JPH03133964A - ピリミジン誘導体 - Google Patents
ピリミジン誘導体Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/26—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
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- C07D403/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なピリミジン誘導体に関する。
本発明は、次式I:
2
で表わされる化合物、および適当な場合その互変異性体
、各々の場合その′m離もしくは塩の形態の化合物に関
する。
、各々の場合その′m離もしくは塩の形態の化合物に関
する。
前記式中、Rr、RzおよびR1の一種は未置換である
か、又はハロゲンもしくはヒドロキシによって置換され
ている脂肪族炭化水素基、又は脂環式もしくは芳香脂肪
族基であり、基R1,R1およびR1並びに基R5の第
二の基は互いに独立にハロゲン、アシル、芳香族炭化水
素基、遊離、エステル化もしくはアミド化カルボキシル
、シアノ、5OsH,POgHz、 PO311□、5
−テトラゾリル、未置換もしくは置換スルファモイル、
アシルアミノ又は−Z、−R’ (式中、Zlは結合
又はO、S(O)m又はN (R)であり、R′は水素
、又は脂肪族炭化水素基であり、この基は中断されてい
ないか、又は0又は(SO)taによって中断されてお
り、さらに未置換であるか、またはハロゲンされたヒド
ロキシ、遊離、エステル化もしくはアミド化されたカル
ボキシ又は5−テトラゾリルにより置換されている)で
表わされる基である。
か、又はハロゲンもしくはヒドロキシによって置換され
ている脂肪族炭化水素基、又は脂環式もしくは芳香脂肪
族基であり、基R1,R1およびR1並びに基R5の第
二の基は互いに独立にハロゲン、アシル、芳香族炭化水
素基、遊離、エステル化もしくはアミド化カルボキシル
、シアノ、5OsH,POgHz、 PO311□、5
−テトラゾリル、未置換もしくは置換スルファモイル、
アシルアミノ又は−Z、−R’ (式中、Zlは結合
又はO、S(O)m又はN (R)であり、R′は水素
、又は脂肪族炭化水素基であり、この基は中断されてい
ないか、又は0又は(SO)taによって中断されてお
り、さらに未置換であるか、またはハロゲンされたヒド
ロキシ、遊離、エステル化もしくはアミド化されたカル
ボキシ又は5−テトラゾリルにより置換されている)で
表わされる基である。
前記式■の化合物のいくつかは、プロトン互変異性体と
して存在しうる。例えば、MR+、RzまたはR3の1
種がヒドロキシである場合、対応する化合物は、互変異
性体のオキソ誘導体、すなわち対応するピリミド−4−
オン、−5−オンまたは一6−オンと平衡関係で存在し
うる。前記及び以下の式Iの化合物は、適当な場合には
対応する互変異性体をも意味するものと理解されるべき
である。
して存在しうる。例えば、MR+、RzまたはR3の1
種がヒドロキシである場合、対応する化合物は、互変異
性体のオキソ誘導体、すなわち対応するピリミド−4−
オン、−5−オンまたは一6−オンと平衡関係で存在し
うる。前記及び以下の式Iの化合物は、適当な場合には
対応する互変異性体をも意味するものと理解されるべき
である。
前記式Iの化合物及び適当な場合にはそれらの互変異性
体は、塩、特に医薬として許容されうる塩の形態で存在
しうる。もしも式■の化合物が、例えば少くとも一個の
塩基中心を有する場合、該化合物は酸付加塩を形成し得
る。これらは例えば、強無機酸、例えば鉱酸、例えば硫
酸、リン酸またはハロゲン化水素酸とともに、強有機カ
ルボン酸、例えばC1〜C4アルカンカルボン酸(これ
は未置換であるかまたは例えばハロゲンにより置換され
ている)、例えば臭酸、マロン酸、コハク酸、マレイン
酸、フマル酸、フタール酸もしくはトレフタール酸、例
えばヒドロキシカルボン酸、例えばアスコルビン酸、ゲ
ルコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸もしくはクエン酸
、例えばアミノ酸、例えばアスパラギン酸もしくはグル
タミン酸、または例えば安息香酸とともに、または有機
スルホン酸、例えば01〜C,アルカン−もしくはアリ
ールスルホン酸(これは未置換であるかまたは、例えば
ハロゲンにより置換さ゛れている)、例えばメタン−も
しくはp−)ルエンスルホン酸とともに形成される。対
応する酸付加塩はまた更に存在することの出来る塩基性
中心により形成されることも出来る。少なくとも1個の
酸基(例えばC0OHまたは5−テトラゾリル)を有す
る化合物■は、更に塩基と塩を形成しうる。塩基と適当
な塩との例は、金属塩、例えばアルカリ金属塩もしくは
アルカリ土類金属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩
またはマグネシウム塩、またはアンモニアもしくは有機
アミン、例えばノルホリン、チオツルホリン、ピペリジ
ン、ピロリジン、モノ−、ジ−もしくはトリー低級アル
キルアミン、例えばエチル−1第三ブチル−、ジエチル
−、ジイソプロピル−トリエチル−トリブチル−もしく
はジメチル−プロピル−アミン、またはモノ−、ジ−も
しくはトリヒドロキシ−低級アルキルアミン、例えばモ
ノ−、ジ−もしくはトリエタノールアミン等の塩である
。対応する分子内塩が更に形成されうる。医薬の用途に
対し一適当でなく更に遊離化合物■またはその医薬とし
て許容されうる塩の単離または精製のために用いられる
塩も含まれる。
体は、塩、特に医薬として許容されうる塩の形態で存在
しうる。もしも式■の化合物が、例えば少くとも一個の
塩基中心を有する場合、該化合物は酸付加塩を形成し得
る。これらは例えば、強無機酸、例えば鉱酸、例えば硫
酸、リン酸またはハロゲン化水素酸とともに、強有機カ
ルボン酸、例えばC1〜C4アルカンカルボン酸(これ
は未置換であるかまたは例えばハロゲンにより置換され
ている)、例えば臭酸、マロン酸、コハク酸、マレイン
酸、フマル酸、フタール酸もしくはトレフタール酸、例
えばヒドロキシカルボン酸、例えばアスコルビン酸、ゲ
ルコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸もしくはクエン酸
、例えばアミノ酸、例えばアスパラギン酸もしくはグル
タミン酸、または例えば安息香酸とともに、または有機
スルホン酸、例えば01〜C,アルカン−もしくはアリ
ールスルホン酸(これは未置換であるかまたは、例えば
ハロゲンにより置換さ゛れている)、例えばメタン−も
しくはp−)ルエンスルホン酸とともに形成される。対
応する酸付加塩はまた更に存在することの出来る塩基性
中心により形成されることも出来る。少なくとも1個の
酸基(例えばC0OHまたは5−テトラゾリル)を有す
る化合物■は、更に塩基と塩を形成しうる。塩基と適当
な塩との例は、金属塩、例えばアルカリ金属塩もしくは
アルカリ土類金属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩
またはマグネシウム塩、またはアンモニアもしくは有機
アミン、例えばノルホリン、チオツルホリン、ピペリジ
ン、ピロリジン、モノ−、ジ−もしくはトリー低級アル
キルアミン、例えばエチル−1第三ブチル−、ジエチル
−、ジイソプロピル−トリエチル−トリブチル−もしく
はジメチル−プロピル−アミン、またはモノ−、ジ−も
しくはトリヒドロキシ−低級アルキルアミン、例えばモ
ノ−、ジ−もしくはトリエタノールアミン等の塩である
。対応する分子内塩が更に形成されうる。医薬の用途に
対し一適当でなく更に遊離化合物■またはその医薬とし
て許容されうる塩の単離または精製のために用いられる
塩も含まれる。
芳香族炭化水素基は、特にフェニルである。
アシルは、特に低級アルカノイルである。
エステル化されたカルボキシルは、例えば脂肪族アルコ
ールによりエステル化されたカルボキシルであり、これ
は例えば低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アル
キニルのような脂肪族炭化水素基から誘導され、これは
中断されていないかまたは酸素により中断され、例えば
低級アルコキシ−低級アルキル、−低級アルケニルもし
くは一低級アルキニルから誘導される。
ールによりエステル化されたカルボキシルであり、これ
は例えば低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アル
キニルのような脂肪族炭化水素基から誘導され、これは
中断されていないかまたは酸素により中断され、例えば
低級アルコキシ−低級アルキル、−低級アルケニルもし
くは一低級アルキニルから誘導される。
アミド化されたカルボキシルは、例えばカルバモイルで
あり、このカルバモイルにおけるアミノ基は、未置換で
あるか、または互いに独立に、脂肪族もしくは芳香脂肪
族炭化水素基、例えば低級アルキル、低級アルケニル、
低級アルキニルもしくはフェニル−低級アルキル、−低
級アルケニルまたは一低級アルキニルによりモノ−もし
くはジ置換されているか、または中断されていないかま
たは酸素により中断されている二化の脂肪族炭化水素基
、例えば低級アルキレンまたは低級アルキレンオキシ−
低級アルキレンによりジ置換されている。
あり、このカルバモイルにおけるアミノ基は、未置換で
あるか、または互いに独立に、脂肪族もしくは芳香脂肪
族炭化水素基、例えば低級アルキル、低級アルケニル、
低級アルキニルもしくはフェニル−低級アルキル、−低
級アルケニルまたは一低級アルキニルによりモノ−もし
くはジ置換されているか、または中断されていないかま
たは酸素により中断されている二化の脂肪族炭化水素基
、例えば低級アルキレンまたは低級アルキレンオキシ−
低級アルキレンによりジ置換されている。
置換アミノは、例えば互いに独立に脂肪族もしくは芳香
脂肪族炭化水素基、例えば低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニルもしくはフェニル−低級アルキル、
−低級アルケニルもしくは−低級アルキニルによりモノ
−もしくはジ置換されているアミノであるかまたは中断
されていないかまたは酸素により中断されている二化の
脂肪族炭化水素基、例えば低級アルキレンもしくは低級
アルキレンオキシ−低級アルキレンによりジ置換されて
いるアミノである。これらの例は、低級アルキル−1個
級アルケニルー1低級アルキニル−フェニル−低級アル
キル−、フェニル−低級アルケニル−、フェニル−低級
アルキニル−、ジ−低級アルキル、N−低級アルキル−
N−フェニル−低級アルキル−及びジ(フェニル−低級
アルキル)−アミノである。
脂肪族炭化水素基、例えば低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニルもしくはフェニル−低級アルキル、
−低級アルケニルもしくは−低級アルキニルによりモノ
−もしくはジ置換されているアミノであるかまたは中断
されていないかまたは酸素により中断されている二化の
脂肪族炭化水素基、例えば低級アルキレンもしくは低級
アルキレンオキシ−低級アルキレンによりジ置換されて
いるアミノである。これらの例は、低級アルキル−1個
級アルケニルー1低級アルキニル−フェニル−低級アル
キル−、フェニル−低級アルケニル−、フェニル−低級
アルキニル−、ジ−低級アルキル、N−低級アルキル−
N−フェニル−低級アルキル−及びジ(フェニル−低級
アルキル)−アミノである。
脂肪族炭化水素基は、例えば低級アルキル、低級アルケ
ニルまたは第二義的には低級アルキニルである。
ニルまたは第二義的には低級アルキニルである。
酸素により中断されている脂肪族炭化水素基は、特に、
低級アルコキシ−低級アルキル、−低級アルケニルもし
くは一低級アルキニルもしくは低級アルケニルオキシ−
低級アルキル、−低級アルケニルもしくは一低級アルキ
ニルであり、一方S (O)taにより中断されている
脂肪族炭化水素基は、特に低級アルキル−チオー低級ア
ルキル、−低級アルケニルもしくは一低級アルキニル、
低級アルカン−スルフィニル−低級アルキルまたは−ス
ルホニルー低級アルキル、低級アルケニル−チオー低級
アルキル、−スルフィニル−低級アルキルもしくは一ス
ルホニルー低級アルキル、または低級アルキニル−チオ
ー低級アルキル、−スルフィニル−低級アルキルまたは
一スルホニルー低級アルキルである。
低級アルコキシ−低級アルキル、−低級アルケニルもし
くは一低級アルキニルもしくは低級アルケニルオキシ−
低級アルキル、−低級アルケニルもしくは一低級アルキ
ニルであり、一方S (O)taにより中断されている
脂肪族炭化水素基は、特に低級アルキル−チオー低級ア
ルキル、−低級アルケニルもしくは一低級アルキニル、
低級アルカン−スルフィニル−低級アルキルまたは−ス
ルホニルー低級アルキル、低級アルケニル−チオー低級
アルキル、−スルフィニル−低級アルキルもしくは一ス
ルホニルー低級アルキル、または低級アルキニル−チオ
ー低級アルキル、−スルフィニル−低級アルキルまたは
一スルホニルー低級アルキルである。
ハロゲンまたはヒドロキシルにより置換された脂肪族炭
化水素基は、例えばハロゲノ−低級アルキル、−低級ア
ルケニルまたは一低級アルキニルまたはヒドロキシ−低
級アルキル、−低級アルケニルもしくは一低級アルキニ
ルである。
化水素基は、例えばハロゲノ−低級アルキル、−低級ア
ルケニルまたは一低級アルキニルまたはヒドロキシ−低
級アルキル、−低級アルケニルもしくは一低級アルキニ
ルである。
ハロゲンまたはヒドロキシルにより置換され更に0また
は5(O)■により中断されている脂肪族炭化水素基は
、ハロゲンまたはヒドロキシルにより置換された先に定
義した対応する基である。
は5(O)■により中断されている脂肪族炭化水素基は
、ハロゲンまたはヒドロキシルにより置換された先に定
義した対応する基である。
未置換または置換アミノまたは遊離、エステル化もしく
はアミド化カルボキシルにより置換され更に中断されて
いないかまたはOまたはS (O)taにより中断され
ている脂肪族炭化水素基は、先に定義したごとき対応す
る基であり、これはアミノ、上記のごとき置換されたア
ミノ、カルボキシル、上記のごとき、エステル化された
カルボキシルまたは先に定義したごときアミド化された
カルボキシルにより置換される。
はアミド化カルボキシルにより置換され更に中断されて
いないかまたはOまたはS (O)taにより中断され
ている脂肪族炭化水素基は、先に定義したごとき対応す
る基であり、これはアミノ、上記のごとき置換されたア
ミノ、カルボキシル、上記のごとき、エステル化された
カルボキシルまたは先に定義したごときアミド化された
カルボキシルにより置換される。
脂環式炭化水素基は、例えばシクロアルキルであるかま
たは第二義的にはシクロアルケニルである。
たは第二義的にはシクロアルケニルである。
適当な芳香脂肪族炭化水素基は、特にフェニル−低級ア
ルキル、更にフェニル−低級アルケニル及び−低級アル
キニルである。
ルキル、更にフェニル−低級アルケニル及び−低級アル
キニルである。
脂肪族アルコールによりエーテル化されたヒドロキシル
は、特に低級アルコキシまたは低級アルケニルオキシで
ある。
は、特に低級アルコキシまたは低級アルケニルオキシで
ある。
アルキレンは、メチレンまたは低級アルキレンである。
置換スルファモイルは、低級アルキル−もしくはジ−低
級アルキル−スルファモイルである。
級アルキル−スルファモイルである。
アシルアミノにおけるアシルは、有機カルボン酸または
有機スルホン酸から誘導される。対応するアシルの例は
、低級アルカノイル、未置換または置換ベンゾイル、低
級アルカンスルファモイル、ハロゲノ−低級アルカンス
ルファモイルまたは未置換または置換ベンゼンスルホニ
ルである。
有機スルホン酸から誘導される。対応するアシルの例は
、低級アルカノイル、未置換または置換ベンゾイル、低
級アルカンスルファモイル、ハロゲノ−低級アルカンス
ルファモイルまたは未置換または置換ベンゼンスルホニ
ルである。
上記及び下記の不飽和脂肪族、脂環式及び芳香脂肪族置
換基は、特に、多重結合が開始する炭素原子を介して芳
香族基に結合していない。
換基は、特に、多重結合が開始する炭素原子を介して芳
香族基に結合していない。
フェニルは各々の場合、未置換のフェニルであるか、ま
たは1個以上、例えば2個または3個の置換基による、
例えば低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリ
フルオロメチル及びヒドロキシルから選ばれた置換基に
より置換されたフェニルである。これはそれ自身フェニ
ル基に適用され並びにフェニル含有基におけるフェニル
基、例えばベンゾイルまたはベンゼンスルホニルに適用
される。
たは1個以上、例えば2個または3個の置換基による、
例えば低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリ
フルオロメチル及びヒドロキシルから選ばれた置換基に
より置換されたフェニルである。これはそれ自身フェニ
ル基に適用され並びにフェニル含有基におけるフェニル
基、例えばベンゾイルまたはベンゼンスルホニルに適用
される。
環A及びBはビフェニル基を形成し、対応する4−ビフ
ェニリルが好ましい。
ェニリルが好ましい。
上記及び以下に用いられる一般的語句は、特に定義しな
い限り次の意味を有する: 語句「低級」は、各々の場合における対応する基及び化
合物は特に7個以下、好ましくは4個以下の炭素原子を
含有する。
い限り次の意味を有する: 語句「低級」は、各々の場合における対応する基及び化
合物は特に7個以下、好ましくは4個以下の炭素原子を
含有する。
低級アルカンスルホニルは、特にC+〜C1アルカンス
ルホニルであり更に、例えばメタン−エタン−1n−プ
ロパン−もしくはイソプロパン−スルホニルである。C
I〜C7アルカンスルホニルが好ましい、ハロゲノ−低
級アルカンスルホニルは、ハロゲノ−CI〜C’l−ア
ルカンスルホニル、例えばトリフルオロメタンスルホニ
ルである。
ルホニルであり更に、例えばメタン−エタン−1n−プ
ロパン−もしくはイソプロパン−スルホニルである。C
I〜C7アルカンスルホニルが好ましい、ハロゲノ−低
級アルカンスルホニルは、ハロゲノ−CI〜C’l−ア
ルカンスルホニル、例えばトリフルオロメタンスルホニ
ルである。
低級アルカンスルファモイルは、CI〜C1アルカンス
ルファモイル、例えばメタン−、エタン、n−プロパン
−、イソプロパン−1n−ブタン−1第ニーブタン−ま
たは第三ブタン−スルファモイルである。C9〜C4ア
ルカンスルフアモイルが好ましい、ジ−低級アルカンス
ルファモイルは、ジ−C3〜C7アルカンスルフアモイ
ル、例えばジメタン−、メタン−、エタン−もしくはジ
−(n−プロパン)−スルファモイルである。
ルファモイル、例えばメタン−、エタン、n−プロパン
−、イソプロパン−1n−ブタン−1第ニーブタン−ま
たは第三ブタン−スルファモイルである。C9〜C4ア
ルカンスルフアモイルが好ましい、ジ−低級アルカンス
ルファモイルは、ジ−C3〜C7アルカンスルフアモイ
ル、例えばジメタン−、メタン−、エタン−もしくはジ
−(n−プロパン)−スルファモイルである。
ジ−C1〜C4アルカンスルフアモイルが好ましい。
ハロゲンは、特に35以下の原子番号を有するハロゲン
、すなわちフッ素、塩素または臭素であり更にヨウ素が
含まれる。
、すなわちフッ素、塩素または臭素であり更にヨウ素が
含まれる。
ハロゲノアルカンスルホニルアミノは、特にハロゲノ−
C1〜C?アルカンスルホニルアミノであり、例えばジ
フルオロメタン−トリフルオロメタン−12−クロロエ
タン−11,1,2−)リフルオロエタン−11,1,
2−)リフロエタンー、ペンタフルオロエタン−もしく
はヘプタフルオロプロパン−スルホニルアミノである。
C1〜C?アルカンスルホニルアミノであり、例えばジ
フルオロメタン−トリフルオロメタン−12−クロロエ
タン−11,1,2−)リフルオロエタン−11,1,
2−)リフロエタンー、ペンタフルオロエタン−もしく
はヘプタフルオロプロパン−スルホニルアミノである。
ハロゲノ−C,−C,アルカンスルホニルアミノが好ま
しい。
しい。
低級アルカノイルは、特にC5〜C?アルカノイルであ
り、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、インブチリンまたはピバロイルである。C1〜Cs
アルカノイルが好ましい。
り、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、インブチリンまたはピバロイルである。C1〜Cs
アルカノイルが好ましい。
低級アルキルは、特にC1〜C7アルキル、すなわちメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、第ニブチル、第三ブチルまたは対応す
るペンチル、ヘキシルまたはへブチル基である。CI〜
C4アルキルが好ましい。
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、第ニブチル、第三ブチルまたは対応す
るペンチル、ヘキシルまたはへブチル基である。CI〜
C4アルキルが好ましい。
低級アルケニルは、特にC2〜C7アルケニルであり、
例えばプロペン−2−イル、アリルまたはブドー1−エ
ン−3−イル、−1−エン−4−イル、−2−エン−1
−イルまたは−2−エン−2−イルである。C3〜Cs
アルケニルが好ましい。
例えばプロペン−2−イル、アリルまたはブドー1−エ
ン−3−イル、−1−エン−4−イル、−2−エン−1
−イルまたは−2−エン−2−イルである。C3〜Cs
アルケニルが好ましい。
低級アルキニルは、特にC1〜C,アルキニルであり更
にプロパルギルが好ましい。
にプロパルギルが好ましい。
低級アルコキシは、特に01〜C,アルコキシであり、
すなわちメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプ
ロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、第二ブトキシ
、第三ブトキシまたは対応するペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシまたはヘプチルオキシである。01〜C4アル
コキシが好ましい。
すなわちメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプ
ロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、第二ブトキシ
、第三ブトキシまたは対応するペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシまたはヘプチルオキシである。01〜C4アル
コキシが好ましい。
低級アルコキシ−低級アルキルは、特にC1〜C4アル
コキシ−C+−Caアルキル、例えば2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル、2−(n−プロポキシ)エチ
ルまたはエトキシメチルである。
コキシ−C+−Caアルキル、例えば2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル、2−(n−プロポキシ)エチ
ルまたはエトキシメチルである。
低級アルコキシ−低級アルケニルもしくは一低級アルキ
ニルは、特にC,−C,アルコキシ−C1〜Csアルケ
ニルまたは−アルキニルである。
ニルは、特にC,−C,アルコキシ−C1〜Csアルケ
ニルまたは−アルキニルである。
低級アルケニルオキシは、特にC1〜C,アルケニルオ
キシであり、例えばアリルオキシ、ブドー2−エン−1
−イルオキシまたはブドー3−エン−1−イルオキシで
ある。CツルCsアルケニルオキシが好ましい。
キシであり、例えばアリルオキシ、ブドー2−エン−1
−イルオキシまたはブドー3−エン−1−イルオキシで
ある。CツルCsアルケニルオキシが好ましい。
ハロゲノ−低級アルキルは、特にハロゲノ−C1〜C4
アルキル、例えばトリフルオロメチル、1゜1.2−)
リフルオロ−2−クロロ−エチル、クロロメチルまたは
n−へブタフルオロプロピルである。
アルキル、例えばトリフルオロメチル、1゜1.2−)
リフルオロ−2−クロロ−エチル、クロロメチルまたは
n−へブタフルオロプロピルである。
ハロゲノ−低級アルケニルは、特にハロゲノ−C1〜C
,アルケニル、例えば2−クロロアリルである。
,アルケニル、例えば2−クロロアリルである。
ハロゲノ−低級アルキニルは、特にハロゲノ−C1〜C
,アルキニル、例えば3−クロロプロパルギルである。
,アルキニル、例えば3−クロロプロパルギルである。
ヒドロキシ−低級アルキルは、特にヒドロキシC+−C
4アルキル、例えばヒドロキシメチル、2−ヒドロキシ
エチルまたは3−ヒドロキシプロピルである。
4アルキル、例えばヒドロキシメチル、2−ヒドロキシ
エチルまたは3−ヒドロキシプロピルである。
ヒドロキシ−低級アルケニルは、特にヒドロキシ−C3
〜Csアルケニル、例えば3−ヒドロキシアリルである
。
〜Csアルケニル、例えば3−ヒドロキシアリルである
。
ヒドロキシ−低級アルキニルは、特にヒドロキシ−C,
〜Csアルキニル、例えば3−ヒドロキシプロパルギル
である。
〜Csアルキニル、例えば3−ヒドロキシプロパルギル
である。
フェニル−低級アルキルは、特にフェニル−01〜C4
アルキルであり更に、好ましくはベンジルまたはl−も
しくは2−フェネチルであり、一方フェニルー低級アル
ケニルもしくはフェニル−低級アルキニルは、特にフェ
ニル−C1〜C,アルケニルまたは一アルキニルであり
、特に3−フェニルアリルまたは3−フェニルプロパル
ギルである。
アルキルであり更に、好ましくはベンジルまたはl−も
しくは2−フェネチルであり、一方フェニルー低級アル
ケニルもしくはフェニル−低級アルキニルは、特にフェ
ニル−C1〜C,アルケニルまたは一アルキニルであり
、特に3−フェニルアリルまたは3−フェニルプロパル
ギルである。
低級アルキレンは、特にC!〜C’rアルキレンであり
、直鎖または分岐鎖であり更に、特にエチレン、1.3
−プロピレン、1.4−ブチレン、1.2−プロピレン
、2−メチル−1,3−プロピレンまたは2,2−ジメ
チル−1,3−プロピレンである。08〜C,アルキレ
ンが好ましい。
、直鎖または分岐鎖であり更に、特にエチレン、1.3
−プロピレン、1.4−ブチレン、1.2−プロピレン
、2−メチル−1,3−プロピレンまたは2,2−ジメ
チル−1,3−プロピレンである。08〜C,アルキレ
ンが好ましい。
低級アルキレンオキシ−低級アルキレンは、特に08〜
C4アルキレンオキシ−08〜C,アルキレンであり、
好ましくはエチレンオキシエチレンである。
C4アルキレンオキシ−08〜C,アルキレンであり、
好ましくはエチレンオキシエチレンである。
低級アルキルアミノは、特にC,−C,アルキルアミノ
であり、例えばメチル−、エチル−1n−プロピル−ま
たはイソプロピル−アミノである。
であり、例えばメチル−、エチル−1n−プロピル−ま
たはイソプロピル−アミノである。
01〜C4アルキルアミノが好ましい。
低級アルケニルアミノは、好ましくはC1〜C。
アルケニルアミノ、例えばアリル−もしくはメタリル−
アミノである。
アミノである。
低級アルキニルアミノは、好ましくはC2〜C。
アルキニルアミノ、例えばプロパルギルアミノである。
フェニル−低級アルキルアミノは、好ましくはフェニル
−CI−Caアルキルアミノ、特にベンジル−もしくは
1−もしくは2−フェニルエチル−アミノである。
−CI−Caアルキルアミノ、特にベンジル−もしくは
1−もしくは2−フェニルエチル−アミノである。
フェニル−低級アルケニルアミノは、好ましくはフェニ
ル−C8〜C,アルケニルアミノ、特にフェニルアリル
アミノもくしは3−フェニルメタリルアミノである。
ル−C8〜C,アルケニルアミノ、特にフェニルアリル
アミノもくしは3−フェニルメタリルアミノである。
フェニル−低級アルキニルアミノは、好ましくはフェニ
ル−C1〜C,アルキニルアミノ、特にフェニルプロパ
ルギルアミノである。
ル−C1〜C,アルキニルアミノ、特にフェニルプロパ
ルギルアミノである。
ジ−低級アルキルアミノは、特にジ−01〜C4アルキ
ルアミノ、例えばジメチル−、ジエチルージ(n−プロ
ピル)−、メチループbビル−、メチル−エチル−、メ
チル−ブチルもしくはジブチル−アミノである。
ルアミノ、例えばジメチル−、ジエチルージ(n−プロ
ピル)−、メチループbビル−、メチル−エチル−、メ
チル−ブチルもしくはジブチル−アミノである。
N−低級アルキル−N−フェニル−低級アルキル−アミ
ノは、特にN−C,〜C4アルキルーN−フェニルー0
1〜C4アルキル−アミノ、好ましくはメチル−ベンジ
ル−アミノもしくはエチル−ベンジル−アミノである。
ノは、特にN−C,〜C4アルキルーN−フェニルー0
1〜C4アルキル−アミノ、好ましくはメチル−ベンジ
ル−アミノもしくはエチル−ベンジル−アミノである。
ジ(フェニル−低級アルキル)−アミノは、好ましくは
ジ(フェニル−CI””’ Caアルキル)アミノ、好
ましくはジベンジルアミノである。
ジ(フェニル−CI””’ Caアルキル)アミノ、好
ましくはジベンジルアミノである。
低級アルケニルオキシ−低級アルキルは、特にC3〜C
sアルケニルオキシ−C,−C,アルキル、例えば2−
アリルオキシエチルであり更に低級アルケニルオキシ−
低級アルケニルもしくは−低級アルキニルは、特にCs
〜C,アルケニルオキシ−C1〜C,アルケニルもしく
は−アルキニルである。
sアルケニルオキシ−C,−C,アルキル、例えば2−
アリルオキシエチルであり更に低級アルケニルオキシ−
低級アルケニルもしくは−低級アルキニルは、特にCs
〜C,アルケニルオキシ−C1〜C,アルケニルもしく
は−アルキニルである。
低級アルキルチオ−低級アルケニルもしくは一低級アル
キニルは、特にClNC4アルキルチオ−C1〜C7ア
ルケニルもしくは−アルキニルである。
キニルは、特にClNC4アルキルチオ−C1〜C7ア
ルケニルもしくは−アルキニルである。
低級アルキルチオ−低級アルキルは、特にC1〜C4ア
