JPH0312942A - 半導体装置の封止方法および半導体チップ - Google Patents

半導体装置の封止方法および半導体チップ

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JPH0312942A
JPH0312942A JP14880089A JP14880089A JPH0312942A JP H0312942 A JPH0312942 A JP H0312942A JP 14880089 A JP14880089 A JP 14880089A JP 14880089 A JP14880089 A JP 14880089A JP H0312942 A JPH0312942 A JP H0312942A
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JP
Japan
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semiconductor chip
thermoplastic resin
electrode
chip
electrodes
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JP14880089A
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English (en)
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Yoshihisa Totsuta
義久 土津田
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/731Location prior to the connecting process
    • H01L2224/73101Location prior to the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73103Bump and layer connectors
    • H01L2224/73104Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は樹脂を用いて半導体装置を封止する方法に関
するものであり、特にフェイスダウンボンディング法に
よって接続された半導体装置を樹脂封止する方法および
それに用いられる半導体チップに関するものである。
[従来の技術] 半導体チップの表面に設けられた電極と回路基板の表面
に設けられた電極とを電気的に接続する方法として、ワ
イヤを用いずに、半田を用いて直接電気的に接続する方
法かある。この方法は一般にフェイスダウンボンディン
グ法という。フェイスダウンボンディング法を用いて半
導体チップの表面に設けられた電極と回路基板の表面に
設けられた電極とを電気的に接続し、その後半導体チッ
プの表面と回路基板の表面とで形成される間隙を樹脂で
封1]−する工程を第3A図から第3C図を用いて説明
する。
第3A図に示すように、チップ電極2かその表面に設け
られた半導体チップ1を用意する。チップ電極2の上に
は半[11バンプ電極3が設けられている。半田バンプ
電極3は半ぽ1がらて゛きている。
次に第3B図に示すように回路基板4に設けられた基板
電極5と半導体チップ1のチップ電極2とを位置合わせ
する。回路基板4はホットプレート6の上に載置されて
いる。そしてホットプレート6で半田バンプ電極3を加
熱することにより、半田リフローしチップ電極2と基板
電極5とを電気的に接続する。
次に第3C図に示すように半導体チップ1の表面と回路
基板4の表面とで形成される間隙に、ノズル7によって
熱可塑性樹脂8を流し込み、間隙を樹脂対1にする。
以上の工程により、半導体チップ]のチップ電極2と回
路基板4の基板電極5とを半田によって電気的に接続し
、その表面で形成される間隙を樹脂で封止することかで
きた。
なお、従来はホットプレートの代わりにベルト炉−9を
用いる方法もある。また、従来は熱可塑性樹脂の代わり
に熱硬化性樹脂等を用いる場合もある。
[発明か解決しようとする課題] しかし半導体チップ1の表面と回路基板4の表面とで形
成される間隙は狭いので、熱可塑性樹脂8は間隙のを間
を流れ込みにくい、したがって第3C図に示すように樹
脂封止後の半導体チップ1の表面と回路基板4の表面と
で形成される間隙に気泡9か発生することかある。この
場合外部雰囲気の水分が熱可塑性樹脂8を通過し気泡9
の中に溜まることがある。気泡中に水が溜まると、外部
環境が高温になるとその水分が気化し半導体チップ1に
機械的ストレスを与えることになる。また外部環境が低
温になると気泡中に溜まった水は凍結し膨張するので、
半導体チップ]に機械的ストレスを与えることになる。
