JPH07273146A - 半導体装置の実装方法 - Google Patents
半導体装置の実装方法Info
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- JPH07273146A JPH07273146A JP6060764A JP6076494A JPH07273146A JP H07273146 A JPH07273146 A JP H07273146A JP 6060764 A JP6060764 A JP 6060764A JP 6076494 A JP6076494 A JP 6076494A JP H07273146 A JPH07273146 A JP H07273146A
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81193—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3431—Leadless components
-
- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof
- H05K3/3485—Applying solder paste, slurry or powder
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体装置の実装方法に関し、特に半導体装
置をベアチップ状態で配線基板にフェースダウンにより
実装するフリップチップ実装において、歩留まりを高く
する。 【構成】 多層配線基板3の表面には、半導体装置1の
半田バンプ2と対向する位置に凹部4を形成している。
実装工程は、凹部4に半田ペースト6を充填・固化す
る。固化した第1の半田ペースト6上の凹部4の空間
に、半田バンプ2と第1の半田ペーストの融点より低い
融点を持つ第2の半田ペースト7を充填する。半田バン
プ2と凹部4とが整合するよう半導体装置1を多層配線
基板3上に載置し、第2の半田ペースト7の融点温度に
てリフロー処理を行う。
置をベアチップ状態で配線基板にフェースダウンにより
実装するフリップチップ実装において、歩留まりを高く
する。 【構成】 多層配線基板3の表面には、半導体装置1の
半田バンプ2と対向する位置に凹部4を形成している。
実装工程は、凹部4に半田ペースト6を充填・固化す
る。固化した第1の半田ペースト6上の凹部4の空間
に、半田バンプ2と第1の半田ペーストの融点より低い
融点を持つ第2の半田ペースト7を充填する。半田バン
プ2と凹部4とが整合するよう半導体装置1を多層配線
基板3上に載置し、第2の半田ペースト7の融点温度に
てリフロー処理を行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の実装方法に
関し、特に半田バンプを具備する半導体装置をフェース
ダウンボンディングにより実装するフリップチップ実装
方法に関するものである。
関し、特に半田バンプを具備する半導体装置をフェース
ダウンボンディングにより実装するフリップチップ実装
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置に形成した突起状接続電極で
あるバンプ電極を介して、配線基板にフェースダウンボ
ンディングする実装構造は、ワイヤボンディングによる
実装構造に比べて高密度実装が可能であり、ギャング
(一括)ボンディングができるため実装に要する時間が
短いなどの優れた特徴がある。
あるバンプ電極を介して、配線基板にフェースダウンボ
ンディングする実装構造は、ワイヤボンディングによる
実装構造に比べて高密度実装が可能であり、ギャング
(一括)ボンディングができるため実装に要する時間が
短いなどの優れた特徴がある。
【0003】以下、従来のフリップチップ実装方法につ
いて図3を用いて説明する。図において、1は半導体装
置、2は半導体装置上に形成された半田バンプである。
3は多層配線基板、9は多層配線基板3の表面に形成さ
れた導体層である。
いて図3を用いて説明する。図において、1は半導体装
置、2は半導体装置上に形成された半田バンプである。
3は多層配線基板、9は多層配線基板3の表面に形成さ
れた導体層である。
【0004】半導体装置1の半田バンプ2と対向する多
層配線基板3の導体層9上に、半田ペースト10をメタ
ルマスク等の治具を用いて形成する(図3(a))。次
いで、半導体装置1の半田バンプ2と、多層配線基板3
に形成した半田ペースト10とを光学式検知装置などを
用いて整合し、半導体装置1を多層配線基板3上に載置
する(図3(b))。次に熱処理などにより半導体装置
1と多層配線基板3とを半田バンプ2を介して接続す
る。
層配線基板3の導体層9上に、半田ペースト10をメタ
ルマスク等の治具を用いて形成する(図3(a))。次
いで、半導体装置1の半田バンプ2と、多層配線基板3
に形成した半田ペースト10とを光学式検知装置などを
用いて整合し、半導体装置1を多層配線基板3上に載置
する(図3(b))。次に熱処理などにより半導体装置
