JPH03101669A - 新規なチアゾリルアルコキシアクリル酸エステル、それらの製造法、それらの殺菌剤としての使用及びそれらの製造中間体 - Google Patents

新規なチアゾリルアルコキシアクリル酸エステル、それらの製造法、それらの殺菌剤としての使用及びそれらの製造中間体

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JPH03101669A
JPH03101669A JP2146387A JP14638790A JPH03101669A JP H03101669 A JPH03101669 A JP H03101669A JP 2146387 A JP2146387 A JP 2146387A JP 14638790 A JP14638790 A JP 14638790A JP H03101669 A JPH03101669 A JP H03101669A
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Jean-Louis Brayer
ジャンルイ・ブレイエ
Joseph Cadiergue
ジョゼフ・カディエルグ
Gilles Mourioux
ジル・ムーリウー
Jean Tessier
ジャン・テシエ
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Roussel Uclaf SA
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なチアゾリルアルコキシアクリル酸エス
テル、それらの製造法、それらの殺菌剤としての使用及
びそれらの製造中間体に関する。
〔ここで、Ｒ＋及びＲ，は、同一又は異なっていてよく
、水素原子、ハロゲン原子、ＣＦ，基、８個まで（’）
　炭素原子ヲ含有するアルキル、アルケニル、アルキニ
ル若しくはチオアルキル基、８個までの炭素原子を含有
するアルコキシ、チオアルコキシ若しくはＳｏｗアルキ
ル基、■８個までの炭素原子を含有する置換されていて
もよいアリール、アリールオキシ若しくけチオアリール
基、置換されていてもよいヘテロアリール若しくはヘテ
ロアゾールオキシ基、又は５若しくは６員の置換されて
いてもよい複素環式基を表わし、 Ｒ３は、８個までの炭素原子を含有するアルキル、アル
ケニル若しくはアルキニル基、１８個までの炭素原子を
含有するアリール基、又は１４個までの炭素原子を含有
するアルコキシアルコキシアルキル基を表わし、 Ｘは酸素若しくは硫黄原子又はＮＲ．基（ここでＲ４は
水素原子、８個までの炭素原子を含有するアルキル、ア
ルケニル、アルキニル、ＳＯ，−アルキル、ＳＯ，−ア
ルケニル若しくはＳＯ，−アルキニル基、又は１８個ま
での炭素原子を含有する置換されていてよいアリール若
しくはＳｏｔ−アリール基を表わす）を表わし、 ｎは数Ｏ又は１を表わし、 Ａは下記の基 （ここで、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、ＣＦ，基、又
は８個までの炭素原子を含有するアルキル若しくは゜ｒ
ルコキシ基を表わし、Ｚは水素原子又はノ＼ロゲン原子
を表わす） の群から遭ばれる基を表わし、 二重結合の配置はＥ又はＺ又はＥとＺ配置（Ｃａｈｎ−
１ｎｇｏｌｄ−Ｐｒｅｌｏｇの意味で）との混合である
〕 の化合物にある。
各種の置換基の定義において、 アルキル基は、好ましくはメチル、エチル、ｎブロビル
、イソブロビル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブ
チル又はｔ−ブチル基を表わし、アルケニル基は、好ま
しくはビニル、アリル又は１，１−ジメチルアリル基を
表わし、アルキニル基は、好ましくはエチニル又はプロ
ビニル基を表わし、 アリール基は、好ましくはフエニル基を表わし、 ヘテロアリール基は、好ましくはフリル、ピリジニル、
ピベラジニル、ペンゾフラニル、インベンゾフラニル、
オキサゾリル又はインオキサゾリルフ人壱表わし、 復素環式基は、好ましくはモルホリニル、ビラニル又は
ビリダジニル基を表わし、 アルコキシアルフキシアルキル基は、好ましくはメトキ
シエトキシアルキル基又は次式（ＣＨ，）　−０−（Ｃ
Ｈ．），’−０−アルキルｐ （ここで、ｐ及びｐ′は同一又は異なっていてよく、数
１、２、３又は４を表わし、アルキルは８個までの炭素
原子を含有するアルキル基を表わす） の任意の他の基を表わし、 ハロゲンは好ましくはふっ素又は塩素原子を表わす。
アリール、アリールオキシ、チオアリール、複素環、ヘ
テロアリール又はヘテロアリールオキシ基が置換されて
いるときは、これらは、好ましくは、ｉｎの、エステル
化された若しくはエーテル化されたヒドロキシル基（エ
ステル又はエーテル部分はｌ〜１８個の炭素原子を含有
する）、例えばアセトキシ基又はメトキシ基；ケトン及
びオキンム官能基，１８個までの炭素原子を含有する飽
和又は不飽和の線状、分岐状又は環状のアルキル基、例
えばメチル、エチル、プロビル又はイソブロビル基、エ
テニルーＣ　ＩＩ　一Ｃ　Ｈ．基又はエテニルＣ三ＣＨ
基：ハロゲン原子、例えばふっ素、塩素、臭素原子；　
ＣＦ．、ＳＣＦ３、ＯＣＦ．、ＮＯｘ、ＮＨｔ又はＣ三
Ｎ基よりなる群から選ばれる置換基を有する。
さらに詳しくは、本発明の主題は、 Ｏ基 Ｒ３０−″ はＣｏ　．　ＣＨ　３及びＯＲ．が互にｔｒａｎｓ配置
であるようなものである式（Ｉ）の化合物； ＯＸが硫黄原子を表わす式（Ｔ）の化合物；ＯＡが基 を表わす式（Ｉ）の化合物；そしてこれらのうちでも特
に二重結合の配置がＥである式（Ｉ）の化合物： ＯＡが基 個までの炭素原子を含有するアルコキシ基又は基 入 を表わす式（Ｉ）の化合物； ＯＡが基 （Ａ，） （Ａ，） を表わす式（Ｉ）の化合物；これらのうちでも特に二重
結合の配置が基Ａ１についてＺであり、また基Ａ，につ
いてはＥである式（Ｉ）の化合物：Ｏｎが数Ｏを表わす
式（Ｉ）の化合物；ＯＲ，が水素原子、塩素原子、５個
までの炭素原子を含有するアルキル若しくはアルケニル
基、５を表わす式（Ｉ）の化合物； Ｏ　Ｌが水素原子を表わす式（Ｉ）の化合物：Ｏ　Ｌ及
び（又は）Ｒ，が置換されていてよいアリール基である
式（Ｉ）の化合物； ＯＲ，がＳ　Ｃ　１１　３基でありかつＲｔがＣＨ３基
である式（Ｉ）の化合物： リアルフキシアクリレート基が５位置にある式（Ｉ）の
化合物 にある。
本発明の好ましい化合物のうちでも、その製造を実験の
部に示す化合物、特に、例ｌ、５、１１、１３、ｌ４、
１５、１６、ｌ７、２０，２８、２９、３０、３ｌ、３
２、３３及び３８の化合物があげられる。
また、本発明の主題は、次式（ＩＩ） （ここで、Ｘ，Ｒ，、Ｒ，、Ａ及びｎは前記の意味を有
する） の化合物に強塩基及びぎ酸アルキル又はＮ−ホルミルイ
ミダゾールを作用させて次式（ＩＩＩ）ＯＨ の化合物を得、この化合物に基Ｒ，の導入剤を作用させ
て対応する式（＋）の化合物を得、要すれば種種の異性
体を分離することを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造
法にある。
本発明の製造法を実施するのに好ましい方法においては
、 使用する塩基は水素化ナトリウムであり、使用するぎ酸
アルキルはぎ酸メチル又はエチルであり、 基Ｒ，の導入剤はｔｌ　ａ　Ｑ　−　Ｒ３誘導体（ここ
でＨ　ａ　Ｑは例えばよう素又は塩素原子を表わす）又
はＳＯｓ−Ｒ３サルフェートであり、 式（ｌＩｒ）の化合物は単離せず、 得られた種々の異性体はクロマトグラフィーにより分離
することができる。
式（ｎ）の化合物は、複素環化合物の標準的方侠である
後記の実験の部に記載の方法に従って製造することがで
き、しかして式（ｎ）のこれら化合物並びに式（Ｉ）の
化合物の製造法の操作中に得られる式（ＩＩ［）の化合
物はそれら自体本発明の主題となる。
また、本発明の主題は、基Ａが前載の基（Ａ，）を表わ
す式（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、次式（ｒＩ／
） の残基の除去剤を作用させて対応する次式（ｒＡ）（こ
こで、Ｘ，Ｒ．及びＲ，は前記の意味を有する）の化合
物又はこの化合物の官能性誘導体に次式（Ｖ） Ｍｅ （ここで、Ｒ３は前記の意味を有し、ａＱｋ．は８個ま
での炭素原子を含有するアルキル基を表わす）の化合物
を作用させて次式（Ｖ１） の化合物を得、この化合物にａＱｋ，−ＯＨアルコール
の化合物を得ることを特徴とする該化合物の製造法にあ
る。
上記の製造法を実施するのに好ましい方法においては、 使用する酸（ＩＶ）の官能性誘導体は酸クロリドであり
、 ａｌ２ｋ＋−ＯＨアルコールの残部の除去は酸媒体中で
、例えばｐ一トルエンスルホン酸の存在下に加熱スるこ
とによって行われる。
出発物質として使用できる式（ＩＶ）の化合物は後記の
実験の部で示すように５５造することができる。
これらは新規であって、それら自体本発明の主題をなす
。
また、出発物質として使用される式（Ｖ）の化合物はヨ
ーロノパ特．杵第０．　１７８，　８０８号に従って製
造することができる。
上記の製造法の操作中に得られる式（Ｖ１）の化合物は
新規であって、それら自体本発明の主題をなす。
また、本発明の主題は、基Ａが基 を表わす式（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、ウィチ
ヒーホーナー反応に従って、次式（■）５ ７ｑ Ｒ３０′　ゝ１１ （ここでＹ及びＲ３は前記の意味を有し、ａｌ２ｋｚ及
びａＩ２ｋ３は同一又は異なっていてよく、８個までの
炭素原子を含有するアルキル基を表わす）の化合物を作
用させて対応する次式（ＩＢ）（ここで、Ｘ，Ｒ．及び
Ｒ，は前記の意味を有する）の化合物に次式（■） の化合物を得、所望ならばこの化合物を単離し又は所望
ならば接触水素化を行って次式（ＩＣ）の化合物を得る
ことを特徴とする該化合物の製造法にある。
式（■）の化合物はヨーロソバ特許第０．　２０３，　
６０６号に記載の方法に従って製造することができる。
式（Ｉｃ）の化合物を導く接触水素化は、独国特許第３
５４５３１８Ａｌ号に記載のように行うことができる。
上記の製造法を実施するのに好ましい方法においては、
式（■）の化合物と式（■）の化合物との反応は、強塩
基、例え、ば、水素化ナトリウム、アルカリ又はアルカ
リ土金属アルコラート、アルカリアミド又は有機リチウ
ム化合物の存在下で行われる。
式Ｎ）の化合物は、病原性菌類に対する保護のために使
用することができる有用な殺菌性を有する。これは植物
、家屋又は動物の保護のためである。
また、これらの性質は、人及び動物の衛生及び医療に使
用することができる。
本発明の化合物は、非常に多くの植物病原性菌類、特に
、エリシフエ・グラミニス（Ｅｒｉｓｙｐｈｅｇｒａｍ
ｉｎｉｓ）　、スフェロセカ−７キュラリス（Ｓｐｈａ
