媒体に形成
される記録層には、キュリー温度が低くて小さなレーザ
パワーで記録でき、しかも、保磁力の大きなテルビウム
鉄（ＴｂＦｅ）、テルビウム鉄コバルト（ＴｂＦｅＣｏ
）、ジスプロシウム鉄（ＤｙＦｅ）、ジスプロシウム鉄
コバルト（ＤｙＦｅＣｏ）等が使用され、読み出し層に
は、キュリー温度が高く、カー回転角の大きい、ガドリ
ニウム鉄（ＧｄＦｅ）、ガドリニウム鉄コバル） （Ｇ
ｄＦｅＣｏ）等が使用されている。
される記録層には、キュリー温度が低くて小さなレーザ
パワーで記録でき、しかも、保磁力の大きなテルビウム
鉄（ＴｂＦｅ）、テルビウム鉄コバルト（ＴｂＦｅＣｏ
）、ジスプロシウム鉄（ＤｙＦｅ）、ジスプロシウム鉄
コバルト（ＤｙＦｅＣｏ）等が使用され、読み出し層に
は、キュリー温度が高く、カー回転角の大きい、ガドリ
ニウム鉄（ＧｄＦｅ）、ガドリニウム鉄コバル） （Ｇ
ｄＦｅＣｏ）等が使用されている。
〔発明が解決しようとするａｌｌ！Ｉ）スパッタ法を使
用して、交換結合する記録層と読み出し層とを形成する
時に、ターゲットとしては、希土類元素と遷移金属との
合金が使用されているが、希土類元素と遷移金属とでは
融点等が異なるため、ｌ＆ＩＩ戒の均一なターゲットを
製造することは困難である。それに加えて、希土類元素
と遷移金属とではスパッタレートや原子の飛び出し方に
差があるため、所望のＡｌ１或の膜を、Ａｌ１戒の面内
分布が均一になるようにスパッタ形成することは困難で
ある。また、記録層と読み出し層とを構成する元素が同
一でないため、記録層と読み出し層との形成に、それぞ
れ異なるターゲットを使用しなければならないので、製
造コスト面でも不利益となっている。
用して、交換結合する記録層と読み出し層とを形成する
時に、ターゲットとしては、希土類元素と遷移金属との
合金が使用されているが、希土類元素と遷移金属とでは
融点等が異なるため、ｌ＆ＩＩ戒の均一なターゲットを
製造することは困難である。それに加えて、希土類元素
と遷移金属とではスパッタレートや原子の飛び出し方に
差があるため、所望のＡｌ１或の膜を、Ａｌ１戒の面内
分布が均一になるようにスパッタ形成することは困難で
ある。また、記録層と読み出し層とを構成する元素が同
一でないため、記録層と読み出し層との形成に、それぞ
れ異なるターゲットを使用しなければならないので、製
造コスト面でも不利益となっている。
本発明の目的は、これらの欠点を解消することにあり、
均質なターゲットを使用し、しかも、同一のターゲット
を使用して記録層と読み出し層とを形成することによっ
て、低い製造コストをもって、組成の面内分布が均一で
ある光磁気記録用媒体を製造する方法を提供することに
ある。
均質なターゲットを使用し、しかも、同一のターゲット
を使用して記録層と読み出し層とを形成することによっ
て、低い製造コストをもって、組成の面内分布が均一で
ある光磁気記録用媒体を製造する方法を提供することに
ある。
上記の目的は、スパッタ法を使用して、基板（１）上に
、読み出し層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合
金の膜（２）と記録層をなす希土類元素と遷移金属との
非晶質合金の膜（３）とを形成してなす光磁気記録用媒
体の製造方法において、希土類元素の第１のターゲット
と少なくとも１種の遷移金属を含む第２のターゲットと
を使用し、第１のターゲットと第２のターゲットとに対
するスパッタ条件を各々制御しながら、前記の記録層（
３）と前記の読み出し層（２）とを形成する工程を含む
光磁気記録用媒体の製造方法によって達成される。
、読み出し層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合
金の膜（２）と記録層をなす希土類元素と遷移金属との
非晶質合金の膜（３）とを形成してなす光磁気記録用媒
体の製造方法において、希土類元素の第１のターゲット
と少なくとも１種の遷移金属を含む第２のターゲットと
を使用し、第１のターゲットと第２のターゲットとに対
するスパッタ条件を各々制御しながら、前記の記録層（
３）と前記の読み出し層（２）とを形成する工程を含む
光磁気記録用媒体の製造方法によって達成される。
希土類元素と遷移金属との非晶質合金は、希土類元素と
遷移金属との！ｌｌ或比を変えることによって、その磁
気特性を大きく変化させることができる。また、スパッ
タレートは、スパッタ投入電力やガス圧を変えることに
よって変えることができる。第３図に、希土類元素であ
るテルビウム（Ｔｂ）及び遷移金属である鉄９０％とコ
バルト１０％との合金（Ｆｅ９０ＣｏｌＯ）のスパッタ
