JPH03136208A - 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 - Google Patents
電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法Info
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- JPH03136208A JPH03136208A JP1274153A JP27415389A JPH03136208A JP H03136208 A JPH03136208 A JP H03136208A JP 1274153 A JP1274153 A JP 1274153A JP 27415389 A JP27415389 A JP 27415389A JP H03136208 A JPH03136208 A JP H03136208A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電気機器、電子機器で発生する異常高電圧、ノ
イズ、静電気などから機器の半導体及び回路を保護する
ためのコンデンサ特性とバリスタ特性を有する電圧依存
性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法に
関するものである。
イズ、静電気などから機器の半導体及び回路を保護する
ためのコンデンサ特性とバリスタ特性を有する電圧依存
性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法に
関するものである。
従来の技術
従来、各種の電気機器、電子機器における異常高電圧の
吸収、ノイズの除去、火花消去、静電気対策のために電
圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタや、Z
nO系バリスタなどが使用されている。このようなバリ
スタの電圧−電流特性は近似的に次式のように表すこと
ができる。
吸収、ノイズの除去、火花消去、静電気対策のために電
圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタや、Z
nO系バリスタなどが使用されている。このようなバリ
スタの電圧−電流特性は近似的に次式のように表すこと
ができる。
I = (V/C)α
ここで、■は電流、■は電圧、Cはバリスタ固有の定数
2 αは電圧−電流非直線指数である。
2 αは電圧−電流非直線指数である。
SiCバリスタのαは2〜7程度、zrio系バリスタ
ではαが50にもおよぶものがある。このようなバリス
タは比較的高い電圧の吸収には優れた性能を有している
が、誘電率が低く、固有の静電容量が小さいため、バリ
スタ電圧以下の比較的低い電圧の吸収にはほとんど効果
を示さず、また誘電損失tanδが5〜10%と大きい
。
ではαが50にもおよぶものがある。このようなバリス
タは比較的高い電圧の吸収には優れた性能を有している
が、誘電率が低く、固有の静電容量が小さいため、バリ
スタ電圧以下の比較的低い電圧の吸収にはほとんど効果
を示さず、また誘電損失tanδが5〜10%と大きい
。
一方、これらの低電圧のノイズなどの除去には見かけの
誘電率が5 X 104程度で、tanδが1%前後の
半導体コンデンサが利用されている。
誘電率が5 X 104程度で、tanδが1%前後の
半導体コンデンサが利用されている。
しかし、このような半導体コンデンサはサージなどによ
りある限度以上の電圧または電流が印加されると、静電
容量が減少したり、破壊したりしてコンデンサとしての
機能を果たさなくなったりする。
りある限度以上の電圧または電流が印加されると、静電
容量が減少したり、破壊したりしてコンデンサとしての
機能を果たさなくなったりする。
そこで最近になって5rTiO+を主成分とし、バリス
タ特性とコンデンサ特性の両方の機能を有するものが開
発され、コンピュータなどの電子機器におけるIC,L
SIなどの半導体素子の保護に利用されている。
タ特性とコンデンサ特性の両方の機能を有するものが開
発され、コンピュータなどの電子機器におけるIC,L
SIなどの半導体素子の保護に利用されている。
発明が解決しようとする課題
上記のSrTiO3を主成分とするバリスタとコンデン
サの両方の機能を有する素子は、ZnO系バリスタに比
べ誘電率が約10倍と大きいが、αやサージ耐量が小さ
く、バリスタ電圧を低くすると特性が劣化しやすいとい
った欠点を有していた。
サの両方の機能を有する素子は、ZnO系バリスタに比
べ誘電率が約10倍と大きいが、αやサージ耐量が小さ
く、バリスタ電圧を低くすると特性が劣化しやすいとい