ｅｒｏｔｈｅｃａ　ｒａａｃｕｌａｒｉｓ）　、スフエ
ロセカ●フリギ不ア（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｒｕ
ｌｉｇｉｎｅａ）　、ポドスフエラ６ロイコトリチア（
Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ　　Ｉｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ）
、ウンシニコラ・ネカトール（υｎｃｉｎｕｌａ　ｎｅ
ｃａｔｏｒ）、へりミンソスポリウム種（Ｈｅｌｍｉｎ
ｔｈｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｓｐｐ．）、リンチョスボリウ
ム種（Ｒｈｙｎｃｈｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｓｐｐ．）、プ
ソイドセルフスボレラ・ヘルボトリチョイド（Ｐｓｅｕ
ｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ　ｈｅｒｐｏｔｒｉｃ
ｈｏｉｄｅｓ）及びゲウマノマイセス●グラミニス（　
Ｇａｅｕｍａｎｎｏｍｙｃｅｓｇｒａｎ＋ｉｎｉｓ）　
、ウスチラゴ種（Ｕｓｔｉｌａｇｏ　ｓｐｐ．）、セル
コスボラ・アラチジコーラ（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ａ
ｒａｃｈｉｄｉｃｏｌａ）及びセルフスボリジウム・ベ
ルソナチューム（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ　ｐｅ
ｒｓｏｎａｔｕｍ）　、セルフスポラ種（Ｃｅｒｃｏｓ
ｐｏｒａ　　ｓｐｅｃｉｅｓ）　、ポトＩノチス・ンネ
レア（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）　、アルテ
ルナリア種（ＡＩＬｃｒｎａｒｉａ　　ｓｐｐ．）　、
ペンチュリア・イナエカリス（Ｉ／ｅｎＬｕｒｉａ　　
ｉｎａｃｑｕａｌｉｓ）　、プラスモバラ・ビチコーラ
（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ　　ｖｉｔｉｃｏｌａ）　、プ
レミア・ラクチコカエ（　Ｂｒｅｍｉａ　Ｉａｃｔｕｃ
ａｅ）、ペロノスボラ種（　Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　
ｓｐｐ．　）　、プソイドペロノスボラ１フユムリ（Ｐ
ｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｈｕｌ１ｕｌｉ）
、ブソイドベロノスポラ・キュベンシス（Ｐｓｅｕｄｏ
ｐｅ−ｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｃｕｂｅｎｓｉｓ）　、フ
イトフトーラ６インフェスタンス（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈ
ｏｒａ　ｓｐｐ　ｉｎｆｅｓＬａｎｓ）　、フィトフト
ーラ種（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　　ｓｐｐ．）　、
タナテホリュース・キュキュメリス（Ｔｈａｎａｔｅｐ
ｈｏｒｕｓｃｕｃｕ＋ｌＩｅｒｉｓ）　、リゼオクトニ
ア種（Ｒｈｉｚｅｏｃｔｏｎｉａｓｐｐ−）、或るいは
人の健康に悪影響を及ぼす菌類又は酵母、例えばカンジ
ダ・アルビカンス（Ｃａｎｄｉｄａ　　ａｌｂｉｃａｎ
ｓ）又はトリコフィトン種（Ｔｒｙｃｈｏｐｈｙｔｏｎ
　ｓｐｐ）の防除を可能にする。
したがって、本発明の主題は、前記のような式（Ｉ）の
化合物の少なくとも１種を活性成分とじて含有する殺閑
剤組成物にある。特に、本発明の主題は、その化学的製
造を例１、５、１１、１３、Ｉ４、Ｉ５、１６、１７、
２０、２８、２９、３０、３ｌ、３２、３３及び３８に
示す化合物を含有する殺菌剤組戊物にある。
本発明に従う組成物は、例えば、農芸化学工業の標準的
方法に従って製造することができる。これらの組戊物は
、粉剤、顆粒剤、懸濁剤、乳剤、溶液剤又はこの種の化
合物の用途に通常使用されるその他の製剤の形で製造す
ることができる。
これらの組成物は、活性成分に加えて、一般に、混合物
の構成物質の均質な分散を可能ならしめるビヒクル及び
（又は）イオン系若しくは非イオン系界面活性剤を含有
する。使用されるビヒクルは、水、アルコール、炭化水
素又は他の有機溶媒、鉱油、動物油又は植物油のような
液体や、タルク、クレー　けい酸塩、けいそう土のよう
な粉末又は燃焼性固形物などであってよい。
当然ながら、これらの組成物は１種又はそれ以上の他の
ペスチサイド、例えばｌ種以上の殺虫剤又は殺だに剤を
含有することができる。
〔実施例〕
下記の例は本発明を例示するためのものである。
ド ６０ｇのトリフルオルアセトアミドを６００ｃｃのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液に３０ｇの五硫化り
んを添加する。２０〜２５゜Ｃでｌ時間撹拌した後、さ
らに３５９の五硫化りんを添加し、２０゜Ｃで１６時間
撹拌する。炉過し、ヘキサンで洗浄した後、炉液を乾固
させる。残留物をシリカでクロマトグラフイーし、ヘキ
サンー酢酸エチル混合物（７　−　３）で溶離し、３３
ｇの所望化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用
する。
工程Ｂ：２　　（トリフルオルメチル）−４−チアプー
ルカルポン酸エチル ２６ｇの工程Ａで得た化合物を５　０　０　ｃｃのエタ
ノールに溶解してなる溶液に３９９のブロムピルビン酸
エチルを添加する。還流下に１６時間撹拌した後、全体
を２　６　０　ｃｃの水に注ぎ、重炭酸ナトリウムを添
加してｐｕを８に調節する。エタノールを留去し、水性
画分を酢酸エチルで抽出する。蒸発乾固させた後、２４
ｙの生成物を得、これをシリカでクロマトグラフイーし
、ヘキサンー酢酸エチル混合物（７−３）で溶離する。
２１ｙの所期化合物を得た。これはそのまま次の工程に
使用する。
工程Ｃ：２−（トリフルオルメチル）−４−チアゾール
メタノール ２５９の工程Ｂで得た化合物、５５０ｃｃのテトラヒド
ロフラン及びｔｏ．８９の水素化ほう素ナトリウムより
なる混合物に還流しながらＩＩＯＣＧのメタノールを添
加する。還流下に４５分間撹拌し、次いで温度を２０〜
２５゜Ｃとなし、１００ｃｃの２Ｎ塩酸を添加する（ｐ
Ｈ７）。不溶性部分を炉別し、ｌ戸？夜を減圧下に蒸発
させる。残留物をエーテルで溶解し、乾燥し、減圧下に
濃縮する。残留物（Ｉ９ｙ）をンリカでクロマトグラフ
イーする（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）。１
３．６ｇの所期化合物を得た。
ＩＲスペクトル： Ｃ＝Ｏの不存在 Ｏ　Ｈ　　　　　　：　３６０８ｃｍ−’共役系　　　
　：　１５２４ＣＩ−’ 恐ら＜　ＣＦ． 工程Ｄ：２−（トリフルオルメチル）−４−チアゾール
カルポキサアルデヒド １３ｇの工程Ｃで得た化合物、３　０　０　ｃｃの塩化
メチレン及び４４ｇの二酸化マンガンよりなる混合物を
２時間還流撹拌する。この後、さらに３０ｇの二酸化マ
ンガンを添加し、全体をさらに１時間還流し続ける。炉
過した後、炉液を減圧下に蒸発乾固する（加熱すること
なく）。残留物（Ｉ２ｇ）をシリカでクロマトグラフイ
ーし、ヘキサンー酢酸エチル（７−３）で溶離する。７
．３７の所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル： ０■の不存在 Ｃ＝Ｏ　　　　　　：　１７１０ｃｍ−’ＣＦ３の存在 工程Ｅ　：　（Ｅ）−　［２　−　（トリフルオルメチ
ル）４−チアゾリル〕−２−ブロペン酸 ３．　６　２　ｙの工程Ｄで得た化合物、２０ｃｃのビ
リジン及び４．０８９のマロン酸の混合物に１．　２　
５　ｃｃのピベリジンを添加する。全体を還流下に７時
間撹拌し、次いで３５ｃｃの濃塩酸、６００Ｃの水及び
水の混合物中に注ぎ、分離し、乾燥した後、２．９７の
所期化合物を得た。Ｍｐ＝１８０゜Ｃ０ｒＲスペクトル
： ＮＨ−ＯＨ領域の吸収 複雑なＣ””　Ｏ　　　：　１６８０ｃｍ−　’Ｃ＝Ｃ
　　　　　　：　１６３５Ｃ！”共役系　　　　：　１
５０４ｃｍ Ｃ＝　ＣＨ　　　ｔｒａｎｓ　　　：　　　９８７ｃｍ
工程Ｆ　：　（Ｅ）一Ｃメチルー〔ｌ−オキソー３一［
２−（トリフルオルメチル）−４−チアゾリル〕−２−
プロペニル〕アミノ〕酢酸メチル３．　６　２　ｇのメ
チルアミノ酢酸メチル塩酸塩、６０ｃｃの塩化メチレン
及び３０ｃｃのジメチルホルムアミドよりなる溶液を２
０〜２５゜Ｃで１５分間撹拌し、不溶性部分を炉別する
。ｉ戸液に２．９ｇの工程Ｅで得た酸、０．１ｙのジメ
チルアミノビリジン、そして２６８２のジシクロへ牛シ
ル力ルポジイミドを１０ｃｃの塩化メチレンに溶解して
なる溶液を添加する。全体を２０〜２５゜Ｃで６時間撹
拌する。不溶性部分を炉別し、炉液を減圧下に蒸発乾固
する。残留物を水で溶解し、結晶生戊物を分離し、塩化
メチレンに溶解し、不溶性部分を枦別し、γ戸液を乾燥
し、蒸発乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフイ
ーする（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル１−１）。２，
６ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝１２０’Ｃ０ ＩＲスペクトル： １１ｃ＝　ＣＨ　　ｔｒａｎｓ ：　　　９７２ｃｘ−’ Ａ．ホルミル化 ２．５ｇの製造ｌの工程Ｆで得た化合物を２５ｃｃのジ
メチルホルムアミドと９。６ｃｃのぎ酸メチルに溶解し
てなる溶液を、０．８ｇの水素化ナトリウムを３０ｃｃ
のジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液にゆっくり
と添加する。２０〜２５゜Ｃて１時間撹拌した後、さら
に４ｃｃのぎ酸メチルを添加し、２０〜２５℃でｌ６時
間撹拌する。全体を炭酸ナトリウム飽和溶液中に注ぎ、
不溶性部分を１戸過し、１戸液をエーテルで抽出する。
水性相を酸性化し、エーテルで抽出し、乾燥し、減圧下
に蒸発乾固する。３９のホルミル化生成物を得た。これ
はそのまま次の工程に使用する。
Ｂ．メチル化 ３９の上記工程で得たホルミル化生成物を３０ｃｃのジ
メチルホルムアミドに溶解してなる溶液を、３０ｃｃの
ジメチルホルムアミドと０．４ｇの水素化ナトリウムの
混合物に添加する。３０分間後にｌ　ｃｃのよう化メチ
ルを添加する。全体を２０〜２５℃で３時間撹拌し、次
いで塩酸水溶液中に注ぎ、イソブロビルエーテルで抽出
