JPH08311026A - 環状アミド誘導体及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】有害雑草に対して優れた除草効果を有するとと
もに作物に安全性が高い除草剤を提供する。 【解決手段】一般式［Ｉ］ ［式中、−Ａ−Ｂ−は基−Ｎ−ＣＨ（ＣＨ_３）−、基−
Ｎ−Ｎ（ＣＨ_３）−、基−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、基−Ｎ
−ＣＨ_２−等を表し、Ｘは同一又は相異なり、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基等を表し、ｍは１又は２
の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、Ｒ^１は置換さ
れていてもよいアリ−ル基、置換カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基等を表す。］で示される環状アミド
誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、環状アミド誘導体
及びこれを有効成分として含有する除草剤に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】これまで、環状アミド誘導体で除草活性
を有するものがいくつか知られている。例えば特開平３
−２０４８５５号公報明細書記載の環状アミド誘導体、
特開平３−１７６４７５号公報明細書記載の環状尿素誘
導体、特開平５−２２１９７２号公報明細書記載の２−
（２−オキソ−３−ピロリン−１−イル）イソ酪酸誘導
体、特開平５−２２１９７３号公報明細書記載の２−オ
キソ−３−ピロリン誘導体及び特開平４−８９４８５号
公報明細書記載の１，３−オキサジン−４−オン誘導体
などが除草剤として有効であることが記載されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、特に有効作物と
雑草に同時に施用しても、作物に対して害を与えずに雑
草のみを枯殺する選択作用を有する除草剤が強く要望さ
れている。

【０００４】又、環境中に薬剤が過剰に残留することを
防止するために低薬量で使用できる薬剤の開発が望まれ
ている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成するために数多くの環状アミド誘導体を合成し、
それらの有用性について種々検討した。その結果、我々
が合成した環状アミド誘導体が上記の目的に適う優れた
除草活性と選択性を有することを見出し、本発明を完成
するに至った。すなわち、本発明は、一般式［Ｉ］

【０００６】

【化１】 ｛式中、−Ａ−Ｂ−は基−Ｎ−ＣＨ（ＣＨ_３）−、基−
Ｎ−Ｎ（ＣＨ_３）−、基−Ｎ−Ｏ−、基−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ
_３）−、基−Ｎ−ＣＨ_２−又は−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−Ｏ
−を表し、Ｘは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ
基、アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシ
カルボニル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シ
アノ基又はジメチルアミノ基を表し、ｍは１又は２の整
数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、Ｒ^１は式

【０００７】

【化２】 ［式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロ
アルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ基、
アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシカル
ボニル基、フェニル基、アルコキシカルボニルアルキル
基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又は
ジメチルアミノ基を表し、ｋは１〜５の整数を表し、Ｒ
^２は式

【０００８】

【化３】 ［式中、Ｙ及びｋは前記と同一の意味を表し、Ｚは硫黄
原子、酸素原子又は式−ＮＲ^４（式中、Ｒ^４は水素原
子、アルキル基又はハロアルキル基を表す。）を表し、
Ｄは窒素原子又は式−ＣＲ^５（式中、Ｒ^５は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
シ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルス
ルホニル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチ
ルアミノ基を表す。）を表す。］を表し、Ｒ^３はアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、アルケニル基、
ハロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基
（該基はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されて
いても良い）、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロ
アルキルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシ
アルキル基又は式−Ｒ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一の意
味を表す。）を表す。］を表す。但し、−Ａ−Ｂ−が基
−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−又は基−Ｎ−ＣＨ_２−を表す場
合、Ｒ^１は式

【０００９】

【化４】 ［式中、Ｙ、ｋ及びＲ^２は前記と同一の意味を表す。但
し、Ｒ^１がＹｋ（Ｙ及びｋは前記と同一の意味を表
す。）の置換基を持つフェニル基の場合、ｎは整数３を
表す。］を表し、Ｒ^３はハロアルキル基、アルケニル
基、ハロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル
基（該基はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換され
ていても良い）、シクロアルキルアルキル基、ハロシク
ロアルキルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキ
シアルキル基又は式−Ｒ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一の
意味を表す。）を表し、−Ａ−Ｂ−が基−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ
_３）−Ｏ−を表す場合、ｍ及びｎは共に整数１を表し、
Ｒ^１は式−ＣＯＮＨＲ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一の意
味を表す。）を表す。｝で示される環状アミド誘導体及
びこれを有効成分として含有する除草剤である。

【００１０】尚、本明細書において、アルキル基とは、
炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示
し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル
基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル
基、３，３−ジメチルブチル基等を挙げることができ
る。

【００１１】アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキ
シカルボニル基、アシル基及びアルキルスルホニル基と
は、それぞれアルキル部分が上記の意味を示すアルキル
オキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル
基、アルキルカルボニル基及びアルキルスルホニル基で
ある。

【００１２】ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。

【００１３】ハロアルキル基とは、ハロゲン原子によっ
て置換されたアルキル基を示し、例えばジフルオロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基
等を挙げることができる。

【００１４】シクロアルキル基とは、炭素数が３〜７の
シクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることがで
きる。

【００１５】ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分
が上記の意味を示すハロアルキルオキシ基であり、例え
ばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペ
ンタフルオロエトキシ基等を挙げることができる。

【００１６】アルケニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖
又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル基、
プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテ
ニル基、ヘキセニル基等を挙げることができる。

【００１７】ハロアルケニル基とは、ハロゲン原子によ
って置換されたアルケニル基を示す。

【００１８】アルキニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖
又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル
基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシ
ニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、４−メチ
ル−１−ペニチニル基、３−メチル−１−ペンチニル基
等を挙げることができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】次に、一般式［Ｉ］で表される本
発明化合物を表１〜表１２に記載する。尚、化合物番号
は以後の記載において参照される。

【００２０】

【表１】

【００２１】

【表２】

【００２２】

【表３】

【００２３】

【表４】

【００２４】

【表５】

【００２５】

【表６】

【００２６】

【表７】

【００２７】

【表８】

【００２８】

【表９】

【００２９】

【表１０】

【００３０】

【表１１】

【００３１】

【表１２】

【００３２】次に一般式［Ｉ］で示される本発明化合物
は、例えば以下に示す製造法に従って製造することがで
きるが、これらの方法に限定されるものではない。

【００３３】＜製造法１＞

【００３４】

【化１８】 （式中、Ｘ、ｍ及びＲ^２は前記と同じ意味を表す。）

【００３５】まず、式［ＩＩ−１］で表される２−アミ
ノイソ酪酸をベンジルアルコールとｐ−トルエンスルホ
ン酸存在下にて反応させて、式［ＩＩ−２］で表される
２−アミノイソ酪酸ベンジルエステルを製造することが
できる。

【００３６】溶媒として、例えばジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ
ーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭
化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族
ケトン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類
又はアセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ
Ｃ）などの非プロトン性極性溶媒などを使用することが
できる（以下、製造法１−１溶媒と称す）。上記の反応
は室温から溶媒の沸点の温度の範囲で行い、１〜２４時
間で終了する。

【００３７】次に、得られた式［ＩＩ−２］で表される
２−アミノイソ酪酸ベンジルエステルとモノクロロアセ
トンとを塩基の存在下反応させて、式［ＩＩ−３］で表
される化合物を製造することができる＜実施例（ａ）に
記載＞。

【００３８】塩基として、例えばトリエチルアミン、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン（ＤＢＵ）、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有
機アミン類又は水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウムなどの無機塩基を使用することができる
（以下、製造法１塩基と称す。）。溶媒として、前記
（製造法１−１溶媒）のものを同様に使用することがで
きる。上記の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点
の温度範囲で行い、１〜２４時間で終了する。目的化合
物は反応液から常法により得ることができる。