1と多層配線基板3とを半田バンプ2を介して接続す
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の実装方法では、半導体装置と多層配線基板とを載置す
る工程、あるいは熱処理の工程において、半田ペースト
10が半導体装置1を載置した際に広がり、隣接する半
田バンプ同士でブリッジなどが発生するため、接続不良
が発生し生産性を低下させていた。
の実装方法では、半導体装置と多層配線基板とを載置す
る工程、あるいは熱処理の工程において、半田ペースト
10が半導体装置1を載置した際に広がり、隣接する半
田バンプ同士でブリッジなどが発生するため、接続不良
が発生し生産性を低下させていた。
【0006】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、作業歩留まりの良い実装方法を提供する事を目的
とする。
あり、作業歩留まりの良い実装方法を提供する事を目的
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の半導体装置の実装方法は、半導体装置の半
田バンプに対向して、配線基板の表面に形成した凹部
に、第1の半田ペーストを充填し固化する工程と、前記
固化によって収縮した第1の半田ペースト上の前記凹部
の空間を、前記半田バンプ及び第1の半田ペーストより
融点が低い第2の半田ペーストにより充填する工程と、
前記配線基板の凹部と前記半導体装置の半田バンプとの
位置を合わせ、前記第1の半田ペースト及び半田バンプ
の融点より低く、第2の半田ペーストより高い温度のリ
フロー処理により、前記配線基板と前記半導体装置とを
接続する工程とからなることを特徴とするものである。
に、本発明の半導体装置の実装方法は、半導体装置の半
田バンプに対向して、配線基板の表面に形成した凹部
に、第1の半田ペーストを充填し固化する工程と、前記
固化によって収縮した第1の半田ペースト上の前記凹部
の空間を、前記半田バンプ及び第1の半田ペーストより
融点が低い第2の半田ペーストにより充填する工程と、
前記配線基板の凹部と前記半導体装置の半田バンプとの
位置を合わせ、前記第1の半田ペースト及び半田バンプ
の融点より低く、第2の半田ペーストより高い温度のリ
フロー処理により、前記配線基板と前記半導体装置とを
接続する工程とからなることを特徴とするものである。
【0008】
【作用】上記方法によれば、配線基板の凹部に半導体装
置と配線基板とを接続する半田ペーストが充填されるた
め、従来のような半導体装置と配線基板を接続する際に
発生する、隣接半田バンプ同士のブリッジが皆無とな
り、作業歩留まりが向上する。
置と配線基板とを接続する半田ペーストが充填されるた
め、従来のような半導体装置と配線基板を接続する際に
発生する、隣接半田バンプ同士のブリッジが皆無とな
り、作業歩留まりが向上する。
【0009】
【実施例】以下本発明の半導体装置の実装方法の実施例
について、図面を参照しながら説明する。図1は本発明
の一実施例により配線基板との実装を完了した半導体装
置の断面図、図2は本発明の一実施例における工程図を
示すものである。
について、図面を参照しながら説明する。図1は本発明
の一実施例により配線基板との実装を完了した半導体装
置の断面図、図2は本発明の一実施例における工程図を
示すものである。
【0010】図において、1は半導体装置、2は半導体
装置上に形成された融点221℃の半田から構成される
球状の半田バンプ、3はグリーンシート工法により形成
されたセラミック多層配線基板、4はセラミック多層配
線基板上に形成された凹部、5は凹部4の底面に形成さ
れた導体層、6は同じく融点221℃の第1の半田ペー
スト、7は第1の半田ペースト及び半田バンプ2の融点
より低い融点183℃の第2の半田ペーストを示してい
る。なおセラミック多層配線基板3の凹部4は、最外層
となるグリーンシートに微細なプローブでパンチングす
る事により容易に形成できる。
装置上に形成された融点221℃の半田から構成される
球状の半田バンプ、3はグリーンシート工法により形成
されたセラミック多層配線基板、4はセラミック多層配
線基板上に形成された凹部、5は凹部4の底面に形成さ
れた導体層、6は同じく融点221℃の第1の半田ペー
スト、7は第1の半田ペースト及び半田バンプ2の融点
より低い融点183℃の第2の半田ペーストを示してい
る。なおセラミック多層配線基板3の凹部4は、最外層
となるグリーンシートに微細なプローブでパンチングす
る事により容易に形成できる。
【0011】以下に本実施例における半導体装置の実装
方法について、図2を用いて説明する。まずスキージ8
を摺動する事により、セラミック多層配線基板3表面に
形成した凹部4に第1の半田ペースト6を充填する(図
(a))。次いで第1の半田ペースト6の融点以上の熱
を加え第1の半田ペースト6を固化する(図(b))。
第1の半田ペースト6が固化すると、表面張力により半
球状に収縮し体積が減少するため、凹部4には固化した
第1の半田ペーストの上部に半田ペーストの充填されて
いない空間4aが形成される。