さらにチップ電極2や基板電極5の近傍に気泡が発生し
、その気泡に水が溜まると電極が腐食してしまう。
この発明はかかる従来の問題点を解決するためになされ
たものでその目的は、半導体チップ1−と回路基板5と
で形成される間隙を気泡が発生ずることなく樹脂封止す
る方法およびそれに用いられる半導体チップを提供する
ことである。
[課題を解決するための手段] この発明に係る半導体装置の封止方法は、半導体チップ
の表面に形成された電極と接続対象物の表面に形成され
た電極とを、少なくともどちらか一方の前記電極上に設
けられた半田で電気的に接続し、さらに半導体チップの
表面と接続対象物の表面とで形成される間隙を熱可塑性
樹脂によって封止する方法である。
この発明はこのような方法において半導体チップの表面
と接続対象物の表面のうち、少なくともとちらかの表面
に、予め熱可塑性樹脂を塗布しておき、その後、半導体
チップの電極と接続対象物の電極とを位置合わせし、さ
らに半導体チップと接続対象物とを互いの電極同士が接
触する方向に加圧しつつ、熱可塑性樹脂と半田とを加熱
して溶融することによって、半導体チップの電極と接続
対象物の電極とを半田Jで電気的に接続し、かつ間隙を
熱可塑性樹脂で封止することを特徴としている。
またこの発明に係る半導体チップは上記方法に用いられ
る半導体チップである。この発明に係る半導体チップは
、半導体チップの表面に形成された電極と、電極上に設
けられた半田と、半田上を含めて半導体チップの全表面
に塗布された熱可塑性樹脂とを備えている。
[作用コ この発明に係る半導体装置の封止方法は、半導体チップ
の表面と接続対象物の表面とのうち、少なくともどちら
か一方の表面に、予め熱可塑性樹脂を塗布している。し
たがって半導体チップと接続対象物とを互いの電極同士
が接触する方向に加圧しつつ、熱可塑性樹脂を加熱する
と、熱可塑性樹脂は間隙の中を拡がる。このため気泡が
発生することなく、間隙を樹脂封止できる。
U実施例コ この発明に係る半導体装置の封止方法の一実施例を第1
A図から第1C図を用いて説明する。
まず第1A図に示すように、ウェハ状態の半導体チップ
コ−1のチップ電極12上に、半田バンプ電極13を形
成する。半日バンプ電極13は半導体ウェハの表面にレ
ジストを塗布し、所定のパタニングによってチップ電極
12上のレジストのみを除去し、チップ電極12の上に
電気めっきをすることによって形成することができる。
半田バンプ電極13が設けられたウェハ状態の半導体チ
ップ11の表面にスピンコードによって熱可塑性樹脂1
8を塗布する。そして熱可塑性樹脂18を仮硬化させる
。このような状態のウェハをダイシングし、第1A図に
示すような半導体チップ11を得た。
次に第1B図に示すように金属製のボンディングツール
]っで半導体チップ1]を吸着する。ボンディングツー
ル19の半導体チップ11と接触する面には穴が設けら
れており、その穴は真空装置とつながっている。真空装
置を駆動させることによりボンディングツール19と半
導体チップ1]との間を真空にし、ボンディングツール
19に半導体チップ11を吸着させるのである。そして
ホットプレート16」二に載置された回路基板14の表
面に形成された基板電極15と半導体チップ11のチッ
プ電極12とをフリップチップボンダーによって位置合
わせをする。
そしてボンディングツール19によって、チップ電極]
2と基板電極15とが接触する方向に半導体チップ1]
と回路基板14とを加圧する。
そしてこのような状態でホットプレー1・16によって
半田バンプ電極]3と熱可塑性樹脂]8とを加熱するこ
とによって溶融する。
これにより第1C図に示すようにチップ電極]2と基板
電極15とは半田バンプ電極13によって電気的に接続
する。また半導体チップ11と回路基板14とで形成さ
れる間隙には熱可塑性樹脂]−8か拡がる。これにより
間隙は気泡か発生ずることなく熱可塑性樹脂18で充填
される。
そして冷却することにより半田を凝固させるとともに、
熱可塑性樹脂18を本硬化させる。以上の工程によりチ
ップ電極12と基板電極15とを半田バンプ電極13で
電気的に接続し、さらに半導体チップ11と回路基板1
4とで形成される間隙を樹脂で封止することができた。
なお第1B図に示すように当初はチップ電極12と基板
電極15との間には熱可塑性樹脂]8がある。しかしな
がら加熱により、半日」バンプ電極13よりも熱可塑性
樹脂18の方が先に軟化するので、ボンディングツール
19によって半導体チップ11と回路基板]4とを加圧
すると、半田バンプ電極13が熱可塑性樹脂18を押し
拡げて基板電極15と接触する。よってチップ電極12
と基板電極15との間に熱可塑性樹脂]8があっても、
チップ電極]2と基板電極15とを電気的に接続させる
ことかできる。
この実施例においてはウェハ状態の半導体装置に熱可塑
性樹脂を塗布したが、この発明においてはこれに限定さ
れるわけてはなく、ウェハをダイシングして半導体チッ