【００３９】次に、得られた式［ＩＩ−３］で表される
化合物と置換フェニル酢酸クロリドとを塩基の存在下反
応させ、一般式［ＩＩ−４］で表される化合物を製造す
ることができる＜実施例（ｂ）に記載＞。

【００４０】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、前記（製
造法１−１溶媒）のものを同様に使用することができ
る。上記の反応は−１５℃から６０℃の温度範囲で行
い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から
常法により得ることができる。

【００４１】次に、得られた一般式［ＩＩ−４］で表さ
れる化合物を塩基の存在下、分子内縮合環化させ、一般
式［ＩＩ−５］で表される化合物を製造することができ
る。

【００４２】塩基として、例えばナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシド類、
又はトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン、
キノリンなどの有機アミン類などを使用することができ
る。溶媒として、前記（製造法１−１溶媒）のものを同
様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度
から溶媒の沸点の温度範囲で行い、０．５〜１０時間で
終了する。目的化合物は反応液から常法により得ること
ができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロ
マトグラフィーにて精製する。

【００４３】次に、一般式［ＩＩ−５］で表される化合
物をアルカリ加水分解することによって、一般式［ＩＩ
−６］で表される化合物を得ることができる＜実施例
（ｃ）に記載＞。

【００４４】塩基として、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等を使用できる。溶媒として、例えばジオ
キサン、メタノール、エタノールなどの加水分解を受け
ない水溶性の溶媒又は水を使用することができる。反応
は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、０．５〜１０
時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得
ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラ
ムクロマトグラフィーにて精製することができる。

【００４５】次に、一般式［ＩＩ−６］で表される化合
物に、塩基の存在下又は非存在下、ペプチド化剤を反応
させた後、一般式［ＩＩ−７］で表される化合物又はそ
の塩と反応させ、一般式［ＩＩ］で表される本発明化合
物を製造することができる＜実施例（ｄ）に記載＞。

【００４６】ペプチド化剤として、例えば２−クロロ−
１−メチルピリジニウムヨージド、ジフェニルホスホリ
ルアジド、トリフェニルホスフィン、１−（３−ジメチ
ルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸
塩、カルボニルジイミダゾール又は１，３−ジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどが挙げられる。塩基として、
例えばトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリ
ン、キノリンなどの有機アミン類などを使用することが
できる。溶媒として、例えばジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケト
ン類又はアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣなどの非プ
ロトン性極性溶媒などを使用することができる（以下、
製造法１−２溶媒と称す。）。上記の反応は−１０℃か
ら溶媒の沸点の温度範囲で行い、０．５〜２４時間で終
了する。目的化合物は反応液から常法により得ることが
できる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマ
トグラフィーにて精製する。

【００４７】＜製造法２＞

【００４８】

【化１９】 （式中、Ｘ、ｍ及びＲ^２は前記と同じ意味を表し、Ｑは
水素原子又はメチル基を表す。）

【００４９】まず、式［ＩＩＩ−１］で表される２−ア
ミノイソ酪酸エチルエステル塩酸塩を塩基の存在下、メ
チルビニルケトン又はアクロレインと反応させて、一般
式［ＩＩＩ−２］で表される化合物を製造することがで
きる＜実施例（ｅ）に記載＞。

【００５０】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、前記（製
造法１−１溶媒）のものを同様に使用することができ
る。上記の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の
温度範囲で行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物
は反応液から常法により得ることができる。

【００５１】次に、得られた一般式［ＩＩＩ−２］で表
される化合物と一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物
とを反応させて、一般式［ＩＩＩ−４］で表される化合
物を製造することができる。

【００５２】溶媒として、前記（製造法１−１溶媒）の
ものを同様に使用することができる。上記の反応は室温
から溶媒の沸点の温度範囲で行い、１〜２４時間で終了
する。目的化合物は反応液から常法により得ることがで
きる。

【００５３】次に、得られた一般式［ＩＩＩ−４］で表
される化合物を塩基の存在下にて反応させた後、脱水反
応を行ない、一般式［ＩＩＩ−５］で表される化合物を
製造することができる＜実施例（ｆ）に記載＞。

【００５４】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、前記（製
造法１−１溶媒）のものを同様に使用することができ
る。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範
囲で行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応
液から常法により得ることができる。

【００５５】次に、得られた一般式［ＩＩＩ−５］で表
される化合物を触媒の存在下接触還元を行ない、一般式
［ＩＩＩ−６］で表される化合物を製造することができ
る＜実施例（ｇ）に記載＞。

【００５６】触媒として、例えばパラジウム炭素、ラネ
ーニッケルなどが挙げられる。溶媒として、例えばジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの
炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪
族ケトン類、メタノール、エタノールなどのアルコール
類又はアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣなどの非プロ
トン性極性溶媒などを使用することができる（以下、製
造法２−１溶媒と称する）。上記の反応は氷冷下の温度
から溶媒の沸点の温度範囲で行い、０．５〜１０時間で
終了する。目的化合物は反応液から常法により得ること
ができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロ
マトグラフィーにて精製する。

【００５７】次に、一般式［ＩＩＩ−６］で表される化
合物をアルカリ加水分解することによって、一般式［Ｉ
ＩＩ−７］で表される化合物を得ることができる＜実施
例（ｈ）に記載＞。

【００５８】塩基として、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等を使用できる。溶媒として、例えばジオ
キサン、メタノール、エタノールなどの加水分解を受け
ない水溶性の溶媒又は水を使用することができる。反応
は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、０．５〜１０
時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得
ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラ
ムクロマトグラフィーにて精製することができる。

【００５９】次に、一般式［ＩＩＩ−７］で表される化
合物に、塩基の存在下又は非存在下、ペプチド化剤と反
応させた後、一般式［ＩＩＩ−８］で表される化合物と
反応させ、一般式［ＩＩＩ］で表される本発明化合物を
製造することができる＜実施例（ｉ）に記載＞。

【００６０】ペプチド化剤として、実施例１で使用した
ものを同様に使用することができる。塩基として、例え
ばトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン、キ
ノリンなどの有機アミン類などを使用することができ
る。溶媒として、前記（製造法１−２溶媒）のものを同
様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒
の沸点の温度範囲で行い、０．５〜２４時間で終了す
る。目的化合物は反応液から常法により得ることができ
る。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグ
ラフィーにて精製する。

【００６１】＜製造法３＞

【００６２】

【化２０】 （式中、Ｘ、Ｙ、ｍ及びｋは前記と同じ意味を表す。）

【００６３】一般式［ＩＶ−１］で表されるアミン化合
物をメチルビニルケトンと反応させて、一般式［ＩＶ−
２］で表される化合物を製造することができる。

【００６４】本反応は無溶媒でも行なうことができる＜
実施例（ｊ）に記載＞が、溶媒として、前記（製造法１
−１溶媒）のものを同様に使用することができる。上記
の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲
で行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液
から常法により得ることができる。

【００６５】次に、得られた一般式［ＩＶ−２］で表さ
れる化合物と一般式［ＩＶ−３］で表される化合物とを
反応させて、一般式［ＩＶ−４］で表される化合物を製
造することができる＜実施例（ｋ）に記載＞。

【００６６】溶媒として、前記（製造法１−１溶媒）の
ものを同様に使用することができる。上記の反応は、室
温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、１〜２４時間で終
了する。目的化合物は反応液から常法により得ることが
できる。

【００６７】次に、得られた一般式［ＩＶ−４］で表さ
れる化合物を塩基の存在下にて反応させた後、脱水反応
を行ない、一般式［ＩＶ−５］で表される化合物を製造
することができる＜実施例（ｋ）に記載＞。

【００６８】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、前記（製
造法１−１溶媒）のものを同様に使用することができ
る。上記の反応は氷冷下の温度から６０℃の温度範囲で
行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液か
ら常法により得ることができる。