ルキルチオーC,−C,アルキル、例えばエチルチオメ
チル、2−エチルチオエチル、2−メチルチオエチルま
たは2−イソプロピルチオエチルであり、一方特に好ま
しい低級アルカン−スルフィニル−低級アルキルもしく
は一スルホニルー低級アルキルは、対応するCI〜C4
アルカン−スルフィニル−CI−Caアルキル基または
−スルホニルーC8〜C4アルキル基である。
ルキルチオーC,−C,アルキル、例えばエチルチオメ
チル、2−エチルチオエチル、2−メチルチオエチルま
たは2−イソプロピルチオエチルであり、一方特に好ま
しい低級アルカン−スルフィニル−低級アルキルもしく
は一スルホニルー低級アルキルは、対応するCI〜C4
アルカン−スルフィニル−CI−Caアルキル基または
−スルホニルーC8〜C4アルキル基である。
低級アルケニルチオ−低級アルキルは、特にC1〜C,
アルケニルチオ−C1〜C4アルキル、例えば1−アリ
ルチオエチルもしくは3−アリルチオプロピルであり、
一方低級アルケニルースルフィニルー低級アルキルもし
くは−スルホニルー低級アルキルは、特にCs〜Csア
ルケニル−スルフィニル−C3〜C4アルキルもしくは
−スルホニルーC9〜C4アルキルである。
アルケニルチオ−C1〜C4アルキル、例えば1−アリ
ルチオエチルもしくは3−アリルチオプロピルであり、
一方低級アルケニルースルフィニルー低級アルキルもし
くは−スルホニルー低級アルキルは、特にCs〜Csア
ルケニル−スルフィニル−C3〜C4アルキルもしくは
−スルホニルーC9〜C4アルキルである。
低級アルキニルチオ−低級アルキルは、特にC1〜Cs
アルキニルチオ−C,−C,アルキル、例えば2−プロ
パルギルチオエチルもしくは3−プロパルギルチオプロ
ピルであり、一方低級アルキニルースルフィニルー低級
アルキルもしくは一スルホニルー低級アルキルは、特に
C1〜C。
アルキニルチオ−C,−C,アルキル、例えば2−プロ
パルギルチオエチルもしくは3−プロパルギルチオプロ
ピルであり、一方低級アルキニルースルフィニルー低級
アルキルもしくは一スルホニルー低級アルキルは、特に
C1〜C。
アルキニル−スルフィニル−01〜C4アルキルもしく
は−スルホニルー〇、−C4アルキルである。
は−スルホニルー〇、−C4アルキルである。
シクロアルキルは、特にC1〜C,シクロアルキル、す
なわちシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシルもしくはシクロへブチルである。シク
ロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。
なわちシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシルもしくはシクロへブチルである。シク
ロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。
シクロアルケニルは、特にC1〜C,シクロアルケニル
であり、好ましくはシクロベント−2−エニルもしくは
−3−エニルまたはシクロヘクセー2−エニルもしくは
−3−エニルである。
であり、好ましくはシクロベント−2−エニルもしくは
−3−エニルまたはシクロヘクセー2−エニルもしくは
−3−エニルである。
広範囲な薬理試験の結果以下の内容が判明した。
すなわち式■の化合物及びそれらの互変異性体及び/ま
たはそれらの医薬として許容されうる塩は、例えば秀れ
たアンギオテンシン■−拮抗作用を有する。
たはそれらの医薬として許容されうる塩は、例えば秀れ
たアンギオテンシン■−拮抗作用を有する。
公知のごとく、アンギオテンシン■は強力な血管収縮作
用性を有し更にアルドステロン分泌を刺激し従って明白
なナトリウム/水の保留を引き起こす、アンギオテンシ
ン■の活性の結果は、特に血圧の上昇において証明され
ている。
用性を有し更にアルドステロン分泌を刺激し従って明白
なナトリウム/水の保留を引き起こす、アンギオテンシ
ン■の活性の結果は、特に血圧の上昇において証明され
ている。
アンギオテンシン■アンタゴニストの重要性は、アンギ
オテンシン■により引き起こされた血管収縮作用及びア
ルドステロン分泌刺激作用を、それらがレセプターに対
するアンギオテンシン■の結合の競合的抑制により抑制
することにある。
オテンシン■により引き起こされた血管収縮作用及びア
ルドステロン分泌刺激作用を、それらがレセプターに対
するアンギオテンシン■の結合の競合的抑制により抑制
することにある。
式■の化合物およびそれらの医薬として許容され得る塩
のアンギオテンシンにアンタゴニスト特性は、アンギオ
テンシン■結合試験において認めることができる。均質
化されたラットの大動脈から得られたラットの平滑筋細
胞をここで用いる。
のアンギオテンシンにアンタゴニスト特性は、アンギオ
テンシン■結合試験において認めることができる。均質
化されたラットの大動脈から得られたラットの平滑筋細
胞をここで用いる。
固体の遠心分離物を、50ミリモルのトリス緩衝液(p
H7,4)中にペプチダーゼ阻害剤を用いて懸濁させる
。サンプルを、′*S!−アンギオテンシンm (O,
175nM)及び種々の濃度のアンギオテンシン■もし
くは被験物質と共に25℃で60分間インキエベートす
る0次いで、水冷ホスフェートで緩衝した食塩水を添加
してインキュベーションを終了させ、次いで混合物をホ
ワットマンGF/Fフィルターでろ過する。ガンマ−カ
ウンターを用いろ液を計測する。ICS。値を用量−効
果曲線から決定する。
H7,4)中にペプチダーゼ阻害剤を用いて懸濁させる
。サンプルを、′*S!−アンギオテンシンm (O,
175nM)及び種々の濃度のアンギオテンシン■もし
くは被験物質と共に25℃で60分間インキエベートす
る0次いで、水冷ホスフェートで緩衝した食塩水を添加
してインキュベーションを終了させ、次いで混合物をホ
ワットマンGF/Fフィルターでろ過する。ガンマ−カ
ウンターを用いろ液を計測する。ICS。値を用量−効
果曲線から決定する。
約10nMからのtCS。値を本発明に係る化合物に対
して測定した。
して測定した。
すなわち、例えば、このアンオテンシン■結合試験にお
いて、°下記のICS。値(μa+of/jりが決定さ
れる。
いて、°下記のICS。値(μa+of/jりが決定さ
れる。
6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−〔z−(I
H−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ルツーピリミジン: 0.008;6−(n−ブチル)
−4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’−(LH−
テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツ
ーピリミジン:0.00135; 6−(n−ブチル)−2−エチル−4−ヒドロキシ−5
−(2’−(LH−テラゾールー5−イル)ビフェニル
−4−イルメチルツーピリミジン:0.002; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−プロ
ビル) −5−(2’−(IH−テラゾールー5−イル
)ビフェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.
006; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロピ
ル−5−(2’−(1)1−テラゾールー5−イル)ビ
フェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.00
35:及び 2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(
2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4
−イルメチルゴーピリミジン: 0.0012゜アンギ
オテンシン■−誘発血管収縮の測定に対し、単離したラ
ビットの大動脈軸に関しての研究が用いられる。この目
的に対し大動脈軸は、各胸部から切開され次いで初期張
力2gで二本の平行うランプ間に固定される0次いで輪
を20mの組織浴中37°Cで浸漬し次いで95%の酸
素及び5%の炭酸ガスで通気する。同質異性の反応を測
定する。
H−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ルツーピリミジン: 0.008;6−(n−ブチル)
−4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’−(LH−
テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツ
ーピリミジン:0.00135; 6−(n−ブチル)−2−エチル−4−ヒドロキシ−5
−(2’−(LH−テラゾールー5−イル)ビフェニル
−4−イルメチルツーピリミジン:0.002; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−プロ
ビル) −5−(2’−(IH−テラゾールー5−イル
)ビフェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.
006; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロピ
ル−5−(2’−(1)1−テラゾールー5−イル)ビ
フェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.00
35:及び 2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(
2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4
−イルメチルゴーピリミジン: 0.0012゜アンギ
オテンシン■−誘発血管収縮の測定に対し、単離したラ
ビットの大動脈軸に関しての研究が用いられる。この目
的に対し大動脈軸は、各胸部から切開され次いで初期張
力2gで二本の平行うランプ間に固定される0次いで輪
を20mの組織浴中37°Cで浸漬し次いで95%の酸
素及び5%の炭酸ガスで通気する。同質異性の反応を測
定する。
20分の間隔で、輪を別に10nMアンギオテンシン■
(ハイパテンシン−CIBA)及び5nMの塩化ノルア
ドレナリンで刺激させる0次いで輪をアゴニストで処理
する前に、選ばれた濃度の被験物資と共にインキエベー
トする。バクスコ(Buxco )ディジタルコンピュ
ーターを用いデーターを分析する。
(ハイパテンシン−CIBA)及び5nMの塩化ノルア
ドレナリンで刺激させる0次いで輪をアゴニストで処理
する前に、選ばれた濃度の被験物資と共にインキエベー
トする。バクスコ(Buxco )ディジタルコンピュ
ーターを用いデーターを分析する。
初期コントロール値の50%抑制をもたらす濃度をIC
3゜値として与える。約5nMからのIC5゜値を、本
発明に係る化合物に対して測定した。
3゜値として与える。約5nMからのIC5゜値を、本
発明に係る化合物に対して測定した。
すなわち、例えば、この単離したラビットの大動脈軸モ
デルにおいて、下記のtCSゆ値(μmail/l)が
決定される。
デルにおいて、下記のtCSゆ値(μmail/l)が
決定される。
6−(n−ブチル)・−4−ヒドロキシ−5−〔7−(
IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメ
チルゴーピリミジン: 0.011;6−(n−ブチル
)−4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’−(IH
−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメチル
ゴーピリミジン:0.006; 6−(n−ブチル)−2−エチル−4−ヒドロキシ−5
−(2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル
−4−イルメチルゴーピリミジン:0.002; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−プロ
ビル) −5−(2’−(IH−テラゾールー5−イル
)ビフェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.
007; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロピ
ル−5−(2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフ
ェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.002
:及び 2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(
2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4
−イルメチルゴーピリミジン: 0.0035゜式!の
化合物およびそれらの互変異性体および/又はその医薬
として許容され得る塩がアンギオテンシン■により誘発
された高血圧を減少できる事実が、正常血圧の麻酔ラッ
ト試験モデルにおいて証明できる。0.9%のNaC1
(I IJ1/kgi、v、)で調製品を較正後、ノル
アドレナリン(in/kgi、v、)又はアンギオテン
シンII (O,3x/kgi、v、 )(各々の場合
1.被験物質の用1t(3〜6)を増加させながら)−
回の注射により静脈内投与し、しかるのちアンギオテン
シン■又はノルアドレナリンを、各用量後5分後に投与
する。頚動脈内で血圧を直接測定し次いでオンラインデ
ーター記録システム(バクスコ)を用いて記録する。ア
ンギオテンシン■の拮抗作用の特異性は、アンギオテン
シン■によりもたらされる血圧の選択的抑制により示さ
れる。が、しかしノルアドレナリンによってもたらされ
るその抑制によっては示されない。
IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメ
チルゴーピリミジン: 0.011;6−(n−ブチル
)−4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’−(IH
−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4−イルメチル
ゴーピリミジン:0.006; 6−(n−ブチル)−2−エチル−4−ヒドロキシ−5
−(2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル
−4−イルメチルゴーピリミジン:0.002; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−プロ
ビル) −5−(2’−(IH−テラゾールー5−イル
)ビフェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.
007; 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロピ
ル−5−(2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフ
ェニル−4−イルメチルゴーピリミジン: 0.002
:及び 2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(
2’−(IH−テラゾールー5−イル)ビフェニル−4
−イルメチルゴーピリミジン: 0.0035゜式!の
化合物およびそれらの互変異性体および/又はその医薬
として許容され得る塩がアンギオテンシン■により誘発
された高血圧を減少できる事実が、正常血圧の麻酔ラッ
ト試験モデルにおいて証明できる。0.9%のNaC1
(I IJ1/kgi、v、)で調製品を較正後、ノル
アドレナリン(in/kgi、v、)又はアンギオテン
シンII (O,3x/kgi、v、 )(各々の場合
1.被験物質の用1t(3〜6)を増加させながら)−
回の注射により静脈内投与し、しかるのちアンギオテン
シン■又はノルアドレナリンを、各用量後5分後に投与
する。頚動脈内で血圧を直接測定し次いでオンラインデ
ーター記録システム(バクスコ)を用いて記録する。ア
ンギオテンシン■の拮抗作用の特異性は、アンギオテン
シン■によりもたらされる血圧の選択的抑制により示さ
れる。が、しかしノルアドレナリンによってもたらされ
るその抑制によっては示されない。
これらの研究において、本発明に係る化合物は、約0.
3■/kgi、v、の用量から抑制作用を示した。
3■/kgi、v、の用量から抑制作用を示した。
式■の化合物およびそれらの互変異性体および/又はそ
れらの医薬として許容され得る塩の抗高血圧活性は又、
腎臓的に高血圧のラットにおいて実証できる。高い血圧
を、ゴールドブラット(Goldblatt)法に従っ
て腎動脈を締めつけることにより雄ラットにおいて生じ
させる。用量の物質を、胃管を用いてラットに投与する
。対照動物に、等量の溶剤を投与する。血圧及び心拍を
、物質又はプラシーボの投与前に並びに実験の期間中、
ゲラルド(Helv、Physiol、Acta 24
.58.1966)の尾をクランプ方により意識のある
動物内に時間をおいて間接的に測定する。約30■/)
cg(p、o、)の用量未満で明確な抗血圧作用を検出
することが可能であった。
れらの医薬として許容され得る塩の抗高血圧活性は又、
腎臓的に高血圧のラットにおいて実証できる。高い血圧
を、ゴールドブラット(Goldblatt)法に従っ
て腎動脈を締めつけることにより雄ラットにおいて生じ
させる。用量の物質を、胃管を用いてラットに投与する
。対照動物に、等量の溶剤を投与する。血圧及び心拍を
、物質又はプラシーボの投与前に並びに実験の期間中、
ゲラルド(Helv、Physiol、Acta 24
.58.1966)の尾をクランプ方により意識のある
動物内に時間をおいて間接的に測定する。約30■/)
cg(p、o、)の用量未満で明確な抗血圧作用を検出
することが可能であった。
−従って前記式■の化合物およびその互変異性体および
/又はその医薬として許容され得る塩は、たとえば高血
圧及び心臓不全の治療に対し抗高血圧薬のごとき医薬的
に有効な成分として使用することができる0本発明は更
に、医薬、特にアンギオテンシン■拮抗薬及び抗高血圧
薬の製造に対する本発明に係る化合物の使用並びに高血
圧及び心臓不全の治療のためのこれらの化合物の使用に
関する。有効成分の産業的製造はまた、医薬の製造にお
いて包含される。
/又はその医薬として許容され得る塩は、たとえば高血
圧及び心臓不全の治療に対し抗高血圧薬のごとき医薬的
に有効な成分として使用することができる0本発明は更
に、医薬、特にアンギオテンシン■拮抗薬及び抗高血圧
薬の製造に対する本発明に係る化合物の使用並びに高血
圧及び心臓不全の治療のためのこれらの化合物の使用に
関する。有効成分の産業的製造はまた、医薬の製造にお
いて包含される。
本発明は、特に前記式■の化合物、及び適当な場合、そ
の互変異性体(各々の場合、遊離もしくは塩の形態にあ
゛る)、すなわち、前記式I中、基R+ 、R1及びR
1の一種は、低級アルキル、低級アルケニル、低級アル
キニルであり、これらは各々の場合において未置換であ
るかまたはハロゲンもしくはヒドロキシにより置換され
ており、各々の場合3〜7員環のシクロアルキルもしく
はシクロアルケニル、フェニル−低級アルキル、フェニ
ル−低級アルケニルもしくはフェニル−低級アルキニル
であり、基R1,R,及びR8並びに基R4の第二番目
の基は、各々の場合互いに独立に、ハロゲン、低級アル
カノイル、未置換もしくは置換フェニル、カルボキシル
(これは遊離であるか、または低級アルキル、低級アル
ケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキ
ル、低級アルコキシ−低級アルケニルまたは低級アルコ
キシ−低級アルキニルから誘導されたアルコールにより
エステル化されている)、カルバモイル(このカルバモ
イルにおけるアミノ基は、未置換であるか、互いに独立
に、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、
フェニル−低級アルキル、フェニル−低級アルケニルも
しくはフェニル−低級アルキニルによりモノ−もしくは
ジ置換されているか、またはハロ低級アルキレンもしく
は低級アルキレンオキシ−低級アルキレンにより置換さ
れている)、シアノ、5OsH,PO!Hm、 PO5
Hg、5−テトラゾリル、スルファモイル、低級アルカ
ンスルファモイル、ジ−低級アルカンスルファモイル、
低級アルカノイルアミノ、未置換もしくは置換ベンゾイ
ルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、ハロゲノ−
低級アルカンスルホニルアミノ、°未置換もしくは置換
ベンゼンスルホニルアミノまたは−Z、−R’ (こ
こにおいて2.は結合または0゜5(O)−またはN
(R)であり、R′は水素、または低級アルキル、低級
アルケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級ア
ルキル、低級アルコキシ−低級アルケニル、低級アルコ
キシ−低級アルケニル、低級アルケニルオキシ−低級ア
ルキル、低級アルケニルオキシ−低級アルケニール、低
級アルケニルオキシ−低級アルキニル、低級アルキル−
チオー低級アルキル、−低級アルケニルもしくは一低級
アルキニル、低級アルカン−スルフィニル−低級アルキ
ルもしくは−スルホニルー低級フルキル、低級アルケニ
ル−チオー低級アルキル、−スルフィニル−低級アルキ
ルもしくは一スルホニルー低級アルキルまたは低級アル
キニル−チオー低級アルキル、−スルフィニル−低級ア
ルキルまたは一スルホニルー低級アルキルであり、各々
の場合未置換またはヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、低
級アルキレンアミノ、低級アルキレノオキシ−低級アル
キレンアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルケニルア
ミノ、低級アルキニルアミノ、フェニル−低級アルキル
アミノ、フェニル−低級アルケニルアミノ、フェニル−
低級アルキニルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、N−
低級アルキル、N−フェニル−低級アルキル−アミノ、
ジ(フェニル−低級アルキル)−アミノ、カルボキシル
(どれは遊離であるかまたは低級アルキル、低級アルケ
ニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキル
、低級アルコキシ−低級アルケニルまたは低級アルコキ
シ−低級アルキニルから誘導されたアルコールによりエ
ステル化されている)、またはカルバモイル(このカル
バモイルにおけるアミノ基は未置換であるかまたは互い
に独立に、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキ
ニル、フェニル−低級アルキル、フェニル−低級アルケ
ニルもしくはフェニル−低級アルキニルによりモノ−も
しくはジ置換されているかまたは低級アルキレンもしく
は低級アルキレノキシ−低級アルキレンによりジ置換さ
れている)遊離置換されている)であり、Rは水素、低
級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルキニルであ
り更にmは0.1または2であり更に基R+、Rz及び
R1の第三番目の基は、前記式Iaの基であり、該式I
a中、ZRはメチレン、低級アルキレン、0 、5(O
)aまたはN (R)であり、Rsはカルボキシル、ハ
ロゲンアルカンスルホニルアミノ、SO,H。
の互変異性体(各々の場合、遊離もしくは塩の形態にあ
゛る)、すなわち、前記式I中、基R+ 、R1及びR
1の一種は、低級アルキル、低級アルケニル、低級アル
キニルであり、これらは各々の場合において未置換であ
るかまたはハロゲンもしくはヒドロキシにより置換され
ており、各々の場合3〜7員環のシクロアルキルもしく
はシクロアルケニル、フェニル−低級アルキル、フェニ
ル−低級アルケニルもしくはフェニル−低級アルキニル
であり、基R1,R,及びR8並びに基R4の第二番目
の基は、各々の場合互いに独立に、ハロゲン、低級アル
カノイル、未置換もしくは置換フェニル、カルボキシル
(これは遊離であるか、または低級アルキル、低級アル
ケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキ
ル、低級アルコキシ−低級アルケニルまたは低級アルコ
キシ−低級アルキニルから誘導されたアルコールにより
エステル化されている)、カルバモイル(このカルバモ
イルにおけるアミノ基は、未置換であるか、互いに独立
に、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、
フェニル−低級アルキル、フェニル−低級アルケニルも
しくはフェニル−低級アルキニルによりモノ−もしくは
ジ置換されているか、またはハロ低級アルキレンもしく
は低級アルキレンオキシ−低級アルキレンにより置換さ
れている)、シアノ、5OsH,PO!Hm、 PO5
Hg、5−テトラゾリル、スルファモイル、低級アルカ
ンスルファモイル、ジ−低級アルカンスルファモイル、
低級アルカノイルアミノ、未置換もしくは置換ベンゾイ
ルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、ハロゲノ−
低級アルカンスルホニルアミノ、°未置換もしくは置換
ベンゼンスルホニルアミノまたは−Z、−R’ (こ
こにおいて2.は結合または0゜5(O)−またはN
(R)であり、R′は水素、または低級アルキル、低級
アルケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級ア
ルキル、低級アルコキシ−低級アルケニル、低級アルコ
キシ−低級アルケニル、低級アルケニルオキシ−低級ア
ルキル、低級アルケニルオキシ−低級アルケニール、低
級アルケニルオキシ−低級アルキニル、低級アルキル−
チオー低級アルキル、−低級アルケニルもしくは一低級
アルキニル、低級アルカン−スルフィニル−低級アルキ
ルもしくは−スルホニルー低級フルキル、低級アルケニ
ル−チオー低級アルキル、−スルフィニル−低級アルキ
ルもしくは一スルホニルー低級アルキルまたは低級アル
キニル−チオー低級アルキル、−スルフィニル−低級ア
ルキルまたは一スルホニルー低級アルキルであり、各々
の場合未置換またはヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、低
級アルキレンアミノ、低級アルキレノオキシ−低級アル
キレンアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルケニルア
ミノ、低級アルキニルアミノ、フェニル−低級アルキル
アミノ、フェニル−低級アルケニルアミノ、フェニル−
低級アルキニルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、N−
低級アルキル、N−フェニル−低級アルキル−アミノ、
ジ(フェニル−低級アルキル)−アミノ、カルボキシル
(どれは遊離であるかまたは低級アルキル、低級アルケ
ニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキル
、低級アルコキシ−低級アルケニルまたは低級アルコキ
シ−低級アルキニルから誘導されたアルコールによりエ
ステル化されている)、またはカルバモイル(このカル
バモイルにおけるアミノ基は未置換であるかまたは互い
に独立に、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキ
ニル、フェニル−低級アルキル、フェニル−低級アルケ
ニルもしくはフェニル−低級アルキニルによりモノ−も
しくはジ置換されているかまたは低級アルキレンもしく
は低級アルキレノキシ−低級アルキレンによりジ置換さ
れている)遊離置換されている)であり、Rは水素、低
級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルキニルであ
り更にmは0.1または2であり更に基R+、Rz及び
R1の第三番目の基は、前記式Iaの基であり、該式I
a中、ZRはメチレン、低級アルキレン、0 、5(O
)aまたはN (R)であり、Rsはカルボキシル、ハ
ロゲンアルカンスルホニルアミノ、SO,H。
POzHz、 POaLまたは5−テトラゾリルであり
Rは水素、低級アルキル、低級アルケニルもしくは低級
アルキニルでありmは0.1または2であり更に環A及
びBは互いに独立に未置換であるかまたはハロゲンによ
り、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、
低級アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級
アルケニル、低級アルコキシ−低級アルキニル、低級ア
ルケニルオキシ−低級アルキル、低級アルケニルオキシ
−低級アルケニルもしくは低級アルケニルオキシ−低級
アルキニル(これは未置換であるかまたはヒドロキシま
たはハロゲンによって置換されている)により、ヒドロ
キシにより、低級アルコキシにより、低級アルケニルオ
キシにより、カルボキシル(これは遊離であるかまたは
低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級
アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アル
ケニルまたは低級アルコキシ−低級アルキニルから誘導
されたアルコールによりエステル化されている)により
、゛カルバモイル(このカルバモイルにおけるアミノ基