し、乾燥シ、減圧下に蒸発乾固する。残留物（２．９　
ｙ）をシリカでクロマトグラフイーする（溶離剤：ヘキ
サン酢酸エチル３−７）。０．７５ｙの所期化合物を得
た。Ｍｐ＝１０４゜Ｃ０ 住七：　Ｃ，３１１，，Ｎ，Ｆ３０．Ｓ計算：Ｃ％４４
．５７　　１Ｉ％３．１４Ｎ％８．００　　Ｆ％１６．
２７　　Ｓ％９−１５実測：　　　４４．５　　　　３
．７　　　　７．９　　　　１６．２　　　　９．２３
−　ｒ２−　（＋−リフルオルメチル）−４−チア？６
４９の例ｌの八で得た生成物より出発し、２．　１　ｃ
ｃの塩化メトキシエトキシメチルを使用して例ｌの工程
Ｂにおけるようにして実施する。シリカでクロマトグラ
フィー（溶離剤：ヘキサン酢酸エチル７−３）Ｌた後、
４．７９の生成物を得、これをシリカで再びクロマトグ
ラフイーする（溶離剤：塩化メチレンーテトラヒドロフ
ラン９５−５）。３．３ｇの所期化合物を集めた。Ｍｐ
一７６゜Ｃ０ ■逝：　Ｃ，．１１，．Ｆ．Ｉｉ，Ｏ．Ｓ計算＝Ｃ％４
５．２８　　Ｈ％４．５１　　Ｎ％６．６　Ｆ％１３．
４３　　Ｓ％７．５６実測：　　　４５．０　　　　４
．５　　　　６，５　　　　１３．８　　　　７．６ｆ
ｆｌ造Ａ：４−ブロムー３−オキソ酪酸メチル１１５ｇ
のアセチル酢酸メチルと２００ＣＣのエチルエーテルと
の混合物をＯ′Ｃに冷却し、５４ＣＣの臭素を１時間で
添加する。温度を２０〜２５゜Ｃに」二青せしめ、これ
らの条件で１６時間撹袢する。
混合物を２００ＣＧの水冷水中に注ぎ、デカンテ−７ヨ
ンし、２００ＣＧの塩化ナトリウム飽和溶液（Ｉ０％の
炭酸ナトリウムを含む）　次いで２　０　０　ＣＧの塩
化ナｌ−　１）ウム飽和溶肢で洗浄し、次いで乾燥し、
炉過し、減圧下に蒸発乾固する。
１６８ｇの所期化合物を得た。これはそのまま使用する
。
酸メチル 工程Ａ：カルバモジチオン酸モノアンモニウム塩６ｏｃ
ｃの二硫化炭素に＋１０’Ｃでアンモニアの流れを２時
間通じる。分離し、＋５゜Ｃのペンタンで洗浄した後、
７５．４９の所望化合物を得た。
Ｍｐ＝１７０’Ｃ０ １Ｒスペクトル： Ｎ　ＩＩ−Ｏ　Ｈ領域に強い吸収 工程Ｂ：２−メルカプト−４−チアゾール酢酸メチル ６　０．　６　９の工程Ａで得た化合物を３００ＣＣの
水に溶解してなる溶液に１　１０９の４−ブロムー３オ
キソ酪酸メチル（製造Ａ）を１０分間で添加し、２０〜
２５゜Ｃでｌ６時間、次いで還流下に２時間撹拌する。
混合物を２０゜Ｃに冷却し、塩化メチレンで抽出し、蒸
発乾固し、８　６．　５　９の残留油状物を得、これを
エチルエーテル中ですり砕く。
２２．２ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ＝１１４゜Ｃ０Ｎ
ｉｌ＋会合　　　　　　　：　３３７５ｃｘＣ＝Ｃ　　
　　　　　　　　　　　　　　　：　　１５９６ｃｍ−
’工程Ｃ：２−メチルチオ−４−チアゾール酢酸メチル ２２ｇの工程Ｂで得た化合物を１００ｃｃのメタノール
に加えてなる悲濁液を、６．５５ｇのナトリウムメチラ
ートを２５０ＣＣ．のメタノールに溶解してなる溶１夜
に添加する。３０分間撹拌し、７．　２　ｃｃのよう化
メチルを添加し、４０℃で３時間加熱する。減圧下に蒸
発乾固させた後、残留物を３００ｃｃの水と３００ｃｃ
のエーテルで溶解し、撹拌し、次いでデカンテーション
し、３００ｃｃのエーテルで再抽出し、乾燥し、減圧下
に乾固し、２４ｇの所望化合物を得た。
工程Ａ：２−（２−メチルチオ−４−チアゾリル）−３
−ヒドロキシ−２−ブロペン酸メチル４ｇの製造２の工
程Ｃで得た化合物を２５ｃｃのぎ酸エチルとともに４０
ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を、１．
９２ｇの水素化ナトリウｌ−（５０％油中懸濁液）と４
０ｃｃのテトラヒド口フランとの混合物に添加し、２時
間３０分撹拌し、全体を２　０　０　ｃｃの２Ｎ塩酸中
に注ぎ、再び撹律し、次いで２　０　０　ＣＧの塩化メ
チレンで３回抽出し、次いで乾燥し、枦過し、減圧下に
蒸発乾固する。９．　１　５　ｇの所望化合物を得た。
これはそのまま使用する。
０｝｛型の一般的吸収 冫Ｃ＝　Ｏ　　　　　　　：　　１７００ｃｚ−’Ｃ＝
Ｃ領域　　　：　１６１６ｃｒ’ Ｃ＝　Ｎ　　　　　　：　１５１９ｃｉ＋工程Ｂ　：　
２−　（２−メチルチオ−４−チアゾリル）−３−メト
キシー２−ブロペン酸メチル（異性体Ｅ及び異性体Ｚ） ９．５９の工程Ａで得た化合物を９０ｃｃのテトラヒド
口フランに加えたものを、２ｇの水素化ナトリウム（５
０％油中）と１８０ｃｃのテトラヒド口フランとの混合
物に添加する。全体を５時間撹拌し、２　５．　５　ｃ
ｃのよう化メチルを添加する。２０〜２５゜Ｃでｌ６時
間撹拌し、全体をｌＱの水に注ぎ、塩化メチレンで抽出
し、乾燥し、炉過し、減圧下に蒸発乾固する。残留物（
Ｉ１．５９）をシリカでクロマトグラフイーする（溶離
剤：ヘキサンー酢？エチル７−３）。３．　１　１　ｇ
の異性体Ｚ（Ｍｐ＜５０℃）及び９８０ｚｇの売性体Ｅ
を得た。
異性体Ｚ： ■垂：　Ｃ．Ｈ．．ＮＯ３Ｓｔ 計算＝Ｃ％４４．０６　　Ｈ％４、５２　　Ｎ％５．７
１　　Ｓ％２６．　１４実測：　　　４４．１　　　　
４．２　　　　５．７　　　　２５．９異性体Ｅ： 計算：Ｃ％４４．０６　　Ｈ％４．５２　　Ｎ％５．７
１　　Ｓ％２６．　１４実測：　　　４４．３　　　　
４．５　　　　５，８　　　　２５．８？２．９ｇの例
３の工程Ａで得たホルミル化生戊物より出発し、１１．
８ｃｃの塩化メトキシエトキシメチルを使用して例２に
おけるように実施する。
クロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７
−３）Ｌた後、１８．７６ｇの異性体Ｚ及び５．８ｇの
異性体Ｅを得た。
■七：　Ｃ，，Ｉ＋．？ＮＯ５Ｓｔ 計算二Ｃ％４５．１２　　Ｈ％５．３６　　Ｎ％４．３
８　　Ｓ％２０．　０８μＳｔ生ｆ本　Ｚ　： 実測：　　　４５．０　　　　５．３　　　　４，２　
　　　２０．１異性体Ｅ： 実測：　　　４５．１　　　　５．５　　　　４、３　
　　　１９．８酢酸メチル 工程Ａ：メタンチオアミド １５０９のホルムアミドを１５０ｃｃのテトラヒドロフ
ランに溶解してなるγ・゛に１６５ｇの五硫化りんを２
５〜３０゜Ｃで添加し、２５゜Ｃで２時間撹拌し、次い
で炉過し、溶媒を減圧下に蒸発させる。残留物をｓｏｏ
ｃｃのエーテルで溶解し、不溶性部分を炉別し、炉液を
蒸発させ、次いで４０００Ｃの酢酸エチルで溶解し、活
性炭で処理し、１戸過し、溶液を−６０’Ｃに冷却する
。結晶生戊物を分離し、そのまま次の工程に使用する。
１０３ｇの所斯化合物を得た。
Ｍｐ＝２０〜２５℃。
工程Ｂ：４−チアゾールカルボン酸エチル？８．０４ｇ
の工程Ａで得たチオホルムアミドより出発し、５８．５
９のブロムピルビン酸エチルを使用して製造１の工程Ｂ
におけるように実施する。
シリカでクロマトグラフイ−（溶離剤：塩化メチレンー
エーテル９５−５）Ｌた後、石油エーテル（Ｂｐ＝４０
〜７０″Ｃ）で単離し、２５．９９の所望化合物を得た
。Ｍ　ｐ　＝　５　２℃。
■垂：　Ｃ．Ｈ７０ＪＳ 計算＝Ｃ％４５．８　　Ｈ％４．５４　　Ｎ％８．９　
Ｓ％２０．４実測：　　　４５．８　　　　４．５　　
　　８，９　　　　２０．７ＴＲスペクトル（Ｃ｝ＩＣ
ｌ２３）　　：Ｃ＝Ｏ　　　：　１７２４ｃｍ−’ 複素環　　：　１５０１Ｓ１４８６ｃｍ−’工程Ｃ：４
−ヒドロキシメチルチアゾール３５ｙの４−チアゾリル
カルボン酸エチルより出発して製造１の工程Ｃにおける
ように実施する。
１　８．　３　ｇの所望化合物を得た。これはそのまま
次の工程に使用する。
工程Ｄ＝４−ホルミルチアゾール １８、３２の工程Ｃで得た１８．３ｇの４−ヒドロキシ
メチルチアゾールより出発し、８７９の二酸化マンガン
を使用して製造１の工程Ｄにおけるように実施する。シ
リカでクロマトグラフイ−（溶離剤：ヘキサンー酢酸エ
チル１−１）Ｌた後、１３．９Ｌｉの所期化合物を得た
。
ＩＲスペクトル（　ＣＨＣ（２３、ニコレノト上）：Ｏ
Ｈはほとんど又は完全に不存在 二〇＝　Ｏ　　　　　　　　：　１７０５ｃｍ−’酸 ５．６５ｙの工程Ｄで得た４−ホルミルチアゾールより
出発して製造ｌの工程Ｅにおけるように実施する。７．
２ｇの所期化合物を得た。
Ｍｐ＝１７０℃。
ＩＲスペクトル（ニュジゴール、ニコレソト上）：複雑
な冫Ｃ＝Ｏ　　　　：　１６９１ｃｍＣ＝Ｃ　−　　　
　　　：　１６３６ｃ夏１１１Ｃ＝　Ｃｌｌ　　　　　
　　　　　：　　９”ｌ８ｃｍ−　’工程Ｆ：（Ｅ）−
［メチルー〔１−オキソ−３（４−チアゾリル）−２−
ブロベニル〕アミノ〕酢酸メチル ３．９ｇの工程Ｅで得た化合物より出発して製造１の工
程Ｆにおけるように実施する。シリカでクロマトグラフ
ィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル３−７）Ｌた後、
４．７ｇの所期化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣ（！ｓ、ニコレット上）：Ｃ＝
　Ｏ　　　　　　：　１７５１ＣＪｌｌ−’Ｃ＝Ｏ　　
　ア　ミ　　ド　　　　　　：　　　１６５４ｃｍ−’
Ｃ＝　Ｃ　　　　　　：　１６１１ｃｚ−’チアゾール
　　：　１４９４ｃｍ−’ Ａ．ホルミル化 ４．０８ｇの製造３の工程Ｆで得た化合物より出発して
例３の工程八におけるように実施する。
Ｂ．メチル化 ３．　１　２　ｇの上で得た化合物より出発して例ｌの
工程Ｂにおけるように実施する。シリカでクロマトグラ
フィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル３７）した後、
３．３９の生成物を得た。この生成物を塩化メチレンに
溶解し、不溶性部分を炉過し、次いで減圧下に蒸発乾固
する。２．０ｙの所期化合物を得た。
堡垂：　Ｃ．．Ｈ，．Ｈ１０．Ｓ 計算：Ｃ％５１．０５　　Ｈ％５．００　　Ｎ％９．９
２実測：　　　５１．０　　　　４．８　　　　９．９
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＱ３）　　： Ｃ−０エステル　　　：　１７１７ｃｍメチルエステル
：　１４３９ｃｍ−’ Ｃ−　０ア　ミ　　ド　　　　　　　　　　　　　：　
　１６５２ｃｘＣ＝Ｃ　　　　　　　　：　１６１７ｃ
ｍトキン〕　メトキシ］　−２−　［：メチルー〔１−
オキＡ．ホルミル化 ３．８ｇの製造３の工程Ｆで得た化合物より出発して例
５の八におけるように実施する。１．９ｇのホルミル化
生成物を得、これはそのまま次の工程に使用する。
Ｂ．メチル化 １．９ｇの上で得たホルミル化生戊物より出発し、１．
　１　ｃｃの塩化メトキンエトキシメチルを使用して例
２におけるように実施する。シリカでクロマトグラフィ
ー（溶離剤：酢酸エチル）した後、１．６８ｙの所期化
合物を得た。Ｍｐ＝８６゜Ｃ０ＩＲスペクトル（　ＣＨ
Ｃ（２３、ＰＥ　５８０上）：／Ｃ−０エステル　　　