った欠点を有していた。
そこで本発明では、誘電率が大きく、バリスタ電圧が低
く、αが大きいと共にサージ耐量が大きい電圧依存性非
直線抵抗体磁器組成物を提供することを目的とするもの
である。
く、αが大きいと共にサージ耐量が大きい電圧依存性非
直線抵抗体磁器組成物を提供することを目的とするもの
である。
課題を解決するための手段
上記の問題点を解決するために本発明では、Sr+−8
B aXTiO:i(0.0O1≦x≦0.300)(
以下第1成分と呼ぶ)を90.000〜99.998m
ol%、Nb2O5,Ta2O5,WO3,D Y2O
3゜Y2O3,L a2O3,Ce 02.Smz03
.P rsoz。
B aXTiO:i(0.0O1≦x≦0.300)(
以下第1成分と呼ぶ)を90.000〜99.998m
ol%、Nb2O5,Ta2O5,WO3,D Y2O
3゜Y2O3,L a2O3,Ce 02.Smz03
.P rsoz。
Nd2O3のうち少なくとも1種類以上(以下第2成分
と呼ぶ)を0.001〜5.000mol%。
と呼ぶ)を0.001〜5.000mol%。
A 1203.S b203.B ao、B eo、P
bo。
bo。
B2O3,Cr203+ F e:!03+ Cd
O,に20.。
O,に20.。
Cab、Co20:1.Cub、Cu=O,L i20
゜L i F、MgO,MnO2,MoO31Na2O
。
゜L i F、MgO,MnO2,MoO31Na2O
。
NaF、Nip、Rh2O3,SeO2,Ag2O。
5iOz、SiC,SrO,Tl2O3,ThO2゜T
i02.V2Oり、B 1203.ZnO,Z ro
2+S n 02のうち少なくとも1種類以上(以下第
3成分と呼ぶ)を0.001〜5.000mo 1%含
有してなる主成分100のうち少なくとも1種類以上を
O360.000〜32.500mo 1%、5i02
40.000〜67.5mo 1%からなる混合物を1
200〜1300℃で焼成してなる添加物(以下第4成
分と呼ぶ)0.001〜10.000重量部とからなる
電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物を得ることにより、
問題を解決しようとするものである。
i02.V2Oり、B 1203.ZnO,Z ro
2+S n 02のうち少なくとも1種類以上(以下第
3成分と呼ぶ)を0.001〜5.000mo 1%含
有してなる主成分100のうち少なくとも1種類以上を
O360.000〜32.500mo 1%、5i02
40.000〜67.5mo 1%からなる混合物を1
200〜1300℃で焼成してなる添加物(以下第4成
分と呼ぶ)0.001〜10.000重量部とからなる
電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物を得ることにより、
問題を解決しようとするものである。
作用
上記の発明において、第1成分は主たる成分であり、S
rTiO3のSrの一部をBaで置換することにより、
粒界に形成される高抵抗層がサージに対して強くなる。
rTiO3のSrの一部をBaで置換することにより、
粒界に形成される高抵抗層がサージに対して強くなる。
第2成分は主に第1成分の半導体化を促進する金属酸化
物である。また、第3成分は誘電率、α、サージ耐量の
改善に寄与するものであり、第4成分はバリスタ電圧の
低下、誘電率の改善に有効なものである。特に、第4成
分は融点が1230〜1250℃と比較的低いため、融
点前後の温度で焼成すると液相となり、その他の成分の
反応を促進すると共に粒子の成長を促進する。そのため
粒界部分に第3成分が偏析しやすくなり、粒界が高抵抗
化されやすくなり、バリスタ機能およびコンデンサ機能
が改善される。
物である。また、第3成分は誘電率、α、サージ耐量の
改善に寄与するものであり、第4成分はバリスタ電圧の
低下、誘電率の改善に有効なものである。特に、第4成
分は融点が1230〜1250℃と比較的低いため、融
点前後の温度で焼成すると液相となり、その他の成分の
反応を促進すると共に粒子の成長を促進する。そのため
粒界部分に第3成分が偏析しやすくなり、粒界が高抵抗
化されやすくなり、バリスタ機能およびコンデンサ機能
が改善される。
また、粒成長が促進されるためバリスタ電圧が低くなり
、粒径の均一性が向上するため特性の安定性がよくなり
、とくにサージ耐量が改善される。
、粒径の均一性が向上するため特性の安定性がよくなり
、とくにサージ耐量が改善される。
実施例
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
まず、BaTiO3,SiO2を下記の第1表に示すよ