投入電力とスパッタレートとの関係を示す。
遷移金属との！ｌｌ或比を変えることによって、その磁
気特性を大きく変化させることができる。また、スパッ
タレートは、スパッタ投入電力やガス圧を変えることに
よって変えることができる。第３図に、希土類元素であ
るテルビウム（Ｔｂ）及び遷移金属である鉄９０％とコ
バルト１０％との合金（Ｆｅ９０ＣｏｌＯ）のスパッタ
投入電力とスパッタレートとの関係を示す。
本発明に係る光磁気記録用媒体の製造方法においては、
上記の自然法則を利用し、希土類元素よりなるターゲッ
トと遷移金属より゛なるターゲットとを使用し、それぞ
れのターゲットに投入するスパッタ投入電力を制御する
ことによって、堆積する希土類元素と遷移金属との非晶
質合金の組成を変化させ、記録層に適した磁気特性を有
する膜と読み出し層に適した磁気特性を有する膜とを、
同一のターゲットを使用して形成することを可能にした
。
上記の自然法則を利用し、希土類元素よりなるターゲッ
トと遷移金属より゛なるターゲットとを使用し、それぞ
れのターゲットに投入するスパッタ投入電力を制御する
ことによって、堆積する希土類元素と遷移金属との非晶
質合金の組成を変化させ、記録層に適した磁気特性を有
する膜と読み出し層に適した磁気特性を有する膜とを、
同一のターゲットを使用して形成することを可能にした
。
以下、図面を参照しつ＼、本発明の二つの実施例に係る
光磁気記録用媒体の製造方法について説明する。
光磁気記録用媒体の製造方法について説明する。
五上旌
第１図、第２図参照
第１図は光磁気ディスクの側面図であり、第２図はスパ
ッタ装置の構成図である。４は真空容器であり、５はガ
ス供給口であり、６はガス排出口であり、７は回転可能
な基板支持台であり、８及び９はターゲットであり、１
０及び１１はスパッタ電源である。
ッタ装置の構成図である。４は真空容器であり、５はガ
ス供給口であり、６はガス排出口であり、７は回転可能
な基板支持台であり、８及び９はターゲットであり、１
０及び１１はスパッタ電源である。
基板支持台７上にプラスチック、ガラス等の基板１を載
置し、保護層１２を形成する。
置し、保護層１２を形成する。
次に、ガス供給口５からアルゴンガスを供給して、真空
容器４内のアルゴンガス圧を０．２ Ｐ ａ程度に保持
する。ターゲット８にはテルビウム（Ｔｂ）を使用し、
ターゲット９には鉄９０％とコバルト１０％との合金（
Ｆｅ９０ＣｏｌＯ）を使用する。
容器４内のアルゴンガス圧を０．２ Ｐ ａ程度に保持
する。ターゲット８にはテルビウム（Ｔｂ）を使用し、
ターゲット９には鉄９０％とコバルト１０％との合金（
Ｆｅ９０ＣｏｌＯ）を使用する。
ターゲット８にスパッタ電源１０を使用して５０Ｗの電
力を投入し、ターゲット９にスパッタ電源１１を使用し
てＩＫＷの電力を投入してスパッタをなし、基板ｌ上に
形成されている保護層１２の上に、読み出し用の非晶質
合金膜（Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９）２を５０〜１００關
厚に形成する。
力を投入し、ターゲット９にスパッタ電源１１を使用し
てＩＫＷの電力を投入してスパッタをなし、基板ｌ上に
形成されている保護層１２の上に、読み出し用の非晶質
合金膜（Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９）２を５０〜１００關
厚に形成する。
次に、ターゲット８にスパッタ電源ｌＯを使用して０．
ＩＫＷの電力を投入し、ターゲット９にスパッタ電源１
１を使用してＩＫＷの電力を投入してスパッタをなし、
読み出し用の非晶質合金膜（Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９）
２の上に記録層用の非晶質合金膜（Ｔｂ２４Ｆｅ６８Ｃ
ｏ８）３を５０〜１０１００ｎ厚に形成し、さらに、保
護層１３を形成して光磁気ディスクを完成する。
ＩＫＷの電力を投入し、ターゲット９にスパッタ電源１
１を使用してＩＫＷの電力を投入してスパッタをなし、
読み出し用の非晶質合金膜（Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９）
２の上に記録層用の非晶質合金膜（Ｔｂ２４Ｆｅ６８Ｃ
ｏ８）３を５０〜１０１００ｎ厚に形成し、さらに、保
護層１３を形成して光磁気ディスクを完成する。
性能測定の結果、記録層の保磁力は１０ＫＯｅであり、
キュリー温度は２００℃であり、記録層として最適な特
性を有することが確認された。また、読み出し層のカー