【００６９】次に、得られた一般式［ＩＶ−５］で表さ
れる化合物を触媒の存在下接触還元を行ない、一般式
［ＩＶ］で表される本発明化合物を製造することができ
る＜実施例（ｌ）に記載＞。

【００７０】触媒として、例えばパラジウム炭素、ラネ
ーニッケルなどが挙げられる。溶媒として、前記（製造
法１−１溶媒）のものを同様に使用することができる。
上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で
行い、０．５〜１０時間で終了する。目的化合物は反応
液から常法により得ることができる。又、必要に応じて
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製す
る。

【００７１】＜製造法４＞

【００７２】

【化２１】 （式中、Ｘ、Ｙ、ｍ及びｋは前記と同じ意味を表す。）

【００７３】一般式［Ｖ−１］で表される化合物をクロ
ロ炭酸メチルと反応させて、一般式［Ｖ−２］で表され
る化合物を製造することができる＜実施例（ｍ）に記載
＞。

【００７４】溶媒として、前記（製造法１−１溶媒）の
ものを同様に使用することができる。上記の反応は窒素
雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、１〜
２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法によ
り得ることができる。

【００７５】次に、得られた一般式［Ｖ−２］で表され
る化合物とヨウ化メチルとを塩基の存在下にて反応させ
て、一般式［Ｖ−３］で表される化合物を製造すること
ができる＜実施例（ｎ）に記載＞。

【００７６】塩基として、例えばナトリウム、水素化ナ
トリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基又はトリエチル
アミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの
有機アミン類を使用することができる。溶媒として、前
記（製造法１−１溶媒）のものを同様に使用することが
できる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で
行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液か
ら常法により得ることができる。

【００７７】次に、得られた一般式［Ｖ−３］で表され
る化合物を酸の存在下、加水分解反応を行ない、一般式
［Ｖ−４］で表される化合物を製造することができる＜
実施例（ｏ）に記載＞。

【００７８】酸として、例えば硫酸、塩酸などを使用す
ることができる。溶媒として、例えば水、メタノール、
エタノールなどのアルコール類などを使用することがで
きる。上記の反応は室温の温度から沸点の範囲で行い、
１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法
により得ることができる。

【００７９】次に、得られた一般式［Ｖ−４］で表され
る化合物とクロロアセチルクロリドとを塩基の存在下反
応させて、一般式［Ｖ−５］で表される化合物を製造す
ることができる＜実施例（ｐ）に記載＞。

【００８０】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、前記（製
造法１−１溶媒）のものを同様に使用することができ
る。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範
囲で行い、０．５〜１０時間で終了する。目的化合物は
反応液から常法により得ることができる。又、必要に応
じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製
する。

【００８１】次に、得られた一般式［Ｖ−５］で表され
る化合物と一般式［Ｖ−６］で表される化合物とを塩基
の存在下にて反応させて、一般式［Ｖ−７］で表される
化合物を製造することができる＜実施例（ｑ）に記載
＞。

【００８２】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、前記（製
造法１−１溶媒）のものを同様に使用することができ
る。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行
い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から
常法により得ることができる。

【００８３】次に、得られた一般式［Ｖ−７］で表され
る化合物をアルカリ加水分解することによって、一般式
［Ｖ−８］で表される化合物を得ることができる＜実施
例（ｒ）に記載＞。

【００８４】塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等を使用できる。溶媒としては、例えば
ジオキサン、メタノール、エタノールなどの加水分解を
受けない水溶性の溶媒又は水を使用することができる。
反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、０．５〜
１０時間で終了する。目的化合物は反応液から常法によ
り得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいは
カラムクロマトグラフィーにて精製することができる。

【００８５】次に、得られた一般式［Ｖ−８］で表され
る化合物とリチウムアルミニウムヒドリドを反応させ
て、一般式［Ｖ−９］で表される化合物を製造すること
ができる＜実施例（ｓ）に記載＞。

【００８６】溶媒として、例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、ｎ−
ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類などを
使用することができる。上記の反応は、窒素雰囲気下、
室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、１〜２４時間で
終了する。目的化合物は反応液から常法により得ること
ができる。

【００８７】次に、得られた一般式［Ｖ−９］で表され
る化合物とホスゲンとを塩基の存在下反応させて、一般
式［Ｖ］で表される本発明化合物を製造することができ
る＜実施例（ｔ）に記載＞。

【００８８】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用できる。溶媒として、前記（製造法１−１
溶媒）のものを同様に使用することができる。上記の反
応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、
０．５〜１０時間で終了する。目的化合物は反応液から
常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶
あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。

【００８９】＜製造法５＞

【００９０】

【化２２】 （式中、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎ及びｋは前記と同じ意味を表
し、Ｌ^１及びＬ^２はハロゲン原子を表す。）

【００９１】一般式［ＶＩ−１］で表されるヒドロキシ
アミン誘導体を一般式［ＶＩ−２］で表されるイソシア
ネート化合物と反応させて、一般式［ＶＩ−３］で表さ
れる化合物を製造することができる＜実施例（ｕ）に記
載＞。

【００９２】溶媒として、前記（製造法１−１溶媒）の
ものを同様に使用することができる。上記の反応は室温
から溶媒の沸点の温度範囲で行い、１〜２４時間で終了
する。目的化合物は反応液から常法により得ることがで
きる。

【００９３】次に、得られた一般式［ＶＩ−３］で表さ
れる化合物を塩基の存在下、一般式［ＶＩ−４］で表さ
れるジハロゲン化物と反応させ、一般式［ＶＩ］で表さ
れる本発明化合物を製造することができる＜実施例
（ｖ）及び実施例（ｗ）に記載＞。

【００９４】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、水又は前
記（製造法１−１溶媒）のものを同様に使用することが
できる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温
度範囲で行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は
反応液から常法により得ることができる。

【００９５】＜製造法６＞

【００９６】

【化２３】 （式中、Ｘ、ｍ及びＲ^３は前記と同じ意味を表す。）

【００９７】一般式［ＶＩＩ−１］で表されるアルデヒ
ド化合物を一般式［ＶＩＩ−２］で表されるグリニャー
ル化合物又は［ＶＩＩ−３］で表されるリチウム化合物
と反応させて、一般式［ＶＩＩ−４］で表される化合物
を製造することができる＜実施例（ｘ）に記載＞。

【００９８】溶媒として、例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を使用
することができる。上記の反応は、窒素雰囲気下、−３
０℃から溶媒の沸点の温度の範囲で行い、１〜２４時間
で終了する。目的化合物は反応液から常法により得るこ
とができる。

【００９９】次に、得られた一般式［ＶＩＩ−４］で表
される化合物を塩基の存在下ジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ）とオキザリルクロリドと反応させ、一般式［Ｖ
ＩＩ］で表される本発明化合物を製造することができる
＜実施例（ｘ）に記載＞。

【０１００】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、例えばジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などの含塩素
炭化水素類を使用することができる。上記の反応は−７
０℃から沸点の温度範囲で行い、１〜２４時間で終了す
る。目的化合物は反応液から常法により得ることができ
る。

【０１０１】＜製造法７＞

【０１０２】

【化２４】 （式中、Ｘ、ｍ、Ｙ、ｋ、Ｌ^１及びＬ^２は前記と同じ意
味を表す。）

【０１０３】一般式［ＶＩＩＩ−１］で表される化合物
と一般式［ＶＩＩＩ−２］で表される化合物とを反応さ
せて、一般式［ＶＩＩＩ−３］で表される化合物を製造
することができる＜実施例（ｙ）に記載＞。

【０１０４】溶媒として、前記（製造法１−１溶媒）の
ものを同様に使用することができる。上記の反応は室温
から溶媒の沸点の温度範囲で行い、１〜２４時間で終了
する。目的化合物は反応液から常法により得ることがで
きる。