：　１７１８ｃｌ’；Ｃ−　０　　ア　ミ　　ド　　　
　　　　　　　　　　：　　１６５４ｃｚ−’Ｃ＝Ｃ　
　　　　　　　　　　　：　　１６１７ｃｍ−’チアゾ
ール共役系　　　：　１４９０ｃｍ−’メチルエステル
のＣＩｌ：ｌ　　：　１４３９ｃｚ−’分析：Ｃ＋ｓｌ
ｌｔ。Ｎ，Ｏ．Ｓ 計算＝Ｃ％５０．５５　　１１％５．６６　　Ｎ％７．
８６　　Ｓ％９．００実測：　　　５０．３　　　　５
．８　　　　７．９　　　　８．８工程Ａ：４−クロル
ベンゼン力ルポチオアミド２０ｇの４−クロルベンゾニ
トリル、２８ＣＧのピリジン及び２２０Ｃのトリエチル
アミンの混合物中に２０〜２５℃で硫化水素の流れを３
時間吹き込む。水中に注ぎ、分離した後、２４ｇの所望
化Ｑ　’ｔＪ　ヲ得タ。Ｍｐ＝ｌ３２゜Ｃ０工程Ｂ　：
　２−　（４−クロルフェニル）−４−チアゾール酢酸
メチル １９．５９の４−ブロムー３−オキソ酪酸メチル（製造
Ａ）を４Ｑｃｃのメタノールに溶解してなる溶液を、１
　７．　１　ｇの工程Ａで得た４−クロルチオペンズア
ミドを１５０ｃｃのメタノールに溶解してなる溶液に添
加する。この混合物を２時間加熱還流し、溶媒を減圧下
に蒸発させる。その残留物を５００ｃｃのエチルエーテ
ルで２回抽出する。その残留物（２５．５ｙ）を蒸発乾
固させ、シリカでクロマトグラフイーする（溶離剤：へ
牛サンー酢酸エチル７−３）。１９．８９の所期化合物
を得た。
Ｍｐ＝７４℃。
ＩＲスペクトル： ，″Ｃ＝　Ｏ　　　　　　　　　　：　１７３６ｃｍ−
’メチルエステルのＣＨ３：　１４３９ｃｘ−’工程Ａ
：２−（４−クロルフェニル）一α−（ヒドロキシメチ
レン）−４−チアゾール酢酸メチノレ ５．　３　５　９の製造５の工程Ｂで得た化合物より出
発し、２５ｃｃのぎ酸メチルを使用して例３の工程Ａに
おけるように実施する。６９の所期化合物を得た。Ｍｐ
＝１４４゜Ｃ０ ＩＲスペクトル： ＮＨ−　ＯＨ型の一般的吸収 Ｃ＝Ｏ共役エステル領域　：　１７００ｃｍ−’−Ｃ＝
Ｃ　一：　１６１７ｃｍ−’ 工程Ｂ：２−（４−クロルフェニル）一α一（メトキシ
メチレン）−４−チアゾール酢酸メチル、異性体Ｅ及び
Ｚ ８．４９の工程Ａにおけるように製造した化合物より出
発して例３の工程Ａにおけるように実施する。シリカで
クロマトグラフィー（溶Ｍ剤：ヘキサンー酢酸エチル’
ｌ−３）Ｌた後、２．７　２　９の所期化合物、異性体
Ｚ，Ｍｐ＝１０９゜Ｃ、及び０．　２　５　ｇの異性体
Ｅを得た。また、異性体Ｅは、ｚｌ９の化合物、異性体
Ｚを２２ｃｃのメタノール中で２１Ｃ）ｔｙのｐ−１−
ルエンスルホン酸の存在下に２４時間還流し続け、次い
で蒸発乾固し、クロマトグラフイーすることによっても
製造した。これにより０．８７９の異性体Ｚ及び０．　
８　９　９の異性体Ｅを得た。
堡垂：　Ｃ．．Ｈ，．（４ＮＯ．Ｓ 異性体Ｚ： 計算二〇％５４．２８　　Ｈ％３．９１　　Ｃ７２％１
１．４４　　Ｎ％４．５２　　Ｓ％１０．　３５実測：
　　　５４．４　　　　３，８　　　　　１１．７　　
　　４．５　　　　１Ｑ．１異性体Ｅ： 実測：　　　５４．４　　　　３．８　　　　　１１．
４　　　　４Ｊ　　　　１０．１Ｚ８ｙの例７の工程Ａ
で得た化合物より出発し、１．　１　３　ｃｃの塩化メ
トキシェトキシメチルを使用して例２におけるように実
施する。シリヵでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサ
ンー酢酸エチル７−３）した後、２．１４９の化合物、
異性体２、及び０．３１９の化合物、異性体Ｅ１を得た
。
Ｍｐ＜５０℃。
分析：　Ｃ，，Ｉ！，．ＣＲＮＯ５Ｓ 巽性体Ｚ： 計算＝Ｃ％５３．１９　　１１％４．７２　　ＣＣ％９
．２４　　Ｎ％３．６５　　Ｓ％８．３５実測：　　　
５３．３　　　　４，７　　　　　９．２　　　　３．
６　　　　ｇ．．１異性体Ｅ： 実測：　　　５３．１　　　　４．９　　　　　９．０
　　　　３．５　　　　８．０酸メチル ２０９の２−　（４−シクロプロビルフエニル）−４−
　（４−クロルフェニル）−５−チアゾール酢酸（仏国
特許第２，　０９６，　９９４号に従って得た）、２０
０ｃｃのメタノール及び０．　２　５　ｃｃの濃硫酸の
混合物を１６時間還流撹拌する。この混合物をｏ℃に冷
却し、分離し、１６．３６ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ
＝９８゜Ｃ０ ！Ｒスペクトル： Ｃ＝　Ｏ！ステル領域　　　：　１７４２ｃｚ−’ＣＯ
ＯＣＨ３のＣｌｌ３：　１４３８ｃｍ工程Ａ：４−（４
−クロルフヱニル）−２−　（４ンクロブロピルフェニ
ル）一α−ヒドロキシメチレン−５−チアゾール酢酸メ
チル ９，６ｇの製造６で得た化合物より出発して例３の工程
Ａにおけるように実施する。８．５ｇの所期化合物を得
た。Ｍｐ＝　１　７　４℃。
ＩＲスペクトル： Ｎ　Ｈ　−　Ｏ　Ｈ三会合領域の吸収 ＞　Ｃ＝　Ｏ　　　　：　１７１４ｃｍ王程Ｂ：４−（
４−クロルフエニル）　−２−　（４シクロブロビルフ
エニル）一α−（メトキシメチレン）−５−チアゾール
酢酸メチル、異性体Ｅ及びＺ ４．　１　１　ｙの工程Ａで得た化合物より出発して例
３の工程Ｂにおけるように実施する。０．９４ｙの所望
化合物、異性体Ｚ，Ｍｐ＝１１４゜Ｃ、及び１．８２ｙ
の化合物、異性体Ｅ，Ｍｐ＝１５３℃、を得た。
Ｒ　ＪＲ　：　Ｃｔ，ＨｔｏＣＩ２ＮＯ３Ｓ異性体Ｚ： 計算二〇％６４．８５　　１１％４．７３　　ＣＱ％８
．３２Ｎ％３．２９　　Ｓ％７．５３実測：　　　６４
．８　　　　４．７　　　　　８、１　　　　３．３　
　　　７．５累性体Ｅ： 実測：　　　６４．８　　　　４．７　　　　　８．０
　　　　３．２　　　　７．４４．　１　１　ｇの例９
の工程Ａで得た化合物より出発？、ｌ，　２ｃｃの塩化
メトキ７エトキシメチルを使用して例２におけるように
実施する。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキ
サンー酢酸エチル’ｌ−３）Ｌた後、０．７３ｇの所望
化合物、異性体Ｚ及び４ｇの異性体Ｅを得た。Ｍｐ＝８
２℃。
■旦：　Ｃ，．｝ｌ．６ｃ４Ｎｏ５Ｓ 累性体Ｚ： 計算：Ｃ％６２．４５　　Ｈ％５．２４　　ＣＱ％７．
０９　　Ｎ％２．８　Ｓ％６．４１実測：　　　６２．
３　　　　５．２　　　　　７．２　　　　２．７　　
　　６．３異性体Ｅ： 実測：　　　６２．３　　　　５．２　　　　　７．１
　　　　２．７　　　　６．３工程Ａ：　（２−チオキ
ソ−４−メチル−５−チアゾリル）酢酸メチル １８．９９の２−メルカプト−４−メチル−５チアゾー
ル酢酸（Ｐｈａｒｍ．　Ｂｕｌ１．　　２，　１５６　
（Ｉ９５４）に従って得た）、１９０ｃｃのメタノール
及び０．　２ｃｃの濃硫酸を１時間還流撹拌する。蒸留
乾固した後、その残留物をエーテル（ほぼ■ＯＯＣＣ）
申ですり砕き、分離し、ｌ９。５ｇの所期化合物を得た
。
Ｍｐ＝１３８゜Ｃ０ ＩＲスペクトル： Ｃ＝Ｏ　　　　：　１７４２ｃｍ−’ ＮＯ＋会合　：　３３９０ＣＪＩ−’ 工程Ｂ：　（２−メチルチオ−４−メチル−５−チアゾ
リル）酢酸メチル １９ｇの上記工程Ａで得た化合物、７０ｃｃの水及び３
７５７のベレノト状か性ソ　′より？ｊる懸濁液を３０
分間撹拌し、次いで９．　５　ｃｃの硫酸ジメチルを添
加する。２０〜２５゜Ｃで５時間撹拌し、次いで炉過し
、減圧下に蒸発乾固し、その残留物をシリカでクロマト
グラフイーする（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル４−６
）。１３．４９の所期化合物を得た。
ＩＲスペクトル： ＮＩ１の不存在 メチルエステル：　１７３８ｃｍ−’　　１４３７ｃｚ
−’共役系 ：　　１５５５ｃｚ−’ 工程Ａ：２−（２−メチルチオ−４−メチル−５チアゾ
リル）−３−ヒドロキシ−２−ブロベン酸メチル １３．４ｙの製造７の工程Ｂで得た化合物より出発して
例３の工程Ａにおけるように実施する。シリカでクロマ
トグラフィー（溶離剤：へキサン酢酸エチル７−３）Ｌ
た後、４．６ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝１０７℃０ ＴＲスペクトル： Ｎ｝Ｉ−ＯＨ領域の吸収　　　　　：　３４８０ｃｘ−
’？程Ｂ：２−（２−メチルチオー４−メチル−５＝チ
アゾリル）−３−メトキシー２−ブロペン酸メチル、異
性体Ｅ及びＺ ４ｇの上記工程Ａで得た化合物より出発して例３の工程
Ｂにおけるように実施する。シリカでクロマトグラフィ
ー（溶離剤：ヘキサンー酢酸：ｒ−ｆル４−６）Ｌた後
、０，５９の所期化合物の異性体Ｚ及び０．５１ｇの異
性体Ｅを得た。
■垂：　Ｃ＋ｏＨ＋，ＮＯ３Ｓｔ 異性体Ｚ： 計算：Ｃ％４６．３１　　Ｈ％５．０５Ｎ％５．４０　
　Ｓ％２７．　７２実測：　　　４６．１　　　　５．
１　　　　５．３　　　　２４．４ｌ艷隻１： 実測：　　　４６．１　　　　５．１　　　　５，３　
　　　２４．４エステノレのメチノレ　　　　　：　１
４４０ｃｍ−’４．９４９の例１１の工程Ａで得た化合
物より出発して例２におけるように実施し、シリカでク
ロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル４−
６）Ｌた後、１．５ｇの所期化合物の異性体Ｚ及び４．
４４ｇの異性体Ｅを得た。
廷亜：　Ｃ，．Ｉ１．．ＮＯ，Ｓ， 異性体Ｚ： 計算＝Ｃ％４６．８３　　Ｈ％５．７４　　Ｎ％４．２
　Ｓ％１９．　２３実測：　　　４６．５　　　　５．
８　　　　４．１　　　　１９．４異性体Ｅ： 工程Ａ：チオブロビオンアミド ７．３１９のプロビオンアミドを３５０ｃｃのテトラヒ
ド口フランに溶解してなる混合物に２０〜２５℃で２　
０．　２　２　ｖのロウエソン試薬を少量づつ添加し、
２０〜２５℃で１６時間撹拌し、次いで減圧下に蒸発乾
固する。その残留物をシリカでクロマトクラフィー（溶
離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌ、８ｇの所望化
合物を得た。Ｍｐ＜５０℃。
ＩＲスペクトル： ＮＨｔ　　　　　　：　　　　１６０７ｃ麓工程Ｂ：４
−エトキシカルボニル−２−エチルチアゾール ３３ｇの上記工程Ａで得た化合物より出発して製造Ｉの
王程Ｂにおけるように実施する。５５ｇの所望化合物を
得た。Ｍｐ＜５０℃。
ＩＲスペクトル： ＞Ｃ−０　　：　　１７２１ｃｍ ノレ 加圧下に作動できる装置で２４９の王程Ｂで得た化合物
、７５０ｃｃのメタノール及び８４ｃｃの液体アンモニ
アを−７０゜Ｃで混合する。温度を周囲温度まで上昇さ
せ、次いでｌ６時間撹拌し、溶媒を蒸発させる。残留物
をシリカでクロマトグラフィーする（溶離剤：へ牛サン
ー酢酸エチル１−１）。１７ｇの所期化合物を集めた。
Ｍｐ＝１２２℃。
（，−　０　　　　　　　：　　　　１６８２ｃｒ’工
程Ｄ：２−エチル−４−チオカルバモイルチアゾール ２ｇの上記工程Ｃで得た化合物、１００ｃｃのトルエン