は未置換であるか、または互いに独立に低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルキニル、フェニル−低級アル
キル、フェニル−低級アルケニルもしくはフェニル−低
級アルキニルによりモノ−もしくはジ置換されているか
、または低級アルケンもしくは低級アルキレノキシ−低
級アルキレンによりジ置換されている)によりまたは5
−テトラゾリルにより、置換されており、各々の場合に
おいて芳香族置換基は未置換であるかまたは低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル及
び/またはヒドロキシにより置換されている。
Rは水素、低級アルキル、低級アルケニルもしくは低級
アルキニルでありmは0.1または2であり更に環A及
びBは互いに独立に未置換であるかまたはハロゲンによ
り、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、
低級アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級
アルケニル、低級アルコキシ−低級アルキニル、低級ア
ルケニルオキシ−低級アルキル、低級アルケニルオキシ
−低級アルケニルもしくは低級アルケニルオキシ−低級
アルキニル(これは未置換であるかまたはヒドロキシま
たはハロゲンによって置換されている)により、ヒドロ
キシにより、低級アルコキシにより、低級アルケニルオ
キシにより、カルボキシル(これは遊離であるかまたは
低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級
アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アル
ケニルまたは低級アルコキシ−低級アルキニルから誘導
されたアルコールによりエステル化されている)により
、゛カルバモイル(このカルバモイルにおけるアミノ基
は未置換であるか、または互いに独立に低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルキニル、フェニル−低級アル
キル、フェニル−低級アルケニルもしくはフェニル−低
級アルキニルによりモノ−もしくはジ置換されているか
、または低級アルケンもしくは低級アルキレノキシ−低
級アルキレンによりジ置換されている)によりまたは5
−テトラゾリルにより、置換されており、各々の場合に
おいて芳香族置換基は未置換であるかまたは低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル及
び/またはヒドロキシにより置換されている。
本発明は特に前記式Iの化合物及び適当な場合はその互
変異性体(各々の場合において遊離形態または塩の形態
にある)に関する;該式I中、R+ はハロゲン、カル
ボキシル(これは遊離であるかまたは低級アルキルもし
くは低級アルコキシ−低級アルキルから誘導されたアル
コールによりエステル化されている)、カルバモイル、
シアノ、POsHt −5−テトラゾリル、低級アルカ
ンスルファモイル、低級アルカノイルアミノ、低級アル
カンスルホニルアミノもしくは−Z、−R’ (ここ
においてZ、は結合またはO、S(O)mまたはN (
R)であり、R′は水素もしくは低級アルキルまたは低
級アルコキシ−低級アルキルである)であり、各々の場
合において未置換であるかまたはカルボキシル、低級ア
ルコキシカルボニル、低級アルコキシ−低級アルコキシ
カルボニルまたはヒドロキシルにより置換されており、
Rは水素または低級アルキルであり更にmは0.1また
は2であり、R2は式Iaの基であり、ここにおいてZ
tはメチレン、低級アルキレン、O%S (O) sま
たはN (R)であり、Rは水素または低級アルキルで
あり、mは0゜1または2であり、R3はカルボキシル
または5−テトラゾリルであり更に環へ及びBは互いに
独ル、低級アルコキシ、カル渾キシル、低級アルコキシ
カルボニルまたは5−テトラゾリルであり、R1は低級
アルキルまたは低級アルケニルでありこれらは未置換で
あるかまたはヒドロキシルもしくはハロゲンにより置換
され、更にR4は低級アルキルである。
変異性体(各々の場合において遊離形態または塩の形態
にある)に関する;該式I中、R+ はハロゲン、カル
ボキシル(これは遊離であるかまたは低級アルキルもし
くは低級アルコキシ−低級アルキルから誘導されたアル
コールによりエステル化されている)、カルバモイル、
シアノ、POsHt −5−テトラゾリル、低級アルカ
ンスルファモイル、低級アルカノイルアミノ、低級アル
カンスルホニルアミノもしくは−Z、−R’ (ここ
においてZ、は結合またはO、S(O)mまたはN (
R)であり、R′は水素もしくは低級アルキルまたは低
級アルコキシ−低級アルキルである)であり、各々の場
合において未置換であるかまたはカルボキシル、低級ア
ルコキシカルボニル、低級アルコキシ−低級アルコキシ
カルボニルまたはヒドロキシルにより置換されており、
Rは水素または低級アルキルであり更にmは0.1また
は2であり、R2は式Iaの基であり、ここにおいてZ
tはメチレン、低級アルキレン、O%S (O) sま
たはN (R)であり、Rは水素または低級アルキルで
あり、mは0゜1または2であり、R3はカルボキシル
または5−テトラゾリルであり更に環へ及びBは互いに
独ル、低級アルコキシ、カル渾キシル、低級アルコキシ
カルボニルまたは5−テトラゾリルであり、R1は低級
アルキルまたは低級アルケニルでありこれらは未置換で
あるかまたはヒドロキシルもしくはハロゲンにより置換
され、更にR4は低級アルキルである。
本発明は特に前記式Iの化合物及び適当な場合にはその
互変異性体(各々の場合において遊離形態または塩の形
態にある)に関する;前記式■中、R1はハロゲン、特
に35以下の原子番号を有するハロゲン、例えば塩素で
あり更にカルボキシル、低級アルコキシカルボニル、例
えばメトキシ−もしくはエトキシカルボニル、PO51
h 、5−テトラゾリル、低級アルカノイルアミノ、例
えばアセチルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、
例えばメタンスルホニルアミノ、水素、低級アルキル、
例えばメチル、低級アルコキシ−低級アルキル、例えば
2−メトキシエチル、カルボキシ−低級アルキル、例え
ばカルボキシメチル、低級アルコキシカルボニル−低級
アルキル、例えばエトキシカルボニルメチル、ヒドロキ
シ−低級アルキル、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキ
シ−低級アルコキシ−低級アルキル、例えばヒドロキシ
エトキシメチル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、例え
ばメトキシ1.低級アルコキシ−低級アルコキシ、例え
ば2−メトキシエトキシ、カルボキシ−低級アルコキシ
、例えばアルコキシメトキシ、低級アルコキシカルボニ
ル−低級アルコキシ、例えばエトキシカルボニルメトキ
シ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、例えば2−ヒドロキ
シエトキシ、メルカプト、低級アルキルチオ、例えばメ
チルチオ、低級アルカンスルフィ、ニル、例えばメタン
スルフィニル、低級アルカンスルホニル、例えばメタン
スルホニル、アミノ、低級アルキルアミノ、例えばメチ
ルアミノ、またはジ−低級アルキルアミノ、例えばジメ
チルアミノであり、R2は式Iaの基であり、ここにお
いてz2はメチレンまたは低級アルキレン、例えばエチ
レン、0またはS (O) mであり、mは0.1また
は2であり、Rsはカルボキシルまたは5−テトラゾリ
ルであり更に環A及びBは互いに独立に未置換であるか
または低級アルキル、例えばメチル、ハロゲン、特に3
5以下の原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、また
は低級アルコキシ゛、例えばメトキシにより置換され、
R3はC1〜C,アルキル、例えばn−プロピルまたは
n−ブチルであり更にR4は低級アルキル、例えばメチ
ルまたはn−ブチルであり、ここにおいて各場合におけ
る部分構造を示す「低級Jは、特に7個以下の炭素原子
、好ましくは4個以下の炭素原子を有す・る。
互変異性体(各々の場合において遊離形態または塩の形
態にある)に関する;前記式■中、R1はハロゲン、特
に35以下の原子番号を有するハロゲン、例えば塩素で
あり更にカルボキシル、低級アルコキシカルボニル、例
えばメトキシ−もしくはエトキシカルボニル、PO51
h 、5−テトラゾリル、低級アルカノイルアミノ、例
えばアセチルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、
例えばメタンスルホニルアミノ、水素、低級アルキル、
例えばメチル、低級アルコキシ−低級アルキル、例えば
2−メトキシエチル、カルボキシ−低級アルキル、例え
ばカルボキシメチル、低級アルコキシカルボニル−低級
アルキル、例えばエトキシカルボニルメチル、ヒドロキ
シ−低級アルキル、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキ
シ−低級アルコキシ−低級アルキル、例えばヒドロキシ
エトキシメチル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、例え
ばメトキシ1.低級アルコキシ−低級アルコキシ、例え
ば2−メトキシエトキシ、カルボキシ−低級アルコキシ
、例えばアルコキシメトキシ、低級アルコキシカルボニ
ル−低級アルコキシ、例えばエトキシカルボニルメトキ
シ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、例えば2−ヒドロキ
シエトキシ、メルカプト、低級アルキルチオ、例えばメ
チルチオ、低級アルカンスルフィ、ニル、例えばメタン
スルフィニル、低級アルカンスルホニル、例えばメタン
スルホニル、アミノ、低級アルキルアミノ、例えばメチ
ルアミノ、またはジ−低級アルキルアミノ、例えばジメ
チルアミノであり、R2は式Iaの基であり、ここにお
いてz2はメチレンまたは低級アルキレン、例えばエチ
レン、0またはS (O) mであり、mは0.1また
は2であり、Rsはカルボキシルまたは5−テトラゾリ
ルであり更に環A及びBは互いに独立に未置換であるか
または低級アルキル、例えばメチル、ハロゲン、特に3
5以下の原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、また
は低級アルコキシ゛、例えばメトキシにより置換され、
R3はC1〜C,アルキル、例えばn−プロピルまたは
n−ブチルであり更にR4は低級アルキル、例えばメチ
ルまたはn−ブチルであり、ここにおいて各場合におけ
る部分構造を示す「低級Jは、特に7個以下の炭素原子
、好ましくは4個以下の炭素原子を有す・る。
本発明は特にR8が次式Ib:
5
で表わされる基である式Iの化合物及び適当な場合には
その互変異性体(各々の場合に遊離形態または塩の形態
にある)に関する。
その互変異性体(各々の場合に遊離形態または塩の形態
にある)に関する。
本発明は特に前記式Iの化合物及び適当な場合にはその
互変異性体(各々の場合に遊離形態または塩の形態にあ
る)に関する;前記式中、R1は35以下の原子番号を
有するハロゲン、例えば塩素、ヒドロキシル、炭素原子
4個以下を有する低級アルコキシ、例えばメトキシ、低
級アルコキシ部分に炭素原子4個以下を有する低級アル
コキシ−低級アルコキシ、例えば2−メトキシエトキシ
、炭素原子4個以下を有するヒドロキシ−低級アルコキ
シ、例えば2−ヒドロキシエトキシ、炭素原子4個以下
を有する低級アルキルアミノ、例えばメチルアミノ、ま
たは各低級アルキル部分に炭素原子4個以下を有するジ
−低級アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ・であり
、R1は式Ib(式中、Z:はメチレンである)の基で
あり、Rsはカルボキシルまた番主特に5−テトラゾリ
ルであり更に環A及びBは未置換であり、R1はC1〜
C,アルキル、特にCI””’ Csアルキル、例えば
n−プロピルまたはn−ブチルであり更にR4は炭素原
子4個以下を有する低級アルキル、例えばメチルまたは
n−ブチルである。
互変異性体(各々の場合に遊離形態または塩の形態にあ
る)に関する;前記式中、R1は35以下の原子番号を
有するハロゲン、例えば塩素、ヒドロキシル、炭素原子
4個以下を有する低級アルコキシ、例えばメトキシ、低
級アルコキシ部分に炭素原子4個以下を有する低級アル
コキシ−低級アルコキシ、例えば2−メトキシエトキシ
、炭素原子4個以下を有するヒドロキシ−低級アルコキ
シ、例えば2−ヒドロキシエトキシ、炭素原子4個以下
を有する低級アルキルアミノ、例えばメチルアミノ、ま
たは各低級アルキル部分に炭素原子4個以下を有するジ
−低級アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ・であり
、R1は式Ib(式中、Z:はメチレンである)の基で
あり、Rsはカルボキシルまた番主特に5−テトラゾリ
ルであり更に環A及びBは未置換であり、R1はC1〜
C,アルキル、特にCI””’ Csアルキル、例えば
n−プロピルまたはn−ブチルであり更にR4は炭素原
子4個以下を有する低級アルキル、例えばメチルまたは
n−ブチルである。
本発明は特に前記式Iの化合物及び適当な場合にはその
互変異性体(各々の場合に遊離形態または塩の形態にあ
る)に関する;前記式I中R,はヒドロキシルであり、
R2は弐1b(式中z8はメチレンである゛)の基であ
り、R5は5−テトラゾリルであり更に環A及びBは未
置換であり、R1はC1〜C,アルキル、例えばn−プ
ロピルまたはn−ブチルであり更にR4は炭素原子4個
以下を有する低級アルキル、例えばメチルまたはn−ブ
チルである。
互変異性体(各々の場合に遊離形態または塩の形態にあ
る)に関する;前記式I中R,はヒドロキシルであり、
R2は弐1b(式中z8はメチレンである゛)の基であ
り、R5は5−テトラゾリルであり更に環A及びBは未
置換であり、R1はC1〜C,アルキル、例えばn−プ
ロピルまたはn−ブチルであり更にR4は炭素原子4個
以下を有する低級アルキル、例えばメチルまたはn−ブ
チルである。
本発明は、実際実施例で言及される前記式Iの新規な化
合物並びに適当な場合にはその互変異性体に関し、各々
の場合にそれらは遊離形態または塩の形態にある。
合物並びに適当な場合にはその互変異性体に関し、各々
の場合にそれらは遊離形態または塩の形態にある。
本発明は、更に前記式■で表わされる化合物、および適
当な場合その互変異性体、各々の場合その遊離もしくは
塩の形態の化合物の製法に関し、例えばこの方法は、a
)次式■a: 〔式中、R,、R,’およびR1″の一種は次式■b= (式中、X+ はR3に変換され得る基である)で表わ
される基で・あり、他の二種の基は式Iaの基以外のR
I、R’g又はR1の意味を有する〕で表わされる化合
物又はその互変異性体および/又はその塩においてシ置
換券XlをR3に変換するか、又は b)次式■a: 2 (式中、X2は非変成もしくは官能的に変成されたカル
ボキシである) で表わされる化合物を、次式■b= 1 R4−C−NH2Cmb) (式中、R4は先に定義した意味を有する)で表わされ
る化合物又はその塩と反応させ、さらに各々の場合、所
望により、該方法又は他の方法で得られた式Iの化合物
又はその互変異性体(各場合において、・遊離形態又は
その塩)を式■の別の化合物又はその互変異性体に変換
し、該方法により得ることのできる異性体混合物を分離
し次いで所望の異性体を単離しおよび/又は該方法によ
って得られる式Iの遊離化合物又はその互変異性体を塩
に変換するか、又は該方法によって得られる式Iの化合
物の塩又はその互変異性体を式Iaの遊離化合物もしく
はその互変異性体又は別の塩に変換することを含んでな
る。
当な場合その互変異性体、各々の場合その遊離もしくは
塩の形態の化合物の製法に関し、例えばこの方法は、a
)次式■a: 〔式中、R,、R,’およびR1″の一種は次式■b= (式中、X+ はR3に変換され得る基である)で表わ
される基で・あり、他の二種の基は式Iaの基以外のR
I、R’g又はR1の意味を有する〕で表わされる化合
物又はその互変異性体および/又はその塩においてシ置
換券XlをR3に変換するか、又は b)次式■a: 2 (式中、X2は非変成もしくは官能的に変成されたカル
ボキシである) で表わされる化合物を、次式■b= 1 R4−C−NH2Cmb) (式中、R4は先に定義した意味を有する)で表わされ
る化合物又はその塩と反応させ、さらに各々の場合、所
望により、該方法又は他の方法で得られた式Iの化合物
又はその互変異性体(各場合において、・遊離形態又は
その塩)を式■の別の化合物又はその互変異性体に変換
し、該方法により得ることのできる異性体混合物を分離
し次いで所望の異性体を単離しおよび/又は該方法によ
って得られる式Iの遊離化合物又はその互変異性体を塩
に変換するか、又は該方法によって得られる式Iの化合
物の塩又はその互変異性体を式Iaの遊離化合物もしく
はその互変異性体又は別の塩に変換することを含んでな
る。
式■の化合物の互変異性体及び塩に関して先に述べたこ
とは、それぞれ出発物質の互変異性体及び塩にも同様に
適用される。
とは、それぞれ出発物質の互変異性体及び塩にも同様に
適用される。
基R,に変換されうる基X、は、例えばシアノ、メルカ
プト、ハロゲン、 Nz”A−(式中A−は酸、アミノ
、C0OH,SOコH,POOR14びpoxogの官
能性誘導体である)及びN−保護5−テトラゾリルであ
る。
プト、ハロゲン、 Nz”A−(式中A−は酸、アミノ
、C0OH,SOコH,POOR14びpoxogの官
能性誘導体である)及びN−保護5−テトラゾリルであ
る。
官能的に変性されたカルボキシルは、例えばシアノまた
はエステル化もしくはアミド化カルボキシルである。
はエステル化もしくはアミド化カルボキシルである。
変法において上記及び下記に記載の反応は、自体公知の
方法で行うことが出来、例えば適当な溶剤または希釈剤
もしくはそれらの混合物の存在下で通常行われ、反応は
必要により冷却、室温または加熱しながら、例えば約−
80℃〜反応溶剤の沸点までの温度で、好ましくは約−
10℃〜約+200℃の温度で、更に必要により密閉容
器中、加圧下、不活性ガス雰囲気中及び/または無水条
件下で行うことが出来る。
方法で行うことが出来、例えば適当な溶剤または希釈剤
もしくはそれらの混合物の存在下で通常行われ、反応は
必要により冷却、室温または加熱しながら、例えば約−
80℃〜反応溶剤の沸点までの温度で、好ましくは約−
10℃〜約+200℃の温度で、更に必要により密閉容
器中、加圧下、不活性ガス雰囲気中及び/または無水条
件下で行うことが出来る。
変法a):
5−テトラゾリルR3に変換されうる基X+ は、例え
ばシアノ及びN−保護5−テトラゾリルである。
ばシアノ及びN−保護5−テトラゾリルである。
式■(式中Rsは5〒テトラゾリルである)の化合物を
調製するため、例えば式1Ia(式中X1はシアノであ
る)の出発物質からこの方法を開始し、ついでこれを、
アジド、例えばNH,または特に塩、例えばそのアルカ
リ金属塩または有機錫アジド、例えばトリー低級アルキ
ル−もしくはトリー7リールー錫アジドと反応させる。
調製するため、例えば式1Ia(式中X1はシアノであ
る)の出発物質からこの方法を開始し、ついでこれを、
アジド、例えばNH,または特に塩、例えばそのアルカ
リ金属塩または有機錫アジド、例えばトリー低級アルキ
ル−もしくはトリー7リールー錫アジドと反応させる。
好ましいアジドは、例えばアジ化ナトリウム及びアジ化
カリウム及びトリーCI〜C4アルキル−1例えばトリ
メチル−もしくはトリブチル−錫アジド及びトリフェニ
ル錫アジド、である。
カリウム及びトリーCI〜C4アルキル−1例えばトリ
メチル−もしくはトリブチル−錫アジド及びトリフェニ
ル錫アジド、である。
N−保!15−テトラゾリルに対する適当な保護基は、
例えばテトラゾール化学において通常用いられる保護基
であり、特にトリフェニルメチル、未置換もしくは例え
ばニトロ、例えば4−ニトロベンジル、低級アルコキシ
メチル、例えばメトキシ−もしくはエトキシ−メチル、
低級アルキルチオメチル、例えばメチルチオメチル、並
びに2−シアノエチル更には低級アルコキシ−低級アル
コキシメチル、例えば2−メトキシエトキシメチル、ベ
ンジルオキシメチル及びフェナシルにより置換されたベ
ンジルである。保護基は公知の方法に従うて除去される
。従って例えばトリフェニルメチルは特に酸の存在°下
で加水分解により通常除去されるか、或いはまた水素化
′触媒の存在下、水素化分解することにより除去され、
4−ニトロベンジルは、例えば水素化触媒の存在下水素
化分解することにより除去さ゛れ、メトキシ−もしくは
エトキシ−メチルは、例えばトリー低級アルキル錫臭素
化物、例えばトリエチル−もしくはトリブチル−錫臭素
化物を用いて処理することにより除去され、メチルチオ
メチルは、例えば三フッ化酢酸により処理することによ
り除去され、2−シアノエチルは、例えば水素化ナトリ
ウム溶液を用いて加水分解することにより除去され、2
−メトキシエトキシメチルは、例えば塩酸を用いて加水
分解することにより除去され更にベンジルオキシメチル
及びフェナシルは、例えば水素化触媒の存在下水素化分
解することにより除去される。
例えばテトラゾール化学において通常用いられる保護基
であり、特にトリフェニルメチル、未置換もしくは例え
ばニトロ、例えば4−ニトロベンジル、低級アルコキシ
メチル、例えばメトキシ−もしくはエトキシ−メチル、
低級アルキルチオメチル、例えばメチルチオメチル、並
びに2−シアノエチル更には低級アルコキシ−低級アル
コキシメチル、例えば2−メトキシエトキシメチル、ベ
ンジルオキシメチル及びフェナシルにより置換されたベ
ンジルである。保護基は公知の方法に従うて除去される
。従って例えばトリフェニルメチルは特に酸の存在°下
で加水分解により通常除去されるか、或いはまた水素化
′触媒の存在下、水素化分解することにより除去され、
4−ニトロベンジルは、例えば水素化触媒の存在下水素
化分解することにより除去さ゛れ、メトキシ−もしくは
エトキシ−メチルは、例えばトリー低級アルキル錫臭素
化物、例えばトリエチル−もしくはトリブチル−錫臭素
化物を用いて処理することにより除去され、メチルチオ
メチルは、例えば三フッ化酢酸により処理することによ
り除去され、2−シアノエチルは、例えば水素化ナトリ
ウム溶液を用いて加水分解することにより除去され、2
−メトキシエトキシメチルは、例えば塩酸を用いて加水
分解することにより除去され更にベンジルオキシメチル
及びフェナシルは、例えば水素化触媒の存在下水素化分
解することにより除去される。
5O311Rsに変換されうる基X+ は、例えばメル
カプト基である。このタイプの基を含有する式■の出発
物質は、例えば自体公知の酸化プロセスにより式I(式
中Rcは5O3Hである)の化合物に酸化される。適当
な酸化剤は、例えば無機の過酸、例えば鉱酸の過酸、例
えば過ヨウ素酸もしくは過硫酸、有機過酸、例えば過カ
ルボン酸もしくは過スルホン酸、例えば過ギ酸、過酢酸
、過フフ化過酢酸、過安息香酸もしくはp−トルエン過
スルホン酸、または過酸化水素及び酸の混合物、例えば
過酸化水素及び酢酸の混合物である。酸化は通常適当な
触媒、適当な酸例えば置換もしくは未置換カルボン酸、
例えば酢酸または三フフ化酢酸または遷移金属酸化物、
例えば亜族■の元素の酸化物、例えば酸化モリブデンま
たは酸化タングステン(ごれは触媒とし言及される)の
存在下で行われる0M化は温和な条件の下で、例えば約
−50〜約十100°Cの温度で温和な条件下で行われ
る。
カプト基である。このタイプの基を含有する式■の出発
物質は、例えば自体公知の酸化プロセスにより式I(式
中Rcは5O3Hである)の化合物に酸化される。適当
な酸化剤は、例えば無機の過酸、例えば鉱酸の過酸、例
えば過ヨウ素酸もしくは過硫酸、有機過酸、例えば過カ
ルボン酸もしくは過スルホン酸、例えば過ギ酸、過酢酸
、過フフ化過酢酸、過安息香酸もしくはp−トルエン過
スルホン酸、または過酸化水素及び酸の混合物、例えば
過酸化水素及び酢酸の混合物である。酸化は通常適当な
触媒、適当な酸例えば置換もしくは未置換カルボン酸、
例えば酢酸または三フフ化酢酸または遷移金属酸化物、
例えば亜族■の元素の酸化物、例えば酸化モリブデンま
たは酸化タングステン(ごれは触媒とし言及される)の
存在下で行われる0M化は温和な条件の下で、例えば約
−50〜約十100°Cの温度で温和な条件下で行われ
る。
PO31IJsに変換されうる基XIは、例えば基−N
!″八−基八人基中酸例えば鉱酸のアニオンを意味する
ものと理解されたい、このタイプの対応するジアゾニウ
ム化合物は、例えば自体公知の方法でハロゲン化リン(
酸)、例えばPCj!sまたはPBrsと反応しついで
加水分解により処理され式!(式中R3がPOsHzで
ある)の化合物が得られる。
!″八−基八人基中酸例えば鉱酸のアニオンを意味する
ものと理解されたい、このタイプの対応するジアゾニウ
ム化合物は、例えば自体公知の方法でハロゲン化リン(
酸)、例えばPCj!sまたはPBrsと反応しついで
加水分解により処理され式!(式中R3がPOsHzで
ある)の化合物が得られる。
式Iの化合物(式中R3はPO2H□である)は、例え
ば通常の方法により式IIa(ここでX、はPOJtの
官能性誘導体である)中のX、をPO,H。
ば通常の方法により式IIa(ここでX、はPOJtの
官能性誘導体である)中のX、をPO,H。
に変換することによって得られる。
ハロアルカンスルホニルアミノRsに変換されうる適当
なX、の基は、例えばアミノである0式1 (式中R1
はハロアルカンスルホニルアミノである)の化合物を得
るため、例えば対応するアニリンと、通常の反応性エス
テル化ハロアルカンスルホン酸と反応させ、反応は所望
により塩基の存在下で行われる。適当な好ましい反応性
エステル化ハロアルカンスルホン酸は、対応するハロゲ
ン化物、例えば塩化物もしくは臭化物である。
なX、の基は、例えばアミノである0式1 (式中R1
はハロアルカンスルホニルアミノである)の化合物を得
るため、例えば対応するアニリンと、通常の反応性エス
テル化ハロアルカンスルホン酸と反応させ、反応は所望
により塩基の存在下で行われる。適当な好ましい反応性
エステル化ハロアルカンスルホン酸は、対応するハロゲ
ン化物、例えば塩化物もしくは臭化物である。
C00flRsに変換されうる基X、は、例えば官能的
に変性されたカルボキシル、例えばシアノ、エステル化
もしくはアミド化カルボキシル、ヒドロキジメチルもし
くはホルミルである。
に変性されたカルボキシル、例えばシアノ、エステル化
もしくはアミド化カルボキシル、ヒドロキジメチルもし
くはホルミルである。
エステル化カルボキシルは、例えば置換もしくは未置換
脂肪族、脂環式もしくは芳香族アルコールでエステル化
されたカルボキシルである。脂肪族アルコールは、例え
ば低級アルカノール、例えばメタノール、エタノール、
n−フロパノール、イソプロパツール、n−ブタノール
、第二ブタノールまたは第三ブタノールであり、一方適
当な脂環式アルコールは、例えば、3〜8員環のシクロ
アルカノール、例えばシクロ−ペンタノール、−ヘキサ
ノールもしくは−ヘプタノールである。
脂肪族、脂環式もしくは芳香族アルコールでエステル化
されたカルボキシルである。脂肪族アルコールは、例え
ば低級アルカノール、例えばメタノール、エタノール、
n−フロパノール、イソプロパツール、n−ブタノール
、第二ブタノールまたは第三ブタノールであり、一方適
当な脂環式アルコールは、例えば、3〜8員環のシクロ
アルカノール、例えばシクロ−ペンタノール、−ヘキサ
ノールもしくは−ヘプタノールである。
芳香族アルコールは、例えばフェノールもしくは複素環
式アルコールであり、これらは各々の場合において置換
もしくは未置換であり、例えばヒドロキシピリジン、例
えば2−13−もしくは4−ヒドロキシピリジンである
。
式アルコールであり、これらは各々の場合において置換
もしくは未置換であり、例えばヒドロキシピリジン、例
えば2−13−もしくは4−ヒドロキシピリジンである
。
アミド化カルボキシルは、例えばカルバモイル、ヒドロ
キシ、アミドもしくは置換もしくは未置換フェニルによ
りモノ置換されたカルバモイル、低級アルキルによりモ
ノ−もしくはジ置換されたカルバモイル、または4〜7
R環のアルキレンもしくは3−アザ−13−低級アルキ
ルアザ−、゛3−オキサーもしくは3−チアアルキレン
によりジ置換されたカルバモイルである0例として、カ
ルバモイル、N−モノ−もしくはN、N−ジ−(低級ア
ルキル)カルバモイル、例えばN−メチル−1N−エチ
ル−1N、N−ジメチル−1N、N−ジエチル−及びN
UN−ジプロピル−カルバモイル、ピロイジノー及びピ
ペリジノ−カルバモイル、モノホリノ−、ピペラジノ−
14−メチルピペラジノ−及びチオモルホリノ−カルバ
モイル、アニリノカルバモイル及び低級アルキル、低級
アルコキシ及び/またはハロゲンにより置換されたアニ
リノカルバモイルがあげられる。
キシ、アミドもしくは置換もしくは未置換フェニルによ
りモノ置換されたカルバモイル、低級アルキルによりモ
ノ−もしくはジ置換されたカルバモイル、または4〜7
R環のアルキレンもしくは3−アザ−13−低級アルキ
ルアザ−、゛3−オキサーもしくは3−チアアルキレン
によりジ置換されたカルバモイルである0例として、カ
ルバモイル、N−モノ−もしくはN、N−ジ−(低級ア
ルキル)カルバモイル、例えばN−メチル−1N−エチ
ル−1N、N−ジメチル−1N、N−ジエチル−及びN
UN−ジプロピル−カルバモイル、ピロイジノー及びピ
ペリジノ−カルバモイル、モノホリノ−、ピペラジノ−
14−メチルピペラジノ−及びチオモルホリノ−カルバ
モイル、アニリノカルバモイル及び低級アルキル、低級
アルコキシ及び/またはハロゲンにより置換されたアニ
リノカルバモイルがあげられる。
好ましくは官能的に変性さ、れたカルボキシルは、例え
ば低級アルコキシカルボニル、例え°ばメトキシ−もし
くはエトキシカルボニル及びシアノである。
ば低級アルコキシカルボニル、例え°ばメトキシ−もし