回転角は０．５度であり、キュリー温度は２８０℃であ
り、高温においても大きなカー回転角を保持することが
確認された。
キュリー温度は２００℃であり、記録層として最適な特
性を有することが確認された。また、読み出し層のカー
回転角は０．５度であり、キュリー温度は２８０℃であ
り、高温においても大きなカー回転角を保持することが
確認された。
希土類元素よりなるターゲットと遷移金属よりなるター
ゲットとの二つの均質なターゲットを使用し、それぞれ
独立にスパッタレートを制御することにより、ディスク
の半径方向における組成のばらつきをなくすことができ
、特性のばらつきのない均質な光磁気ディスクを製造す
ることができた。
ゲットとの二つの均質なターゲットを使用し、それぞれ
独立にスパッタレートを制御することにより、ディスク
の半径方向における組成のばらつきをなくすことができ
、特性のばらつきのない均質な光磁気ディスクを製造す
ることができた。
蔦じｂ殊
第１図、第２図再参照
第１例に使用したスパッタ装置と同一のスパッタ装置を
使用し、ターゲット８には、テルビウム９０％と鉄１０
％との合金（Ｔｂ９０ＦｅｌＯ）を使用し、ターゲット
９には、鉄９０％とコバルト１０％との合金（Ｆｅ９０
ＣｏｌＯ）を使用する。
使用し、ターゲット８には、テルビウム９０％と鉄１０
％との合金（Ｔｂ９０ＦｅｌＯ）を使用し、ターゲット
９には、鉄９０％とコバルト１０％との合金（Ｆｅ９０
ＣｏｌＯ）を使用する。
まず、基板１上に保護層１２を形成した後、ターゲット
８にスパッタ電源ｌＯを使用して５０Ｗの電力を投入し
、ターゲット９にスパッタ電源１１を使用してＩＫＷの
電力を投入してスパッタをなし、保護層１２上に、読み
出し用の非晶質合金膜（Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９）２を
５０〜１００ｎａ＋厚に形成する。
８にスパッタ電源ｌＯを使用して５０Ｗの電力を投入し
、ターゲット９にスパッタ電源１１を使用してＩＫＷの
電力を投入してスパッタをなし、保護層１２上に、読み
出し用の非晶質合金膜（Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９）２を
５０〜１００ｎａ＋厚に形成する。
次に、スパッタ電源１０を使用してターゲット８に０．
ＩＫＷの電力を投入し、スパッタ電源１１を使用してタ
ーゲット９にＩＫＷの電力を投入してスパッタをなし、
読み出し用の非晶質合金膜（Ｔｂ１５Ｆａ７６Ｃｏ９）
２上に記録層用非晶質合金膜（Ｔｂ２４Ｆｅ６８Ｃｏ８
）３を５０〜１００口■厚に形成する。
ＩＫＷの電力を投入し、スパッタ電源１１を使用してタ
ーゲット９にＩＫＷの電力を投入してスパッタをなし、
読み出し用の非晶質合金膜（Ｔｂ１５Ｆａ７６Ｃｏ９）
２上に記録層用非晶質合金膜（Ｔｂ２４Ｆｅ６８Ｃｏ８
）３を５０〜１００口■厚に形成する。
さらに、保護層１３を形成して、光磁気ディスクを完成
する。
する。
性能測定の結果、記録層の保持力は１０ＫＯｅであり、
キュリー温度は２００℃であり、記録層として最適な特
性を有することが確認された。また、読み出し層のカー
回転角は０．５度であり、キュリー温度は２８０℃であ
り、高温においても大きなカー回転角を保持することが
確認された。
キュリー温度は２００℃であり、記録層として最適な特
性を有することが確認された。また、読み出し層のカー
回転角は０．５度であり、キュリー温度は２８０℃であ
り、高温においても大きなカー回転角を保持することが
確認された。
（発明の効果〕
以上説明せるとおり、本発明に係る光磁気記録用媒体の
製造方法においては、均質に形成することが容易な希土
類元素よりなるターゲットと少なくとも１種の遷移金属
よりなるターゲットとを使用し、それぞれのターゲット
に投入するスパッタ投入電力を制御することによって、
それぞれのターゲットのスパッタレートを精密に制御し
て、記録層用の非晶質合金の膜と読み出し用の非晶質合
金の膜とを基板上に形成するので、同一のターゲットを
使用して読み出し層と記録層とを形成することができ、
低い製造コストをもって、所望の＆ｌ或を有し、組成の
面内分布が均一である光磁気記録用媒体を製造すること
ができる。
製造方法においては、均質に形成することが容易な希土
類元素よりなるターゲットと少なくとも１種の遷移金属
よりなるターゲットとを使用し、それぞれのターゲット
に投入するスパッタ投入電力を制御することによって、
それぞれのターゲットのスパッタレートを精密に制御し
て、記録層用の非晶質合金の膜と読み出し用の非晶質合