うに組成比を種々変えて秤量し、ボールミルなどで20
Hr混合する。次に、これを乾燥した後、下記の第1表
に示すように温度を種々変えて焼成し、再びボールミル
などで20Hr粉砕した後、乾燥し第4成分とする。次
に、第1成分。
うに組成比を種々変えて秤量し、ボールミルなどで20
Hr混合する。次に、これを乾燥した後、下記の第1表
に示すように温度を種々変えて焼成し、再びボールミル
などで20Hr粉砕した後、乾燥し第4成分とする。次
に、第1成分。
第2成分、第3成分、第4成分を下記の第1表に示した
組成比になるように秤量し、ボールミルなどで24Hr
混合した後、乾燥し、ポリビニルアルコールなどの有機
バインダーをl Q w t%添加して造粒した後、1
(t/a/)のプレス圧力で10φxl’(mm)の
円板状に成形し、1000℃で10Hr焼成し、脱バイ
ンダーする。次いで、第1表に示したように温度と時間
を種々変えて焼成(第1焼成)し、その後還元性雰囲気
、例えばN二:H:=9・1のガス中で温度と時間を種
々変えて焼成(第2焼成)する。さらにその後、、還元
性雰囲気中で温度と時間を種々変えて焼成(第3焼成)
する。
組成比になるように秤量し、ボールミルなどで24Hr
混合した後、乾燥し、ポリビニルアルコールなどの有機
バインダーをl Q w t%添加して造粒した後、1
(t/a/)のプレス圧力で10φxl’(mm)の
円板状に成形し、1000℃で10Hr焼成し、脱バイ
ンダーする。次いで、第1表に示したように温度と時間
を種々変えて焼成(第1焼成)し、その後還元性雰囲気
、例えばN二:H:=9・1のガス中で温度と時間を種
々変えて焼成(第2焼成)する。さらにその後、、還元
性雰囲気中で温度と時間を種々変えて焼成(第3焼成)
する。
こうして得られた第1図、第2図に示す焼結体1の両年
面に外周を残すようにしてAgなどの導電性ペーストを
スクリーン印刷などにより塗布し、600℃、5m1n
で焼成し、電極2,3を形成する。次に、半田などによ
りリード線を取付け、エポキシなどの樹脂を塗装する。
面に外周を残すようにしてAgなどの導電性ペーストを
スクリーン印刷などにより塗布し、600℃、5m1n
で焼成し、電極2,3を形成する。次に、半田などによ
りリード線を取付け、エポキシなどの樹脂を塗装する。
このようにして得られた素子の特性を下記の第2表に示
す。
す。
なお、誘電率はIKHzでの静電容量から計算したもの
であり、αは α=1/Log (V10111A/VIIIIA)(
ただし、v、m、、 VIOffiAは1mA、10
mAの電流を流した時に素子の両端にかかる電圧である
。)で評価した。また、サージ耐量はパルス性の電流を
印加した後のVlmAの変化率が±10%以内であると
きの最大のパルス性電流値により評価した。
であり、αは α=1/Log (V10111A/VIIIIA)(
ただし、v、m、、 VIOffiAは1mA、10
mAの電流を流した時に素子の両端にかかる電圧である
。)で評価した。また、サージ耐量はパルス性の電流を
印加した後のVlmAの変化率が±10%以内であると
きの最大のパルス性電流値により評価した。
また、第1成分のS r + −x B a x T
I O3のXの範囲を規定したのは、XがO,OO1よ
りも小さいと効果を示さず、0.300を超えると格子
欠陥が発生しにくくなるため半導体化が促進されず、粒
界にBaが単一相として析出するため、組織が不均一に
なり、V+、、nAが高くなりすぎて特性が劣化するた
めである。さらに、第2成分は0.001mol%未満
では効果を示さず、5.000mol%を超えると粒界
に偏析して粒界の高抵抗化を抑制し、粒界に第2相を形
成するため特性が劣化するものである。また、第3成分
は0.001mol%未満では効果を示さず、5.00
0mol%を超えると粒界に偏析して第2相を形成する
ため特性が劣化するものである。また、第4成分はBa
TiO3とSiO2の2成分系の相図のなかで最も融点
の低い領域の物質であり、その範囲外では融点が高くな
るためである。また、第4成分の添加量は、0、001
重量部未満では効果を示さず、10.000重量部を超
えると粒界の抵抗は高くなるが粒界の幅が厚くなるため
、静電容量が小さくなると共にvl、nAが高くなり、
サージに対して弱くなるものである。また、第4成分の
焼成温度を規定したのは、低融点の第4成分が合成され
る温度が1200℃以上であるためである。そして、第
1焼成の温度を規定したのは、第4成分の融点が123
0〜1250℃であるため1200℃以上の温度で焼成
すると第4成分が液相に近い状態になって焼結が促進さ
れるためであり1200℃未満では第4成分の液相焼結