くはエトキシカルボニル及びシアノである。
式I(式中R3はカルボキシルである)の化合物は、例
えば式1Ia(式中、XIはシアノまたはエステル化も
しくはアミド化カルボキシルである)の化合物から出発
し、特に塩基の存在下で加水分解することにより調製す
ることが出来、或いは式1Ia(式中Xlはヒドロキシ
メチルもしくはホルミルである)の化合物から出発し、
酸化することにより調製出来る。酸化は、例えば不活性
溶剤、例えば低級アルカンカルボン酸、例えば酢酸、ケ
トン、例えばアセトン、エーテル、例えばテトラヒドロ
フラン、複素環式芳香族、例えばピリジン、または水、
またはそれらの混合物中で所望により冷却もしくは加温
しながら、例えば約0°〜約十150°Cの温度で行わ
れる。
えば式1Ia(式中、XIはシアノまたはエステル化も
しくはアミド化カルボキシルである)の化合物から出発
し、特に塩基の存在下で加水分解することにより調製す
ることが出来、或いは式1Ia(式中Xlはヒドロキシ
メチルもしくはホルミルである)の化合物から出発し、
酸化することにより調製出来る。酸化は、例えば不活性
溶剤、例えば低級アルカンカルボン酸、例えば酢酸、ケ
トン、例えばアセトン、エーテル、例えばテトラヒドロ
フラン、複素環式芳香族、例えばピリジン、または水、
またはそれらの混合物中で所望により冷却もしくは加温
しながら、例えば約0°〜約十150°Cの温度で行わ
れる。
適当な酸化剤は、例えば酸化性遷移金属化合物、特に亜
族LVIもしくは■の一元素を・有する化1合、物であ
る0例として以下の化合物があげられる:銀化合物、例
えば硝酸銀、酸化銀及びピコリン酸銀、クロム化合物、
例えば二酸化クロム及びり・ロム酸カリウム及びマンガ
ン化合物、例えば過マンガン酸カリウム、過マンガン酸
テトラブチルアンモニウム及びベンジルトリ(エチル)
アンモニウム過マンガン酸塩である。他の酸化剤は、例
えば■属の元素との適当な化合物、例えば二酸化鉛、ま
たはハロゲン−酸素化合物、例えばヨウ、素酸ナトリウ
ムもしくは過ヨウ素カリウムである。
族LVIもしくは■の一元素を・有する化1合、物であ
る0例として以下の化合物があげられる:銀化合物、例
えば硝酸銀、酸化銀及びピコリン酸銀、クロム化合物、
例えば二酸化クロム及びり・ロム酸カリウム及びマンガ
ン化合物、例えば過マンガン酸カリウム、過マンガン酸
テトラブチルアンモニウム及びベンジルトリ(エチル)
アンモニウム過マンガン酸塩である。他の酸化剤は、例
えば■属の元素との適当な化合物、例えば二酸化鉛、ま
たはハロゲン−酸素化合物、例えばヨウ、素酸ナトリウ
ムもしくは過ヨウ素カリウムである。
変法a)は、式、■ (式中基は不飽和基とは異なる意
味を存する)のそれらの化合物の調製に対して適当であ
る。
味を存する)のそれらの化合物の調製に対して適当であ
る。
式I[aの出発物質は、例えば変法b)と同様に出発物
質として次式■C; で表わされる化合物を用いることにより得ることが出来
、この調製は再び自体公知の方法に・より行われ更にこ
れは弐mbの化合物と反応させることによって行われる
。このようにして得られた出発物質I[aにおいてX、
をR,に変化する前に例えばハロゲン原子R1、特に塩
素原子R+を前記及び以下に記載のごとく更に変換する
ことが出来る。
質として次式■C; で表わされる化合物を用いることにより得ることが出来
、この調製は再び自体公知の方法に・より行われ更にこ
れは弐mbの化合物と反応させることによって行われる
。このようにして得られた出発物質I[aにおいてX、
をR,に変化する前に例えばハロゲン原子R1、特に塩
素原子R+を前記及び以下に記載のごとく更に変換する
ことが出来る。
変法b):
所望により、反応は、塩基の存在下で行われる。
適当な塩基はミ例えばアルカリ水酸化物、水素化物、ア
ミド、アルカル−ト、カルボネート、トリフェニルメチ
リド、ジ−低級アルキルアミド、アミノアルキルアミド
もしくは低級アルキルシリルアミド、ナフタレンアミン
、低級アルキルアミン、塩基性複素環式化合物、水酸化
アンモニウム及び単環式アミンである。これらの例は、
水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム及びナトリウムア
ミド、カリウム第三ブチレート及びカルボネート、リチ
ウムトリフェニルメチリド及びジイソプロピ。
ミド、アルカル−ト、カルボネート、トリフェニルメチ
リド、ジ−低級アルキルアミド、アミノアルキルアミド
もしくは低級アルキルシリルアミド、ナフタレンアミン
、低級アルキルアミン、塩基性複素環式化合物、水酸化
アンモニウム及び単環式アミンである。これらの例は、
水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム及びナトリウムア
ミド、カリウム第三ブチレート及びカルボネート、リチ
ウムトリフェニルメチリド及びジイソプロピ。
ルアミド、カリウム3−(アミノプロピル)−アミド及
びビス−(トリメチルシリル)アミド、ジメチルアミノ
ナフタレン、ジ−もしくはトリエチルアミンまたはエチ
ル−ジイソプロピルアミン、N−メチル−ピペリジン、
ピリジン、ベンジ・ルトリメチルーアンモニウム水酸化
物、1,5−ジアザビシクロ(4,3,03ノン−5−
エン(DBN >及び1.8−ジアザビシクロ(5,4
,O)ウンデク−7−エン(DBU )である。
びビス−(トリメチルシリル)アミド、ジメチルアミノ
ナフタレン、ジ−もしくはトリエチルアミンまたはエチ
ル−ジイソプロピルアミン、N−メチル−ピペリジン、
ピリジン、ベンジ・ルトリメチルーアンモニウム水酸化
物、1,5−ジアザビシクロ(4,3,03ノン−5−
エン(DBN >及び1.8−ジアザビシクロ(5,4
,O)ウンデク−7−エン(DBU )である。
式Haの化合物は式11cの化合物に対し前記の方法と
同様の手順により調製出来る。弐mbの化合物は公知で
あるか、自体公知の方法を用いて調製出来る。
同様の手順により調製出来る。弐mbの化合物は公知で
あるか、自体公知の方法を用いて調製出来る。
前記プ・ロセスに従って得ることが出来るかまたは別の
方法によって得ることの出来る式Iの化合物またはその
互変異性体は、自体公知の方法により式■の別の化合物
に変換出来る。
方法によって得ることの出来る式Iの化合物またはその
互変異性体は、自体公知の方法により式■の別の化合物
に変換出来る。
ヒドロキシを含有する式lの化合物は、例えば自体公知
の方法によりエーテル化されうる。エーテル化は、例え
ばアルコール、例えば所望により置換された低級アルカ
ノールまたはその反応性エステルを用いて行うことが出
来る。
の方法によりエーテル化されうる。エーテル化は、例え
ばアルコール、例えば所望により置換された低級アルカ
ノールまたはその反応性エステルを用いて行うことが出
来る。
所望のアルコールの適当な反応性エステルは、例えば強
無機もしくは有機酸との反応性エステル、例えば対応す
るハロゲン化物、スルフェート、低級アルカンスルホネ
ートもしくは未置換もしくは置換ベンゼンスルホネート
、例えば塩素化物、臭素化物、ヨウ素化物またはメタン
−、ベンゼン−もしくはp−゛トルエンスルホネートで
ある。エーテル化は、例えば塩基、例えばアルカリ金属
水素化物、水酸化物°もしくは炭酸塩、または塩基性ア
ミンの存在下で行うことが出来る。特に、対応するエー
テル゛は、例えば低級アルコキシ化合物は、例えばケイ
酸、例えば鉱酸、例えば臭化水素酸もしくはヨウ化水素
酸(これらは好都合にはビーリジウムハロゲン化物の形
態で存在しろる)を用い、またはルイス酸〈例えば■族
の元素もしくは対応する亜族の元素のハロゲン化物を用
いて分解することが出来る。必要ならば、これらの反応
は冷却もしくは加熱しながら、例えば約−202〜約+
100゛Cの温度で、溶剤もしくは希釈剤の存在もしく
は非存在下、不活性ガスの雰囲気中及び/または加圧し
ながら更に適当な場合には密閉容器中で行うことが出来
る。
無機もしくは有機酸との反応性エステル、例えば対応す
るハロゲン化物、スルフェート、低級アルカンスルホネ
ートもしくは未置換もしくは置換ベンゼンスルホネート
、例えば塩素化物、臭素化物、ヨウ素化物またはメタン
−、ベンゼン−もしくはp−゛トルエンスルホネートで
ある。エーテル化は、例えば塩基、例えばアルカリ金属
水素化物、水酸化物°もしくは炭酸塩、または塩基性ア
ミンの存在下で行うことが出来る。特に、対応するエー
テル゛は、例えば低級アルコキシ化合物は、例えばケイ
酸、例えば鉱酸、例えば臭化水素酸もしくはヨウ化水素
酸(これらは好都合にはビーリジウムハロゲン化物の形
態で存在しろる)を用い、またはルイス酸〈例えば■族
の元素もしくは対応する亜族の元素のハロゲン化物を用
いて分解することが出来る。必要ならば、これらの反応
は冷却もしくは加熱しながら、例えば約−202〜約+
100゛Cの温度で、溶剤もしくは希釈剤の存在もしく
は非存在下、不活性ガスの雰囲気中及び/または加圧し
ながら更に適当な場合には密閉容器中で行うことが出来
る。
もしも芳香族の構造成分、低級アルキルチオにより置換
する場合、これは通常の方法で対応する低級アルカン−
スルフィニルもしくは−スルホニルに酸化出来る。スル
ホキシドレベルまで酸化するための適当な酸化剤は、例
えば無機の過酸、例えば鉱酸の過酸、例えば過ヨウ素酸
もしくは過スルホン酸、育機のiltM、例えば過カル
ボン酸もしくは過硫酸、例えば過ギ酸、−過酢酸、三フ
ッ化過酸、過安息香酸もしくはp−トルエン過カルボン
酸、またはilA酸化水素と酸の混合物、例えば過酸化
水素と酢酸の混合物である。酸化はしばしば適当な触媒
の存在下で行われ、触媒は適当な酸、例えば未置換もし
くは置換カルボン酸、例えば酢酸もしくは三フフ化酢酸
であるか、または遷移金属酸化物、例えば亜族■の元素
の酸化物、例えば酸化モリブデンもしくは酸化タングス
テンである。
する場合、これは通常の方法で対応する低級アルカン−
スルフィニルもしくは−スルホニルに酸化出来る。スル
ホキシドレベルまで酸化するための適当な酸化剤は、例
えば無機の過酸、例えば鉱酸の過酸、例えば過ヨウ素酸
もしくは過スルホン酸、育機のiltM、例えば過カル
ボン酸もしくは過硫酸、例えば過ギ酸、−過酢酸、三フ
ッ化過酸、過安息香酸もしくはp−トルエン過カルボン
酸、またはilA酸化水素と酸の混合物、例えば過酸化
水素と酢酸の混合物である。酸化はしばしば適当な触媒
の存在下で行われ、触媒は適当な酸、例えば未置換もし
くは置換カルボン酸、例えば酢酸もしくは三フフ化酢酸
であるか、または遷移金属酸化物、例えば亜族■の元素
の酸化物、例えば酸化モリブデンもしくは酸化タングス
テンである。
酸化は温和な条件の下、例えば約−50°〜約+100
°Cの温度で行われる。スルホンレベルまでの更に酸化
することは、低温度で酸素の存在下触媒として四酸化二
窒素を用いて行うことが出来、低級アルキルチオを低級
アルカンスルホニルまで直接酸化出来る。しかし酸化剤
は通常本発明では過剰に用いられる。
°Cの温度で行われる。スルホンレベルまでの更に酸化
することは、低温度で酸素の存在下触媒として四酸化二
窒素を用いて行うことが出来、低級アルキルチオを低級
アルカンスルホニルまで直接酸化出来る。しかし酸化剤
は通常本発明では過剰に用いられる。
もしも変換基のひとつがアミノを含有する場合、対応す
る化合物は、自体公知の方法でN−(アル)アルキル化
されうる;カルバモイルもしくはカルバモイル含有基1
よ同様にN−(アル)アルキル化されうる。(アル)ア
ルキル化は、例えば(アリール)C1〜C7アルキルハ
ロゲン化物、例えば臭素化物もしくはヨウ素化物、(ア
リール)C8〜C,アルカンスルホネート、例えばメタ
ンスルホネートもしく・はP−)ルエンスルホネート、
またはジ−C3〜C7アルキルスルフエート、例えばジ
メチルスルフェートを用い、好ましくは塩基性条件の下
、例えば水酸化ナトリウム水溶液もしくは水酸化カリウ
ム水溶液の存在中、更に好都合には相転移触媒、例えば
臭素化テトラブチルアンモニウムもしくは塩化ベンジル
トリエチルアンモニウムの存在下で行われ、その場合、
より強力な塩基性縮合剤、例えばアルカリ、金属アミド
水素化物もしくはアルコラード、例えばナトリウムアミ
ド、ナトリウム水素化物もしくはナトリウムエトキシド
が必要となるであろう。
る化合物は、自体公知の方法でN−(アル)アルキル化
されうる;カルバモイルもしくはカルバモイル含有基1
よ同様にN−(アル)アルキル化されうる。(アル)ア
ルキル化は、例えば(アリール)C1〜C7アルキルハ
ロゲン化物、例えば臭素化物もしくはヨウ素化物、(ア
リール)C8〜C,アルカンスルホネート、例えばメタ
ンスルホネートもしく・はP−)ルエンスルホネート、
またはジ−C3〜C7アルキルスルフエート、例えばジ
メチルスルフェートを用い、好ましくは塩基性条件の下
、例えば水酸化ナトリウム水溶液もしくは水酸化カリウ
ム水溶液の存在中、更に好都合には相転移触媒、例えば
臭素化テトラブチルアンモニウムもしくは塩化ベンジル
トリエチルアンモニウムの存在下で行われ、その場合、
より強力な塩基性縮合剤、例えばアルカリ、金属アミド
水素化物もしくはアルコラード、例えばナトリウムアミ
ド、ナトリウム水素化物もしくはナトリウムエトキシド
が必要となるであろう。
置換基としてエステル化もしくはアミド化カルボキシル
基を含有する式Iの化合物において、そのような基は、
例えば塩基性試剤もしくは酸性試剤、例えば鉱酸゛の存
在下、例えば加水分解により遊離カルボキシル基に変換
出来る。
基を含有する式Iの化合物において、そのような基は、
例えば塩基性試剤もしくは酸性試剤、例えば鉱酸゛の存
在下、例えば加水分解により遊離カルボキシル基に変換
出来る。
更に置換基としてカルボキシル基を有する式■の化合物
において(特にR2がカルボキシル以外の場合)、この
化合物は適当なエステル化剤、例えば酸性試剤、例えば
無機もしくは有機酸またはルイス酸、例えば塩化亜鉛、
または水−結合縮合剤、例えばカルボジイミド、例えば
N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミドの存在下ア
ルコール、例えば低級アルカノールを処理することによ
り、或いはまたジアゾ試剤、例えばジアゾ−低級アルカ
ン、例えばジアゾメタンを用いて処理することによりエ
ステル化されたカルボキシル基に変換することが出来る
。このエステル化カルボキシル基はまた、もしも式!
(式中カルボキシル基は、遊離な形態で存在するかまた
は塩の形態、例えばアンモニウムもしくは金属、例えば
アルカリ金属、例えばナトリウムもしくはカリウムの塩
の形態で存在しうる)の化合物を、C5〜C7アルキル
ハロゲン化物、例えばメチルもしくはエチルプロミドも
しぐはヨウ化物を用いるか或いはまた有機スルホン酸エ
ステ、ル、例えば対応するC I”” Ctアルキルエ
ステル、例えばメチルもしくはエチルメタンスルホネー
トもしくはp −、)ルエンスルホネートを用いて処理
することにより得ることが出来る。
において(特にR2がカルボキシル以外の場合)、この
化合物は適当なエステル化剤、例えば酸性試剤、例えば
無機もしくは有機酸またはルイス酸、例えば塩化亜鉛、
または水−結合縮合剤、例えばカルボジイミド、例えば
N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミドの存在下ア
ルコール、例えば低級アルカノールを処理することによ
り、或いはまたジアゾ試剤、例えばジアゾ−低級アルカ
ン、例えばジアゾメタンを用いて処理することによりエ
ステル化されたカルボキシル基に変換することが出来る
。このエステル化カルボキシル基はまた、もしも式!
(式中カルボキシル基は、遊離な形態で存在するかまた
は塩の形態、例えばアンモニウムもしくは金属、例えば
アルカリ金属、例えばナトリウムもしくはカリウムの塩
の形態で存在しうる)の化合物を、C5〜C7アルキル
ハロゲン化物、例えばメチルもしくはエチルプロミドも
しぐはヨウ化物を用いるか或いはまた有機スルホン酸エ
ステ、ル、例えば対応するC I”” Ctアルキルエ
ステル、例えばメチルもしくはエチルメタンスルホネー
トもしくはp −、)ルエンスルホネートを用いて処理
することにより得ることが出来る。
置換基としてエステル化カルボキシル基を含有する式I
の化合物は、エステル交換反応により、例えばアルコー
ル、2通常出発物質におけるエステル化カルボキシル基
に対応するよりもより高級なアルコールを用い、適当な
エステル交換試剤、例えば塩基性試剤、例えばアルカリ
金属C+−Cyアルカノエート、C3〜C−1アルカル
−トもしくはシアニド、例えば酢酸ナトリウム、ナトリ
ウムメトキシド、エトキシド、塩酸ブトキシドもしくは
シアニドまたは適当な酸性試剤例えば蒸留により適当な
場合除去出来るアルコールの存在下で処理することによ
り式Iの他のエステル化合物に変換出来る。置換基(下
記参照)として活性エステル化カルボキシル基を有する
、対応したいわゆる式Iの活性エステルはまた出発物質
として用いることが出来更にこれらはCI−C? ’ア
ルカノールを用いて処理することにより他のエステルに
変換出来る。
の化合物は、エステル交換反応により、例えばアルコー
ル、2通常出発物質におけるエステル化カルボキシル基
に対応するよりもより高級なアルコールを用い、適当な
エステル交換試剤、例えば塩基性試剤、例えばアルカリ
金属C+−Cyアルカノエート、C3〜C−1アルカル
−トもしくはシアニド、例えば酢酸ナトリウム、ナトリ
ウムメトキシド、エトキシド、塩酸ブトキシドもしくは
シアニドまたは適当な酸性試剤例えば蒸留により適当な
場合除去出来るアルコールの存在下で処理することによ
り式Iの他のエステル化合物に変換出来る。置換基(下
記参照)として活性エステル化カルボキシル基を有する
、対応したいわゆる式Iの活性エステルはまた出発物質
として用いることが出来更にこれらはCI−C? ’ア
ルカノールを用いて処理することにより他のエステルに
変換出来る。
置換基としてカルボキシル基を有する式Iの化合物にお
いて、他のカルボキシル基はまず反応性誘導体、例えば
無水物(混合無水物を含む)、酸ハロゲン化物、例えば
塩素化物(例えばハロゲン化チオニル、例えば塩化物を
用いて処理することによる)、ギ酸エステルとの無水物
、例えば01〜C,アルキルエステル(例えば塩、例え
ばアンモニウムもしくはアルカリ金属塩を、ハロゲノ−
例えばクロロ−ギ酸エステル、例えばCI”” Cqア
ルキルエステルで処理することによる)との無水物また
は活性エステル、例えばシアノメチル、ニトロフェニル
、例えば4−ニトロ−フェニル、またはポリハロゲノフ
ェニル、例えばペンタクロロフェニルエステル(例えば
適当な縮合剤、例えばN、N′−−ジシクロへキシルカ
ルボジイミドの存在中対応するヒドロキシル化合物を用
いて処理することによる°)に変換することが出来、更
にこれらの反応性誘導体はついでアミンと反対させ置換
基としてアミド化カルボキシル基を有する式Iのアミド
化合物を与える。この場合これらの化合物は直接にまた
は中間化合物を介して得ることが出来;従って例えばカ
ルボキシル基を有する式Iの化合物の活性エステル、例
えば4−ニトロフェニルエステルをまず1−未置換イミ
ダゾールと反応させついで得られた1−イミダゾリルカ
ルボニル化合物をアミンと反応させる。しかし、また式
Iの化合物の他の非活性エステル、例えばCI〜C7ア
ルキルエステルをアミンと反応させることも可能である
。
いて、他のカルボキシル基はまず反応性誘導体、例えば
無水物(混合無水物を含む)、酸ハロゲン化物、例えば
塩素化物(例えばハロゲン化チオニル、例えば塩化物を
用いて処理することによる)、ギ酸エステルとの無水物
、例えば01〜C,アルキルエステル(例えば塩、例え
ばアンモニウムもしくはアルカリ金属塩を、ハロゲノ−
例えばクロロ−ギ酸エステル、例えばCI”” Cqア
ルキルエステルで処理することによる)との無水物また
は活性エステル、例えばシアノメチル、ニトロフェニル
、例えば4−ニトロ−フェニル、またはポリハロゲノフ
ェニル、例えばペンタクロロフェニルエステル(例えば
適当な縮合剤、例えばN、N′−−ジシクロへキシルカ
ルボジイミドの存在中対応するヒドロキシル化合物を用
いて処理することによる°)に変換することが出来、更
にこれらの反応性誘導体はついでアミンと反対させ置換
基としてアミド化カルボキシル基を有する式Iのアミド
化合物を与える。この場合これらの化合物は直接にまた
は中間化合物を介して得ることが出来;従って例えばカ
ルボキシル基を有する式Iの化合物の活性エステル、例
えば4−ニトロフェニルエステルをまず1−未置換イミ
ダゾールと反応させついで得られた1−イミダゾリルカ
ルボニル化合物をアミンと反応させる。しかし、また式
Iの化合物の他の非活性エステル、例えばCI〜C7ア
ルキルエステルをアミンと反応させることも可能である
。
もしも芳香環が置換基として水素原子を有する場合、こ
れは通常の方法で、例えばハロゲン化試剤によりハロゲ
ン原子により置換せしめることが出来、例えばハロゲン
化炭化水素、例えばクロロホルム中更に冷却しながら、
例えば約−10℃に冷却しながら、通常の方法でハロゲ
ン化剤、例えば臭素、次亜臭素酸、アシル次亜臭素酸も
しくは他の有機臭素化合物、例えばN−ブロモ琥珀酸イ
ミドζN−ブロモアセトアミド、N−ブロモフタルイミ
ド、ピリジウムパープロミド、シオキサンジブロミド、
1.3−ジブロモ−5,5ジメチルヒダントインもしく
は2,4.4.6−テトラプロモー2.5−シアノヘキ
サンジエン−1−オンを用いて臭素により、或いはまた
塩素原子を用いて塩素により置換することが出来る。
れは通常の方法で、例えばハロゲン化試剤によりハロゲ
ン原子により置換せしめることが出来、例えばハロゲン
化炭化水素、例えばクロロホルム中更に冷却しながら、
例えば約−10℃に冷却しながら、通常の方法でハロゲ
ン化剤、例えば臭素、次亜臭素酸、アシル次亜臭素酸も
しくは他の有機臭素化合物、例えばN−ブロモ琥珀酸イ
ミドζN−ブロモアセトアミド、N−ブロモフタルイミ
ド、ピリジウムパープロミド、シオキサンジブロミド、
1.3−ジブロモ−5,5ジメチルヒダントインもしく
は2,4.4.6−テトラプロモー2.5−シアノヘキ
サンジエン−1−オンを用いて臭素により、或いはまた
塩素原子を用いて塩素により置換することが出来る。
もしも芳香環がアミノ基を有する場合、該アミノ基は、
通常ψ方法で、例えば適当なプロトン酸、例えば鉱酸の
存在下、反応温度を好都合には約5°C未満に保持しな
がら、亜硝酸塩、例えば亜硝酸ナトリウムを用いて処理
することによりジアゾ化することが出来る。塩の形態で
存在するこのようにして得られたジアゾニウム化合物は
、通常のプロセスにより、例えば次のごと(置換出来る
:水の存在下で沸騰させながらフェノールに対すると同
様にヒドロキシル基により;対応するアルコールで処理
することによりアルコキシ基によりこの場合エネルギー
を与えなければならない;対応するジアゾニウムテトラ
フルオロボレートの水分解の場合にはジ−マン反応に顕
示してフッ素原子により;または最初に対応するCu(
I)塩と反応させ、冷却させ、例えば5℃以下に冷却さ
せひきつづき加熱、例えば約60°〜約150°Cに加
熱させることによるサンドマイヤー反応に顕示して塩素
、臭素、ヨウ素またはシアノ基により置換されうる。
通常ψ方法で、例えば適当なプロトン酸、例えば鉱酸の
存在下、反応温度を好都合には約5°C未満に保持しな
がら、亜硝酸塩、例えば亜硝酸ナトリウムを用いて処理
することによりジアゾ化することが出来る。塩の形態で
存在するこのようにして得られたジアゾニウム化合物は
、通常のプロセスにより、例えば次のごと(置換出来る
:水の存在下で沸騰させながらフェノールに対すると同
様にヒドロキシル基により;対応するアルコールで処理
することによりアルコキシ基によりこの場合エネルギー
を与えなければならない;対応するジアゾニウムテトラ
フルオロボレートの水分解の場合にはジ−マン反応に顕
示してフッ素原子により;または最初に対応するCu(
I)塩と反応させ、冷却させ、例えば5℃以下に冷却さ
せひきつづき加熱、例えば約60°〜約150°Cに加
熱させることによるサンドマイヤー反応に顕示して塩素
、臭素、ヨウ素またはシアノ基により置換されうる。
もしも式!の化合物が不飽和基、例えば低級アルケニル
もしくは低級アルキニル基を有する場合、これらの基は
自体公知の方法で飽和基に変換されうる。従って、例え
ば多重結合の水素化は、水素化触媒、例えばニッケル、
ラネイニッケル及び貴金属もしくはこれらの誘導体、例
えば酸化物、例えば酸化パラジウムまたは酸化白金(こ
れらは担体、所望ならば、例えば木炭もしくは炭酸カル
シウムに吸着させることが出来る)の存在下で行われる
。水素化は好ましくは加圧下、約1〜約100気圧の下
約−80°〜約+200℃の温度で、特に室温〜約10
0℃の温度で行うことが出来る0反応は好都合には溶剤
、例えば水、低級アルカノール、例えばエタノール、イ
ソプロパツールもしくはn−ブタノール、エーテル、例
えばジオキサン、または低級アルカンカルボン酸、例え
ば酢酸中で行われる。
もしくは低級アルキニル基を有する場合、これらの基は
自体公知の方法で飽和基に変換されうる。従って、例え
ば多重結合の水素化は、水素化触媒、例えばニッケル、
ラネイニッケル及び貴金属もしくはこれらの誘導体、例
えば酸化物、例えば酸化パラジウムまたは酸化白金(こ
れらは担体、所望ならば、例えば木炭もしくは炭酸カル
シウムに吸着させることが出来る)の存在下で行われる
。水素化は好ましくは加圧下、約1〜約100気圧の下
約−80°〜約+200℃の温度で、特に室温〜約10
0℃の温度で行うことが出来る0反応は好都合には溶剤
、例えば水、低級アルカノール、例えばエタノール、イ
ソプロパツールもしくはn−ブタノール、エーテル、例
えばジオキサン、または低級アルカンカルボン酸、例え
ば酢酸中で行われる。
式I(式中、例えば基Rt 、Rx 、Rs及びR
4の一種はハロゲン、例えば塩素である)の化合物にお
いて、ハロゲンは更に、未置換もしくは置換アミンまた
はアルコールもしくはネルカプタンとの反応により置換
されうる。またハロゲン原子R1、特に塩素原子R1を
、例えば金属触媒、例えば(P (CJs) s) g
Pdc j! !の存在下、式A I K3SnR4(
AfK−低級アルキル;R4−所望により置換された低
級アルク−1−エン−1−イルもしくは所望により置換
された低級アルク−1−エン−1−イル)の試剤と反応
させることにより、対応する低級アルク−1−エン−1
−イルもしくは低級アルク−1−エン−1−イル基によ
り置換しついで更にこれは例えばオゾン分解または還元
にゆだねることが出来、これはアルデヒド変性をもたら
し一方これは例えばカルボキシに変換されるかまたは低
級アルキル基の形成に変換されうる。更に対応する塩素
原子R+を、例えばCsFとの反応によりフッ素原子で
置換出来これは一方容易に例えばジアノにより更に求核
置換にゆだねることが出来る。
4の一種はハロゲン、例えば塩素である)の化合物にお
いて、ハロゲンは更に、未置換もしくは置換アミンまた
はアルコールもしくはネルカプタンとの反応により置換
されうる。またハロゲン原子R1、特に塩素原子R1を
、例えば金属触媒、例えば(P (CJs) s) g
Pdc j! !の存在下、式A I K3SnR4(
AfK−低級アルキル;R4−所望により置換された低
級アルク−1−エン−1−イルもしくは所望により置換
された低級アルク−1−エン−1−イル)の試剤と反応
させることにより、対応する低級アルク−1−エン−1
−イルもしくは低級アルク−1−エン−1−イル基によ
り置換しついで更にこれは例えばオゾン分解または還元
にゆだねることが出来、これはアルデヒド変性をもたら
し一方これは例えばカルボキシに変換されるかまたは低
級アルキル基の形成に変換されうる。更に対応する塩素
原子R+を、例えばCsFとの反応によりフッ素原子で
置換出来これは一方容易に例えばジアノにより更に求核
置換にゆだねることが出来る。
本発明は特に実施例に記載される方法に関する。
式Iの化合物の塩は、自体公知の方法で調製することが
出来る。従って、例えば式■の化合物の酸付加塩は、適
当な酸または適当なイオン交換試剤で処理することによ
り得られる0式!の化合物の塩は、常法により遊離化合
物■に変換出来、酸付加塩は例えば適当な塩基性試剤ま
たは適当なイオン交換試剤を用いて処理することにより
変換されうる。
出来る。従って、例えば式■の化合物の酸付加塩は、適
当な酸または適当なイオン交換試剤で処理することによ
り得られる0式!の化合物の塩は、常法により遊離化合
物■に変換出来、酸付加塩は例えば適当な塩基性試剤ま
たは適当なイオン交換試剤を用いて処理することにより
変換されうる。
化合物Iの塩は、自体公知の方法で式Iの他の塩に変換
出来る。
出来る。
塩形成特性、特に塩基性を有する式Iの化合物は、手順
及び反応条件に応じて、遊離形態または塩の形態で得る
ことが出来る。
及び反応条件に応じて、遊離形態または塩の形態で得る
ことが出来る。
・遊離形態の式Iの化合物とその塩の形態における化合
物とは密接な関係にあるので、上記及び以下の遊離化合
物またはその塩とは一般的な意味において同じ意味と理
解されるべきであり更に適当な場合には対応する塩及び
遊離化合物■を意味するものとする。
物とは密接な関係にあるので、上記及び以下の遊離化合
物またはその塩とは一般的な意味において同じ意味と理
解されるべきであり更に適当な場合には対応する塩及び
遊離化合物■を意味するものとする。
塩形成化合物のそれらの塩を含有する式Iの化合物はま
た、それらの水和物の形態で得ることも出来更に及び/
または他の溶剤11例えば結晶化に対して用いられた溶
剤を含有する。
た、それらの水和物の形態で得ることも出来更に及び/
または他の溶剤11例えば結晶化に対して用いられた溶
剤を含有する。
化合物!及びその塩は、出発物質及び手順の選択に応じ
て異性体の一種の形態で或いはまたはそれらの混合物と
して存在することが出来、例えば純粋な異性体として、
例えば対掌体及び/または不整炭素原子の数及び相対的
配置に応じてジアステレオマー、または異性体混合物、
例えばエナンチオマー混合物、例えばラセミ体、ジアス
テレオマー異性体またはラセミ体混合物として存在しう
る。
て異性体の一種の形態で或いはまたはそれらの混合物と
して存在することが出来、例えば純粋な異性体として、
例えば対掌体及び/または不整炭素原子の数及び相対的
配置に応じてジアステレオマー、または異性体混合物、