【０１０５】次に、得られた一般式［ＶＩＩＩ−３］で
表される化合物を塩基の存在下、一般式［ＶＩＩＩ−
４］で表されるジハロゲン化物と反応させ、一般式［Ｖ
ＩＩＩ］で表される本発明化合物を製造することができ
る＜実施例（ｙ）に記載＞。

【０１０６】塩基として、前記（製造法１塩基）のもの
を同様に使用することができる。溶媒として、水又は前
記（製造法１−１溶媒）のものを同様に使用することが
できる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温
度範囲で行い、１〜２４時間で終了する。目的化合物は
反応液から常法により得ることができる。

【０１０７】＜製造法８＞

【０１０８】

【化２５】 （式中、Ｘ、Ｙ、ｍ及びｋは前記と同じ意味を表す。）

【０１０９】一般式［ＩＸ−１］で表される化合物に、
塩基の存在下又は非存在下、ペプチド化剤を反応させた
後、一般式［ＩＸ−２］で表される化合物又はその塩と
反応させ、一般式［ＩＸ］で表される本発明化合物を製
造することができる。＜実施例（ｚ）に記載＞ペプチド
化剤として、実施例１で使用したものを同様に使用する
ことができる。塩基として、例えばトリエチルアミン、
ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミ
ン類などを使用することができる。溶媒として、前記
（製造法１−２溶媒）のものを同様に使用することがで
きる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行
い、０．５〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液
から常法により得ることができる。又、必要に応じて再
結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。

【０１１０】

【実施例】次に、実施例をあげて本発明化合物の製造
法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化
合物の中間体又は前駆体の合成例も合わせて記載する。

【０１１１】＜製造法１の実施例＞

【０１１２】（ａ）２−（２−オキソプロピルアミノ）
イソ酪酸ベンジル（化合物［ＩＩ−３］）の製造 ２−アミノイソ酪酸ベンジル８４．４ｇ（０．４３７ｍ
ｏｌ）をＤＭＦ４００ｍｌに溶解し、トリエチルアミン
８８．４ｇ（０．８７４ｍｏｌ）及びクロロアセトン６
０．６ｇ（０．６５５ｍｏｌ）を加え、９０℃で２時間
撹拌した。放冷後、反応混合物を水中にあけ、エーテル
で２回抽出した。常法により処理して、目的物８９．１
ｇ（収率８２％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．３ （６Ｈ，ｓ） ２．０ （３Ｈ，ｓ） ２．４ （１Ｈ，ｂｓ） ３．４ （２Ｈ，ｓ） ５．１ （２Ｈ，ｓ） ７．３ （５Ｈ，ｓ）

【０１１３】（ｂ）２−［Ｎ−（２−オキソプロピル）
−Ｎ−フェニルアセチルアミノ］イソ酪酸ベンジル（化
合物［ＩＩ−４］）の製造 ２−（２−オキソプロピルアミノ）イソ酪酸ベンジル８
９．１ｇ（０．３５７ｍｏｌ）をアセトン５００ｍｌに
溶解し、これに炭酸カリウム５９．３ｇ（０．４２９ｍ
ｏｌ）を加えた。この溶液にフェニル酢酸クロリド６
０．８ｇ（０．３９３ｍｏｌ）を−１０℃で滴下した。
滴下終了後、−１０℃で１時間撹拌した後、室温で一晩
放置した。溶媒を留去し、残渣にエーテルを加えよく水
洗いし、常法により処理して、目的物１１４．５ｇ（収
率８７％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．４ （６Ｈ，ｓ） ２．１ （３Ｈ，ｓ） ３．５ （２Ｈ，ｓ） ４．１ （２Ｈ，ｓ） ５．１ （２Ｈ，ｓ） ７．２ （５Ｈ，ｂｓ） ７．３ （５Ｈ，ｓ）

【０１１４】（ｃ）２−（４−メチル−２−オキソ−３
−フェニル−３−ピロリン−１−イル）イソ酪酸（化合
物［ＩＩ−６］）の製造 ２−［Ｎ−（２−オキソプロピル）−Ｎ−フェニルアセ
チルアミノ］イソ酪酸ベンジル１１４．５ｇ（０．３１
２ｍｏｌ）をエタノール５００ｍｌに溶解し、これに９
５％ナトリウムメトキシド粉末１７．７ｇ（０．３１２
ｍｏｌ）を加え、室温で一晩放置した。反応液に、水酸
化ナトリウム１８．７ｇ（０．４６８ｍｏｌ）と水１５
０ｍｌを加え、１時間加熱還流した。エタノールを留去
後、残渣を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。水層を
とり、塩酸にてｐＨ２〜３とした。析出結晶をろ別し、
よく水洗いした後、イソプロピルエーテルで洗浄し、目
的物４７．１ｇ（収率５８％）を得た。

【０１１５】（ｄ）Ｎ−（５−クロロ−４−トリフルオ
ロメチルチアゾール−２−イル）−２−（４−メチル−
２−オキソ−３−フェニル−３−ピロリン−１−イル）
−イソ酪酸アミド（本発明化合物番号１）の製造 ２−（４−メチル−２−オキソ−３−フェニル−３−ピ
ロリン−１−イル）イソ酪酸１．０ｇ（３．９ｍｍｏ
ｌ）をアセトニトリル３０ｍｌに溶解し、２−クロロ−
１−メチルピリジニウムヨージド１．０８ｇ（４．２ｍ
ｍｏｌ）及びトリエチルアミン１．１７ｇ（１１．６ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で０．５時間撹拌した。この反応
液に、２−アミノ−５−クロロ−４−トリフルオロメチ
ルチアゾール０．７９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）とトリエチ
ルアミン０．３９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）のアセトニトリ
ル溶液を室温で滴下した後、加熱還流下、１７時間撹拌
した。反応終了後、この反応液を放冷し、アセトニトリ
ルを留去した後、残渣を水中にあけ、酢酸エチルで抽出
した。常法により処理し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→
２：１）で精製し、融点２１７〜２１９℃の目的物０．
６０ｇ（収率３４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．７ （６Ｈ，ｓ） ２．２ （３Ｈ，ｓ） ４．０ （２Ｈ，ｓ） ７．３ （５Ｈ，ｓ） ９．９〜１０．１ （１Ｈ，ｂ）

【０１１６】＜製造法２の実施例＞

【０１１７】（ｅ）２−（３−オキソブチルアミノ）イ
ソ酪酸エチル（化合物［ＩＩＩ−２］）の製造 ２−アミノイソ酪酸エチル塩酸塩５．００ｇ（２９．８
ｍｍｏｌ）にアセトニトリル３０ｍｌを加えて撹拌し、
これにトリエチルアミン３．０２ｇ（２９．８ｍｍｏ
ｌ）を加え、３０分間撹拌した。次に窒素雰囲気下、メ
チルビニルケトン２．１９ｇ（３１．３ｍｍｏｌ）を加
え、室温で２４時間撹拌した。エーテルを加えて不溶物
をろ別し、ろ液を減圧濃縮し、目的物６．００ｇ（収率
１００％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．０〜１．４ （１０Ｈ，ｍ） ２．２ （３Ｈ，ｓ） ２．７ （４Ｈ，ｍ） ４．１ （２Ｈ，ｑ）