及び２．５９９のロウエソン試薬を１時間還流撹拌する
。蒸発乾固させた後、残留物をシリヵでクロマトグラフ
ィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌ、１２
ｖの所望化合物を得た。
Ｍｐ＝１４０℃。
Ｎｌｌｚ　（ｄｅＤ　　　：　　１５ｇ４ｃｚ−’工程
Ｅ：４−エト牛シカルボニル−２′一エチル−２．４’
−ビチアゾール ２ｇの上記工程Ｄで得た化合物より出発して製造１の工
程Ｂにおけるように実施する。シリカでクロマトグラフ
ィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌ，た後
、ｚ５２９の所期化合物を集めた。Ｍｐ＜５０’Ｃ． ■Ｒスヘクトル：（ＣＨＣＱ，、ＰＥ　５８０上）：＞
ｃ＝　Ｏ　　　：　　１７２２ＣＪＦ−’Ｃ＝　Ｃ　　
　　：　　１５４３ｃＪ！−’Ｃ＝Ｎ　　　　　　　・ 工程Ｆ：　〔２′一エチルー（２．４’−ビチアヅール
）−４−イル〕メタノール ２．５９の上記工程Ｅで得た化合物より出発して製造１
におけるように実施する。シリカでクロマトグラフィー
（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル１１）Ｌた後、２ｇの
所期化合物を得た。Ｍｐ一９０℃。
ＩＲスペクトル：　（ＣＨＣＣ３、ＰＥ　５８（ｌ上）
：０１１　　　　　　：　　　３８０９ｃｍ−’工程Ｇ
：［２’一エチル−（２．４’−ビチアゾール）−４−
イル〕カルボアルデヒド １．２５９の上記工程Ｆで得た化合物より出発して製造
ｌの工程Ｄにおけるように実施する。シリカでクロマト
グラフィー（溶離剤：へ牛サンー酢酸エチルｌ−１）Ｌ
た後、０．９４ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝９８℃。
ＩＲスベク｝　ル：　ＣＣＨＣ（Ｉｓ、ＰＥ　５８０上
）：ＯＨはほとんど又は全くない ？素芳香族　＋　　１５４２ｃｍ−’ ■近： 実測：　　４６．７　　　５．９　　　４．０　　　１
９．２工程Ａ　：　（Ｅ）−　〔２’一エチル−（２．
４’−ビチアゾール）−４−イル〕ブロベン酸 ４ｇの製造４の工程Ｇで得た化合物より出発して製造１
の工程Ｅにおけるように実施する。４．４７の所期化合
物を得た。Ｍｐ＝２０８゜Ｃ０工程Ｂ　：　　［Ｎ−　
Ｃ３−　［２’一エチル＝（２．４’ビチアゾール）−
４−イル〕−１−オキソー２（Ｅ）一ブロペニル〕メチ
ルアミノ〕酢酸メチル３．８２ｙのジシクロへキシル力
ルポジイミドを４０ｃｃの塩化メチレンに溶解してなる
溶液を、１．７１９のメチルアミノ酢酸メチル、４．４
９の工程Ａで製造した酸、０．４９のジメチルアミノピ
リジン及び４０ｃｃの塩化メチレンよりなる混合物に２
０〜２５℃で添加する。１６時間撹拌し、不溶性部分を
分離し、蒸発乾固し、シリカでクロマトグラフイーする
（溶離剤：ヘ牛サンー酢酸エチルｌ−１）。３．１９の
所期化合物を得た。Ｍｐ１８９℃。
Ｃ二Ｃ １６０９ｃｍ−’ ＣＩｌ＝Ｃ｝ｌ−ｔｒａｎｓ ９”ｌ４ｃｍ ？フィーする（溶離剤：へ牛サンー酢酸エチル２８）。
１．５９の所期化合物を集めた。
■七：　Ｃ．，ｌ！．．ｌｌ．ｏ．ｓ，計算＝Ｃ％５１
．８９　　Ｈ％４．８７　　Ｎ％１０．６８　　Ｓ％１
６．　３０実測：　　　５１．６　　　　４．８　　　
　１０．５　　　　１６．１３９の製造８の王程Ｂで得
た化合物を１０．５ｃｃのぎ酸メチルとともに５０ｃｃ
のジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を、０．　
８　２　ｇの５０％油中水素化ナトリウムと６０ｃｃの
ジメチルホルムアミドとの混合物に添加する。反応が開
始するまで（５時間後に大量のガスの発生）２０〜２５
℃で撹拌し、次いでさらに１時間撹拌し続け、５ｃｃの
ぎ酸メチルを添加する。１６時間撹拌し続け、１６ｃｃ
のよう化メチルを添加する。２０〜２５℃で２時間撹拌
し、全体を２Ｎ塩酸と氷との混合物中に注ぐ。イソブロ
ビルエーテルで抽出し、減圧下に蒸発乾固する。残留物
をシリカでクロマトグ醒 工程Ａ：Ｃ２’一エチルー（２．４’−ビチアゾール）
−４−イル〕−２−フルオル（Ｅ）プロペン酸メチル ５．　５　６　ｇの臭化リチウムを５５ｃｃのテトラヒ
ドロフランに溶解して−３０℃に冷却した溶岐に４．　
５　ｃｃのジイソブロビルアミンを添加する。全体を−
６０℃に冷却し、４ｇの製造４の工程Ｇで得タ化合物と
５．　１　８　ｙのメチルジエチルホスホノフルオルエ
タノエートを５０ｃｃのテトラヒド口フランに溶解した
ものを温度を−５５゜Ｃ以上に上昇させることなく添加
する。−６０゜Ｃで１時間撹袢し、次いで混合物を２Ｎ
塩酸溶肢中に注ぐ。分離後、得られた生戊物をクロロホ
ルｌ・に溶解し、乾燥し、ｌ戸過し、蒸留乾固する。５
．　１　ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝　１　４　０゜
Ｃ０ ＩＲスペクトル（　ＣＩ｛Ｃ４３、ＰＥ　５８０上）：
Ｃ−０：　　１７３１ｃｚ−’ Ｃｏ　ＯＣＨ３＋　ＣＨ−　　：　　１４３８ｃｍ−’
０１１ Ｃ−０（複雑） Ｃ−Ｃ Ｃ＝Ｎ 複素芳香族 ３０００　　ｔｏ　　２０００ｃｚ ：　　１７３０ｃｍ−’ １６４２ｃ夏 １６３５ｃｚ−’ ｒｅｇｉｏｎ 工程Ｂ：　〔２′一エチルー（２．４’−ビチアゾール
）−４−イル］−２−（Ｅ）一フルオルブロペン酸 ５１９の上記工程Ａで得た化合物、１００ｃｃのメタノ
ール及び２０ｃｃのＩＮか性ソーダ溶液を２０〜２５℃
で１６時間撹拌する。この混合物を塩化メチレンで洗浄
し、水性相を酸性化し、次いで塩化メチレンで抽出し、
乾燥し、炉過し、蒸発乾固する。４．８９の所期化合物
を得た。
Ｍｐ＝１５３゜Ｃ０ 工程Ａ　：　２−　［Ｎ−　Ｃ３−　Ｃ２’一エチル（
２．４’−ビチアゾール）−４−イル］−２（Ｚ）一フ
ルオル−１−オキンブ口ペニル〕メチルアミノ）−３．
３−ジメトキシプロパン酸メチル４．７２の製造９の工
程Ｂで得た化合物と５０ｃｃの塩化チオニルを１時間３
０分加熱還流する。温度を２０〜２５゜Ｃとなし、過剰
の塩化チオニルを蒸発させる。残留物を５０ｃｃのクロ
ロホルムで溶解し、この溶液を７．０９ｇのメチルアミ
ノジメトキシプロパン酸メチル（ヨーロノバ特許第０．
　１７８，　８０８号）と１００ｃｃのクｏｏホルムと
の撹袢混合物中に２０〜２５℃で添加する。３０分間撹
拌し、次いで蒸発乾固する。残留物をシリカでクロマト
グラフィ−（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチルｌ−１）Ｌ
、３．２９の所期化合物を得た。
ＩＲスペクトル（．　ＣＨＣＩ２３、ＰＥ　５８０上）
：＞ｃ＝ｏ（？ｊｔ雑）　　：　　１７４Ｑｃｚ−’Ｃ
−ＯＭｅ　　　　　：　　１４３９ｃｘ−’ｇ ０ ？で抽出し、乾燥し、冫戸過し、乾固させる。残留物ヲ
シリカでクロマトグラフイ−（溶［１：ヘ−ｔ−サンー
酢酸エチル１−１）Ｌ、１．７６ｙの所期化合物を得た
。Ｍｐ＝９９゜Ｃ０ ■逝：Ｃ，７旧ｅＮ３０４ＳｔＰ 計算：Ｃ％４９．６２　　Ｈ％４．４１　　Ｎ％１０．
２１　　Ｓ％１５．５８　　Ｆ％４，６２実測：　　　
４９．８　　　　４．４　　　　　９，９　　　　１５
．４　　　　４．５ＣＨａ　　　　　　　　　　　：　
　　２８４０ｃｒＶ’工程Ｂ二２−　ＣＮ−　（３−Ｃ
２’一エチノレー（２．４’−ビチアゾール）−４−イ
ル〕−１−オキソー２−（Ｚ）一フルオルブロペニル〕
メチルアミノ〕−３一メトキシ（Ｅ）一プロベン酸メチ
ル３．２ｇの上記工程Ａで得た化合物、５０ｃｃのトル
エン及び３０Ｍｇのｐ一トルエンスルホン酸の混合物を
１時間３０分加熱するとともに生成メタノールを除去す
る。全体を水中に注ぎ、塩化メチレ工程Ａ：２−フルオ
ル−３−（４−チアゾリル）２−（Ｅ）一ブロベン酸メ
チル ６ｇの製造３の王程Ｄで得た化合物より出発し、１５．
３ｇのメチルジエチルホスホノフルオルエタノエートを
使用して、製造９の工程Ａにおけるように実施する。シ
リカでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エ
チル９−１）Ｌた後、６．４ｇの所期化合物を得た。こ
れはそのまま次の工程に使用する。
ＩＲスペクトル： Ｃ＝０　　　　　　：　　１７３４ｃｍ−’ＣＯＯＣＩ
＋，のＣＬ　　　：　　１４４０ｃｍ工程Ｂ：３−（４
−チアゾリル）−２−フルオル−２−（Ｅ）一プロペン
酸 ６．４ｇの上記工程八で得た化合物より出発して製造９
の工程Ｂにおけるように実施する。５．２９の所期化合
物を得た。
■Ｒスペクトル（ヌジョール、ニコレソト上）二一般的
吸収　ＯＨ／Ｎｉｌ Ｃ＝０（複雑）　　　：　　１７１２Ｃｌ−’Ｃ−Ｃ−
　　　　　：　　１６４１ｃｍ−’工程Ａ　：　２−　
ＣＮ−　［３−　（４−チアゾリルノｌ−オキソ〜２−
（Ｚ）一フルオルプロベニル〕メチルアミノ）−３．３
−ジメトキシブロバン酸メチル Ａ．酸クロリドの製造 ５．２ｇの製造１０の工程Ｂで得た化合物と２０ｃｃの
塩化チオニルを２時間３０分還流撹拌する。
蒸発乾固し、ヘキサンで連行し、６．６９の酸クロリド
を得た。
Ｂ．縮合 １５ｇのメチルアミノジメトキシブロペン酸メチル塩酸
塩、１　５　０’ｃｃのクロロホルム及びｌ３．１タの
重炭酸ナトリウムを周囲温度で撹拌する。ガスの放出が
終ったならば、硫酸ナトリウムを添加し、次いで炉過す
る。得られた溶液に１３．１２の重炭酸ナトリウムを添
加し、次いで６．６ｇの上記Ａで得た酸クロリドをｌｏ
Ｏｃｃのクロロホルムに溶解してなる溶液を３０分間で
添加する。周囲温度で１６時間撹拌し、次いで混合物を
２Ｎ塩酸中に注ぐ。全体をデカンテーションし、３ｏｏ
ｃｃのクロロホルムで５回再抽出し、乾燥し、炉過し、
蒸発乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィー（
溶離剤：ヘ牛サンー酢酸エチル４−６）Ｌ，、５．９９
の所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＣ３、ＰＥ　５８０上）：Ｃ＝
Ｏ型−Ｃ−ＯＣＨ３非共役　：　　１７３９ｃｍ−’ｔ
ａｒｔ−アミド＋　−Ｃ＝Ｃ−　　　：　　１６３９ｃ
ｍ−’ＣＨ３　　　　　　　　　　　　：　　１４３９
ｃｍ−’工程Ｂ：　　（ｚ，ｚ）−２−　Ｃ（２−フル
オル−１オキソー３−（４−チアゾリル）−２−ブロペ
ニル）一Ｎ−メチルアミノ〕−３−メトキシ−２ブロペ
ン酸メチル ’５．９ｇの上記工程Ａで得た化合物と６０ｃｃのトル
エンと６０ＩＩ！９のｐ一トルエンスルホン酸の混合物
を１３０℃で５時間撹拌するとともに生成したメタノー
ルを留去する。１時間後に２　０　０　ｘ９のｐ−｝ル
エンスルホン酸を添加する。１６時間休止状態に置いた
後、５００ｍｇのｐ−｝ルエンスルホン酸を添加し、生
成するメタノールを蒸留しなが１−１時間３０分還流撹