例えばエナンチオマー混合物、例えばラセミ体、ジアス
テレオマー異性体またはラセミ体混合物として存在しう
る。
得られたジアステレオマー混合物及びラセミ体混合物は
、自体公知の方法、例えば分別結晶により、成分の物理
科学的相違に基づいて純粋なジアステレオマーまたはラ
セミ体に分割出来る。得られたエナンチオマー混合物、
例えばラセミ体は公知の方法により、例えば光学活性溶
剤から再結晶によりまたは適当な微生物を用いキラール
吸着剤によるクロマトグラフィにより、例えばキラール
クラウンエーテルを用い包接化合物の形成を介して(こ
の場合1個のエナンチオマーが錯化される)。
、自体公知の方法、例えば分別結晶により、成分の物理
科学的相違に基づいて純粋なジアステレオマーまたはラ
セミ体に分割出来る。得られたエナンチオマー混合物、
例えばラセミ体は公知の方法により、例えば光学活性溶
剤から再結晶によりまたは適当な微生物を用いキラール
吸着剤によるクロマトグラフィにより、例えばキラール
クラウンエーテルを用い包接化合物の形成を介して(こ
の場合1個のエナンチオマーが錯化される)。
特定の固定化酵素を用いて分解することにより光学対掌
体に分解されるか、或いはまた例えば塩化性目的ラセミ
体を、光学活性の酸、例えばカルボン酸、例えば酒石酸
もしくはリンゴ酸もしくはスルホン酸、例えばカンファ
スルホン酸と反応させることによりジアステレオマー塩
に変換しついで得られたジアステレオマー混合物を例え
ばその溶解性の相違に基づきジアステレオマーに分割す
ることによって光学対掌体に分解するが、この場合目的
エナンチオマーは適当な試剤の作用によって遊離されう
る。より活性なエナンチオマーは好都合に単離される。
体に分解されるか、或いはまた例えば塩化性目的ラセミ
体を、光学活性の酸、例えばカルボン酸、例えば酒石酸
もしくはリンゴ酸もしくはスルホン酸、例えばカンファ
スルホン酸と反応させることによりジアステレオマー塩
に変換しついで得られたジアステレオマー混合物を例え
ばその溶解性の相違に基づきジアステレオマーに分割す
ることによって光学対掌体に分解するが、この場合目的
エナンチオマーは適当な試剤の作用によって遊離されう
る。より活性なエナンチオマーは好都合に単離される。
本発明はまた該プロセスのこれらの態様に関し、ここに
おいてプロセスの任意の工程で中間体として得られる化
合物が出発物質として用いられついで残りの工程が行わ
れるか、或いはまた出発物質が用いられるか或いはまた
特に反応条件下、その誘導体または塩及び/またはその
ラセミ体もしくは対掌体の形態で用いられる。
おいてプロセスの任意の工程で中間体として得られる化
合物が出発物質として用いられついで残りの工程が行わ
れるか、或いはまた出発物質が用いられるか或いはまた
特に反応条件下、その誘導体または塩及び/またはその
ラセミ体もしくは対掌体の形態で用いられる。
特に有用なものとして上述の化合物■に至るこれらの出
発物質及び中間体は、本発明方法によるプロセスにおい
て好ましく用いられる0本発明は同様に、式Iの化合物
の調製に対する新規な出発物質及び中間体に関し、更に
それらの使用及びそれらの調製方法に関し、ここにおい
て基R,,,R,。
発物質及び中間体は、本発明方法によるプロセスにおい
て好ましく用いられる0本発明は同様に、式Iの化合物
の調製に対する新規な出発物質及び中間体に関し、更に
それらの使用及びそれらの調製方法に関し、ここにおい
て基R,,,R,。
Rs及びR4は弐■の化合物に対して定義した意味と同
じである。
じである。
式■の化合物及びそれらの医薬として許容されうる塩は
、好ましくは動物もしくは人体の予防及び/または治療
方法における医薬として許容されうる製剤の形態で、特
に抗高血圧剤として使用されうる。
、好ましくは動物もしくは人体の予防及び/または治療
方法における医薬として許容されうる製剤の形態で、特
に抗高血圧剤として使用されうる。
本発明は同様に有効成分として式Iの本発明に係る化合
物又はその医薬として許容され得る塩を含有する医薬組
成物並びにその調製方法に関する。
物又はその医薬として許容され得る塩を含有する医薬組
成物並びにその調製方法に関する。
本発明に係る化合物又はその医薬として許容され得る塩
を含有する医薬製剤は、温血動物に対する経腸、例えば
経口、更に直腸並びに非経口投与用の製剤であり、この
製剤は医薬活性成分を単独であるいは又医薬的に許容し
得る担体物質と共に含有する。
を含有する医薬製剤は、温血動物に対する経腸、例えば
経口、更に直腸並びに非経口投与用の製剤であり、この
製剤は医薬活性成分を単独であるいは又医薬的に許容し
得る担体物質と共に含有する。
医薬製剤は、例えば約0.1%〜約100%、好ましく
は約1%〜約60%の有効成分を含有する。経腸もしく
は非経口投与用の本発明に係る医薬製剤は、例えば日用
量の形態にあり、例えば糖液錠剤、タブレット、カプセ
ル剤もしくは坐剤更にアンプル剤である。これらの製剤
は、自体公知の方法により、例えば通常の混合、造粒、
糖液、溶解もしくは凍結乾燥方法により製造できる。従
って、経口用の医薬製剤は、有効成分と個体担体を一緒
にすることにより、所望により得られた混合物を造粒す
ることにより次いで所望によりもしくは必要により、錠
剤又゛は糖液錠剤コアを得るため適当な補助剤を添加し
た後に混合剤又は顆粒を加工することによって製造され
る。
は約1%〜約60%の有効成分を含有する。経腸もしく
は非経口投与用の本発明に係る医薬製剤は、例えば日用
量の形態にあり、例えば糖液錠剤、タブレット、カプセ
ル剤もしくは坐剤更にアンプル剤である。これらの製剤
は、自体公知の方法により、例えば通常の混合、造粒、
糖液、溶解もしくは凍結乾燥方法により製造できる。従
って、経口用の医薬製剤は、有効成分と個体担体を一緒
にすることにより、所望により得られた混合物を造粒す
ることにより次いで所望によりもしくは必要により、錠
剤又゛は糖液錠剤コアを得るため適当な補助剤を添加し
た後に混合剤又は顆粒を加工することによって製造され
る。
適当な担体は、特に充てん剤、例えばラクトース、スク
ロース、アニトールもしくはソルビトール、セルロース
製品および/またはリン酸カルシウム、例えばリン酸三
カルシウムもしくはリン酸水素カルシウム、更に結合剤
、例えばとうもろこし、小麦、米を用いたデンプンペー
ストもしくはポテトペースト、ゼラチン、トラガカント
、メチルセルロースおよび/またはポリビニルピロルト
ン、所望により、崩壊剤、例えば上述のデンプン、更に
カルボキシメチルデンプン、架橋ポリビニルピロリドン
、寒天、アルギン酸もしくはその塩、例えばアルギン酸
ナトリウムであり、補助剤は、主に滑剤、流動調整剤、
および潤滑剤、例えばケイ酸、タルク、ステアリン酸、
もしくはその塩、例えばステアリン酸マグネシウムもし
くはカルシウムおよび/またはポリエチレングリコール
である。!被錠剤コアには、特にアラビアゴム、タルク
、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコールおよ
び/又は酸化チタンを含有しうる濃厚糖液、適当な有機
溶剤もしくは溶剤混合物のセラック溶液を用いて適当な
コーチング(これは、胃酸に抵抗する)が設けられ、あ
るいはまた胃酸抵抗コーチングに対しては、適当なセル
ロース製品、例えばアセチルセルロースフタレートもし
くはヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートの
溶液が用いられる0例えば異なる用量の有効成分を同定
もしくは示すための着色剤もしくは顔料が、更に錠剤も
しくは糖皮錠剤コーチングに添加される。
ロース、アニトールもしくはソルビトール、セルロース
製品および/またはリン酸カルシウム、例えばリン酸三
カルシウムもしくはリン酸水素カルシウム、更に結合剤
、例えばとうもろこし、小麦、米を用いたデンプンペー
ストもしくはポテトペースト、ゼラチン、トラガカント
、メチルセルロースおよび/またはポリビニルピロルト
ン、所望により、崩壊剤、例えば上述のデンプン、更に
カルボキシメチルデンプン、架橋ポリビニルピロリドン
、寒天、アルギン酸もしくはその塩、例えばアルギン酸
ナトリウムであり、補助剤は、主に滑剤、流動調整剤、
および潤滑剤、例えばケイ酸、タルク、ステアリン酸、
もしくはその塩、例えばステアリン酸マグネシウムもし
くはカルシウムおよび/またはポリエチレングリコール
である。!被錠剤コアには、特にアラビアゴム、タルク
、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコールおよ
び/又は酸化チタンを含有しうる濃厚糖液、適当な有機
溶剤もしくは溶剤混合物のセラック溶液を用いて適当な
コーチング(これは、胃酸に抵抗する)が設けられ、あ
るいはまた胃酸抵抗コーチングに対しては、適当なセル
ロース製品、例えばアセチルセルロースフタレートもし
くはヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートの
溶液が用いられる0例えば異なる用量の有効成分を同定
もしくは示すための着色剤もしくは顔料が、更に錠剤も
しくは糖皮錠剤コーチングに添加される。
他の経口投与医薬製剤は、乾燥充てんした硬ゼラチンカ
プセル剤であり、更にまたゼラチンおよび可塑剤、例え
ばグリセロールもしくはソルビトールから造られる軟密
閉カプセル剤である。乾燥充てんカプセル剤は、顆粒の
形態、例えば充てん剤、例えばラクトース、結合剤、例
えばデンプンおよび/または潤滑剤例えばタルクまたは
ステアリン酸マグネシウムおよび所望により安定化剤と
の混合物中に有効成分を含をしうる。軟カプセル剤中に
、有効成分は好ましくは適当な液体、例えば脂肪油、パ
ラフィン油もしくは液体ポリエチレングリコール中に懸
濁もしくは溶解され、また安定剤を加えることもできる
。
プセル剤であり、更にまたゼラチンおよび可塑剤、例え
ばグリセロールもしくはソルビトールから造られる軟密
閉カプセル剤である。乾燥充てんカプセル剤は、顆粒の
形態、例えば充てん剤、例えばラクトース、結合剤、例
えばデンプンおよび/または潤滑剤例えばタルクまたは
ステアリン酸マグネシウムおよび所望により安定化剤と
の混合物中に有効成分を含をしうる。軟カプセル剤中に
、有効成分は好ましくは適当な液体、例えば脂肪油、パ
ラフィン油もしくは液体ポリエチレングリコール中に懸
濁もしくは溶解され、また安定剤を加えることもできる
。
直腸投与用の適用な医薬製剤は、例えば坐剤であり、こ
れは有効成分と坐剤基材との組合わせからなる。適当な
坐剤基材は、例えば中性もしくは合成トリグリセリド、
′パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコールもしく
は高級アルカノールである。更に有効成分と基材物質の
組合せを含有するゼラチン直腸カプセル剤も使用できる
。適当な基材物質は、例えば液体トリグリセリド、ポリ
エチレングリコールまたはパラフィン系炭化水素である
。
れは有効成分と坐剤基材との組合わせからなる。適当な
坐剤基材は、例えば中性もしくは合成トリグリセリド、
′パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコールもしく
は高級アルカノールである。更に有効成分と基材物質の
組合せを含有するゼラチン直腸カプセル剤も使用できる
。適当な基材物質は、例えば液体トリグリセリド、ポリ
エチレングリコールまたはパラフィン系炭化水素である
。
非経口投与用の適当な製剤は、特に水溶性の形態、例え
ば水溶性塩中に有効成分を溶解した水性溶液であり、更
にまた対応する油性注入懸濁液の如き有効成分の懸濁液
でありこの場合、適当な親油性溶剤もしくはビヒクル、
例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は°合成脂肪酸エステ
ル、例えばオレイン酸エチルもしくはトリグリセリドが
用いられる、又は粘度増加物質、例えばカルボキシメチ
ルセルロースナトリウム、ソルビトールおよび/または
デキストランおよび所望により安定剤を含有する水性注
入懸濁液である。
ば水溶性塩中に有効成分を溶解した水性溶液であり、更
にまた対応する油性注入懸濁液の如き有効成分の懸濁液
でありこの場合、適当な親油性溶剤もしくはビヒクル、
例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は°合成脂肪酸エステ
ル、例えばオレイン酸エチルもしくはトリグリセリドが
用いられる、又は粘度増加物質、例えばカルボキシメチ
ルセルロースナトリウム、ソルビトールおよび/または
デキストランおよび所望により安定剤を含有する水性注
入懸濁液である。
有効成分の用量は、種々の因子、例えば温血動物の種、
年令、および個々の条件および投与方法に依存する0通
常の場合、適当な日用量は約75kgの患者に対する経
口投与の場合、約10■〜約250■と推定される。
年令、および個々の条件および投与方法に依存する0通
常の場合、適当な日用量は約75kgの患者に対する経
口投与の場合、約10■〜約250■と推定される。
以下の実施例は更に本発明を説明するものであるが、本
発明がこれらに限定されないのはもとよりである。温度
は摂氏で表わされる。rTHFJは、テトラヒドロフラ
ンを意味する。
発明がこれらに限定されないのはもとよりである。温度
は摂氏で表わされる。rTHFJは、テトラヒドロフラ
ンを意味する。
例1 : 6− (n−ブチル)−5−(2’−シアノ
ビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−2−
メチル−ピリミジ7 (910g、2.54a+a+o
f)及びアジ化トリブチル錫(1,68g、 5.08
sa+ojりを0−キシレン(30a11)中速流しな
がら24時間撹拌する0反応混合物を真空下で蒸発させ
、残留物をCHzCj!*/CHsOH/NHs(5:
3 : 1.505!jり テ処理しついで混合物を
30分間撹拌する。真空下で新たに蒸発後、残留物をフ
ラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル60.40〜
63.m5CIIzCj! z/Cll1OII/Ni
1s冒160:10 : 1 )を用いて分離する。6
−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−メチル−5−
(2’−(IH−テトラゾール−5−イル〕ビフェニル
ー4−イルメチル〕−ピリミジンを、無定形固体として
得、これを酢酸エチルから再結晶する。融点236℃(
分解)。
ビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−2−
メチル−ピリミジ7 (910g、2.54a+a+o
f)及びアジ化トリブチル錫(1,68g、 5.08
sa+ojりを0−キシレン(30a11)中速流しな
がら24時間撹拌する0反応混合物を真空下で蒸発させ
、残留物をCHzCj!*/CHsOH/NHs(5:
3 : 1.505!jり テ処理しついで混合物を
30分間撹拌する。真空下で新たに蒸発後、残留物をフ
ラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル60.40〜
63.m5CIIzCj! z/Cll1OII/Ni
1s冒160:10 : 1 )を用いて分離する。6
−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−メチル−5−
(2’−(IH−テトラゾール−5−イル〕ビフェニル
ー4−イルメチル〕−ピリミジンを、無定形固体として
得、これを酢酸エチルから再結晶する。融点236℃(
分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)Nail(ホワイトオイル中80%、2.4g、
55.1sueo j! )を、無水T HF (10
0ajりに溶解したエチル3−オキソヘプタノニー)
(9,5g 、 55.1mn+o 42 )の溶液に
少量ずつ室温で添加する。添加が終了したら、混合物を
30分間撹拌しついで無水テトラヒドロフラン(15(
Id)に溶解した4−ブロモメチル−2′−シアノ−ビ
フェニル(15,0g 、 55.1+mo j! )
の溶液を滴下する0反応混合物を室温で12時間撹拌し
ついで真空下で蒸発させる。残留物を酢酸エチルと水と
の間に分配しついで有機相を水で洗浄しついで飽和塩化
ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥しくNaxSO4)つい
で真空下で蒸発させる。フラッシュクロマトグラフィ
(シリカゲル60.40〜63μ、ヘキサン/酢酸エチ
ル−9:1)により、オイルとしてエチル2− (2’
−シアノビフェニル−4イルメチル)−3−オキソ−ヘ
プタノエートを得、更にこれを直接処理する。
55.1sueo j! )を、無水T HF (10
0ajりに溶解したエチル3−オキソヘプタノニー)
(9,5g 、 55.1mn+o 42 )の溶液に
少量ずつ室温で添加する。添加が終了したら、混合物を
30分間撹拌しついで無水テトラヒドロフラン(15(
Id)に溶解した4−ブロモメチル−2′−シアノ−ビ
フェニル(15,0g 、 55.1+mo j! )
の溶液を滴下する0反応混合物を室温で12時間撹拌し
ついで真空下で蒸発させる。残留物を酢酸エチルと水と
の間に分配しついで有機相を水で洗浄しついで飽和塩化
ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥しくNaxSO4)つい
で真空下で蒸発させる。フラッシュクロマトグラフィ
(シリカゲル60.40〜63μ、ヘキサン/酢酸エチ
ル−9:1)により、オイルとしてエチル2− (2’
−シアノビフェニル−4イルメチル)−3−オキソ−ヘ
プタノエートを得、更にこれを直接処理する。
b)アセトアミド塩酸塩(3,64g 、 38.5i
+so l )を、無水メタノール(45d)に溶解し
たナトリウムメトキシドの溶液に室温で添加する。 1
0分後無水メタノール(30d)に溶解したエチル2−
(2’−シアノビフェニル−4イルメチル)−3−オキ
ソ−ヘプタノエート(7,0g119.26蒙IIII
ojりの溶液を滴下する。黄色懸濁液を50’Cで24
時間撹拌しついで真空下で蒸発させる。残留物を水に懸
濁させついで懸濁液を、IN塩酸でpH5に酸性化しつ
いで酢酸エチルで抽出する。有機相を飽和塩化ナトリウ
ム溶液で洗浄し、乾燥しくNazSO4)ついで蒸発さ
せる。フラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60
.40〜63Is、 CIIzCj! z/CHsOH
−98: 2 )により6−(n−ブチル) −5−(
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒド
ロキシ−2−メチル−ピリミジンを得、これをジエチル
エーテルから再結晶し更に直接処理する。
+so l )を、無水メタノール(45d)に溶解し
たナトリウムメトキシドの溶液に室温で添加する。 1
0分後無水メタノール(30d)に溶解したエチル2−
(2’−シアノビフェニル−4イルメチル)−3−オキ
ソ−ヘプタノエート(7,0g119.26蒙IIII
ojりの溶液を滴下する。黄色懸濁液を50’Cで24
時間撹拌しついで真空下で蒸発させる。残留物を水に懸
濁させついで懸濁液を、IN塩酸でpH5に酸性化しつ
いで酢酸エチルで抽出する。有機相を飽和塩化ナトリウ
ム溶液で洗浄し、乾燥しくNazSO4)ついで蒸発さ
せる。フラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60
.40〜63Is、 CIIzCj! z/CHsOH
−98: 2 )により6−(n−ブチル) −5−(
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒド
ロキシ−2−メチル−ピリミジンを得、これをジエチル
エーテルから再結晶し更に直接処理する。
例2 : 5− (2’−ジアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−ヒドロキシ−2−メチル−6−(n−プ
ロピル)−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発
し、4−ヒドロキシ−2−メチル−6−(n−プロピル
)−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチル)−ピリミジンを、例1に
記載したと同様に得る。酢酸エチルから白色の結晶物を
得る。融点206°C(分解)。
メチル)−4−ヒドロキシ−2−メチル−6−(n−プ
ロピル)−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発
し、4−ヒドロキシ−2−メチル−6−(n−プロピル
)−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチル)−ピリミジンを、例1に
記載したと同様に得る。酢酸エチルから白色の結晶物を
得る。融点206°C(分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)エチル3−オキソヘキサノエートを、例Ia)にお
いて記載したと同様に4−ブロモメチル−2′−シアノ
−ビフェニルを用いてアルキル化し、エチル2− (2
’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキソ
−ヘキサノエートを得、これをフラッジ・エクロマトグ
ラフイ(シリカゲル60.40〜63μ、・ヘキサン/
酢酸エチル■4:1)によりオイルとして精製する。こ
れを更に直接処理する。
いて記載したと同様に4−ブロモメチル−2′−シアノ
−ビフェニルを用いてアルキル化し、エチル2− (2
’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキソ
−ヘキサノエートを得、これをフラッジ・エクロマトグ
ラフイ(シリカゲル60.40〜63μ、・ヘキサン/
酢酸エチル■4:1)によりオイルとして精製する。こ
れを更に直接処理する。
b)例1b)において記載したと同様に、エチル2−
(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オ
キソ−ヘキサノエートをアセタミジン塩酸塩及びナトリ
ウムメトキシドをメタノール中で反応させ、5− (2
’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロ
キシ−2−メチル−6−(n−プロピル)−ピリミジン
を得る。これを更に直接処理する。
(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オ
キソ−ヘキサノエートをアセタミジン塩酸塩及びナトリ
ウムメトキシドをメタノール中で反応させ、5− (2
’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロ
キシ−2−メチル−6−(n−プロピル)−ピリミジン
を得る。これを更に直接処理する。
例3:6−(n−ブチル)−5−(2’−ビアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−
プロピル)−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出
発し、例1で記載したと同様に6−(n−ブチル)−4
−ヒドロキシ−2−(n−プロピル) −5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチルツーピリミジンを得る。インプロパツール/
ジエチルエーテルから白色の結晶を得る。融点208℃
〜210℃。
ニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−
プロピル)−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出
発し、例1で記載したと同様に6−(n−ブチル)−4
−ヒドロキシ−2−(n−プロピル) −5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチルツーピリミジンを得る。インプロパツール/
ジエチルエーテルから白色の結晶を得る。融点208℃
〜210℃。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)例1b)に記載したと同様にエチル2−(2′−シ
アノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキソ−ヘプ
タノエートを、ブチラミジン塩酸塩及びナトリウムメト
キシドとエタノール中で反応させ、6−(n−ブチル)
−5−(2’−シアノビフェルニー4−イルメチル)−
4−ヒドロキシ−2−(n−プロピル)−ピリミジンを
得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル6
0.40〜63−5cuzc f t/CHsOH謂9
B:2)により精製する。これを直接更に処理する。
アノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキソ−ヘプ
タノエートを、ブチラミジン塩酸塩及びナトリウムメト
キシドとエタノール中で反応させ、6−(n−ブチル)
−5−(2’−シアノビフェルニー4−イルメチル)−
4−ヒドロキシ−2−(n−プロピル)−ピリミジンを
得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル6
0.40〜63−5cuzc f t/CHsOH謂9
B:2)により精製する。これを直接更に処理する。
例4 : 5− (2’−シアノビフェニル−4−イル
メチル)−2°、6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロ
キシ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、
2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(
2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニ
ル−4−イルメチルツーピリミジンを、例1で記載した
と同様に得る。酢酸エチルから白色結晶物を得る。融点
212°C〜213°C0 出発物質は例えば次のように調製することが出来る: a)例1b)で記載したと同様の方法で、エチル2−
(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オ
キソ−ヘプタノエートを、バレラミジン塩酸塩及びナト
リウムメトキシドとメタノール中で反応させ、5− (
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル) −2、6
−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジンを
得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル6
0.40〜63μ、CHxC1x/CHsOH−98:
2)により精製する。
メチル)−2°、6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロ
キシ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、
2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(
2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニ
ル−4−イルメチルツーピリミジンを、例1で記載した
と同様に得る。酢酸エチルから白色結晶物を得る。融点
212°C〜213°C0 出発物質は例えば次のように調製することが出来る: a)例1b)で記載したと同様の方法で、エチル2−
(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オ
キソ−ヘプタノエートを、バレラミジン塩酸塩及びナト
リウムメトキシドとメタノール中で反応させ、5− (
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル) −2、6
−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジンを
得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル6
0.40〜63μ、CHxC1x/CHsOH−98:
2)により精製する。
これを更に直接処理する。
例5:6−(’n−ブチル)−4−クロロ−5−(2′
−シアノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−
ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、6−(
n−ブチル)−4−クロロ−2−メチル−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4
−イルメチルツーピリミジンを例1で記載したと同様に
無定形固体として得る。融点120℃〜122℃。
−シアノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−
ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、6−(
n−ブチル)−4−クロロ−2−メチル−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4
−イルメチルツーピリミジンを例1で記載したと同様に
無定形固体として得る。融点120℃〜122℃。
出発物質は例えば次のよう調製することが出来る:
a)N、N−ジメチルアミリン(1,67m: 13.