方法について、図2を用いて説明する。まずスキージ8
を摺動する事により、セラミック多層配線基板3表面に
形成した凹部4に第1の半田ペースト6を充填する(図
(a))。次いで第1の半田ペースト6の融点以上の熱
を加え第1の半田ペースト6を固化する(図(b))。
第1の半田ペースト6が固化すると、表面張力により半
球状に収縮し体積が減少するため、凹部4には固化した
第1の半田ペーストの上部に半田ペーストの充填されて
いない空間4aが形成される。
【0012】さらに第1の半田ペースト6および半田バ
ンプ2の融点より低い温度で液化する第2の半田ペース
ト7を、図(a)と同様にして前記空間4aに充填する
(図(c))。次いで半田バンプ2を形成した半導体装
置1を多層配線基板3と位置合わせし整合する(図
(d))。空間4aに充填された第2の半田ペースト7
は粘着性を有しており、また、第2の半田ペースト7を
空間4aに充填しているため、半田バンプ2を載置して
も第2の半田ペースト7の広がりは皆無であり、隣接半
田バンプ間でのブリッジの発生も皆無である。これを第
2の半田ペーストの融点温度でリフロー処理する事によ
り、液化した第2の半田ペースト7の表面張力により球
状の半田バンプ2の周りに広がり、固化した半球状の第
1の半田ペースト6との接着剤となり、図1に示すフリ
ップチップ実装体を得る事ができる。
ンプ2の融点より低い温度で液化する第2の半田ペース
ト7を、図(a)と同様にして前記空間4aに充填する
(図(c))。次いで半田バンプ2を形成した半導体装
置1を多層配線基板3と位置合わせし整合する(図
(d))。空間4aに充填された第2の半田ペースト7
は粘着性を有しており、また、第2の半田ペースト7を
空間4aに充填しているため、半田バンプ2を載置して
も第2の半田ペースト7の広がりは皆無であり、隣接半
田バンプ間でのブリッジの発生も皆無である。これを第
2の半田ペーストの融点温度でリフロー処理する事によ
り、液化した第2の半田ペースト7の表面張力により球
状の半田バンプ2の周りに広がり、固化した半球状の第
1の半田ペースト6との接着剤となり、図1に示すフリ
ップチップ実装体を得る事ができる。
【0013】なお本実施例では、半田バンプと第1の半
田ペーストの融点を同一としたが、いずれも第2の半田
ペーストの融点よりも高いものであれば、融点の異なる
ものを使用してよい。
田ペーストの融点を同一としたが、いずれも第2の半田
ペーストの融点よりも高いものであれば、融点の異なる
ものを使用してよい。
【0014】
【発明の効果】以上のように本発明は、多層配線基板に
形成した凹部に融点の異なる2種類の半田ペーストを充
填して半導体装置をフリップチップ実装することによ
り、半田ペーストの広がりが抑制され隣接半田バンプ同
士でのブリッジは皆無となり、生産性を高めることがで
きる。
形成した凹部に融点の異なる2種類の半田ペーストを充
填して半導体装置をフリップチップ実装することによ
り、半田ペーストの広がりが抑制され隣接半田バンプ同
士でのブリッジは皆無となり、生産性を高めることがで
きる。
【0015】また本発明によれば、半田バンプと固化し
た第1の半田ペーストとにより、配線基板と半導体装置
との接続部分の間隔が広がるため、コンパクトながら熱
歪による応力集中を分散することができる。すなわち、
熱歪による半田バンプへの応力集中を軽減するためには
接続部分の間隔を広げる必要があるが、従来の方法では
半田バンプを大きくしなければならないため、半導体装
置自身を大きくしなければならなかった。しかしながら
本発明によれば、半田バンプのサイズを大きくすること
なく実現できるのである。さらに本発明によれば、接続
部の半田形状も従来の球形から、信頼性の高い鼓型に形
成することができる。
た第1の半田ペーストとにより、配線基板と半導体装置
との接続部分の間隔が広がるため、コンパクトながら熱
歪による応力集中を分散することができる。すなわち、
熱歪による半田バンプへの応力集中を軽減するためには
接続部分の間隔を広げる必要があるが、従来の方法では
半田バンプを大きくしなければならないため、半導体装
置自身を大きくしなければならなかった。しかしながら
本発明によれば、半田バンプのサイズを大きくすること
なく実現できるのである。さらに本発明によれば、接続
部の半田形状も従来の球形から、信頼性の高い鼓型に形
成することができる。
【図1】本発明の一実施例における半導体装置の実装方
法により実装した半導体装置の断面図
法により実装した半導体装置の断面図
【図2】同実装方法の工程図
【図3】従来の半導体装置の実装方法の工程図
1 半導体装置 2 半田バンプ 3 セラミック多層配線基板 4 凹部 5,9 導体層 6 第1の半田ペースト 7 第2の半田ペースト 8 スキージ 10 半田ペースト
Claims (1)
- 【請求項1】半導体装置の半田バンプに対向して、配線
基板の表面に形成した凹部に、第1の半田ペーストを充
填し固化する工程と、前記固化によって収縮した第1の
半田ペースト上の前記凹部の空間を、前記半田バンプ及
び第1の半田ペーストより融点が低い第2の半田ペース