効果がないためである。また、第2焼成の温度を規定し
たのは、1200℃未満では第1焼成後の焼結体が十分
に還元されず、バリスタ特性、コンデンサ特性共に劣化
するためである。さらに、第3焼成の温度を規定したの
は、900℃未満では粒界の高抵抗化が十分に進まない
ため、vl、、、Aが低くなりすぎバリスタ特性が劣化
するためであり、1300℃を超えると静電容量が小さ
くなりすぎコンデンサ特性が劣化するためである。また
、第1焼成の雰囲気は、還元性雰囲気でも還元性雰囲気
でも同様の効果があることを確認した。また、本実施例
では添加物の組み合わせについては、第1成分としてS
r 、−、B a。
I O3のXの範囲を規定したのは、XがO,OO1よ
りも小さいと効果を示さず、0.300を超えると格子
欠陥が発生しにくくなるため半導体化が促進されず、粒
界にBaが単一相として析出するため、組織が不均一に
なり、V+、、nAが高くなりすぎて特性が劣化するた
めである。さらに、第2成分は0.001mol%未満
では効果を示さず、5.000mol%を超えると粒界
に偏析して粒界の高抵抗化を抑制し、粒界に第2相を形
成するため特性が劣化するものである。また、第3成分
は0.001mol%未満では効果を示さず、5.00
0mol%を超えると粒界に偏析して第2相を形成する
ため特性が劣化するものである。また、第4成分はBa
TiO3とSiO2の2成分系の相図のなかで最も融点
の低い領域の物質であり、その範囲外では融点が高くな
るためである。また、第4成分の添加量は、0、001
重量部未満では効果を示さず、10.000重量部を超
えると粒界の抵抗は高くなるが粒界の幅が厚くなるため
、静電容量が小さくなると共にvl、nAが高くなり、
サージに対して弱くなるものである。また、第4成分の
焼成温度を規定したのは、低融点の第4成分が合成され
る温度が1200℃以上であるためである。そして、第
1焼成の温度を規定したのは、第4成分の融点が123
0〜1250℃であるため1200℃以上の温度で焼成
すると第4成分が液相に近い状態になって焼結が促進さ
れるためであり1200℃未満では第4成分の液相焼結
効果がないためである。また、第2焼成の温度を規定し
たのは、1200℃未満では第1焼成後の焼結体が十分
に還元されず、バリスタ特性、コンデンサ特性共に劣化
するためである。さらに、第3焼成の温度を規定したの
は、900℃未満では粒界の高抵抗化が十分に進まない
ため、vl、、、Aが低くなりすぎバリスタ特性が劣化
するためであり、1300℃を超えると静電容量が小さ
くなりすぎコンデンサ特性が劣化するためである。また
、第1焼成の雰囲気は、還元性雰囲気でも還元性雰囲気
でも同様の効果があることを確認した。また、本実施例
では添加物の組み合わせについては、第1成分としてS
r 、−、B a。
Ti03(0.001≦x≦0.300)、第2成分と
してNbzOs、Ta2O5,WO3,Dy2O3゜Y
203. L a203. Ce O=、
S m203. P r 60z+Nb2
O3、第3成分としてA l 203. P b O
。
してNbzOs、Ta2O5,WO3,Dy2O3゜Y
203. L a203. Ce O=、
S m203. P r 60z+Nb2
O3、第3成分としてA l 203. P b O
。
Cr203.F e=03.CdO,に20.CO2O
3゜Cub、Cu2O,Li2O,MgO,MnO2゜
MoO2,Nip、5ea2.Ag2O,S iC。
3゜Cub、Cu2O,Li2O,MgO,MnO2゜
MoO2,Nip、5ea2.Ag2O,S iC。
T I2O3,Z r O2、第4成分としてBaTi
0:+。
0:+。
5i02についてのみ示したが、第3成分としてS b
203 、B a O、B e O* B 203
1 Ca O。
203 、B a O、B e O* B 203
1 Ca O。
LiF、Na2O,NaF、Rh2O3,SiO2゜S
rO,Th02.T i02.V2O5,B 120
3Z n O,S n 02を用いた組成の組み合わせ
でも同様の効果が得られることを確認した。
rO,Th02.T i02.V2O5,B 120
3Z n O,S n 02を用いた組成の組み合わせ
でも同様の効果が得られることを確認した。
発明の効果
以上に示したように本発明によれば、第4成分による液
相焼結効果により粒子径が大きいためバリスタ電圧が低
く、誘電率εおよびαが大きく、粒子径のばらつきが小
さいためサージ電流が素子に均一に流れ、またBaによ
って粒界が効果的に高抵抗化されるため一サージ耐量が
大きくなるという効果が得られる。
相焼結効果により粒子径が大きいためバリスタ電圧が低
く、誘電率εおよびαが大きく、粒子径のばらつきが小