15sago j! )及び6−(n−ブチル)−4−
ヒドロキシ−2−メチル−5−一(2’−シアノビツメ
ニル−4−イルメチル)−ピリミジン(4,7g、 1
3.15m+ao 12 )を秤量しPO(/!s 1
1mgに0℃で撹拌しながら投入する0反応混合物をゆ
っくり加温しついで1.5時間還流しながら撹拌する0
反応混合物を20〜25℃の水中に注ぎつづいて30分
間放置する。
15sago j! )及び6−(n−ブチル)−4−
ヒドロキシ−2−メチル−5−一(2’−シアノビツメ
ニル−4−イルメチル)−ピリミジン(4,7g、 1
3.15m+ao 12 )を秤量しPO(/!s 1
1mgに0℃で撹拌しながら投入する0反応混合物をゆ
っくり加温しついで1.5時間還流しながら撹拌する0
反応混合物を20〜25℃の水中に注ぎつづいて30分
間放置する。
ついでジエチルエーテルで抽出する。有機相を乾燥しく
Na1SOn)ついで蒸発させ、残留物をフラッシュク
ロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜63μ、C
HtCj! りにより精製する。6−(n−ブチル)−
4−クロロ−5−(2’−シアノビフェニル−4−イル
メチル)−2−メチル−ピリミジンを得、これは更に直
接処理することが出来る。
Na1SOn)ついで蒸発させ、残留物をフラッシュク
ロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜63μ、C
HtCj! りにより精製する。6−(n−ブチル)−
4−クロロ−5−(2’−シアノビフェニル−4−イル
メチル)−2−メチル−ピリミジンを得、これは更に直
接処理することが出来る。
例6 : 6− (n−ブチル)−5−(2’−シアノ
ビフェニル−4−イルメチル)−4−メトキシ−2−メ
チル−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、
例1で記載したと同様に6−(n−ブチル)−4−メト
キシ−2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾー
ル−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリ
ミジンを得る。
ビフェニル−4−イルメチル)−4−メトキシ−2−メ
チル−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、
例1で記載したと同様に6−(n−ブチル)−4−メト
キシ−2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾー
ル−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリ
ミジンを得る。
酢酸エチル/ジエチルエーテルから再結晶して白色結晶
物を得る。融点113℃〜115℃。
物を得る。融点113℃〜115℃。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)無水メタノール(10I!11)に溶解した6−(
n−ブチル)−4−クロロ−5−(2’−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン(1
,0g、 2.66ssojりを、無水メタノール(5
d)に溶解したナトリウムメトキシド(355■、・6
.38+wsojりの溶液に滴下する0反応混合物を室
温で24時間撹拌しついで真空下で蒸発させる。残留物
を酢酸エチルと水との間に溶解しついで有機相と水つい
で飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥しくNam5
O4)ついで真空下で蒸発させる。粗製生成物をフラッ
シュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜63−
1CHzCj! g/CHsOH−98:2)により精
製する。6−(n−ブチル)−5−(2′−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−メトキシ−2−メチル
−ピリミジンを得、これは直接処理することが出来る。
n−ブチル)−4−クロロ−5−(2’−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン(1
,0g、 2.66ssojりを、無水メタノール(5
d)に溶解したナトリウムメトキシド(355■、・6
.38+wsojりの溶液に滴下する0反応混合物を室
温で24時間撹拌しついで真空下で蒸発させる。残留物
を酢酸エチルと水との間に溶解しついで有機相と水つい
で飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥しくNam5
O4)ついで真空下で蒸発させる。粗製生成物をフラッ
シュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜63−
1CHzCj! g/CHsOH−98:2)により精
製する。6−(n−ブチル)−5−(2′−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−メトキシ−2−メチル
−ピリミジンを得、これは直接処理することが出来る。
例7 : 6− (n−ブチル)−5−(2’−シアノ
ビフェニル−4−イルメチル)−4−(2−メトキシ−
エトキシ)−2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブ
チル錫から出発し、例1で記載したと同様に6−(n−
ブチル)−4−(2−メトキシエトキシ)2−メチル−
5(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェ
ニル−4−イルメチル〕−ピリミジンを得る。酢酸エチ
ル/ヘキサンから白色結晶物を得る。融点133℃〜1
35℃。
ビフェニル−4−イルメチル)−4−(2−メトキシ−
エトキシ)−2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブ
チル錫から出発し、例1で記載したと同様に6−(n−
ブチル)−4−(2−メトキシエトキシ)2−メチル−
5(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェ
ニル−4−イルメチル〕−ピリミジンを得る。酢酸エチ
ル/ヘキサンから白色結晶物を得る。融点133℃〜1
35℃。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)ナトリウム(122■、5.32鵬−on)を、室
温で10I11の2−メトキシエタノールに溶解しつい
で、2−メトキシエタノール(5d)に溶解した6−(
n−ブチル)−4−クロロ−5−(2’−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン(1
,0g 、 2・、66sv+o l )の溶液を滴下
する0反応混合物を室温で24時間撹拌しついで真空下
で蒸発する。残留物と酢酸エチルと水との間に分配しつ
いで有機相を水及び飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
乾燥しくNa1SOn)ついで真空下で蒸発させる。粗
製生成物をフラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル
60.40〜63J!m、 CToCj! g/CHs
OH−98=2)により精製する。6−(n−ブチル)
−5−(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−
4−(2−メトキシエトキシ)−2−メチル−ピリミジ
ンを得、これは更に直接処理することが出来る。
温で10I11の2−メトキシエタノールに溶解しつい
で、2−メトキシエタノール(5d)に溶解した6−(
n−ブチル)−4−クロロ−5−(2’−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン(1
,0g 、 2・、66sv+o l )の溶液を滴下
する0反応混合物を室温で24時間撹拌しついで真空下
で蒸発する。残留物と酢酸エチルと水との間に分配しつ
いで有機相を水及び飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
乾燥しくNa1SOn)ついで真空下で蒸発させる。粗
製生成物をフラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル
60.40〜63J!m、 CToCj! g/CHs
OH−98=2)により精製する。6−(n−ブチル)
−5−(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−
4−(2−メトキシエトキシ)−2−メチル−ピリミジ
ンを得、これは更に直接処理することが出来る。
例8 : 6− (n−ブチル)−5−(2’−シアノ
ビフェニル−4−イルメチル)−4−ジメチルアミノ−
2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出
発し、例1に記載したと同様に6−(n−ブチル)−4
−ジメチルアミノ−2−メチル−5−(2’ −(IH
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ル〕−ピリミジンを得る。アセトンから再結晶して白色
結晶物を得る。融点195℃〜197℃。
ビフェニル−4−イルメチル)−4−ジメチルアミノ−
2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出
発し、例1に記載したと同様に6−(n−ブチル)−4
−ジメチルアミノ−2−メチル−5−(2’ −(IH
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ル〕−ピリミジンを得る。アセトンから再結晶して白色
結晶物を得る。融点195℃〜197℃。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)ジメチルアミン(エタノール中33%、1.9me
)を、エタノール(10a1)に溶解した6−(n−ブ
チル)−4−クロロ−5−(2’−シアノビフェニル−
4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン(1,0g
、 2.66a+mojりの溶液に添加する。
)を、エタノール(10a1)に溶解した6−(n−ブ
チル)−4−クロロ−5−(2’−シアノビフェニル−
4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン(1,0g
、 2.66a+mojりの溶液に添加する。
反応混合物を24時間還流しながら撹拌しついで真空下
で蒸発させる。残留物酢酸エチルと水との間に分配しつ
いで有機相を水及び飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
乾燥しくNazSOn)ついで真空下で蒸発させる。粗
製生成物をフラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル
60.40〜63μ、CHzCj! z/Cl30H−
98:2)により精製する。6 (n−ブチル)−5
−(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−
ジメチルアミノ−2−メチル−ピリミジンを得、これは
更に直接処理することが出来る。
で蒸発させる。残留物酢酸エチルと水との間に分配しつ
いで有機相を水及び飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
乾燥しくNazSOn)ついで真空下で蒸発させる。粗
製生成物をフラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル
60.40〜63μ、CHzCj! z/Cl30H−
98:2)により精製する。6 (n−ブチル)−5
−(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−
ジメチルアミノ−2−メチル−ピリミジンを得、これは
更に直接処理することが出来る。
例9:6−(M−ブチル)−5−(2’−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプ
ロピル−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し
、6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロ
ピル−5−(2″−(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンを例1で記
載したと同様に得る。融点234℃〜236°C(イソ
プロパツール/ジエチルエーテルより、分解)。
ニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプ
ロピル−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し
、6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロ
ピル−5−(2″−(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンを例1で記
載したと同様に得る。融点234℃〜236°C(イソ
プロパツール/ジエチルエーテルより、分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)エチル2−(2’−シアノビフェニル−4−イルメ
チル)−3−オキソ−ヘプタノエートを、イソブチルア
ミジン塩酸塩及びナトリウムメトキシドとメタノール中
で例1b)に記載したと同様に反応させ、6−(n−ブ
チル”)−5−(2’ −シアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−ピリミ
ジンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ (シリ
カゲル60.40〜63μ、CHzCj! */CHコ
0H−98:2)により精製しついで更に直接処理する
。
チル)−3−オキソ−ヘプタノエートを、イソブチルア
ミジン塩酸塩及びナトリウムメトキシドとメタノール中
で例1b)に記載したと同様に反応させ、6−(n−ブ
チル”)−5−(2’ −シアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−ピリミ
ジンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ (シリ
カゲル60.40〜63μ、CHzCj! */CHコ
0H−98:2)により精製しついで更に直接処理する
。
例10:エタノールに溶解した2、711のINのKO
H溶液を、60Jdのエタノールに懸濁せしめた2゜6
−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’
−(IN−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチル〕−ピリミジン(1,2g。
H溶液を、60Jdのエタノールに懸濁せしめた2゜6
−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’
−(IN−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチル〕−ピリミジン(1,2g。
2.7a+aoIりの懸濁液に添加しついで得られた溶
液を真空下で蒸発させる。イソプロパツール添加後、結
晶化が始まる。結晶を濾別しついで100°Cで真空下
で乾燥させる。かくして2,6−ジ−(n−ブチル)−
4−ヒドロキシ−5−(2’(IN−テトラ、ゾール−
5−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジン
のカリウム塩を得る。融点276〜278°C(分解)
。
液を真空下で蒸発させる。イソプロパツール添加後、結
晶化が始まる。結晶を濾別しついで100°Cで真空下
で乾燥させる。かくして2,6−ジ−(n−ブチル)−
4−ヒドロキシ−5−(2’(IN−テトラ、ゾール−
5−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジン
のカリウム塩を得る。融点276〜278°C(分解)
。
例11:エタノールに溶解した2、6−ジ−(n−ブチ
ル)−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IH−テトラ
ゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル)−ピ
リミジン及びIN水酸化ナトリウムから出発し、例10
で記載したと同様の方法で2.6−ジ−(n−ブチル)
−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IN−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミ
ジンのナトリウム塩を得、′これをアセトニトリルから
再結晶する。融点333℃〜335°C(分解)。
ル)−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IH−テトラ
ゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル)−ピ
リミジン及びIN水酸化ナトリウムから出発し、例10
で記載したと同様の方法で2.6−ジ−(n−ブチル)
−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IN−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミ
ジンのナトリウム塩を得、′これをアセトニトリルから
再結晶する。融点333℃〜335°C(分解)。
例12:6−(ブドー1−エン−4−イル)−2−(n
−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジン及びアジ化トリ
ブチル錫から出発し、6−(ブドーl−エン−4−イル
)−2−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4
−イルメチル)−ピリミジンを例1で記載したと同様に
得る。融点203°C〜205°C(酢酸/水より;分
解)。
−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジン及びアジ化トリ
ブチル錫から出発し、6−(ブドーl−エン−4−イル
)−2−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4
−イルメチル)−ピリミジンを例1で記載したと同様に
得る。融点203°C〜205°C(酢酸/水より;分
解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)例Ia)で記載したと同様の方法でエチル3−オキ
ソ−ヘプト−6−エノエートを4−ブロモメチル−2′
−シアノ−ビフェニルでアルキル化し、エチル2− (
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル エートを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリ
カゲル60、40〜634、ヘキサン/酢酸エチル−9
:1)により精製しついでこれを直接処理する。
ソ−ヘプト−6−エノエートを4−ブロモメチル−2′
−シアノ−ビフェニルでアルキル化し、エチル2− (
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル エートを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリ
カゲル60、40〜634、ヘキサン/酢酸エチル−9
:1)により精製しついでこれを直接処理する。
b)例1b)で記載したと同様の方法でメタノール中エ
チル2− (2’−シアノビフェニル−4−イルメチル
)−3−オキソ−ヘプト−6−エノエートをバレラミジ
ン塩酸塩と反応させ、6−(ブドー1−エン−4−イル
)−2−(n−ブチル)−5− (2’ −シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲ
ル60、40〜6311m1・酢酸エチル/ヘキサン−
1,:1)により精製しついでこれを直接処理する。
チル2− (2’−シアノビフェニル−4−イルメチル
)−3−オキソ−ヘプト−6−エノエートをバレラミジ
ン塩酸塩と反応させ、6−(ブドー1−エン−4−イル
)−2−(n−ブチル)−5− (2’ −シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲ
ル60、40〜6311m1・酢酸エチル/ヘキサン−
1,:1)により精製しついでこれを直接処理する。
例13:例1に記載したと同様の方法で、4−アミノ−
6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−
4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン及びアジ化
トリブチル錫から出発し、4−アミノ−6−(n−ブチ
ル)−2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミ
ジンを得る。
6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−
4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジン及びアジ化
トリブチル錫から出発し、4−アミノ−6−(n−ブチ
ル)−2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミ
ジンを得る。
融点177°C〜179℃(メタノールより;分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)6−(n−ブチル)−4−クロロ−5−(2′−シ
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(O,2g 、 0.53iemo j! )、
及び10mのエタノールに溶解した21i!のアン毎ニ
アを、120°Cで4時間鉛容器チューブ内に保持する
。
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(O,2g 、 0.53iemo j! )、
及び10mのエタノールに溶解した21i!のアン毎ニ
アを、120°Cで4時間鉛容器チューブ内に保持する
。
真空下で蒸発後、残留物をフラッシュクロマトグラフィ
(シリカゲル60.40〜63−1CHtCj! z
/CHsOH−95:5)により精製する。4−アミ、
ノー6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニ
ル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジンを得、
これは更に直接処理することが出来る。
(シリカゲル60.40〜63−1CHtCj! z
/CHsOH−95:5)により精製する。4−アミ、
ノー6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニ
ル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリミジンを得、
これは更に直接処理することが出来る。
例14:6−(n−ブチル)−’5− (2’−シアノ
ビフ五ニルー4−イルメチル)−2−メチル−4−メチ
ルチオ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し
、例1で記載したと同様に6−(n−ブチル)°−2−
メチルー4−メチルチオー5=(2’−(IH−テトラ
ゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピ
リミジンを得る。融点176°C〜17「C(酢酸エチ
ルより;分解)。
ビフ五ニルー4−イルメチル)−2−メチル−4−メチ
ルチオ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し
、例1で記載したと同様に6−(n−ブチル)°−2−
メチルー4−メチルチオー5=(2’−(IH−テトラ
ゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピ
リミジンを得る。融点176°C〜17「C(酢酸エチ
ルより;分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)6−(n−ブチル)−4−クロロ−5−(2′−シ
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(1,0g 、 2.66mmo j! )及び
ナトリウムメタンチオラート(O,21g、 2.92
mmo j! )を10ad!の1.3−ジメチル−3
,4,5゜6−チトラヒドロー2(IH)−ピリミジン
中室温で6時間撹拌する0反応混合物を水−に注ぎつい
で酢酸エチルで抽出する。有機相を、水で完全に洗浄し
、乾燥しくNaxso4)ついで真空下で蒸発させる。
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(1,0g 、 2.66mmo j! )及び
ナトリウムメタンチオラート(O,21g、 2.92
mmo j! )を10ad!の1.3−ジメチル−3
,4,5゜6−チトラヒドロー2(IH)−ピリミジン
中室温で6時間撹拌する0反応混合物を水−に注ぎつい
で酢酸エチルで抽出する。有機相を、水で完全に洗浄し
、乾燥しくNaxso4)ついで真空下で蒸発させる。
フラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60、40
〜63−、ヘキサン/酢酸エチル−=4:1)により6
−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−4
−イルメチル)−2−メチル−4−メチルチオ−ピリミ
ジンを得、これは直接処理する。
〜63−、ヘキサン/酢酸エチル−=4:1)により6
−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−4
−イルメチル)−2−メチル−4−メチルチオ−ピリミ
ジンを得、これは直接処理する。
例15:6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−2−エチル−4−ヒドロキ
シ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、例
1で記載したと同様の方法で6−(n−ブチル)−2−
エチル−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IH−テト
ラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツー
ピリミジンを得る。融点235°C〜237°C(イソ
プロパツールより;分解)。
ェニル−4−イルメチル)−2−エチル−4−ヒドロキ
シ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、例
1で記載したと同様の方法で6−(n−ブチル)−2−
エチル−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IH−テト
ラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツー
ピリミジンを得る。融点235°C〜237°C(イソ
プロパツールより;分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)例1b)で記載したと同様の方法でエチル2− (
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキ
ソ−ヘプタノエートを、プロピオンアミジン塩酸塩及び
ナトリウムメトキシドとメタノール中で反応させ、6−
(n−ブチル)−5−(2′−シアノビフェニル−4−
イルメチル)−2−エチル−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲ
ル60.40〜63μ1.1xCj! x/Cl30H
=98 : 2 )により精製しついで直接更に処理す
る。
2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキ
ソ−ヘプタノエートを、プロピオンアミジン塩酸塩及び
ナトリウムメトキシドとメタノール中で反応させ、6−
(n−ブチル)−5−(2′−シアノビフェニル−4−
イルメチル)−2−エチル−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲ
ル60.40〜63μ1.1xCj! x/Cl30H
=98 : 2 )により精製しついで直接更に処理す
る。
例16:6−(n−ブチル)−5−(2’−シクロビフ
ェニル−4−、イルメチル)−4−(2−ヒドロキシ−
エトキシ)−2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブ
チル錫から出発し、例1で記載したと同様の方法で6−
(n−ブチル)−4−(2−ヒドロキシエトキシ)−2
−メチル−5−〔2′−(IH−テトラゾール−5−イ
ル)ビフ二二ルー4−イルメチル〕−ピリミジンを得る
。
ェニル−4−、イルメチル)−4−(2−ヒドロキシ−
エトキシ)−2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブ
チル錫から出発し、例1で記載したと同様の方法で6−
(n−ブチル)−4−(2−ヒドロキシエトキシ)−2
−メチル−5−〔2′−(IH−テトラゾール−5−イ
ル)ビフ二二ルー4−イルメチル〕−ピリミジンを得る
。
融点168℃〜170°C(酢酸エチルより;分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)6−(n−ブチル)−4−クロロ−5−(2′−シ
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(1,0g、 2.6ssgojりを、20mの
エチレングリコールに溶解したナトリウム(O,12g
、 5.3a+mo j! )の溶液に添加しついで
反応混合物を100℃で3時間撹拌する。真空下で蒸発
後、残留物を酢酸エチルと水との間に分配しついで有機
相を硫酸ナトリウムで乾燥し更に真空下で蒸発させる。
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(1,0g、 2.6ssgojりを、20mの
エチレングリコールに溶解したナトリウム(O,12g
、 5.3a+mo j! )の溶液に添加しついで
反応混合物を100℃で3時間撹拌する。真空下で蒸発
後、残留物を酢酸エチルと水との間に分配しついで有機
相を硫酸ナトリウムで乾燥し更に真空下で蒸発させる。
フラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60.40
〜63n、CHxCj! g/CHsOH−95: 5
)により6−(n−ブチル) −5−(2’−シアノ
ビフェニル−4−イルメチル)−4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)−2−メチル−ピリミジンを得、これを更に
直接処理する。
〜63n、CHxCj! g/CHsOH−95: 5
)により6−(n−ブチル) −5−(2’−シアノ
ビフェニル−4−イルメチル)−4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)−2−メチル−ピリミジンを得、これを更に
直接処理する。
例17:6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−エトキシカルボニルメ
トキシ−2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブチル
錫から出発し、6−(n−ブチル)−4−エトキシカル
ボニルメトキシ−2−メチル−5−(2’ −(IH−
テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル
〕−−ピリミジンを、例1で記載したと同様の方法で無
定形固体として得る。
ェニル−4−イルメチル)−4−エトキシカルボニルメ
トキシ−2−メチル−ピリミジン及びアジ化トリブチル
錫から出発し、6−(n−ブチル)−4−エトキシカル
ボニルメトキシ−2−メチル−5−(2’ −(IH−
テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル
〕−−ピリミジンを、例1で記載したと同様の方法で無
定形固体として得る。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a )NaH(O,17g 、 5.6 ms+oj!