プの状態にした後に半導体チップの表面に熱可塑性樹脂
を塗布してもよい。
この実施例においてはホットプレートによって半田バン
プ電極と熱可塑性樹脂とを加熱して溶剛;しているが、
この発明においてはこれにに限定されるわけではなくボ
ンディングツールによって加熱してもよい。ボンディン
グツールにニクロム線を巻くことにより熱をホンディン
グツールから半田バンプ電極や熱可塑性樹脂に伝えるこ
とができる。この方法を使用すると既に回路基板に接続
されている半導体チップには熱を伝えずにすむ。またホ
ットプレート を使うことによって半田バンプ電極等を加熱してもよい
この実施例においては半導体チップの表面に熱]0 可塑性樹脂を塗布しているかこの発明においてはこれに
限定されるわけてはなく回路基板の表面に熱可塑性樹脂
を塗布してもよい。回路基板の表面上に熱可塑性樹脂を
塗布する方法としてスクリン印刷やポツティング等があ
る。
またこの実施例においては半導体チップのチップ電極の
上に半田バンプ電極を設けているが、この発明において
はこれに限定されるわけではなく、回路基板の基板電極
の上に半lTi1バンプ電極を設けてもよい。
この発明に係る半導体装置の封止方法の他の実施例を第
2図を用いて説明する。この発明の他の実施例において
は第1の半導体チップ2]のチップ電極22と第2の半
導体チップ23のチップ電極24とを半田バンプ電極2
5によって電気的に接続し、第1の半導体チップ21の
表面と第2の半導体チップ23の表面とで形成され間隙
を熱可塑性樹脂26で封止したものである。第2の半導
体チップ23の裏面は回路基板27の表面に固着されて
いる。第2の半導体チップ23のチップ電1 極24と回路基板27の基板電極28とはワイヤ2つに
よって電気的に接続されている。
[効果] この発明に係る半導体装置の封止方法によれば、半導体
チップの表面と接続対象物の表面とのうち、少なくとも
とちらか一方の表面に、予め熱可塑性樹脂を塗布してい
る。したがって半導体チップと接続対象物とを互いの電
極同士か接触する方向に加圧しつつ、熱可塑性樹脂を加
熱すると、熱可塑性樹脂は半導体チップの表面と接続対
象物の表面とで形成される間隙の中を拡がる。よって半
導体チップの表面と接続対象物の表面とで形成される間
隙に気泡を発生させることなく、間隙を熱可塑性樹脂で
封止することかできる。したかって気泡が原因となる半
導体装置の信頼性低下ということがなくなる。
またこの発明に係る半導体装置の封止方法によれば半導
体チップの表面と接続対象物の表面とで形成される間隙
にノズルを用いて樹脂を注入するという工程が不要とな
るので作業能率の向上を図2 ることかできる。
【図面の簡単な説明】
第1A図〜第1C図はこの発明に係る半導体装置の封止
方法の一実施例を説明するための工程図である。 第2図はこの発明に係る半導体装置封止方法の他の実施
例を説明するだめの図である。 第3A図〜第3C図は従来の半導体装置の封止方法を説
明するための工程図である。 図において11は半導体チップ、]2はチップ電極、1
3は半田バンプ電極、]4は回路基板、15は基板電極
、]8は熱可塑性樹脂、21は第1の半導体チップ、2
2はチップ電極、23は第2の半導体チップ、24はチ
ップ電極、25は半田バンプ電極、26は熱可塑性樹脂
、27は回路基板、28は基板電極を示す。 3

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体チップの表面に形成された電極と接続対象
    物の表面に形成された電極とを、少なくともどちらか一
    方の前記電極上に設けられた半田で電気的に接続し、さ
    らに前記半導体チップの表面と前記接続対象物の表面と
    で形成される間隙を熱可塑性樹脂によって封止する方法
    において、前記半導体チップの表面と前記接続対象物の
    表面のうち、少なくともどちらか一方の表面に、予め前
    記熱可塑性樹脂を塗布しておき、その後、前記半導体チ
    ップの電極と前記接続対象物の電極とを位置合わせし、
    さらに前記半導体チップと前記接続対象物とを互いの電
    極同士が接触する方向に加圧しつつ、前記熱可塑性樹脂
    と半田とを加熱して溶融することによって、前記半導体
    チップの電極と前記接続対象物の電極とを前記半田で電
    気的に接続し、かつ前記間隙を前記熱可塑性樹脂で封止
    することを特徴とする、半導体装置の封止方法。
  2. (2)請求項1に記載された発明に用いられる半導体チ
    ップであって、 前記半導体チップの表面に形成された電極と、前記電極
    上に設けられた半田と、 前記半田上を含めて前記半導体チップの全表面に塗布さ
    れた熱可塑性樹脂と、 を備えた、半導体チップ。
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