さいためサージ電流が素子に均一に流れ、またBaによ
って粒界が効果的に高抵抗化されるため一サージ耐量が
大きくなるという効果が得られる。
第1図は本発明による素子を示す上面図、第2図は本発
明による素子を示す断面図である。 1・・・・・・焼結体、2.3・・・・・・電極。
明による素子を示す断面図である。 1・・・・・・焼結体、2.3・・・・・・電極。
Claims (3)
- (1)Sr_1_−_xBa_xTiO_3(0.00
1≦x≦0.300)を90.000〜99.998m
ol%,Nb_2O_5,Ta_2O_5,WO_3,
Dy_2O_3,Y_2O_3,La_2O_3,Ce
O_2,Sm_2O_3,Pr_6O_1_1,Nd_
2O_3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜5
.000mol%,Al_2O_3,Sb_2O_3,
BaO,BeO,PbO,B_2O_3,Cr_2O_
3,Fe_2O_3,CdO,K_2O,CaO,Co
_2O_3,CuO,Cu_2O,Li_2O,LiF
,MgO,MnO_2,MoO_3,Na_2O,Na
F,NiO,Rh_2O_3,SeO_2,Ag_2O
,SiO_2,SiC,SrO,T1_2O_3,Th
O_2,TiO_2,V_2O_5,Bi_2O_3,
ZnO,ZrO_2,SnO_2のうち少なくとも1種
類以上を0.001〜5.000mol%含有してなる
主成分100重量部と、BaTiO_360.000〜
32.500mol%,SiO_240.000〜67
.5mol%からなる混合物を1200℃以上で焼成し
てなる添加物0.001〜10.000重量部とからな
ることを特徴とする電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物
。 - (2)Sr_1_−_xBa_xTiO_3(0.00
1≦x≦0.300)を90.000〜99.998m
ol%,Nb_2O_5,Ta_2O_5,WO_3,
Dy_2O_3,Y_2O_3,La_2O_3,Ce
O_2,Sm_2O_3,Pr_6O_1_1,Nd_
2O_3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜5
.000mol%,Al_2O_3,Sb_2O_3,
BaO,BeO,PbO,B_2O_3,Cr_2O_
3,Fe_2O_3,CdO,K_2O,CaO,Co
_2O_3,CuO,Cu_2O,Li_2O,LiF
,MgO,MnO_2,MoO_3,Na_2O,Na
F,NiO,Rh_2O_3,SeO_2,Ag_2O
,SiO_2,SiC,SrO,Tl_2O_3,Th
O_2,TiO_2,V_2O_5,Bi_2O_3,
ZnO,ZrO_2,SnO_2のうち少なくとも1種
類以上を0.001〜5.000mol%含有してなる
主成分100重量部と、BaTiO_360.000〜
32.500mol%,SiO_240.000〜67
.5mol%からなる混合物を1200℃以上で焼成し
てなる添加物0.001〜10.000重量部とからな
る組成物を、1100℃以上で焼成したことを特徴とす
るバリスタの製造方法。 - (3)Sr_1_−_xBa_xTiO_3(0.00
1≦x≦0.300)を90.000〜99.998m
ol%,Nb_2O_5,Ta_2O_5,WO_3,
Dy_2O_3,Y_2O_3,La_2O_3,Ce
O_2,Sm_2O_3,Pr_6O_1_1,Nd_
2O_3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜5
.000mol%,Al_2O_3,Sb_2O_3,
BaO,BeO,PbO,B_2O_3,Cr_2O_
3,Fe_2O_3,CdO,K_2O,CaO,Co
_2O_3,CuO,Cu_2O,Li_2O,LiF
,MgO,MnO_2,MoO_3,Na_2O,Na
F,NiO,Rh_2O_3,SeO_2,Ag_2O
,SiO_2,SiC,SrO,T1_2O_3,Th
O_2,TiO_2,V_2O_5,Bi_2O_3,
ZnO,ZrO_2,SnO_2のうち少なくとも1種
類以上を0.001〜5.000mol%含有してなる
主成分100重量部と、BaTiO_360.000〜
32.500mol%,SiO_240.000〜67
.5mol%からなる混合物を1200℃以上で焼成し
てなる添加物0.001〜10.000重量部とからな
る組成物を1100℃以上で焼成した後、還元性雰囲気
中で1200℃以上で焼成し、その後酸化性雰囲気中で
900〜1300℃で焼成したことを特徴とするバリス