、ホワイトオイル中80%)を、50IIiのジメチ
ルホルムアミドに溶解した6−(n−ブチル) −5−
(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒ
ドロキシ−2−メチル−ピリミジン(10g、 5.6
sno4 )の溶液に添加しつい・で反応混合物を室温
で30分間撹拌する。エチルブロモアセテート (O,
811Ii、7、3tmo j! )を添加する。・3
時間後、混合物を真空下・で蒸発させ、残留物を酢酸エ
チルと水との間に分配する。有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥しついで真空下で蒸発させる。フラッシュクロマト
グラフィ (シリカゲル60.40〜63 #+1 s
へキサン/酢酸エチル−4:l)により、6−(n−)
゛チル)−5−(2’ −シアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−エトキシカルボニルメトキシ−2−メチ
ル−ピリミジンを得、これを更に直接処理する。
、ホワイトオイル中80%)を、50IIiのジメチ
ルホルムアミドに溶解した6−(n−ブチル) −5−
(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−ヒ
ドロキシ−2−メチル−ピリミジン(10g、 5.6
sno4 )の溶液に添加しつい・で反応混合物を室温
で30分間撹拌する。エチルブロモアセテート (O,
811Ii、7、3tmo j! )を添加する。・3
時間後、混合物を真空下・で蒸発させ、残留物を酢酸エ
チルと水との間に分配する。有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥しついで真空下で蒸発させる。フラッシュクロマト
グラフィ (シリカゲル60.40〜63 #+1 s
へキサン/酢酸エチル−4:l)により、6−(n−)
゛チル)−5−(2’ −シアノビフェニル−4−イル
メチル)−4−エトキシカルボニルメトキシ−2−メチ
ル−ピリミジンを得、これを更に直接処理する。
例18:5−(3−ブロモー2′−シアノ−ビフェニル
−4−イルメチル)−2,6−ジ−(n−ブチル)−4
−ヒドロキシ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から
出発し、5−【3−ブロモ−2’ −(IH−テトラゾ
ール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル)−2
,6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを例1で記載したと同様の方法で得る。融点222℃
〜224℃(イソブパノール/ジエチルエーテルより;
分解)。
−4−イルメチル)−2,6−ジ−(n−ブチル)−4
−ヒドロキシ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から
出発し、5−【3−ブロモ−2’ −(IH−テトラゾ
ール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル)−2
,6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを例1で記載したと同様の方法で得る。融点222℃
〜224℃(イソブパノール/ジエチルエーテルより;
分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)4−メチル−21−シアノ−ビフェニルをテトラク
ロロエタンに懸濁せしめたAjICj!5(21,0g
、 0.157mo l )の懸濁液に添加する。混
合物を60℃に加熱しこの間撹拌する。 100mの
テトラクロロエタンに溶解した臭素(20,7g、 0
.13r@o l )の溶液を、60℃で性成溶液に滴
下しついで反応混合物を24時間撹拌する。更に6.2
gの^fcj!3を添加し70℃に加熱後は、更に遊離
物は薄層クロマトグラフィ (トルエン)では検出出来
ない、ついで反応混合物を2001111の濃塩酸で砕
き、この量水で冷却せしめついで有機相を分離し更に真
空下で蒸発させる。残留物を酢酸エチルに溶解しついで
溶液をHl及び炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥しく
硫酸マグネシウム)ついで真空下で蒸発させる。フラッ
シュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜63J
1m、ヘキサン/酢酸エチル−4=1)により3−ブロ
モ−2′−シアノ−4−メチル−ビフェニルを得、これ
をシクロヘキサンから再結晶する。融点104°C〜1
06℃。
ロロエタンに懸濁せしめたAjICj!5(21,0g
、 0.157mo l )の懸濁液に添加する。混
合物を60℃に加熱しこの間撹拌する。 100mの
テトラクロロエタンに溶解した臭素(20,7g、 0
.13r@o l )の溶液を、60℃で性成溶液に滴
下しついで反応混合物を24時間撹拌する。更に6.2
gの^fcj!3を添加し70℃に加熱後は、更に遊離
物は薄層クロマトグラフィ (トルエン)では検出出来
ない、ついで反応混合物を2001111の濃塩酸で砕
き、この量水で冷却せしめついで有機相を分離し更に真
空下で蒸発させる。残留物を酢酸エチルに溶解しついで
溶液をHl及び炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥しく
硫酸マグネシウム)ついで真空下で蒸発させる。フラッ
シュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜63J
1m、ヘキサン/酢酸エチル−4=1)により3−ブロ
モ−2′−シアノ−4−メチル−ビフェニルを得、これ
をシクロヘキサンから再結晶する。融点104°C〜1
06℃。
b)100〜110°CでUV照射の下過酸化ベンゾイ
ル(O,1g)を添加した後、20affiのテトラク
ロロエタンに溶解した臭素(5,6g 、 0.035
mo l )の溶液を、900mのテトラクロロエタン
に溶解した3−ブロモ−2′−シアノ−4−メチル−ビ
フェニル(8,9g 、 0.033mojりの溶液に
滴下する。
ル(O,1g)を添加した後、20affiのテトラク
ロロエタンに溶解した臭素(5,6g 、 0.035
mo l )の溶液を、900mのテトラクロロエタン
に溶解した3−ブロモ−2′−シアノ−4−メチル−ビ
フェニル(8,9g 、 0.033mojりの溶液に
滴下する。
30分後、反応混合物を冷却しついで真空下で蒸発させ
る。残留物を酢酸エチルから再結晶し、3−ブロモー4
−プロモーメチル−2′−シアノービフェニルを得る。
る。残留物を酢酸エチルから再結晶し、3−ブロモー4
−プロモーメチル−2′−シアノービフェニルを得る。
融点152℃〜153℃。
C)例Ia)に記載したと同様の方法でエチル3−オキ
ソヘプタノエートを、3−ブロモ−4−ブロモメチル−
2′−シアノ−ビフェニルでアルキル化し、エチル2−
(3−ブロモー21−シアノ−ビフェニル−4−イル−
メチル)−3−オキソ−ヘプタノエートを得、これをフ
ラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜
63趨、ヘキサン/酢酸エチル−9:1)により精製し
更に直接処理する。
ソヘプタノエートを、3−ブロモ−4−ブロモメチル−
2′−シアノ−ビフェニルでアルキル化し、エチル2−
(3−ブロモー21−シアノ−ビフェニル−4−イル−
メチル)−3−オキソ−ヘプタノエートを得、これをフ
ラッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜
63趨、ヘキサン/酢酸エチル−9:1)により精製し
更に直接処理する。
d)例1b)で記載したと同様の方法でエチル2−(3
−ブロモー2′−シアノ−ビフェニル−4−イルメチル
)−3−オキソ−ヘプタノエートを、バレラミジン塩酸
塩及びナトリウムメトキシドとメタノール中で反応させ
、5−(3−ブロモー2′−シアノ−ビフェニル−4−
イルメチル〕−2,6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒド
ロキシ−ピリミジルを得、これをフラッシュクロアトグ
ラフィ (シリカゲル60.40”’634− CIb
Cj! z/CHsOH−98:2)により精製しつい
で直接更に処理する。
−ブロモー2′−シアノ−ビフェニル−4−イルメチル
)−3−オキソ−ヘプタノエートを、バレラミジン塩酸
塩及びナトリウムメトキシドとメタノール中で反応させ
、5−(3−ブロモー2′−シアノ−ビフェニル−4−
イルメチル〕−2,6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒド
ロキシ−ピリミジルを得、これをフラッシュクロアトグ
ラフィ (シリカゲル60.40”’634− CIb
Cj! z/CHsOH−98:2)により精製しつい
で直接更に処理する。
例19:5−(3’−シアノビフェニル−4−イルメチ
ル) =2 、6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキ
シ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、2
.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(3
’ −(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル
−4−イルメチル〕−ピリミジンを例1で記載したと同
様の方法で無定形固体として得る。
ル) =2 、6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキ
シ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、2
.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(3
’ −(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル
−4−イルメチル〕−ピリミジンを例1で記載したと同
様の方法で無定形固体として得る。
出発勧賞は例えば次のように調製することが出来る:
a)4−メチルフ、エニルートリメチルーI!(5,9
g、 20mmojり 、3−ヨードベンゾニトリル(
5,0g 、 22s*o j! )及びテトラキス(
トリフェニルホスファン)パラジウム(1,16g、
1ssojりを60dの0−キシレン中12時間還流
しながら撹拌する。
g、 20mmojり 、3−ヨードベンゾニトリル(
5,0g 、 22s*o j! )及びテトラキス(
トリフェニルホスファン)パラジウム(1,16g、
1ssojりを60dの0−キシレン中12時間還流
しながら撹拌する。
室温に冷却後、黒色沈殿物を濾過しついで濾液を真空下
で蒸発させる。残留物を酢酸エチルに溶解しついで溶液
をフッ化カリウム水溶液(10%)で洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥しついで真空下で蒸発させる。フラッシュ
クロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜63I!
Iaζヘキサン/酢酸エチル■9:l)により、3′−
シアノ−4−メチル−ビフェニルを得、これを更に直接
処理する。
で蒸発させる。残留物を酢酸エチルに溶解しついで溶液
をフッ化カリウム水溶液(10%)で洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥しついで真空下で蒸発させる。フラッシュ
クロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜63I!
Iaζヘキサン/酢酸エチル■9:l)により、3′−
シアノ−4−メチル−ビフェニルを得、これを更に直接
処理する。
b)3′−シアノ−4−メチル−ビフェニル(1,8g
、 9.3鵬moj! ) 、N−プロモスクシインイ
ミド(1,66g 、 9.3 mmo j! )及び
α、α′−アゾイソブチロニトリル(20mg)を30
jfのテトラクロロメタン中6゛時間遍流しながら撹拌
する0反応混合物を真空下で蒸発後、残留物を酢酸エチ
ルに溶解してついで溶液を水で洗浄し、乾燥しくNax
SO4)ついで真空下で蒸発°させる。酢酸エチル/ヘ
キサンから再結晶し4−ブロモメチル−3′−シアノ−
ビフェニルを得る。 17点106°C〜108℃。
、 9.3鵬moj! ) 、N−プロモスクシインイ
ミド(1,66g 、 9.3 mmo j! )及び
α、α′−アゾイソブチロニトリル(20mg)を30
jfのテトラクロロメタン中6゛時間遍流しながら撹拌
する0反応混合物を真空下で蒸発後、残留物を酢酸エチ
ルに溶解してついで溶液を水で洗浄し、乾燥しくNax
SO4)ついで真空下で蒸発°させる。酢酸エチル/ヘ
キサンから再結晶し4−ブロモメチル−3′−シアノ−
ビフェニルを得る。 17点106°C〜108℃。
C)例Ia)に記載した方法と同様の方法で、エチル−
3−オキソヘプタノエートを4−ブロモメチル−3′・
−シアノ−ビフェニルでアルキル化し、エチル2−(3
’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキソ
−へブタノエートを得、これをフラッシュクロマトグラ
フィ (シリカゲル60 、40〜63μ、ヘキサン/
酢酸エチル−9:1)を用いて精製しついで直接更に処
理する。
3−オキソヘプタノエートを4−ブロモメチル−3′・
−シアノ−ビフェニルでアルキル化し、エチル2−(3
’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3−オキソ
−へブタノエートを得、これをフラッシュクロマトグラ
フィ (シリカゲル60 、40〜63μ、ヘキサン/
酢酸エチル−9:1)を用いて精製しついで直接更に処
理する。
d)例1b)で記載した方法と同様の方法で、エチル2
− (3’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3
−オキソ−へブタノエートを、バレラミジン塩酸塩及び
ナトリウムメトキシドとメタノール中で反応させ、5−
(3’−シアノビフェニル−4−イルメチル) −2
、6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ (シリカ
ゲル60.40〜63I1m< C11tCj! t/
CHsOH−98: 2 )により精製し更に直接処理
する。
− (3’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−3
−オキソ−へブタノエートを、バレラミジン塩酸塩及び
ナトリウムメトキシドとメタノール中で反応させ、5−
(3’−シアノビフェニル−4−イルメチル) −2
、6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ (シリカ
ゲル60.40〜63I1m< C11tCj! t/
CHsOH−98: 2 )により精製し更に直接処理
する。
例20:5−(2’ −シアノビフェニル−3−イルメ
チル)2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−
ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、2.6
−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−3
−イルメチル〕−ピリミジンを例1で記載したと同様の
方法で得る。
チル)2.6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−
ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出発し、2.6
−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−3
−イルメチル〕−ピリミジンを例1で記載したと同様の
方法で得る。
融点185°C〜187℃(イソプロパツール/ジエチ
ルエーテルより;分解)。
ルエーテルより;分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)例19a→で記載したと同様に、3−メチルフェニ
ル−トリメチル−錫を2−ヨードベンゾニトリルと反応
させ、2′−シアノ−3−メチル−ビフェニルを得、こ
れをフラッシュクロマトグラフィ (シリガゲル60.
40〜63−、ヘキサン/酢酸エチル−9:1)により
精製し更に直接処理する。
ル−トリメチル−錫を2−ヨードベンゾニトリルと反応
させ、2′−シアノ−3−メチル−ビフェニルを得、こ
れをフラッシュクロマトグラフィ (シリガゲル60.
40〜63−、ヘキサン/酢酸エチル−9:1)により
精製し更に直接処理する。
b)例19b)で記載したと同様に2′−シアノ−3−
メチル−ビフェニルをN−プロモスクシインイミドと反
応させ、・3−ブロモメチル−21−シアノ−ビフェニ
ルを得、これをカラムクロマトグラフィ (シリガゲル
60.40〜63μm、ヘキサン/酢酸エチル−8:l
)により精製しついで更に直接処理する。
メチル−ビフェニルをN−プロモスクシインイミドと反
応させ、・3−ブロモメチル−21−シアノ−ビフェニ
ルを得、これをカラムクロマトグラフィ (シリガゲル
60.40〜63μm、ヘキサン/酢酸エチル−8:l
)により精製しついで更に直接処理する。
C)例Ia)で記載したと同様に、エチル3−オキソヘ
プタノエートを、3−ブロモメチル−2′−シアノ−ビ
フェニルでアルキル化し、エチル2−(2′−シアノビ
フェニル−3−イルメチル)−3−オキソ−ヘプタノエ
ートを得、これをフラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲル60.40〜63μ、ヘキサン/酢酸エチル−9
:1)により精製しついで更に直接処理する。
プタノエートを、3−ブロモメチル−2′−シアノ−ビ
フェニルでアルキル化し、エチル2−(2′−シアノビ
フェニル−3−イルメチル)−3−オキソ−ヘプタノエ
ートを得、これをフラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲル60.40〜63μ、ヘキサン/酢酸エチル−9
:1)により精製しついで更に直接処理する。
d)例1b)で記載したと同様に、エチル2−(2′−
シアノビフェニル−3−イルメチル)−3−オキソ−ヘ
プタノエートを、バレラミジン塩酸塩及びナトリウムメ
トキシドとメタノール中で反応させ、5 = ’(2’
−シアノビフェニルー3−イルメチル)−2,6−ジ−
(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジンを得、こ
れをカラムクロマトグラフィ (シ・IJガゲル60.
40〜63μ、CHzCj!オ/CHsOH−98:
2 )により精製しついで更に直接処理する。
シアノビフェニル−3−イルメチル)−3−オキソ−ヘ
プタノエートを、バレラミジン塩酸塩及びナトリウムメ
トキシドとメタノール中で反応させ、5 = ’(2’
−シアノビフェニルー3−イルメチル)−2,6−ジ−
(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジンを得、こ
れをカラムクロマトグラフィ (シ・IJガゲル60.
40〜63μ、CHzCj!オ/CHsOH−98:
2 )により精製しついで更に直接処理する。
例12: 5− (2−(2″−シアノビフェニル−4
−イル)エチル)−2,6−ジ−(n−ブチル)−4−
ヒドロキシ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出
発し、例1で記載した方法で、2゜6−ジ−(n−ブチ
ル)−4−ヒドロキシ−5−(2−(2’ −(IH−
テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル)エ
チルゴーピリミジンを得る。−融点217℃〜218℃
(イソプロパツール/酢酸エチルより、分解)。
−イル)エチル)−2,6−ジ−(n−ブチル)−4−
ヒドロキシ−ピリミジン及びアジ化トリブチル錫から出
発し、例1で記載した方法で、2゜6−ジ−(n−ブチ
ル)−4−ヒドロキシ−5−(2−(2’ −(IH−
テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル)エ
チルゴーピリミジンを得る。−融点217℃〜218℃
(イソプロパツール/酢酸エチルより、分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)テトラヒドロフラン(IM、7.5m、7.5s−
onりに溶解したリチウムビス(トリメチルシリル)−
アミドの溶液を、25mの無水テトラヒドロフランに溶
解したメトキシメチル−トリフェニル−ホスホニラ上ク
ロリドの溶液に室温で滴下する。30分後、30−のテ
トラヒドロフランに溶解した2′−シアノ−4=ホルミ
ル−ビフェルニ(1,04,,5m5io j! )の
溶液を滴下し、この間氷で冷却し、ついで反応混合物を
室温で30分間撹拌する0反応混合物を150I11の
氷冷飽和塩化アンモニウム溶液に注ぎついでジエチルエ
ーテルで抽出する。有機相を水で洗浄し、乾燥しくNa
gsOa)、ついで真空下で蒸発させる。残留物をフラ
ッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜6
3tns、ヘキサン/酢酸エチル−4:1)により精製
する。2′シアノ−4−(2−メトキシエチル)−ビフ
ェニルを得、これを更に直接処理する。
onりに溶解したリチウムビス(トリメチルシリル)−
アミドの溶液を、25mの無水テトラヒドロフランに溶
解したメトキシメチル−トリフェニル−ホスホニラ上ク
ロリドの溶液に室温で滴下する。30分後、30−のテ
トラヒドロフランに溶解した2′−シアノ−4=ホルミ
ル−ビフェルニ(1,04,,5m5io j! )の
溶液を滴下し、この間氷で冷却し、ついで反応混合物を
室温で30分間撹拌する0反応混合物を150I11の
氷冷飽和塩化アンモニウム溶液に注ぎついでジエチルエ
ーテルで抽出する。有機相を水で洗浄し、乾燥しくNa
gsOa)、ついで真空下で蒸発させる。残留物をフラ
ッシュクロマトグラフィ (シリカゲル60.40〜6
3tns、ヘキサン/酢酸エチル−4:1)により精製
する。2′シアノ−4−(2−メトキシエチル)−ビフ
ェニルを得、これを更に直接処理する。
b)2′−シアノ−4−(2−メトシキエテニル)−ビ
ア エニ)Lz (8,2g 、 34.9+u+oj
りを120dのギ酸(95%)に懸濁させついで懸濁液
を室温で30分間撹拌する。得られた溶液を1.5 I
lの水で希釈しついで混合物をジエチルエーテルで抽出
する。
ア エニ)Lz (8,2g 、 34.9+u+oj
りを120dのギ酸(95%)に懸濁させついで懸濁液
を室温で30分間撹拌する。得られた溶液を1.5 I
lの水で希釈しついで混合物をジエチルエーテルで抽出
する。
有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥し
くMg5Oa)ついで真空下で蒸発させる。残留物を、
フラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60、40〜
63−、ヘキサン/酢酸エチル−2=1)により精製す
る。2′・−シアノ−4−(2−オキソエチル)−ビフ
ェニルを得、これを更に直接処理する。
くMg5Oa)ついで真空下で蒸発させる。残留物を、
フラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60、40〜
63−、ヘキサン/酢酸エチル−2=1)により精製す
る。2′・−シアノ−4−(2−オキソエチル)−ビフ
ェニルを得、これを更に直接処理する。
c ) NaBII4(O,86g、 22.62+a
oIl) を、50m1のメタノールに溶解した2′−
シアノ−4−(2−オキソエチル)−ビフェニル(L
5 g、 11.3a+a+oI!、)の溶液に少量ず
つ添加し、この間氷で冷却しながらかつ撹拌する。0℃
で30分間撹拌後、反応混合物を真空下で蒸発させつい
で残留物をジエチルエーテル及び水との間に分配する。
oIl) を、50m1のメタノールに溶解した2′−
シアノ−4−(2−オキソエチル)−ビフェニル(L
5 g、 11.3a+a+oI!、)の溶液に少量ず
つ添加し、この間氷で冷却しながらかつ撹拌する。0℃
で30分間撹拌後、反応混合物を真空下で蒸発させつい
で残留物をジエチルエーテル及び水との間に分配する。
有機相を水で洗浄し、乾燥しくNa*5O4)ついで真
空下で蒸発させる。
空下で蒸発させる。
フラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜
63pmsヘキサン/酢酸エチル−1:1)により、2
′−シアノ−4−(2−ヒドロキシエチル)−ビフェニ
ルを得、これを更に直接処理する。
63pmsヘキサン/酢酸エチル−1:1)により、2
′−シアノ−4−(2−ヒドロキシエチル)−ビフェニ
ルを得、これを更に直接処理する。
d)N−プロモスクシインイミド(1,96gS11m
mo j! )を、50IIiの塩化メチレンに溶解し
た2′−シアノ−4−(2−ヒドロキシエチル)−ビフ
ェニル(2,23g、 10■−02)及びトリフェニ
ルホスファン(29g 、 1Ia+mojりの溶液に
添加し、この間撹拌する0反応混合物を室温で12時間
撹拌しついで真空下で蒸発させる。フラッシュクロマト
グラフィ(シリカゲル60.40〜63μ、ヘキサン/
酢酸エチルl1l−4=1)により、4−(2−ブロモ
エチル)−21−シアノ−ビフェニルを得、これを更に
直接処理する。
mo j! )を、50IIiの塩化メチレンに溶解し
た2′−シアノ−4−(2−ヒドロキシエチル)−ビフ
ェニル(2,23g、 10■−02)及びトリフェニ
ルホスファン(29g 、 1Ia+mojりの溶液に
添加し、この間撹拌する0反応混合物を室温で12時間
撹拌しついで真空下で蒸発させる。フラッシュクロマト
グラフィ(シリカゲル60.40〜63μ、ヘキサン/
酢酸エチルl1l−4=1)により、4−(2−ブロモ
エチル)−21−シアノ−ビフェニルを得、これを更に
直接処理する。
e)例Ia)に記載した方法でエチル3−オキソヘブタ
ノエ二トを、4−(2−ブロモエチル)−2′−シアノ
−ビフェニルでアルキル化し、エチル2−(2−(2’
−シアノビフェニル−4−イル)エチル〕−3−オキソ
−ヘプタノエートを得1.これをフラッシュクロマトグ
ラフィ(シリカゲル60.40〜63 ’eta sヘ
キサン/酢酸エチル−6:1)により精製しついでこれ
を更に直接処理する。
ノエ二トを、4−(2−ブロモエチル)−2′−シアノ
−ビフェニルでアルキル化し、エチル2−(2−(2’
−シアノビフェニル−4−イル)エチル〕−3−オキソ
−ヘプタノエートを得1.これをフラッシュクロマトグ
ラフィ(シリカゲル60.40〜63 ’eta sヘ
キサン/酢酸エチル−6:1)により精製しついでこれ
を更に直接処理する。
f)例1b)で記載した方法で、エチル2−(2−(2
’−シアノビフェニル−4−イル)エチル〕3−オキソ
ーヘプタノエートを、バレラミジン塩酸塩及びナトリウ
ムメトキシドとメタノール中で反応させζ5− (2−
(2’−シアノビフェニル−4−イル)エチル)−2,
6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒ・ドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲ
ル60.40〜63#II%CII*Cj! */CH
sOH””95 : 5 )により精製する。融点16
6℃〜167℃。
’−シアノビフェニル−4−イル)エチル〕3−オキソ
ーヘプタノエートを、バレラミジン塩酸塩及びナトリウ
ムメトキシドとメタノール中で反応させζ5− (2−
(2’−シアノビフェニル−4−イル)エチル)−2,
6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒ・ドロキシ−ピリミジ
ンを得、これをフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲ
ル60.40〜63#II%CII*Cj! */CH
sOH””95 : 5 )により精製する。融点16
6℃〜167℃。
例22:6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ン及びアジ化トリブチル錫から出発し、6−(n−ブチ
ル)−4−ヒドロキシ−5−〔2″−(IH−テトラゾ
ール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−・ピ
リミジンを、例1で記載したと同様の方法で得る。融点
215℃〜219℃(エタノールから;分解)。
ェニル−4−イルメチル)−4−ヒドロキシ−ピリミジ
ン及びアジ化トリブチル錫から出発し、6−(n−ブチ
ル)−4−ヒドロキシ−5−〔2″−(IH−テトラゾ
ール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−・ピ
リミジンを、例1で記載したと同様の方法で得る。融点
215℃〜219℃(エタノールから;分解)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
例1b)で記載した方法でエチル2− (2’シアノビ
フェニル−4−イルメチル)−3−オキソ−へブタノエ
ートを、ホルムアミジン塩酸塩及びナトリウムメトキシ
ドとメタノール中で反応させ、6−(n−ブチル)−5
−(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−
ヒドロキシ−ピリミジンを得る。融点169〜171°
C(酢酸エチルから)。
フェニル−4−イルメチル)−3−オキソ−へブタノエ
ートを、ホルムアミジン塩酸塩及びナトリウムメトキシ
ドとメタノール中で反応させ、6−(n−ブチル)−5
−(2’−シアノビフェニル−4−イルメチル)−4−
ヒドロキシ−ピリミジンを得る。融点169〜171°
C(酢酸エチルから)。
例23:6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−メトキシカルボニル−
2−メチル−ピリミジン(3,0g。
ェニル−4−イルメチル)−4−メトキシカルボニル−
2−メチル−ピリミジン(3,0g。
7.5s+mojり及びアジ化トリブチル錫(12,4
6g 。
6g 。
37.5suwojりを0−キシレン(75m) 12
0℃で48時間撹拌する0反応混合物を真空下で蒸発後
、残留物をジエチルエーテルで溶解し、ついで塩化水素
を該溶液に通ずる。形成し力沈殿物を濾別しついでIN
水酸化カリウム溶液に溶解する。溶液をジエチルエーテ
ルで抽出し、IN塩酸で酸性化しついで酢酸エチルで抽
出する。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、乾
燥しくNatio4)ついで真空下で蒸発させる。フラ
ッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜63
−1CH*Cj! x/CHsOH/NHs−40:1
0:1)により、6−(n−ブチル)−4−カルボキシ
−2−メチル−5−(2’−(IH−テトラゾール二5
−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンを
得る。融点120℃〜122’C(イソプロパツール/
水より)。
0℃で48時間撹拌する0反応混合物を真空下で蒸発後
、残留物をジエチルエーテルで溶解し、ついで塩化水素
を該溶液に通ずる。形成し力沈殿物を濾別しついでIN
水酸化カリウム溶液に溶解する。溶液をジエチルエーテ
ルで抽出し、IN塩酸で酸性化しついで酢酸エチルで抽
出する。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、乾
燥しくNatio4)ついで真空下で蒸発させる。フラ
ッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜63
−1CH*Cj! x/CHsOH/NHs−40:1
0:1)により、6−(n−ブチル)−4−カルボキシ
−2−メチル−5−(2’−(IH−テトラゾール二5
−イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンを
得る。融点120℃〜122’C(イソプロパツール/
水より)。
出発物質は例えば次のように調製することが出来る:
a)6−(n−ブチル)−4−クロロ−5−(2′−シ
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(160g 、 42.6sno j! )、ト
リフ゛チルービニル− びビス(トリフェニルホスファン)パラジウム(II)
−ジクロリド(O. 57 g 、 0. 82mso
i. )をジメチルホルムアミド(160I11)中
、90℃で2時間撹拌する0、室温まで冷却後、反応混
合物を水で希釈しついでジエチルエーテルで抽出する。
アノビフェニル−4−イルメチル)−2−メチル−ピリ
ミジン(160g 、 42.6sno j! )、ト
リフ゛チルービニル− びビス(トリフェニルホスファン)パラジウム(II)
−ジクロリド(O. 57 g 、 0. 82mso
i. )をジメチルホルムアミド(160I11)中
、90℃で2時間撹拌する0、室温まで冷却後、反応混
合物を水で希釈しついでジエチルエーテルで抽出する。
lr機相をフッ化カリウム溶液(10%)で3回洗浄し
、乾燥しくHanso、)ついで真空下で蒸発させる。
、乾燥しくHanso、)ついで真空下で蒸発させる。
残留物を、フラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル6
0..40〜63 tan sヘキサン/酢酸エチル−
3:1)により精製しついで性成物をジイソプロエーテ
ル/ヘキサンから再結晶す−る。かくして6−(n−ブ
チル)−5−(2′−シアノビフェニル−4−イルメチ
ル)−2−メチル−4−ビニル−ピリミジンを得る。融
点115℃〜L、IY°C,− b)塩化メチレン(275d)及びメタノール(275
1It)に溶解した6−(n−ブチル)−5−(2’−
シアノビフェニル−4−イルメチル)−2−°メチルー
4−ビニルーピリミジン(14,6g、 39ニア■a
nojりの溶液に一70℃で青色が持続するまでオゾン
を通過せしめる0反応混合物を−70,”Cで更に30
分間撹拌しついでアルゴンを反応混合物が、無色になる
まで導入する。ジメチルスルフィド(29d、0.4s
ojり及びNaHCOs (O,5g )を添加す°る
。冷却浴を取り除きついで反応混合物を室温で12時間
撹拌する0反応混合物を真空下で蒸発させついで残留物
とフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40
〜63−、ヘキサン/酢酸エチル−4:1)にゆだね、
6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−
4−イルメチル)−4−ホルミル−2−メチル−ピリミ
ジンを得る。融点114℃〜115℃ (シイ・ソブロ
ピルエーテルより)。
0..40〜63 tan sヘキサン/酢酸エチル−
3:1)により精製しついで性成物をジイソプロエーテ
ル/ヘキサンから再結晶す−る。かくして6−(n−ブ
チル)−5−(2′−シアノビフェニル−4−イルメチ
ル)−2−メチル−4−ビニル−ピリミジンを得る。融
点115℃〜L、IY°C,− b)塩化メチレン(275d)及びメタノール(275
1It)に溶解した6−(n−ブチル)−5−(2’−
シアノビフェニル−4−イルメチル)−2−°メチルー
4−ビニルーピリミジン(14,6g、 39ニア■a
nojりの溶液に一70℃で青色が持続するまでオゾン