拌する。混合物を冷却し、水洗し、域圧下に蒸発乾固す
る。シリカでクロマ１・クラフィ−（溶離剤二塩化メチ
レンー酢酸エチル１−１）Ｌた後、ｌ．５５ｙの所望化
合物を得、これを塩化メチレンに溶解し、炉過し、減圧
下１こ乾固させる。■，１ｇの所期化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＩＣＩ２＋、ＰＥ　５８０上）：Ｃ
Ｉ＋．共役エステル領域　：　　１７１７Ｃ！＋−’Ｃ
ＯＯＣＨ３のＣＨ３　　　　　　　　：　　１４３９ｃ
ｍ−’？垂：　Ｃ，，Ｈ，３ＦＮ，Ｏ．Ｓ 計算二〇％４７．９９　　Ｈ％４．３６Ｆ％６．３３　
　Ｎ％９．３３　　Ｓ％１０．６８実測：　　　４７．
７　　　　４．３　　　　６．０　　　　９．１　　　
　１０．４３．８７ｇのα−［２−（Ｉ．３−ジメトキ
シーｌ一オキソ−２−ブロペニル）フエニル〕メチルホ
スホン酸ジメチル（独国特許第３，　６２０，　８６０
号）をｌＱｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶
液を、０．５９ｇの水素化ナトリウム（５０％油中）と
２００Ｃのテトラヒドロフランとの９’ｆＱ液に添加す
る。混合物を１時間撹拌し、＋１０゜Ｃに冷却し、１．
３９ｇの製造３の工程Ｄで得た化合物をｌＱｃｃのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液を添加する。２０〜
２５℃で１６時間撹拌し、次いで全体を１００ｃＧの水
中に注ぎｘｏｏｃｃのエーテルで３回洗浄する。減圧下
に蒸発乾固した後、残留物をシリカでクロマトグラフィ
ー（溶離剤：ヘ牛サンー酢酸エチル４−６）Ｌ、１，２
ｇの所期化合物を得た。
’Ａ’ｋ　：　ＣｔｓＨｔｓＮＯ３Ｓ 計算＝Ｃ％６３．７６　　１１％５．０１　　Ｎ％４．
６５　　Ｓ％１０．　６４実測：　　　６３．６　　　
　５．０　　　　４．８　　　　１０．６？使用して例
１６におけるように実施する。７１ノカでクロマトグラ
フイー（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌ，た
後、■．８ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝１４１℃。
■垂：　ＣｔＩＨｚ。ＮｔＯｓＳｔ 計算＝Ｃ％６１．１４　　Ｈ％４．８９　　Ｎ％６．７
９　　Ｓ％１５．５４実測：　　　６１．０　　　　４
．８　　　　６．７　　　　１５．２前記の操作方法に
従い、適当な化合物より出発して実施することによって
、下記の例の化合物を製造した。
メチル 酸メチル ２．２４ｇの製造４の工程Ｇで得た化合物より出発し、
３．　１　４　ｇのα−［２−（Ｉ．３−ジメトキシｌ
−オキソ−２−ブロベニル）フェニル〕メチルホスホン
酸ジメチル（独国特許第３，　６２０，　８６０号）例
２ｌ：α一（Ｅ） （メトキシメチレン） ＝　２ チル 〔（４−チアゾリル） メ トヰシ〕 ベンゼン酢酸メ 例３４： α−（Ｅ）一 （メ トキシメチレン） ２ （Ｅ） 〔（２−メチル ４−チアゾリ ル） エテニ −　４ チアゾリル］ エテニル〕 ベンゼン酢酸メチ −　４ チアゾリル〕 エテニルコ ベンゼン酢酸メチ 酢酸メチル 酢酸メチル 例４０： （メトキ７メチレン） ２ 〔（２ エテニル］ ベンゼン酢酸メチル 例１９〜４６の開始時で使用した化合物は、類似の実施
方法に従って後記の製造例に示すように製造した。
工程Ａ：（２−フェニル−４−チアゾリル）カルボン酸
エチル １００ｇのチオベンズアミドより出発してＭ　造１の工
程Ｂにおけるように実施する。シリカでクロマトグラフ
ィ−（溶離剤：ｎ−ヘキサンー酢酸エチル８−２）Ｌた
後、１５０ｇの所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＩＩＣ４３）　　：Ｃ　＝Ｏ　　　
　：　　１７２４ｃｚ−’芳香族　　：　　１４３８ｃ
ｍ−１ 工程Ｂ：　（２−フェニル−４−チアゾリル）メタノー
ル １５０ｉＦの上記工程Ａで得た化合物より出発し、６４
ｇの水素化ほう素ナトリウムを使用して製造ｌの王程Ｃ
におけるように実施する。１２２９の所期化合物を得た
。Ｍ　ｐ　＝　６　９．　７゜Ｃ０ＩＲスペクトル（ｃ
ｏｃＱ３）　　： Ｏｉｌ　　　：　　３６１［１ｃｘ−’芳香族　：　　
１５２４ｃｘ−’ 複素環　：　　１５Ｑ３ｃ＋ｙ−’ 工程Ｃ：２−Ｃ（２−フェニル−４−チアゾリル）メト
キシ］ベンゼン酢酸メチル ａ）　　３．　５　ｃｃのトリエチルアミンを３５ｃｃ
のテトラヒド口フランに溶解してなる溶液を、４７８ｇ
の上記工程Ｂで得た化合物、５Ｑｃｃのテトラヒドロフ
ラン及び１．　９　ｃｃの塩化メタンスルホニルよりな
る混合物にＯ℃で添加する。Ｏ℃で１時間撹拌し、次い
で炉過し、減圧下に濃縮し、６．８ｇの中間体メシレー
トを得た。
ｂ）２−ヒドロキシフェニル酢酸メチルを４０ｃｃのテ
トラヒド口フランに溶解してなる溶液にＯ０Ｃで１．２
ｙの５０％曲中水素化ナトリウムをゆっくりと添加する
。温度を２０℃に上昇させ、６。８タの上で得たメシレ
ートを６００Ｃのテトラヒド口フランに溶解してなる溶
液を添加する。２０〜２５゜Ｃで２時間３０分撹拌し、
次いで反応混合物をＩＮ塩酸と氷との溶液中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出し、次いで乾燥し、γ戸過し、減圧下
に蒸発乾固させる。得られた残留物（Ｉ３ｇ）をシリカ
でクロマトグラフィー（溶離剤：ｎ−ヘキサン酢酸エチ
ル７−３）Ｌ、３．５ｇの所望化合物を得た。Ｍ　ｐ　
＝　６　５．　５゜Ｃ０ ＩＲスペクトル（ＣＨＣｆｆ．）　　：Ｃ＝０　　　：
　１７３３ｃｘ 酸メチル ４．２９の製造４の工程Ｆで得た化合物より出発し、］
．４４ｃｃの塩化メタンスルホニル及び３．４ｇの２−
ヒドロキシフエニル酢酸メチルを使用して、製造ｌ１の
工程Ｃにおけるように実施し、３．　１　ｇの所望化合
物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＱ３）　　： ＞　　＝Ｏ　　　　：　　１７３４ｃ夏工程Ａ：ｒ＋−
ペンチルチオアミド ２３ｇのアミルアセトアミドから出発し、１０．１９の
五硫化りんを使用して製造ｌの工程Ａにおけるように実
施する。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：塩化メ
チレンー酢酸エチル９−１）した後、１８．３９の所望
化合物を得た。
Ｍｐ＝５２．９℃。
ＩＲスペクトル（　ＣＨＣＩ２３）　　：一Ｃ４Ｈｔ　
　　：　　３４８６、３３１１１０ｃｍ−　’ＮＨ．　
（ｄｅｆ）　　：　　１６Ｑ４ｃｒ’工程Ｂ：２−ｎ−
ベンチルー４−チアゾリルカルボン酸エチル ３６２の上記工程Ａで得た化合物から出発し、６０ｙの
ブロムビルビン酸エチルを使用して製造ｌの工程Ｂにお
けるように実施する。シリカでクロマトグラフィ−（溶
離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌた後、４９ｇの
所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＩＣＩ２Ｊ　　： ＞＝０　　　　　　：　　　１７２２ｃａ複素環　　：
　　１６０８、１５０４ｃｘ工程Ｃ　：　２　−　ｎ−
ベンチルー４−チアゾリルメタノール ４９９の上記工程Ｂで得た化合物より出発し、２０９の
水素化ほう素ナトリウムを使用して、製造ｌの工程Ｃに
おけるように実施する。４０ｇの所期化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣ１２ｓ）　　’ＯＨ　　　　：
　　３６Ｈｃｒ’ 複素原子　：　　１５３０ｃｍ−’ 工程Ｄ：２−ペンチルー４−ホルミルチアゾール３０ｇ
の上記工程Ｃで得た化合物より出発し、１３０ｇの二酸
化マンガンを使用して、例ｌの工程Ｄにおけるように実
施する。２５ｇの所望化合物を得た。
〉二Ｏ　　　　：　　１６９８ｃ＋ｙ 複素環　　・　Ｉ４８８。ｘ　−　１ 工程Ｅ　：　２−　〔２−（Ｅ）−　Ｅ２−　〔２−ベ
ンチル）−４−チアゾリル〕エテニル〕ベンゼン力ルポ
ニトリル ９．２ｇの上記工程Ｄで得た化合物より出発し、１３９
の２−ジエチルホスホナトベンゼンカルボニトリル（ヨ
ーロッパ特許第０．　２０３，　６０６号に従って得た
）を使用して例ｌ６におけるように実施する。シリカで
クロマトグラフィー（溶離剤，ヘキサンー酢酸エチル７
−３）Ｌた後、８．４３ｇの所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＱ３）　　： ＣＥＮ　　　　：　　２２２５ｃｍ Ｃ二Ｃ　　　　　：　　１６３４ｃｍ Ｃ＝ＣＩｌ　　　　　　：　　　　９６４ｃｍ工程Ｆ　
：　２−　Ｃ２−（Ｅ）−　（２−　［２−ベンチル〕
−４〜チアゾリルコエテニル〕ペンズアルテ゛ヒ　　ド ８ｇの上記工程Ｅで得た化合物と１００ｃｃのトルエン
の混合物に４．Ｑｃｃの１．２Ｍ水素化ジイソプチルア
ルミニウムトルエン溶液を−５０℃に添加する。−５０
〜−５５゜Ｃで２時間撹拌し、次いで反応混合物を３０
０ｃｃの水とｌｏＯｃｃの酒石酸カリウムナトリウム複
塩との溶液中に注ぐ。エーテルで抽出し、次いで乾燥し
、減圧下に乾固させた後、８？の生或物を、これをシリ
カでクロマトグラフイーする（溶離剤：へ牛サンー酢酸
エチル８２）。７３２の所望化合物を得た。
ＩＲスベクトノレ（　ＣＨ（ｊ２３）　　二＞　　一　
〇　　　　　　　　　　：　　　　１６９８ｃｍ−’工
程Ｇ：２−ベンチルー４−　！：２−　［２−　（２−
（メチルチオ）−２−　（メチルスルフィニル）エテニ
ル〕フェニル〕エテニルコチアゾール４．　９　ＣＣ　
（７）　水ｍ　化ベンジルトリメチルアンモニウムの３
５％メタノール溶液を、７ｇの上記工程Ｆで得た化合物
、５０ｃｃのテトラヒドロフラノ及び３、２ＣＣのメチ
ルメチルフルフィニルメチルスルフィドよりなる溶液に
添加する。３時間加熱還流した後、全体を水中に注ぎ、
塩化メチレンで抽出し、乾燥し、減圧下に蒸発乾固する
。１０ｇの残留物をシリカでクロマトグラフィー（溶離
剤：ヘキサンー酢酸エチル６−４）Ｌ、６．８５ｇの所
望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＩｓ）　　： Ｃ＝Ｃ　　　　：　　１６３４ｃｉ−’Ｓ→Ｏ　　　　
　　　：　　　ｌ０５５ｃｍ−工程Ｈ　：　２−　Ｃ２
−　［２−　（２−ペンチル）−４チアゾリル〕エテニ
ル〕ベンゼン酢酸メチル２７ｃｃの塩化アセチルをＩＩ
ＯｃｃのメタノールにＯ℃で添加することにより調製し
た溶液を、６、８ｇの上記工程Ｇで得た化合物を４０ｃ
ｃのメタノールに溶解してなる溶液にＯ℃〜５℃でゆっ
くりと添加する。Ｏ〜５℃で４時間撹袢し、次いで全体
を水中に注ぎ、次いで重炭酸ナトリウムを添加して中和