【０１１８】（ｆ）２−（４−メチル−３−フェニル−
２−オキソ−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン
−１−イル）イソ酪酸エチル（化合物［ＩＩＩ−５］）
の製造２−（３−オキソブチルアミノ）イソ酪酸エチル
６．００ｇ（２９．８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０
ｍｌに溶解し、これにフェニルイソシアネート３．５５
ｇ（２９．８ｍｍｏｌ）を滴下して３０分間撹拌した。
溶媒を留去し、残渣をエタノール３０ｍｌに溶解し、２
５％水酸化ナトリウム水溶液を滴下してｐＨ８とし一晩
撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて中和し
た後、溶媒を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルで抽出
し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾操した後、溶媒を減圧濃縮し
た。残渣をベンゼン２０ｍｌに溶解し、さらにディ−ン
スタ−ク（脱水反応用ガラス器具）を付して、１２時間
加熱還流した。室温まで冷却した後、反応混合液をろ過
し、ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）で精製し、目的物２．９３ｇ（収率３３％）を
得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．１ （３Ｈ，ｄ） １．２ （３Ｈ，ｔ） １．５ （６Ｈ，ｓ） ４．０ （２Ｈ，ｍ） ４．１ （２Ｈ，ｑ） ４．７ （１Ｈ，ｍ） ７．２ （５Ｈ，ｍ）

【０１１９】（ｇ）２−（４−メチル−３−フェニル−
２−オキソペルヒドロピリミジン−１−イル）イソ酪酸
エチル（化合物［ＩＩＩ−６］）の製造 ２−（４−メチル−３−フェニル−２−オキソ−１，
２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル）イソ
酪酸エチル２．７５ｇ（９．０９ｍｍｏｌ）をエタノー
ル２０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、１０％パラジウム
炭素０．２０ｇを加えた後、水素ガスにて接触還元反応
を行なった。反応混合液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−
ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、屈折率（２
０℃）１．５２４９の目的物１．４４ｇ（収率５２％）
を得た。

【０１２０】（ｈ）２−（４−メチル−３−フェニル−
２−オキソペルヒドロピリミジン−１−イル）イソ酪酸
（化合物［ＩＩＩ−７］）の製造 ２−（４−メチル−３−フェニル−２−オキソペルヒド
ロピリミジン−１−イル）イソ酪酸エチル１．２７ｇ
（４．１７ｍｍｏｌ）をエタノール１５ｍｌに溶解し、
２５％水酸化ナトリウム３．３５ｇ（２０．９ｍｍｏ
ｌ）を加えて１時間加熱還流した。冷却後、溶媒を減圧
濃縮し、残渣を水２０ｍｌに溶解し、濃塩酸でｐＨ１と
した。析出した結晶をろ別して、融点２００〜２０２℃
の目的物０．８７ｇ（収率７５％）を得た。

【０１２１】（ｉ）Ｎ−（５−クロロ−４−トリフルオ
ロメチルチアゾール−２−イル）−２−（４−メチル−
２−オキソ−３−フェニルペルヒドロピリミジン−１−
イル）イソ酪酸アミド（本発明化合物番号７２）の製造 ２−（４−メチル−２−オキソ−３−フェニル−ペルヒ
ドロピリミジン−１−イル）イソ酪酸０．５０ｇ（１．
８ｍｍｏｌ）をアセトニトリル２０ｍｌに溶解し、これ
にトリエチルアミン０．８２ｇ（８．２ｍｍｏｌ）を滴
下した後、さらに２−クロロ−１−メチルピリジニウム
ヨージド０．５１ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加えて１時間
撹拌した。その後トリエチルアミン０．１８ｇ（１．８
ｍｍｏｌ）及び２−アミノ−５−クロロ−４−トリフル
オロメチルチアゾール０．３４ｇ（１．８ｍｍｏｌ）を
加え、室温で一晩放置した。溶媒を減圧濃縮し、残渣を
酢酸エチルで抽出した。有機層を水、１Ｎ−塩酸、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液
の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾操した。
溶媒を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で
精製し、融点８７〜９０℃の目的物０．５１ｇ（収率６
１％）を得た。

【０１２２】＜製造法３の実施例＞

【０１２３】（ｊ）Ｎ−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−Ｎ−（３−オキソブチル）アミン
（化合物［ＩＶ−２］）の製造 ３，５−ジクロロ−α，α−ジメチルベンジルアミン１
０ｇ（４９ｍｍｏｌ）にメチルビニルケトン３．４ｇ
（４９ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、２４時間放置
して、目的物１３．４ｇ（収率１００％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．４ （６Ｈ，ｓ） １．７ （１Ｈ，ｂ） ２．１ （３Ｈ，ｓ） ２．５ （４Ｈ，ｓ） ７．１〜７．４ （３Ｈ，ｍ）

【０１２４】（ｋ）１−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−４−メチル−３−フェニル−１，
２，３，６−テトラヒドロピリミジン−２−オン（前駆
体番号４；表１５参照）の製造 実施例（ｊ）で得られたＮ−（３，５−ジクロロ−α，
α−ジメチルベンジル）−Ｎ−（３−オキソブチル）ア
ミン６．５８ｇ（２４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０
０ｍｌに溶解し、室温でフェニルイソシアネート２．８
６ｇ（２４ｍｍｏｌ）を滴下した後、１時間撹拌した。
溶媒を減圧下にて留去し、残渣をエタノール５０ｍｌに
溶解し、２５％水酸化ナトリウム水溶液を滴下してｐＨ
８に調整し、一晩撹拌した。塩化アンモニウム水溶液を
加え中和した後、溶媒を減圧下にて留去し、残渣を酢酸
エチルで抽出し、常法により処理した後、溶媒を減圧下
にて留去した。更に、この残渣をベンゼン５０ｍｌに溶
解し、ディーンスタークを付して１０時間加熱還流し、
脱水反応を行なった。反応終了後、放冷し、反応液を減
圧下にて濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製
し、融点１４７〜１４８℃の目的物２．８８ｇ（収率３
２．４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．５ （３Ｈ，ｄ） １．６ （６Ｈ，ｓ） ３．９〜４．１ （２Ｈ，ｍ） ４．７〜４．９ （１Ｈ，ｍ） ７．１〜７．３ （８Ｈ，ｍ） （ｋ）と同様の操作を行い、得られた前駆体の具体例を
表１５に示す。

【０１２５】

【表１５】

【０１２６】（ｌ）１−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−４−メチル−２−オキソ−３−フ
ェニルペルヒドロピリミジン（本発明化合物番号８１）
の製造 １−（３，５−ジクロロ−α，α−ジメチルベンジル）
−４−メチル−２−オキソ−３−フェニル−１，２，
３，６−テトラヒドロピリミジン０．６２ｇ（１．７ｍ
ｍｏｌ）をメタノール４０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気
下、１０％パラジウム炭素０．１ｇを加えた後、水素ガ
スにて接触還元反応を行なった。反応後、パラジウム炭
素をろ別し、メタノールを減圧下にて留去した後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、融点１１１〜１１
３℃の目的物０．２２ｇ（収率３４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．２ （３Ｈ，ｄ） １．６ （６Ｈ，ｓ） １．８〜２．３ （２Ｈ，ｍ） ３．４〜３．７ （２Ｈ，ｍ） ３．８〜４．１ （１Ｈ，ｍ） ７．０〜７．２ （８Ｈ，ｍ）

【０１２７】＜製造法４の実施例＞

【０１２８】（ｍ）１−アセチル−２−メトキシカルボ
ニル−２−フェニルヒドラジン（化合物［Ｖ−２］）の
製造 １−アセチル−２−フェニルヒドラジン１１３．２ｇ
（７５４ｍｍｏｌ）をトルエン５００ｍｌに溶解し、加
熱還流下、クロロ炭酸メチル７１．３ｇ（７５４ｍｍｏ
ｌ）を徐々に滴下した。滴下終了後、更に２時間還流さ
せた。反応終了後、溶媒を留去し、析出した結晶をイソ
プロピルアルコール、ｎ−ヘキサンで洗浄し、目的物１
４８．２ｇ（収率９４．４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） ２．０ （３Ｈ，ｓ） ３．７ （３Ｈ，ｓ） ７．１〜７．４ （５Ｈ，ｍ） １０．０〜１０．２ （１Ｈ，ｂ）