を通過せしめる0反応混合物を−70,”Cで更に30
分間撹拌しついでアルゴンを反応混合物が、無色になる
まで導入する。ジメチルスルフィド(29d、0.4s
ojり及びNaHCOs (O,5g )を添加す°る
。冷却浴を取り除きついで反応混合物を室温で12時間
撹拌する0反応混合物を真空下で蒸発させついで残留物
とフラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40
〜63−、ヘキサン/酢酸エチル−4:1)にゆだね、
6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフェニル−
4−イルメチル)−4−ホルミル−2−メチル−ピリミ
ジンを得る。融点114℃〜115℃ (シイ・ソブロ
ピルエーテルより)。
・C)シアン化ナトリウム(5,81g、 0.12m
ojり、活性化二酸化マンガン(O,474mojり及
び酢酸(2,4d)を、メタノール−(135Jd)に
溶解した6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−ホルミル−2−メチル
−ピリミジン(8,8g、 0.024mojりの溶
液に添加しついで得られた懸濁液を室温で12時間撹拌
する。
ojり、活性化二酸化マンガン(O,474mojり及
び酢酸(2,4d)を、メタノール−(135Jd)に
溶解した6−(n−ブチル)−5−(2’−シアノビフ
ェニル−4−イルメチル)−4−ホルミル−2−メチル
−ピリミジン(8,8g、 0.024mojりの溶
液に添加しついで得られた懸濁液を室温で12時間撹拌
する。
残留混合物を濾過し、濾液を真空下で蒸発させついで残
留物を、酢酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム溶液間
に分配する。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し
、乾燥しくHanso4)ついで真空下で蒸発させる。
留物を、酢酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム溶液間
に分配する。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し
、乾燥しくHanso4)ついで真空下で蒸発させる。
フラッシュクロマトグラフィ(シリカゲル60.40〜
63 tna Nヘキサン/酢酸エチJレ−2:1)に
より、6−(n−ブチル)−5−(2′−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−4−メトキシカルボニル−2
−メチル−ピリミジンを得、これを更に直接処理する。
63 tna Nヘキサン/酢酸エチJレ−2:1)に
より、6−(n−ブチル)−5−(2′−シアノビフェ
ニル−4−イルメチル)−4−メトキシカルボニル−2
−メチル−ピリミジンを得、これを更に直接処理する。
例24:上記の実施例の一つに記載したと同様の方法で
以下の化合物を調製することが出来る=6−(n−ブチ
ル)−4−エチル−2−メチル−5−(2’ −(IH
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ル)−ピリミジン、6−(n−ブチル)−4−エトキシ
カルボニル−2−メチル−5− (2’ − (IH−
テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル
ツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−2−(第三ブチル)−4−ヒドロ
キシ−5−(2’ − (IH−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イルメチル)−ピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−メルカプト−2−メチル−5
− (2’ − (IH−テトラゾール−5−イル)ビ
フェニル=4ーイルメチル〕ーピリミジン、6−(n−
ブチル)−4−メタンスルホニル−2−メヂルー5−“
(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニ
ル−4−イルメチル〕゛ーピリミジン、 6−(n−ブチル〕−2−メチル−5− (2’(IH
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ルンーピリミジン−4−スルホン酸、6−(n−ブチル
)−2−メチル−4−スルファモイル°−5−(2’
− (I H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル=
4ーイルメチル〕−ピリミジン、 6−(n−ブチル)−2−メチル−4−メチルアミノ−
5− (2’ − (IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−メタンスルホニルアミノ−2
−メチル−5−(2’ − (IH−テトラゾール−5
−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 4−アセチレンアミノ−6−(n−ブチル)−2−メチ
ル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチル〕−ヒリミジン、 6−(n−ブチル)−4−エトキシカルボニルメチル−
2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5
−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−カルポジキメチル−2−メチ
ル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシメチル−2−メチ
ル−5−7[2’ −(I H−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イルメチル]−ピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−メトキシメチル−2=メチル
−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)ビ
フェニル−4−イルメチル〕−ヒリミジン、 6−(n−ブチル)−2,4−ジメチル−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチルツーピリミジン、6−(n−ブチル)−2−
メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンー4−
ホスホン酸、6−(n−ブチル)−2−メチル−4−(
IH−テトラゾール−5−イル) −5−(2’ −(
I H−テトラソ゛−ル−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチルツーピリミジン、 4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’(IH−テト
ラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルオキシ〕−
ピリミジン、 4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’(IH−テト
ラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルチオ〕−ピ
リミジン、 6−(n−ブチル)−4−カルボキシメトキシ−2−メ
チル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル
)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−エトキシカルボニルメチルア
ミノ−2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミ
ジン、及び 6− (n−ブチル)−4−カルポジキメチルアミノ−
2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5
−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン。
以下の化合物を調製することが出来る=6−(n−ブチ
ル)−4−エチル−2−メチル−5−(2’ −(IH
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ル)−ピリミジン、6−(n−ブチル)−4−エトキシ
カルボニル−2−メチル−5− (2’ − (IH−
テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチル
ツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−2−(第三ブチル)−4−ヒドロ
キシ−5−(2’ − (IH−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イルメチル)−ピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−メルカプト−2−メチル−5
− (2’ − (IH−テトラゾール−5−イル)ビ
フェニル=4ーイルメチル〕ーピリミジン、6−(n−
ブチル)−4−メタンスルホニル−2−メヂルー5−“
(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニ
ル−4−イルメチル〕゛ーピリミジン、 6−(n−ブチル〕−2−メチル−5− (2’(IH
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチ
ルンーピリミジン−4−スルホン酸、6−(n−ブチル
)−2−メチル−4−スルファモイル°−5−(2’
− (I H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル=
4ーイルメチル〕−ピリミジン、 6−(n−ブチル)−2−メチル−4−メチルアミノ−
5− (2’ − (IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−メタンスルホニルアミノ−2
−メチル−5−(2’ − (IH−テトラゾール−5
−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 4−アセチレンアミノ−6−(n−ブチル)−2−メチ
ル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチル〕−ヒリミジン、 6−(n−ブチル)−4−エトキシカルボニルメチル−
2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5
−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−カルポジキメチル−2−メチ
ル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)
ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシメチル−2−メチ
ル−5−7[2’ −(I H−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イルメチル]−ピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−メトキシメチル−2=メチル
−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル)ビ
フェニル−4−イルメチル〕−ヒリミジン、 6−(n−ブチル)−2,4−ジメチル−5−(2’
−(IH−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチルツーピリミジン、6−(n−ブチル)−2−
メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンー4−
ホスホン酸、6−(n−ブチル)−2−メチル−4−(
IH−テトラゾール−5−イル) −5−(2’ −(
I H−テトラソ゛−ル−5−イル)ビフェニル−4−
イルメチルツーピリミジン、 4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’(IH−テト
ラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルオキシ〕−
ピリミジン、 4−ヒドロキシ−2−メチル−5−(2’(IH−テト
ラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルチオ〕−ピ
リミジン、 6−(n−ブチル)−4−カルボキシメトキシ−2−メ
チル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5−イル
)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン、 6−(n−ブチル)−4−エトキシカルボニルメチルア
ミノ−2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミ
ジン、及び 6− (n−ブチル)−4−カルポジキメチルアミノ−
2−メチル−5−(2’ −(IH−テトラゾール−5
−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピリミジン。
例25:各々有効成分、例えば2.6−ジ−(n−ブチ
ル)−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IH−テトラ
ゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピ
リミジン50■を含有する錠剤を次のように調製する: fi (10,000個の錠剤) 有効成分 500.0gラ
クトース 500.0 gポ
テトスターチ 352.0gゼラチ
ン 8.0gタルク
60.Ogステアリン酸マ
グネシウム 10.0g二醋酸ケイ素高分散
性) 20.0gエタノール
適 量有効成分をラクトースおよび2
92gのポテトスターチと混合し、混合物をゼラチンの
アルコール性溶液で湿潤させ次いで篩を通して粒状化す
る。
ル)−4−ヒドロキシ−5−(2’ −(IH−テトラ
ゾール−5−イル)ビフェニル−4−イルメチルツーピ
リミジン50■を含有する錠剤を次のように調製する: fi (10,000個の錠剤) 有効成分 500.0gラ
クトース 500.0 gポ
テトスターチ 352.0gゼラチ
ン 8.0gタルク
60.Ogステアリン酸マ
グネシウム 10.0g二醋酸ケイ素高分散
性) 20.0gエタノール
適 量有効成分をラクトースおよび2
92gのポテトスターチと混合し、混合物をゼラチンの
アルコール性溶液で湿潤させ次いで篩を通して粒状化す
る。
乾燥後、残りのポテトスターチ、タルク、ステアリン酸
マグネシウムおよび高分散性シリカを混合し、混合物を
圧縮し、各々有効成分含有150.0■を有する145
.0■の錠剤を得、これは所望により、微細投与のため
切り目を設けることもできる。
マグネシウムおよび高分散性シリカを混合し、混合物を
圧縮し、各々有効成分含有150.0■を有する145
.0■の錠剤を得、これは所望により、微細投与のため
切り目を設けることもできる。
例26:各々100■の有効成分、例えば2.6−ジ−
(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’−(IH
−テトラゾール−イル)ビフェニル−4−イル)メチル
〕−ピリミジンを次のように得ることができる。
(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−(2’−(IH
−テトラゾール−イル)ビフェニル−4−イル)メチル
〕−ピリミジンを次のように得ることができる。
■底 (1,000個の錠剤)
有効成分 100.0 g
ラクトース 100.0gコ
ーンスターチ 70.0gタルク
8.50 gステア
リン酸カルシウーム 1.50 gヒド
ロキシプロピルメチルセルロース °2.36 gセラ
ック 0.64 g水
適量 塩化メチレン 適 量有効成分
、ラクトース、および40gのコーンスターチを混合し
、ペースト(15gのコーンスターチおよび水から加温
してうる)で湿潤化し次いで造粒する。顆粒を乾燥し、
残りのコーンスターチ、タルクおよびステアリン酸カル
シウムを添加し、顆粒と混合する。混合物を圧縮し、錠
剤(重1t=280■)を得、これをヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースおよびセラックの塩化メチレン溶液
でコートする(被覆錠剤の最終重量:283111g)
。
ラクトース 100.0gコ
ーンスターチ 70.0gタルク
8.50 gステア
リン酸カルシウーム 1.50 gヒド
ロキシプロピルメチルセルロース °2.36 gセラ
ック 0.64 g水
適量 塩化メチレン 適 量有効成分
、ラクトース、および40gのコーンスターチを混合し
、ペースト(15gのコーンスターチおよび水から加温
してうる)で湿潤化し次いで造粒する。顆粒を乾燥し、
残りのコーンスターチ、タルクおよびステアリン酸カル
シウムを添加し、顆粒と混合する。混合物を圧縮し、錠
剤(重1t=280■)を得、これをヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースおよびセラックの塩化メチレン溶液
でコートする(被覆錠剤の最終重量:283111g)
。
例27:例えば例1〜24に係る式■の異なる化合物又
は式Iの化合物の互変異性体および/またはその医薬と
して許容し得る塩を含有する他の錠剤およびセラック被
覆錠剤は、例25および例26で記載したと同様の方法
で調製できる。
は式Iの化合物の互変異性体および/またはその医薬と
して許容し得る塩を含有する他の錠剤およびセラック被
覆錠剤は、例25および例26で記載したと同様の方法
で調製できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I )、 で表わされる化合物、および適当な場合その互変異性体
、各々の場合その遊離もしくは塩の形態の化合物: 前記式中、R_1、R_2およびR_3の一種は未置換
であるか、又はハロゲンもしくはヒドロキシによって置
換されている脂肪族炭化水素基、又は脂環式もしくは芳
香脂肪族基であり、基R_1、R_2およびR_3並び
に基R_3の第二の基は互いに独立にハロゲン、アシル
、芳香族炭化水素基、遊離、エステル化もしくはアミド
化カルボキシル、シアノ、SO_3H、PO_2H_2
、PO_3H_2、5−テトラゾリル、未置換もしくは
置換スルファモイル、アシルアミノ又は−Z_1−R′
(式中、Z_1は結合又はO、S(O)_m又はN(R
)であり、R′は水素、又は脂肪族炭化水素基であり、
この基は中断されていないか、又はO又は(SO)_m
によって中断されており、さらに未置換であるか、また
はハロゲンヒドロキシル、未置換もしくは置換アミノ、
または遊離、エステル化もしくはアミド化カルボキシル
により置換されており、Rは水素もしくは脂肪族炭化水
素基であり更にmは各々の場合0、1又は2であり更に
基R_1、R_2およびR_3の第三の基は次式 I a
:▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、Z_2はアルキレン、O、S(O)_mまたは
N(R)であり、R_5はカルボキシ、ハロゲノアルカ
ンスルホニルアミノ、SO_3H、PO_2H_2、P
O_3H_2または5−テトラゾリルであり、Rは水素
または脂肪族炭化水素基であり、mは0、1または2で
あり、環AおよびBは互いに独立に未置換であるか、又
はハロゲン、脂肪族炭化水素基(この基は中断されてい
ないか又はOにより中断されておりさらに未置換である
か、またはヒドロキシもくしはハロゲンにより置換され
ている)、遊離のもしくは脂肪族アルコールによりエー
テル化されたヒドロキシ、遊離、エステル化もしくはア
ミド化されたカルボキシ又は5−テトラゾリルにより置
換されている) で表わされる基である。 2、前記式 I 中、基R_1、R_2及びR_3の一種
は、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニルで
あり、これらは各々の場合において未置換であるかまた
はハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されており、
各々の場合3〜7員環のシクロアルキルもしくはシクロ
アルケニル、フェニル−低級アルキル、フェニル−低級
アルケニルもしくはフェニル−低級アルキニルであり、
基R_1、R_2及びR_3並びに基R_4の第二番目
の基は、各々の場合互いに独立に、ハロゲン、低級アル
カノイル、未置換もしくは置換フェニル、カルボキシル
(これは遊離であるか、または低級アルキル、低級アル
ケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキ
ル、低級アルコキシ−低級アルケニルまたは低級アルコ
キシ−低級アルキニルから誘導されたアルコールにより
エステル化されている)、カルバモイル(このカルバモ
イルにおけるアミノ基は、未置換であるか、互いに独立
に、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、
フェニル−低級アルキル、フェニル−低級アルケニルも
しくはフェニル−低級アルキニルによりモノ−もしくは
ジ置換されているか、またはハロ低級アルキレンもくし
は低級アルキレンオキシ−低級アルキレンによりジ置換
されている)、シアノ、SO_3H、PO_2H_2、
PO_3H_2、5−テトラゾリル、スルファモイル、
低級アルカンスルファモイル、ジ−低級アルカンスルフ
ァモイル、低級アルカノイルアミノ、未置換もしくは置
換ベンゾイルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、
ハロゲノ−低級アルカンスルホニルアミノ、未置換もし
くは置換ベンゼンスルホニルアミノまたは−Z_1−R
′(ここにおいてZ_1は結合またはO、S(O)_m
またはN(R)であり、R′は水素、または低級アルキ
ル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ
−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルケニル、低
級アルコキシ−低級アルケニル、低級アルケニルオキシ
−低級アルキル、低級アルケニルオキシ−低級アルケニ
ル、低級アルケニルオキシ−低級アルキニル、低級アル
キル−チオ−低級アルキル、−低級アルケニルもしくは
−低級アルキニル、低級アルカン−スルフィニル−低級
アルキルもしくは−スルホニル−低級アルキル、低級ア
ルケニル−チオ−低級アルキル、−スルフィニル−低級
アルキルもしくは−スルホニル−低級アルキルまたは低
級アルキニル−チオ−低級アルキル、−スルフィニル−
低級アルキルまたは−スルホニル−低級アルキルであり
、各々の場合未置換またはヒドロキシ、ハロゲン、アミ
ノ、低級アルキレンアミノ、低級アルキレノオキシ−低
級アルキレンアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルケ
ニルアミノ、低級アルキニルアミノ、フェニル−低級ア
ルキルアミノ、フェニル−低級アルケニルアミノ、フェ
ニル−低級アルキニルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ
、N−低級アルキル、N−フェニル−低級アルキル−ア
ミノ、ジ(フェニル−低級アルキル)−アミノ、カルボ
キシル(これは遊離であるかまたは低級アルキル、低級
アルケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級ア
ルキル、低級アルコキシ−低級アルケニルまたは低級ア
ルコキシ−低級アルキニルから誘導されたアルコールに
よりエステル化されている)、またはカルバモイル(こ
のカルバモイルにおけるアミノ基は未置換であるかまた
は互いに独立に、低級アルキル、低級アルケニル、低級
アルキニル、フェニル−低級アルキル、フェニル−低級
アルケニルもしくはフェニル−低級アルキニルによりモ
ノ−もしくはジ置換されているかまたは低級アルキレン
もしくは低級アルキレノキシ−低級アルキレンによりジ
置換されている)遊離置換されている)であり、Rは水
素、低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルキニ
ルであり更にmは0、1または2であり更に基R_1、
R_2及びR_3の第三番目の基は、前記式 I aの基
であり、該式 I a中、Z_2はメチレン、低級アルキ
レン、O、S(O)_mまたはN(R)であり、R_5
はカルボキシル、ハロゲンアルカンスルホニルアミノ、
SO_3H、PO_2H_2、PO_3H_2または5
−テトラゾリルでありRは水素、低級アルキル、低級ア
ルケニルもしくは低級アルキニルでありmは0、1また
は2であり更に環A及びBは互いに独立に未置換である
かまたはハロゲンにより、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキル、
低級アルコキシ−低級アルケニル、低級アルコキシ−低
級アルキニル、低級アルケニルオキシ−低級アルキル、
低級アルケニルオキシ−低級アルケニルもしくは低級ア
ルケニルオキシ−低級アルキニル(これは未置換である
かまたはヒドロキシまたはハロゲンによって置換されて
いる)により、ヒドロキシにより、低級アルコキシによ
り、低級アルケニルオキシにより、カルボキシル(これ
は遊離であるかまたは低級アルキル、低級アルケニル、
低級アルキニル、低級アルコキシ−低級アルキル、低級
アルコキシ−低級アルケニルまたは低級アルコキシ−低
級アルキニルから誘導されたアルコールによりエステル
化されている)により、カルバモイル(このカルバモイ
ルにおけるアミノ基は未置換であるか、または互いに独
立に低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、
フェニル−低級アルキル、フェニル−低級アルケニルも
しくはフェニル−低級アルキニルによりモノ−もしくは
ジ置換されているか、または低級アルケンもしくは低級
アルキレノキシ−低級アルキレンによりジ置換されてい
る)によりまたは5−テトラゾリルにより置換されてお
り、各々の場合において芳香族置換基は未置換であるか
または低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリ
フルオロメチル及び/またはヒドロキシにより置換され
ている、請求項1記載の化合物、及び適当な場合その互
変異性体、(各々の場合遊離もしくは塩の形態にある)
。 3、前記式 I 中、R_1はハロゲン、特に35以下の
原子番号を有するハロゲン、カルボキシル、低級アルコ
キシカルボニル、PO_3H_2、5−テトラゾリル、
低級アルカノイルアミノ、低級アルカンスルホニルアミ
ノ、水素、低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキ
ル、カルボキシ−低級アルキル、低級アルコキシカルボ
ニル−低級アルキル、ヒドロキシ−低級アルキル、ヒド
ロキシ−低級アルコキシ−低級アルキル、ヒドロキシ、
低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、カ
ルボキシ−低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル
−低級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、メル
カプト、低級アルキルチオ、低級アルカンスルフィニル
、低級アルカンスルホニル、アミノ、低級アルキルアミ
ノもしくはジ−低級アルキルアミノであり、R_2は前
記式 I aの基であり、式 I a中Z_2はメチレンまた
は低級アルキレン、OもしくはS(O)_mであり、m
は0、1または2であり、R_5はカルボキシルまたは
5−テトラゾリルであり更に環A及びBは互いに独立に
未置換もしくは低級アルキル、ハロゲン、特に35以下
の原子番号を有するハロゲン、または低級アルコキシに
より置換されており、R_3はC_1〜C_7アルキル
であり更にR_4は低級アルキルであり、各々の場合に
おいて部分構造を示す「低級」は、7個の炭素原子、好
ましくは4個の炭素原子以下を含有する、請求項1記載
の化合物、並びに適当な場合にはそれらの互変異性体(
各々の場合に遊離もしくは塩の形態にある)。 4、前記式 I 中、R_2は次式 I b: ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) で表わされる基である請求項1〜3項のいずれか1項に
記載の化合物並びに適当な場合にはそれらの互変異性体
(各々の場合において遊離もしくは塩の形態にある)。 5、前記式 I 中、R_1はヒドロキシルであり、R_
2は式 I b(ここにおいてZ_2はメチレンであり、
R_5は5−テトラゾリルであり更に環A及びBは未置
換である)の基であり、R_3はC_1〜C_5アルキ
ルであり更にR_4は炭素原子4個以下を有する低級ア
ルキルである)の請求項1記載の化合物並びに適当な場
合にはそれらの互変異性体(各々の場合において遊離も
しくは塩の形態にある)。 6、6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−メチル
−5−〔2′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフ
ェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンである請求項1
記載の化合物またはその互変異性体及び/またはその塩
。 7、6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−(n−
プロピル)−5−〔2′−(1H−テトラゾール−5−
イル)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリミジンであ
る請求項1記載の化合物またはその互変異性体及び/ま
たはその塩。 8、2,6−ジ−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5
−〔2′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニ
ル−4−イルメチル〕−ピリミジンである請求項1記載
の化合物またはその互変異性体及び/またはその塩。 9、6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−2−イソプ
ロピル−5−〔2′−(1H−テトラゾール−5−イル
)ビフェニル−4−イルメチル〕−ピリジンである請求
項1記載の化合物またはその互変異性体及び/またはそ
の塩。 10、6−(n−ブチル)−2−エチル−4−ヒドロキ
シ−5−〔2′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビ
フェニル−4−イルミチル〕−ピリミジンである請求項
1記載の化合物またはその互変異性体及び/またはその
塩。 11、6−(n−ブチル)−4−ヒドロキシ−5−〔2
′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4
−イルメチル〕−ピリミジンである請求項1記載の化合
物またはその互変異性体及び/またはその塩。 12、有効成分として請求項1〜11項のいずれか1項
に記載の化合物または適当な場合にはその互変異性体(
各々の場合に遊離な形態または医薬として許容されうる
塩の形態のある)、並びに所望により通常の医薬補助剤
を含有する医薬組成物。 13、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I )、 〔式中、R_1、R_2およびR_3の一種は未置換で
あるか、又はハロゲンもしくはヒドロキシによって置換
されている脂肪族炭化水素基、又は脂環式もしくは芳香
脂肪族基であり、基R_1、R_2およびR_3並びに
基R_3の第二の基は互いに独立にハロゲン、アシル、
芳香族炭化水素基、遊離、エステル化もしくはアミド化
カルボキシル、シアノ、SO_3H、PO_2H_2、
PO_3H_2、5−テトラゾリル、未置換もしくは置
換スルファモイル、アシルアミノ又は−Z_1−R′(
式中、Z_1は結合又はO、S(O)_m又はN(R)
であり、R′は水素、又は脂肪族炭化水素基であり、こ
の基は中断されていないか、又はO又は(SO)_mに
よって中断されており、さらに未置換であるか、または
ハロゲンヒドロキシル、未置換もしくは置換アミノ、ま
たは遊離、エステル化もしくはアミド化カルボキシルに
より置換されており、Rは水素もしくは脂肪族炭化水素
基であり更にmは各々の場合0、1又は2であり更に基
R_1、R_2およびR_3の第三の基は次式 I a:
▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、Z_2はアルキレン、O、S(O)_mまたは
N(R)であり、R_5はカルボキシ、ハロゲノアルカ
ンスルホニルアミノ、SO_3H、PO_2H_2、P
O_3H_2または5−テトラゾリルであり、Rは水素
または脂肪族炭化水素基であり、mは0、1または2で
あり、環AおよびBは互いに独立に未置換であるか、又
はハロゲン、脂肪族炭化水素基(この基は中断されてい
ないか又はOにより中断されておりさらに未置換である
か、またはヒドロキシもくしはハロゲンにより置換され
ている)、遊離のもしくは脂肪族アルコールによりエー
テル化されたヒドロキシ、遊離、エステル化もしくはア
ミド化されたカルボキシ又は5−テトラゾリルにより置
換されている) で表わされる基である〕 で表わされる化合物、および適当な場合その互変異性体
(各々の場合その遊離もしくは塩の形態にある)の製造
方法であって、 a)次式IIa: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) 〔式中、R_1′、R_2′およびR_3′の一種は次
式IIb: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIb) (式中X_1はR_5に変換され得る基である)で表わ
される基であり、他の二種の基は式 I aの基以外のR
_1、R_2又はR_3の意味を有する〕で表わされる
化合物又はその互変異性体および/又はその塩において
、置換基X_1をR_5に変換するか、又はb)次式I
IIa: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIa)、 (式中、X_2は非変成もしくは官能的に変成されたカ
ルボキシである) で表わされる化合物を、次式IIIb: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIb) (式中、R_4は先に定義した意味を有する)で表わさ
れる化合物又はその塩と反応させ、さらに各々の場合、
所望により、該方法又は他の方法で得られた式 I の化
合物又はその互変異性体(各場合において、遊離形態又
はその塩)を式 I の別の化合物又はその互変異性体に
変換し、該方法により得ることのできる異性体混合物を
分離し次いで所望の異性体を単離しおよび/又は該方法
によって得られる式 I の遊離化合物又はその互変異性
体を塩に変換するか、又は該方法によって得られる式
I の化合物の塩又はその互変異性体を式 I aの遊離化
合物もしくはその互変異性体又は別の塩に変換する、前
記方法。 14、有効成分を、所望ならば通常の医薬補助剤と混合
して医薬製剤に加工することを含んでなる、請求項12
記載の医薬製剤の調製方法。
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