タの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1274153A JP2727693B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1274153A JP2727693B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03136208A true JPH03136208A (ja) | 1991-06-11 |
JP2727693B2 JP2727693B2 (ja) | 1998-03-11 |
Family
ID=17537768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1274153A Expired - Lifetime JP2727693B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2727693B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0727791A2 (en) * | 1995-02-14 | 1996-08-21 | TDK Corporation | Semiconducting ceramic composition having positive temperature coefficient of resistance and production process thereof |
SG104950A1 (en) * | 2000-11-15 | 2004-07-30 | Tdk Corp | Voltage-dependent nonlinear resistor ceramic, voltage-dependent nonlinear resistor with the ceramic, and method of manufacturing voltage-dependent nonlinear resistor ceramic |
CN100378026C (zh) * | 2005-11-21 | 2008-04-02 | 天津大学 | 低损耗高频介质陶瓷及其制备方法 |
-
1989
- 1989-10-20 JP JP1274153A patent/JP2727693B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0727791A2 (en) * | 1995-02-14 | 1996-08-21 | TDK Corporation | Semiconducting ceramic composition having positive temperature coefficient of resistance and production process thereof |
EP0727791A3 (en) * | 1995-02-14 | 1997-04-09 | Tdk Corp | Semiconducting ceramic composition with positive temperature coefficient and process for its production |
US5686367A (en) * | 1995-02-14 | 1997-11-11 | Tdk Corporation | Semiconducting ceramic composition having positive temperature coefficient of resistance and production process thereof |
SG104950A1 (en) * | 2000-11-15 | 2004-07-30 | Tdk Corp | Voltage-dependent nonlinear resistor ceramic, voltage-dependent nonlinear resistor with the ceramic, and method of manufacturing voltage-dependent nonlinear resistor ceramic |
CN100378026C (zh) * | 2005-11-21 | 2008-04-02 | 天津大学 | 低损耗高频介质陶瓷及其制备方法 |
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JP2727693B2 (ja) | 1998-03-11 |
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