【０１２９】（ｎ）１−アセチル−１−メチル−２−メ
トキシカルボニル−２−フェニルヒドラジン（化合物
［Ｖ−３］）の製造 実施例（ｍ）で得た１−アセチル−２−メトキシカルボ
ニル−２−フェニルヒドラジン７０ｇ（３３６ｍｍｏ
ｌ）をＤＭＦ５００ｍｌに溶解し、６０％水素化ナトリ
ウム１４．８ｇ（３７０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ懸濁液に滴
下した後、室温で１時間撹拌した。この反応液にヨウ化
メチル４７．７ｇ（３３６ｍｍｏｌ）を滴下し室温で２
時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽
出し、２Ｎ−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、及
び飽和食塩水で洗浄し、常法により処理し、目的物５
４．０ｇ（収率７２．４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） ２．０ （３Ｈ，ｓ） ３．１ （３Ｈ，ｓ） ３．８ （３Ｈ，ｓ） ７．２〜７．３ （５Ｈ，ｍ）

【０１３０】（ｏ）１−メチル−２−メトキシカルボニ
ル−２−フェニルヒドラジン（化合物［Ｖ−４］）の製
造 実施例（ｎ）で得た１−アセチル−１−メチル−２−メ
トキシカルボニル−２−フェニルヒドラジン５４ｇ（２
４３ｍｍｏｌ）を１０％硫酸３００ｍｌに懸濁させ、４
時間加熱還流させた。反応終了後、氷水にあけ１０％水
酸化ナトリウム水溶液で中性に調整し、酢酸エチルで抽
出した。常法により処理し、目的物２２．７ｇ（収率５
２．０％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ３．８ （３Ｈ，ｓ） ４．６〜５．１ （１Ｈ，ｂ） ７．１〜７．５ （５Ｈ，ｍ）

【０１３１】（ｐ）１−クロロアセチル−１−メチル−
２−メトキシカルボニル−２−フェニルヒドラジン（化
合物［Ｖ−５］）の製造 実施例（ｏ）で得た１−メチル−２−メトキシカルボニ
ル−２−フェニルヒドラジン２５．５ｇ（１４１ｍｍｏ
ｌ）をジクロロメタン２００ｍｌに溶解し、トリエチル
アミン１４．３ｇ（１４１ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下、
クロロアセチルクロリド１６．０ｇ（１４１ｍｍｏｌ）
を徐々に滴下した後、室温で３時間撹拌した。反応終了
後、氷水にあけジクロロメタンで抽出し、常法により処
理した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、目的
物３１．２ｇ（収率８６．２％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） ３．２ （３Ｈ，ｓ） ３．８ （３Ｈ，ｓ） ４．１ （２Ｈ，ｓ） ７．１〜７．３ （５Ｈ，ｍ）

【０１３２】（ｑ）１−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジルアミノアセチル）−１−メチル−２−
メトキシカルボニル−２−フェニルヒドラジン（化合物
［Ｖ−７］）の製造 実施例（ｐ）で得た１−クロロアセチル−１−メチル−
２−メトキシカルボニル−２−フェニルヒドラジン６．
９ｇ（２７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、ト
リエチルアミン２．７４ｇ（２７ｍｍｏｌ）及び３，５
−ジクロロ−α，α−ジメチルベンジルアミン５．５１
ｇ（２７ｍｍｏｌ）を加え７０℃で１１時間撹拌した。
反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。常法に
より処理し、目的物９．５ｇ（収率８３％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．４ （６Ｈ，ｓ） ２．７〜２．９ （１Ｈ，ｂ） ３．１ （３Ｈ，ｓ） ３．３ （２Ｈ，ｓ） ３．８ （３Ｈ，ｓ） ６．８〜７．３ （８Ｈ，ｍ）

【０１３３】（ｒ）１−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジルアミノアセチル）−１−メチル−２−
フェニルヒドラジン（化合物［Ｖ−８］）の製造 実施例（ｑ）で得た１−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジルアミノアセチル）−１−メチル−２−
メトキシカルボニル−２−フェニルヒドラジン９．５ｇ
（２２ｍｍｏｌ）をメタノール／水（５０ｍｌ／５０ｍ
ｌ）に溶解し、氷冷下、水酸化ナトリウム０．８８ｇ
（２２ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で２４時間撹拌し
た。反応終了後、メタノールを留去した後、２Ｎ塩酸で
酸性にし、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でアル
カリ性にした後、酢酸エチルで抽出した。常法により処
理し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ
−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→１：２）で精製し、
融点１２７〜１２８℃の目的物１．７７ｇ（収率２２．
０％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．４ （６Ｈ，ｓ） ２．５〜２．８ （１Ｈ，ｂ） ３．１ （３Ｈ，ｓ） ３．３ （２Ｈ，ｓ） ５．４〜５．７ （１Ｈ，ｂ） ６．４〜７．４ （８Ｈ，ｍ）

【０１３４】（ｓ）１−［２−（３，５−ジクロロ−
α，α−ジメチルベンジルアミノ）エチル］−１−メチ
ル−２−フェニルヒドラジン（化合物［Ｖ−９］）の製
造 リチウムアルミニウムヒドリド０．３１ｇ（８．２ｍｍ
ｏｌ）を加えたテトラヒドロフラン懸濁液に、実施例
（ｒ）で得た１−（３，５−ジクロロ−α，α−ジメチ
ルベンジルアミノアセチル）−１−メチル−２−フェニ
ルヒドラジン１．５ｇ（４．１ｍｍｏｌ）のテトラヒド
ロフラン５０ｍｌ溶液を室温で滴下した後、加熱還流
下、４時間撹拌した。反応終了後、この反応溶液を放冷
し、水を徐々に加え、ろ過した後、酢酸エチルで抽出し
た。常法により処理し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で
精製し、目的物０．８９ｇ（収率６２％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．９ （６Ｈ，ｓ） ２．５ （３Ｈ，ｓ） ２．３〜２．８ （４Ｈ，ｍ） ２．９〜３．８ （１Ｈ，ｂ） ５．０〜５．７ （１Ｈ，ｂ） ６．７〜７．４ （８Ｈ，ｍ）

【０１３５】（ｔ）４−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−１−メチル−３−オキソ−２−フ
ェニルペルヒドロ−１，２，４−トリアジン（本発明化
合物番号１０２）の製造 活性炭のジクロロメタン懸濁液にジホスゲン０．７９ｇ
（４．０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。
この反応液をろ別し、ろ液を１−［２−（３，５−ジク
ロロ−α，α−ジメチルベンジルアミノ）エチル］−１
−メチル−２−フェニルヒドラジン０．７ｇ（２．０ｍ
ｍｏｌ）及びトリエチルアミン１．２１ｇ（１２．０ｍ
ｍｏｌ）のジクロロメタン溶液に滴下し、室温で１時間
撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、ジクロロメタン
で抽出し、常法により処理した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）で精製し、融点１０２〜１０３℃の目的物０．
２９ｇ（収率３８％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．７ （６Ｈ，ｓ） ２．８ （３Ｈ，ｓ） ３．３ （２Ｈ，ｔ） ３．６ （２Ｈ，ｔ） ７．０〜７．４ （８Ｈ，ｍ）

【０１３６】＜製造法５の実施例＞

【０１３７】（ｕ）１−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−３−ヒドロキシ−３−フェニルウ
レア（化合物［ＶＩ−３］）の製造 Ｎ−フェニルヒドロキシアミン１．２ｇ（１１．０ｍｍ
ｏｌ）をベンゼン３０ｍｌに溶解し、３，５−ジクロロ
−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート３．８４ｇ
（１７．０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温にて１時間撹拌し
た。析出した結晶をろ別しｎ−ヘキサンで洗浄して、目
的物３．０１ｇ（収率５２．４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．６ （６Ｈ，ｓ） ６．３ （１Ｈ，ｂ） ６．９ （１Ｈ，ｓ） ７．１〜７．３ （８Ｈ，ｍ）