する。塩化メチレンで抽出し、次いで乾燥し、減圧下に
乾固する。５．１ｇの所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ２３）　　：＞　＝　Ｏ　　
　　：　　１７３３ｃｍ−’酢酸メチル 工程Ａ：チオイソブチルアミド ９　５．　８　ｇのインブチルアミドより出発し、５　
８．　２　ｇの五硫化りんを使用して製造１の工程Ａに
おけるように実施する。ンリカでクロマトグラフィ−（
溶離剤：ヘキサンー酢酸メチル７−３）した後、６１．
６ｇの所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（Ｃ｝ｌｃｆ！３）　　：Ｃ−Ｎ｝！，
　　：　３４９０、３３７７ｃｍ−’ＮＨ２　　　　：
　１６０４ｃｚ−’ 工程Ｂ：（２−メチルエチル−４−チアゾリル）カルポ
ン酸エチル ６１ｇの上記工程Ａで得た化合物より出発し、７４ｃｃ
のブロムビルビン酸エチルを使用してＭ　ａｌの工程Ｂ
におけるように実施する。シリカでクロマトグラフィー
（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌた後、８７
．６ｇの所望化合物を得た。
［Ｒスペクトル（　ＣＨＣｌ２３）　　：＞　Ｃ＝　Ｏ
　　　：　１７２３ｃｍ−’複素環　　：　１６（Ｉ４
、１５１）４Ｇ３１−’工程ｃ：（２−メチルエチル−
４−チアゾリル）メタノール ８７．６ｇの上記工程Ｂで得た化合物より出発し、４４
ｇの水素化ほう素ナトリウムを使用して製造ｌの工程Ｃ
におけるように実施する。６１．４ｇの所期化合物を得
た。
Ｉ　Ｒ　７．　ヘク｝　ル（ＣＩＩＣ＋２３）　　：−
　Ｏ［ｌ　　　　：　３６１２ｃｉ−’ｊ（役系　　：
　１５３０ｃｍ−’ ＩＪｕＤ：（２−メチルエチル−４−チアゾリル）メタ
ノール ４７２の上記工程Ｃで得た化合物より出発し、１３０ｇ
の二酸化マンガンを使用して製造１の工程Ｄにおけるよ
うに実施する。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：
ヘキサンー酢酸エチル４６）した後３３．５ｙの所望化
合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＩＩＣｆ２３）　　：ＯＨの不存在 ＞　Ｃ＝Ｏ　　　　：　１６９８ｃｘ−’　（アルデヒ
ド型）工程Ｅ　：　２−　［２−（Ｅ）−　［２−　〔
２−メチルエチル〕−４−チアゾリル〕エテニル〕ベン
ゼンカルポニトリル １６．７ｙの上記工程で得た化合物より出発し、２８ｇ
の２−ジエチルホスホナトベンゼンカルボニトリル（ヨ
ーロッパ特許第０．　２０３．　６ａ６号に従って得た
）を使用して、製造ｌ３の工程Ｅにおけるように実施す
る。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：塩化メチレ
ンーヘキサン９−１）Ｌた後、２　０．　２　９の所望
化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＱ，）　　： Ｃ三Ｎ　　　　　　：　　２２２５ｃ買Ｃ＝　Ｃ　　　
　　　：　　１６３６ｃｍ−’王程Ｆ　：　２−　（２
−（Ｅ）一（２−　Ｃ２−メチルエチル）−４−チアゾ
リル〕エテニル〕ベンズアルデヒド ２０９の上記工程Ｅで得た化合物より出発し、９８０Ｃ
の水素化ジイソブチルアルミニウムを使用して製造ｌ３
の工程Ｆにおけるように実施する。
シリカでクロマトグラフイー（溶離剤：塩化メチレンー
へ牛サン９−１）Ｌた後、１７．７ｇの所望化合物を得
た。
ＩＲスペクトル（　ＣＨＣＩ２ｓ）　　：Ｃ＝０　　　
　　　：　　　１６８８ｃＩ−’Ｃ＝　Ｃ　　　　　　
：　　　１６３１ｃｚ−’工程Ｇ：２−メチルエチル−
４−　Ｃ２−（Ｅ）（２−（Ｅ又はＺ）−（メチルチオ
）−２−　（メチルスルフィニル）エテニル〕フエニル
〕エテニル〕チアゾール １２．８６ｇの上記工程Ｆで得た化合物より出発し、６
．５ｃｃのメチルメチルスルフィニルメチルスルフィド
を使用して、例１３の工程Ｇにおけるように実施する。
シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチルーヘ
キサン６−４）Ｌた後、１３ｇの所望化合物を得た。
ＩＲスペクトル（　ＣＨＣｌ２３）　　：Ｓ→Ｏ　　　
　：　　１０５５ｃｚ−’Ｃ＝　Ｏ　　　　　　　：　
　　１７３０ｃ，ｗ−’工程Ｈ　：　２−　’２−（Ｅ
）−　［２−　（２−メチルエチル）−４−チアゾリル
）エテニル〕ベンゼン酢酸メチル １２．９２ｇの上記工程Ｇで得た化合物より出発して製
造ｌ３の工程Ｈにおけるように実施する。
シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：へキサン酢酸エ
チル’１３）Ｌた後、８ｇの所望化合物を得た。
Ｃ＝Ｃ十芳香族：　　１６３４、１５９９、ＦＯ５ｃｚ
工程Ａ：　（２−メチル−４−チアゾリル）カルボン酸
メチル ｘｏｏｇのチオアセトアミドより出発し、１６７．５ｃ
ｃのブロムピルビン酸エチルを使用して、製造１の工程
Ｂにおけるように実施し、１４０ｇの所望化合物を得た
。
工程Ｂ：（２−メチル−４−チアゾリル）メタノーノレ ７０９の上記工程Ａで得た化合物より出発し、３　８．
　７　ｇの水素化ほう素ナトリウムを使用して、製造１
の工程Ｃにおけるように実施し、３１ｙの所望化合物を
得た。
工程Ｃ：２−Ｌ（２−メチル−４−チアゾリル）メ１・
キシ］ベンゼン酢酸メチル ６ｇの上記工程Ｂで得た化合物より出発し、３．６９の
塩化メタンスル７Ｆニルを使用して、製造１１の工程Ｃ
におけるように実施する。シリカでクロマトグラフィ−
（溶離剤：ヘキサンー酢酸エチル７−３）Ｌ，た後、３
９の所望化合物を得た。
Ｍ　ｐ　＝　８　０℃。
ＩＲスペクトル（ＣＨＣＱ３）　　： ＞＝０　　　：　　１７３４ｃｉ−’ 下記の表は、前記の例で得られた化合物の主な特徴を要
約する（ＮＭＲスペクトルから各種の異性体を特徴づけ
ることができる。融点も示す）。
生物学的研究、殺菌活性 ａ）ぶどうの木でのボトリチス・シ不レア（Ｂｏｔｒｙ
ｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）に対する試験挿木から育てた
ぶどうの若木（　Ｎ　ＧｒｅｎａｃｈｅＦ１ｉ、クロー
ン７０）を、試験の２回前にグリーンノ・ウス（昼間温
度３０℃、夜間温度２５゜Ｃ）において土／フンボスト
／砂（　１／　３−　１／　３−　１／　３）混合物で
栽培し、次いでぶどうの木を栽培室（同一の温度条件、
温度＝昼間６０％、夜間８０％）に移し、そして被検化
合物を使用直前に後記の「マトリックスＡ」に５　０　
０　ｐｐｍの濃度で溶解する。処理は、この溶液を葉に
対して最高の保持量が得られるまでスプレーすることに
より行う。ボトリチスの胞子を希釈したニンジンジュー
スｌ．：　ｌ　ｘＱ当リ５０，　０００個の胞子の割合
で懸濁させる。これによる汚染は、胞子懸濁液を葉の背
軸面上に液滴（２０μＱ）の形で付着させることにより
行う。予防試験では処理は汚染させる前日に行う。次い
でぶどうの木を前記の条件と同じ条件で栽培室にて維持
する。汚染させてから９日後に壊死した表面を測定する
ことによって読取りを行う。被検化合物の有効性を未処
理対照例と比較して計算する。
ｂ）　ブラスモバラ・ビチコーラ（　Ｐｌａｓｍｏｐａ
ｒａｖｉｔｉｃｏｌａ）に対する試験 使用した植物は、上記の試験Ａで使用したものと同一で
あり、同一の条件で育てる。また処理も同様に行う。汚
染は、試験の直前に採取したブラスモバラ・ビチコーラ
の遊走子のうによって行う（Ｉ１Ｑ当りｓｏ，　ｏｏｏ
個の遊走子のう）。被検化合物の液滴（２０μＱ）を葉
の背軸面に付着させる。次いで植物を飽和温度の雰囲気
中に２４時間維持し、次いで栽培室の湿気（昼間６０％
、夜間８０％）中に入れる。汚染させて１０日後に、葉
の背軸面上の分生子柄のボケノトの発生を測定すること
によって読取りを行う。被検化合物の有効性を未処理対
照例と比較して計算する。
Ｃ）　　エリシフェ・グラミニス・ホルディ（Ｅｒｙｓ
ｉｐｈｅ　ｇｒａｍｉｎｉｓ　ｈｏｒｄｅｉ）に対する
試験大麦の種子を土／コンボスト／砂混合物（ｌ／３１
／　３−１／　３）　中で発芽させ、グリーンハウス内
で育てる。被検化合物を試験の直前に「マトリックスＡ
」に５　０　０　ｐｐｍの濃度で溶解する。処理は、被
検化合物溶液を発芽して１０日目の小麦に最大蛮の保持
量が得られるまでスプレーすることにより行う。エリシ
フェ・グラミニス・ホルディの分生子による汚染は処理
して３日後に行う。植物を空調室（昼間温度２３℃、夜
間温度１８゜Ｃ）に入れる。汚染させて７日後に、各植
物の第一葉及び第二葉上の分生子のフェルト状被覆の程
度を測定する。被検化合物の有効性を未処理対照例と比
べて計算する。
ｄ）ケウマノマイセス・グラミニス・トリチシ（Ｇａｅ
ｕａ＋ａｎｎｏｍｙｃｅｓ　　ｇｒａ＋ａｉｎｉｓ　　
ｔｒｉｔｉｃｉ）に対する試験 接種物の調製：２００ｇのオートクレープ処理したオー
ト麦の種子をゲウマノマイセス・グラミニス・トリチシ
で汚染させ、光をしゃ断して２２℃の温度に５週間保存
する。次いで接種物を乾燥し、粉末となし、この形で保
存する。
試験の日に、洗浄され、湿ったバーミキュライ１・をこ
の接種物で汚染させ（ｌ重旦％の接種物）、栽培用鉢に
分布させる（鉢１個当りｌｏＯｇ）。
鉢の表面にはバーミキュライトの２ＣＩ！厚の汚染され
ていない層を置く。この上部層中に小麦の種子（カペル
変種）をばらまく。被検化合物を「マトリックスＡ」に
５０ｐｐｍの濃度で溶解する。処理は、各鉢に３０ｘＱ
の被検化合物溶液をかけることによって行う。鉢を栽培
室（昼間温度２１℃、夜間温度１６゜Ｃ）にて保つ。播
種してから３週間後に各植物の地上部分及び根部分の重
量を測定する。
処理効率を汚染させてない対照例及び未処理対照例と対
比させて計算する。
ｅ）　　ブシニア・レコンジタ・トリチシ（　Ｐｕｃｃ
ｉｎｉａｒｅｃｏｎｄｉＬａ　ｔｒｉｔｉｃｉ）に対す
る試験トウモロコシの種子（フェスチバル変種）を土／
コンボスト／砂混合物（　１／　３　−　１／　３−　
１／　３）中で発芽させる。植物をグリーンハウス内で
栽培する。被検化合物を試験直前に「マトリックスＡ」
に５　０　０　ｐｐｍの濃度で溶解する。処理は、化合
物溶液を発芽してから９日目のトウモロコシの若木に、
最大の保持鼠が得られるまでスプレーすることによって
行う。プシニア・レコンジタ・トリチシの夏胞子による
汚染は、処理した日の翌日に行う。植物を空調室（昼間
温度２２℃、夜間温度１８℃）で保持する。汚染させて
から７日後に各植物の第一葉及び第二葉上の傷の密度を
測定する。
被検化合物の有効性を未処理対照例と対比させて計算す
る。