トにより充填する工程と、前記配線基板の凹部と前記半
導体装置の半田バンプとの位置を合わせ、前記第1の半
田ペースト及び半田バンプの融点より低く、第2の半田
ペーストより高い温度のリフロー処理により、前記配線
基板と前記半導体装置とを接続する工程とからなる半導
体装置の実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6060764A JPH07273146A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 半導体装置の実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6060764A JPH07273146A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 半導体装置の実装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07273146A true JPH07273146A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=13151679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6060764A Pending JPH07273146A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 半導体装置の実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07273146A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010054555A (ko) * | 1999-12-07 | 2001-07-02 | 이형도 | 비 지 에이 기판의 솔더 범프패드 형성장치 |
WO2004040950A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Advanpack Solutions Pte Ltd | Method for constraining the spread of solder during reflow for preplated high wettability lead frame flip chip assembly |
JP2014229776A (ja) * | 2013-05-23 | 2014-12-08 | 富士通株式会社 | 電極、電子部品、電子装置および電極の接合方法 |
CN104994680A (zh) * | 2015-07-02 | 2015-10-21 | 常州鼎润电子科技有限公司 | 防脱落电路板 |
US9754830B2 (en) | 2012-07-20 | 2017-09-05 | Fujitsu Limited | Wiring substrate, method for manufacturing wiring substrate, electronic device and method for manufacturing electronic device |
-
1994
- 1994-03-30 JP JP6060764A patent/JPH07273146A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010054555A (ko) * | 1999-12-07 | 2001-07-02 | 이형도 | 비 지 에이 기판의 솔더 범프패드 형성장치 |
WO2004040950A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Advanpack Solutions Pte Ltd | Method for constraining the spread of solder during reflow for preplated high wettability lead frame flip chip assembly |
US9754830B2 (en) | 2012-07-20 | 2017-09-05 | Fujitsu Limited | Wiring substrate, method for manufacturing wiring substrate, electronic device and method for manufacturing electronic device |
JP2014229776A (ja) * | 2013-05-23 | 2014-12-08 | 富士通株式会社 | 電極、電子部品、電子装置および電極の接合方法 |
CN104994680A (zh) * | 2015-07-02 | 2015-10-21 | 常州鼎润电子科技有限公司 | 防脱落电路板 |
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