金の膜とを基板上に形成するので、同一のターゲットを
使用して読み出し層と記録層とを形成することができ、
低い製造コストをもって、所望の＆ｌ或を有し、組成の
面内分布が均一である光磁気記録用媒体を製造すること
ができる。
第１図は、光磁気ディスクの側面図である。
第２図は、スパッタ製置の構成国である。
第３図は、スパッタレートの投入電力依存性を示すグラ
フである。 １・・・基板、 １２・１３・・・保護層、 ２・・・読み出し層、 ３・・・記録層、 ４・・・真空容器、 ５・・・ガス供給口、 ６・・・ガス排出口、 ７・・・基板支持台、 ８．９・ ・ ・ターゲット、 １０．１１・・・スバシタ電源。
フである。 １・・・基板、 １２・１３・・・保護層、 ２・・・読み出し層、 ３・・・記録層、 ４・・・真空容器、 ５・・・ガス供給口、 ６・・・ガス排出口、 ７・・・基板支持台、 ８．９・ ・ ・ターゲット、 １０．１１・・・スバシタ電源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 スパッタ法を使用して、基板（１）上に、読み出し層を
なす希土類元素と遷移金属との非晶質合金の膜（２）と
記録層をなす希土類元素と遷移金属との非晶質合金の膜
（３）とを形成してなす光磁気記録用媒体の製造方法に
おいて、 希土類元素の第１のターゲットと少なくとも１種の遷移
金属を含む第２のターゲットとを使用し、前記第１のタ
ーゲットと第２のターゲットとに対するスパッタ条件を
各々制御しながら、前記記録層（３）と前記読み出し層
（２）とを形成する工程を含む ことを特徴とする光磁気記録用媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27852189A JPH03142732A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 光磁気記録用媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27852189A JPH03142732A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 光磁気記録用媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03142732A true JPH03142732A (ja) | 1991-06-18 |
Family
ID=17598443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27852189A Pending JPH03142732A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 光磁気記録用媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03142732A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1484759A1 (en) * | 2002-03-14 | 2004-12-08 | Sony Corporation | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
-
1989
- 1989-10-27 JP JP27852189A patent/JPH03142732A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1484759A1 (en) * | 2002-03-14 | 2004-12-08 | Sony Corporation | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
| EP1484759A4 (en) * | 2002-03-14 | 2008-07-23 | Sony Corp | MAGNETO-OPTICAL RECORDING MEDIUM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
| US7517436B2 (en) | 2002-03-14 | 2009-04-14 | Sony Corporation | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
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