結果を以下に要約する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）次の一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔ここで、Ｒ＿１及びＲ＿２は、同一又は異なっていて
    よく、水素原子、ハロゲン原子、ＣＦ＿３基、８個まで
    の炭素原子を含有するアルキル、アルケニル、アルキニ
    ル若しくはチオアルキル基、８個までの炭素原子を含有
    するアルコキシ、チオアルコキシ若しくはＳＯ＿２アル
    キル基、１８個までの炭素原子を含有する置換されてい
    てもよいアリール、アリールオキシ若しくはチオアリー
    ル基、置換されていてもよいヘテロアリール若しくはヘ
    テロアリールオキシ基、又は５若しくは６員の置換され
    ていてもよい複素環式基を表わし、 Ｒ＿３は、８個までの炭素原子を含有するアルキル、ア
    ルケニル若しくはアルキニル基、１８個までの炭素原子
    を含有するアリール基、又は１４個までの炭素原子を含
    有するアルコキシアルコキシアルキル基を表わし、 Ｘは酸素若しくは硫黄原子又はＮＲ＿４基（ここでＲ＿
    ４は水素原子、８個までの炭素原子を含有するアルキル
    、アルケニル、アルキニル、ＳＯ＿２−アルキル、ＳＯ
    ＿２−アルケニル若しくはＳＯ＿２−アルキニル基、又
    は１８個までの炭素原子を含有する置換されていてよい
    アリール若しくはＳＯ＿２−アリール基を表わす）を表
    わし、 ｎは数０又は１を表わし、 Ａは下記の基 ▲数式、化学式、表等があります▼；▲数式、化学式、
    表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼；▲数式、化学式、
    表等があります▼ （ここで、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、ＣＦ＿３基、
    又は８個までの炭素原子を含有するアルキル若しくはア
    ルコキシ基を表わし、Ｚは水素原子又はハロゲン原子を
    表わす） の群から選ばれる基を表わし、 二重結合の配置はＥ又はＺ又はＥとＺとの混合である〕 の化合物。 ２）基 ▲数式、化学式、表等があります▼ はＣＯ＿２ＣＨ＿３及びＯＲ＿３が互にｔｒａｎｓ配置
    であるようなものである請求項１記載の式（ I ）の化
    合物。 ３）Ｘが硫黄原子を表わす請求項１又は２記載の式（
    I ）の化合物。 ４）Ａが基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす請求項１〜３のいずれかに記載の式（ I ）の
    化合物。 ５）二重結合の配置がＥである請求項１記載の式（ I
    ）の化合物。 ６）Ａが基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす請求項１〜３のいずれかに記載の式（ I ）の
    化合物。 ７）Ａが基 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
    、表等があります▼ （Ａ＿１）（Ａ＿２） を表わす請求項１〜３のいずれかに記載の式（ I ）の
    化合物。 ８）二重結合の配置が基Ａ＿１についてＺであり、また
    基Ａ＿２についてはＥである請求項７記載の式（ I ）
    の化合物。 ９）ｎが数０を表わす請求項１〜３のいずれかに記載の
    式（ I ）の化合物。 １０）Ｒ＿１が水素原子、塩素原子、５個までの炭素原
    子を含有するアルキル若しくはアルケニル基、５個まで
    の炭素原子を含有するアルコキシ基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす請求項１〜９のいずれかに記載の式（ I ）の
    化合物。 １１）Ｒ＿２が水素原子を表わす請求項１〜１０のいず
    れかに記載の式（ I ）の化合物。 １２）Ｒ＿１及び（又は）Ｒ＿２が置換されていてよい
    アリール基である請求項１〜９のいずれかに記載の式（
    I ）の化合物。 １３）Ｒ＿１がＳＣＨ＿３基でありかつＲ＿２がＣＨ＿
    ３基である請求項１〜９のいずれかに記載の式（ I ）
    の化合物。 １４）アルコキシアクリレート基が５位置にある請求項
    １２又は１３記載の式（ I ）の化合物。 １５）化合物名が下記の通りである請求項１記載の式（
    I ）の化合物。 （Ｅ、Ｚ）−３−メトキシ−〔２−メチル−〔１−オキ
    ソ−３−（４−チアゾリル）−２−プロペニル〕アミノ
    〕−２−プロペン酸メチル、 ２−（２−メチルチオ−４−メチル−５−チアゾリル）
    −３−メトキシ−２−プロペン酸メチル、 ２−〔Ｎ−〔３−〔２′−エチル−（２，４′−ビチア
    ゾール）−４−イル〕−１−オキソ−２−（Ｅ）−プロ
    ペニル〕メチルアミノ〕−３−（Ｚ）−メトキシプロペ
    ン酸メチル、 ２−〔Ｎ−〔３−〔２′−エチル−（２，４′−ビチア
    ゾール）−４−イル〕−１−オキソ−２−（Ｚ）−フル
    オルプロペニル〕メチルアミノ〕−３−メトキシ−（Ｚ
    ）−プロペン酸メチル、 （Ｚ、Ｚ）−２−〔（２−フルオル−１−オキソ−３−
    （４−チアゾリル）−２−プロペニル）−Ｎ−メチルア
    ミノ〕−３−メトキシ−２−プロペン酸メチル、 （Ｅ、Ｅ）−α−（メトキシメチレン）−２−〔２−（
    ４−チアゾリル）エテニル〕ベンゼン酢酸メチル、 ２−（Ｅ）−〔〔〔２′−エチル（２，４′−ビチアゾ
    ール）−４−イル〕エテニル〕−２−フェニル〕−３−
    メトキシ−２−（Ｅ）−プロペン酸メチル、 （Ｅ、Ｚ）−３−メトキシ−２−〔メチル−〔１−オキ
    ソ−３−〔２−（トリフルオルメチル）−４−チアゾリ
    ル〕−２−プロペニル〕アミノ〕−２−プロペン酸メチ
    ル、 α−（メトキシメチレン）−２−〔（２−フェニル−４
    −チアゾリル）メトキシ〕ベンゼン酢酸メチル、 （Ｅ）−２−〔〔２′−エチル−（２，４′−ビチアゾ
    ール）−４−イル〕メトキシ〕−α−（メトキシメチレ
    ン）ベンゼン酢酸メチル、 α−（Ｅ）−（メトキシメチレン）−２−（Ｅ）−〔〔
    ２−（２−ペンチル）−４−チアゾリル〕エテニル〕ベ
    ンゼン酢酸メチル、 （Ｅ）−α−（メトキシメチレン）−２−〔〔４−チア
    ゾリル−２−メチルエチル〕メトキシ〕ベンゼン酢酸メ
    チル、 Ｅ、Ｅ−α−（メトキシメチレン）−２−〔２−（２−
    メチルエチル−４−チアゾリル）エテニル〕ベンゼン酢
    酸メチル、 （Ｅ、Ｚ）−α−（メトキシメチレン）−２−〔２−（
    ２−メチルエチル−４−チアゾリル）エテニル〕ベンゼ
    ン酢酸メチル、 α−（Ｚ）−（メトキシメチレン）−２−（Ｅ）−〔〔
    ２−（２−ペンチル）−４−チアゾリル〕エテニル〕ベ
    ンゼン酢酸メチル、 α−（メトキシメチレン）−２−〔（２−メチル−４−
    チアゾリル）メトキシ〕ベンゼン酢酸メチル。 １６）請求項１記載の式（ I ）の化合物を製造するに
    あたり、次式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （ここで、Ｘ、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ａ及びｎは前記の意味
    を有する） の化合物に強塩基及びぎ酸アルキル又はＮ−ホルミルイ
    ミダゾールを作用させて次式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） の化合物を得、この化合物に基Ｒ＿３の導入剤を作用さ
    せて対応する式（ I ）の化合物を得、要すれば種種の
    異性体を分離することを特徴とする式（ I ）の化合物
    の製造法。 １７）基Ａが請求項７記載の基（Ａ＿２）を表わす請求
    項１記載の式（ I ）の化合物を製造するにあたり、次
    式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （ここで、Ｘ、Ｒ＿１及びＲ＿２は前記の意味を有する
    ）の化合物又はこの化合物の官能性誘導体に次式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （ここで、Ｒ＿３は前記の意味を有し、ａｌｋ＿１は８
    個までの炭素原子を含有するアルキル基を表わす）の化
    合物を作用させて次式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） の化合物を得、この化合物にａｌｋ＿１−ＯＨアルコー
    ルの残基の除去剤を作用させて対応する次式（ I Ａ）
    ▲数式、化学式、表等があります▼（ I Ａ） の化合物を得ることを特徴とする該化合物の製造法。 １８）基Ａが基 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
    、表等があります▼ を表わす式（ I ）の化合物を製造するにあたり、ウィ
    チヒ−ホーナー反応に従って、次式（VII）▲数式、化
    学式、表等があります▼（VII） （ここで、Ｘ、Ｒ＿１及びＲ＿２は前記の意味を有する
    ）の化合物に次式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） （ここでＹ及びＲ＿３は前記の意味を有し、ａｌｋ＿２
    及びａｌｋ＿３は同一又は異なっていてよく、８個まで
    の炭素原子を含有するアルキル基を表わす） の化合物を作用させて対応する次式（ I Ｂ）▲数式、
    化学式、表等があります▼（ I Ｂ） の化合物を得、所望ならばこの化合物を単離し又は所望
    ならば接触水素化を行って次式（ I Ｃ）▲数式、化学
    式、表等があります▼（ I Ｃ） の化合物を得ることを特徴とする該化合物の製造法。 １９）請求項１６記載の式（II）及び（III）の化合物
    並びに請求項１７記載の式（IV）及び（VI）の化合物。 ２０）請求項１〜１４のいずれかに記載の式（ I ）の
    化合物の少なくとも１種を活性成分として含有する殺菌
    剤組成物。 ２１）請求項１５記載の化合物の少なくとも１種を活性
    成分として含有する殺菌剤。
JP2146387A 1989-06-06 1990-06-06 新規なチアゾリルアルコキシアクリル酸エステル、それらの製造法、それらの殺菌剤としての使用及びそれらの製造中間体 Pending JPH03101669A (ja)

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