【０１３８】（ｖ）４−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−３−オキソ−２−フェニルー１，
２，４−オキサジアゾリジン（本発明化合物番号１１
５）の製造 １−（３，５−ジクロロ−α，α−ジメチルベンジル）
−３−ヒドロキシ−３−フェニルウレア０．９６ｇ
（２．８ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２０ｍｌに溶解し、これを
６０％水素化ナトリウム０．２５ｇ（６．１ｍｍｏｌ）
のＤＭＦ懸濁液に滴下した後、室温にて１時間撹拌し
た。この反応液にクロロブロモメタン０．４２ｇ（３．
２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液を滴下し、５０℃で２時間撹
拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出し、
常法により処理した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１→８：
１）で精製し、融点１０２〜１０３℃の目的物７０ｍｇ
（収率７．１％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．７ （６Ｈ，ｓ） ５．１ （２Ｈ，ｓ） ７．０〜７．５ （８Ｈ，ｍ）

【０１３９】（ｗ）４−（３，５−ジクロロ−α，α−
ジメチルベンジル）−３−オキソ−２−フェニルペルヒ
ドロ−１，２，４−オキサジアジン（本発明化合物番号
１１６）の製造 １−（３，５−ジクロロ−α，α−ジメチルベンジル）
−３−ヒドロキシ−３−フェニルウレア１．０ｇ（２．
９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２０ｍｌに溶解し、これを６０％
水素化ナトリウム０．２５ｇ（６．３ｍｍｏｌ）のＤＭ
Ｆ懸濁液に滴下した後、室温にて１時間撹拌した。この
反応液に１−クロロ−２−ブロモエタン０．６２ｇ
（４．４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液を滴下し、８０℃で６
時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽
出し、常法により処理した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１
→４：１）で精製し、融点１２５〜１２７℃の目的物
０．１５ｇ（収率１４％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．７ （６Ｈ，ｓ） ３．６ （２Ｈ，ｔ） ４．３ （２Ｈ，ｔ） ７．０〜７．５ （８Ｈ，ｍ）

【０１４０】＜製造法６の実施例＞

【０１４１】（ｘ）１−［１−メチル−１−（２−テノ
イル）エチル］−４−メチル−２−オキソ−３−フェニ
ル−３−ピロリン（本発明化合物番号１３０）の製造 ２−（４−メチル−２−オキソ−３−フェニル−３−ピ
ロリン−１−イル）イソブチルアルデヒド２．０ｇ
（８．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶
解し、窒素雰囲気下、室温で２−ブロモチオフェン２．
７ｇ（１７ｍｍｏｌ）とマグネシウム０．５ｇ（２１ｍ
ｍｏｌ）より調整した溶液を滴下した。一晩放置した
後、反応液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。常法により処理して、２．５ｇの油状物
を得た。次に、オキザリルクロリド１．１ｇ（８．７ｍ
ｍｏｌ）のジクロロメタン３０ｍｌ溶液に、−６０℃で
ジメチルスルホキシド０．７ｇ（９．０ｍｍｏｌ）のジ
クロロメタン１ｍｌ溶液を滴下し、−６０℃で５分撹拌
した。続いて、上記油状物のジクロロメタン２０ｍｌ溶
液を−６０℃で滴下した。滴下後、３０分撹拌し、さら
にトリエチルアミン４．０ｇ（４０ｍｍｏｌ）を滴下し
た。滴下後、徐々に室温に戻した後、溶媒を留去し、酢
酸エチルで抽出した。常法により処理して、融点１８８
〜１９１℃の目的物０．５ｇ（収率１９％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．６ （６Ｈ，ｓ） ２．３ （３Ｈ，ｓ） ４．１ （２Ｈ，ｓ） ７．０ （１Ｈ，ｍ） ７．２〜７．５ （６Ｈ，ｍ） ７．８ （１Ｈ，ｄｄ）

【０１４２】＜製造法７の実施例＞

【０１４３】（ｙ）１−（３−クロロ−α，α−ジメチ
ルベンジル）−３−フェニル−１，３−ペルヒドロジア
ゼピン−２−オン（本発明化合物番号２０９）の製造 反応フラスコに３−クロロ−α，α−ジメチルベンジル
アミン１．６９ｇ及びイソプロピルエーテル１０ｍｌを
入れ、室温にてフェニルイソシアネート１．１９ｇを加
え、室温にて２時間撹拌した。反応終了後、析出した結
晶をろ取し、１−（３−クロロ−α，α−ジメチルベン
ジル）−３−フェニルウレア２．７０ｇ（収率９４％）
を得た。

【０１４４】次に、得られた１−（３−クロロ−α，α
−ジメチルベンジル）−３−フェニルウレア２．０ｇ、
ＤＭＦ１５ｍｌ、６０％水素化ナトリウムを反応フラス
コに入れ、室温で３０分間撹拌した後、１，４−ジクロ
ロブタン０．８８ｇを加え、室温にて１時間撹拌した。
さらに９０℃にて２時間撹拌した。反応終了後、反応液
を減圧濃縮し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧
濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ
−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、目的物
０．９０ｇ（収率３８％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．７０ （６Ｈ，ｓ） １．６７ （４Ｈ，ｍ） ３．１６ （２Ｈ，ｍ） ３．７８ （２Ｈ，ｍ） ７．００〜７．５０（９Ｈ，ｍ）

【０１４５】＜製造法８の実施例＞

【０１４６】（ｚ）Ｎ−（チアゾール−２−イル）−２
−〔６−メチル−４−オキソ−５−（２−フルオロ−フ
ェニル）−２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジ
ン−３−イル〕イソ酪酸アミド（本発明化合物番号２１
８）の製造 ２−（６−メチル−４−オキソ−５−フェニル−２，３
−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル）イ
ソ酪酸１．００ｇ（３．４１ｍｍｏｌ）にアセトニトリ
ル４０ｍｌを加え、これにトリエチルアミン１．３８ｇ
（１３．６ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに２−クロロ−１
−メチルピリジニウムヨージド０．９６ｇ（３．７５ｍ
ｍｏｌ）を加えて１時間撹拌した。その後トリエチルア
ミン０．３４ｇ（３．４１ｍｍｏｌ）及び２−アミノチ
アゾール０．３４ｇ（３．４１ｍｍｏｌ）を加え、室温
で一晩放置した。溶媒を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル
で抽出した。有機層を水、１Ｎ−塩酸、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾操させた。溶媒を減
圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、
融点１６３〜１６４℃の目的物０．８４ｇ（収率６６
％）を得た。 ＮＭＲデ−タ（６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３溶媒，δ値：ｐ
ｐｍ） １．６ （６Ｈ，ｓ） １．９ （３Ｈ，ｓ） ５．３ （２Ｈ，ｓ） ６．８〜７．４ （６Ｈ，ｍ） ９．９ （１Ｈ，ｂｓ）

【０１４７】本発明の除草剤は、一般式［Ｉ］で示され
る環状アミド誘導体を有効成分としてなる。

【０１４８】本発明化合物を除草剤として使用するには
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤
等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤
等に製剤して使用することもできる。

【０１４９】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシ
ウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプ
ロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチル
ナフタレン等の液体担体等があげられる。

【０１５０】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩ホルマリン縮合物、リグニンス
ルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられ
る。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロー
ス、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげら
れる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか
または直接施用する。

【０１５１】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用また
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０．０５〜２０％（重量）、好
ましくは０．１〜１０％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は０．５〜５
０％（重量）、好ましくは１〜３０％（重量）の範囲か
ら適宜選ぶのがよい。

【０１５２】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜１ｋｇ、好ましくは１ｇ〜５００ｇの範囲か
ら適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合
のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００
ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲か
ら適宜選ぶのがよい。

【０１５３】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。

【０１５４】次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。

【０１５５】〈製剤例１〉 水和剤 化合物（１２９）の１０部にポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土
の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得
る。 〈製剤例２〉 水和剤 化合物（８１）の１０部にポリオキシエチレンオクチル
フェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の
２０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を混
合粉砕し、水和剤を得る。 〈製剤例３〉 水和剤 化合物（８４）の１０部にポリオキシエチレンオクチル
フェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の
２０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの６
４部を混合粉砕し、水和剤を得る。 〈製剤例４〉 乳剤 化合物（８５）の３０部にキシレンとイソホロンの等量
混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタ
ンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリール
ポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の
１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳
剤を得る。 〈製剤例５〉 粒剤 化合物（２０７）の１０部、タルクとベントナイトを
１：３の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカー
ボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタン
アルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポ
リマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５
部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたもの
を直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後
に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。

【０１５６】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。

【０１５７】〈試験例１〉 水田湛水処理による除草効
果試験 １００ｃｍ^２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｃ）、コナギ（Ｍｏ）及び
ホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水
した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希
釈し、水面に滴下処理した。施用量は、有効成分を１０
アール当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、
処理後２１日目に表１６の基準に従って除草効果を調査
した。結果を表１７〜表２１に示す。

【０１５８】

【表１６】

【０１５９】

【表１７】

【０１６０】

【表１８】

【０１６１】

【表１９】

【０１６２】

【表２０】

【０１６３】

【表２１】

【０１６４】〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効
果試験 １２０ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、ヒエ
（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、アオビユ（Ａｍ）、コゴ
メガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種して覆土した。製剤
例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１０アール
当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り１
００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その
後、温室内で育成し、処理２１日目に表１６の基準に従
って、除草効果を調査した。結果を表２２〜表２６に示
す。

【０１６５】

【表２２】

【０１６６】

【表２３】

【０１６７】

【表２４】

【０１６８】

【表２５】

【０１６９】

【表２６】

【０１７０】〈試験例３〉 畑地茎葉処理による除草効
果試験 １２０ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、ヒエ
（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、アオビユ（Ａｍ）、コゴ
メガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種し、温室内で２週間
育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈
し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１
０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から
全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処
理１４日目に表１６の基準に従って、除草効果を調査し
た。結果を表２７〜表２８に示す。

【０１７１】

【表２７】

【０１７２】

【表２８】

【０１７３】〈試験例４〉 水田湛水処理による作物選
択性試験 １００ｃｍ^２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｃ）、コナギ（Ｍｏ）及び
ホタルイ（Ｓｃ）の各種子を０．５ｃｍの深さに播種
し、さらに２葉期の水稲（Ｏｒ）を移植深度２ｃｍで２
本移植し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準
じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０
ａ）を水で希釈し、水面に滴下処理した。その後、温室
内で育成し、処理後２８日目に表１６の基準に従って除
草効果を調査した。結果を表２９〜表３４に示す。

【０１７４】

【表２９】

【０１７５】

【表３０】

【０１７６】

【表３１】

【０１７７】

【表３２】

【０１７８】

【表３３】

【０１７９】

【表３４】

【０１８０】〈試験例５〉 畑地土壌処理による作物選
択性試験 ６００ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、イネ
（Ｏｒ）、コムギ（Ｔｒ）、食用ビエ（Ｅｃ）、メヒシ
バ（Ｄｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、ジョンソングラス
（Ｓｏ）の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例１
に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／
１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り散布水量１００
ｌで小型噴霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。そ
の後、温室内で育成し、処理後２１日目に表１６の基準
に従って除草効果を調査した。試験結果を表３５に示
す。

【０１８１】

【表３５】

【０１８２】〈試験例６〉 畑地土壌処理による作物選
択性試験 ６００ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、ダイズ
（Ｇｌ）、ワタ（Ｇｏ）、ビート（Ｂｅ）、食用ビエ
（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、
ジョンソングラス（Ｓｏ）の各種子を播種して覆土し
た。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効
成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール
当り散布水量１００ｌで小型噴霧器を用いて土壌表面に
均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後２１
日目に表１６の基準に従って除草効果を調査した。試験
結果を表３６〜３７に示す。

【０１８３】

【表３６】

【０１８４】

【表３７】

【０１８５】〈試験例７〉 畑地茎葉処理による作物選
択性試験 ６００ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、ダイズ
（Ｇｌ）、ワタ（Ｇｏ）、ビート（Ｂｅ）、食用ビエ
（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、
ジョンソングラス（Ｓｏ）の各種子を播種して覆土し、
温室内で２週間育成した。その後、製剤例１に準じて調
製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を
水で希釈し、１０アール当り散布水量１００ｌで小型噴
霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。その後、温室
内で育成し、処理後１４日目に表１６の基準に従って除
草効果を調査した。試験結果を表３８に示す。

【０１８６】

【表３８】

【０１８７】

【発明の効果】一般式［Ｉ］で表される本発明の化合物
は、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ
等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツ
リ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑
草を低薬量で防除することができる。同時にイネに対し
て高い安全性を有するものである。また畑地において問
題となる種々の雑草、例えばヒエ、メヒシバ、エノコロ
グサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメ
ノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草をはじめ、ハ
マスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメ
ガヤツリ等の多年生および一年生カヤツリグサ科雑草、
オオイネタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ等の広葉雑草
に対し、土壌処理および茎葉処理で優れた除草活性を示
し、雑草の発生前から生育期の広い期間にわたって雑草
の発生を抑制することができる。そして作物に対する安
全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロ
コシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタおよびビート等
に対して高い安全性を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/54 Ａ０１Ｎ 43/54 Ｆ 43/56 43/56 Ａ 43/707 43/707 43/76 43/76 43/78 43/78 Ｄ １０１ １０１ 43/80 １０１ 43/80 １０１ 43/836 43/86 １０１ 43/86 １０１ 43/88 １０２ 43/88 １０２ Ｃ０７Ｄ 239/10 Ｃ０７Ｄ 239/10 243/04 243/04 247/02 247/02 253/06 Ｂ 253/06 271/06 271/06 273/04 273/04 403/12 ２０７ 403/12 ２０７ 405/12 ２０７ 405/12 ２０７ 409/12 ２０７ 409/12 ２０７ 413/12 ２０７ 413/12 ２０７ 417/12 ２０７ 417/12 ２０７ ２３９ ２３９ ２６５ ２６５ Ａ０１Ｎ 43/82 １０４ (72)発明者 柴山 淳 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 山口 幹夫 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 柳沢 克忠 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 小川 安則 静岡県掛川市掛川1138番地の58 (72)発明者 佐土原 英雄 埼玉県新座市堀ノ内２丁目９番地の３

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［Ｉ］ 【化１】 ｛式中、−Ａ−Ｂ−は基−Ｎ−ＣＨ（ＣＨ_３）−、基−
   Ｎ−Ｎ（ＣＨ_３）−、基−Ｎ−Ｏ−、基−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ
   _３）−、基−Ｎ−ＣＨ_２−又は−Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−Ｏ
   −を表し、Ｘは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン
   原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハ
   ロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ
   基、アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシ
   カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、ホルミル基、
   アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメ
   チルアミノ基を表し、ｍは１又は２の整数を表し、ｎは
   １〜３の整数を表し、Ｒ^１は式 【化２】 ［式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロ
   アルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ基、
   アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシカル
   ボニル基、フェニル基、アルコキシカルボニルアルキル
   基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又は
   ジメチルアミノ基を表し、ｋは１〜５の整数を表し、Ｒ
   ^２は式 【化３】 ［式中、Ｙ及びｋは前記と同一の意味を表し、Ｚは硫黄
   原子、酸素原子又は式−ＮＲ^４（式中、Ｒ^４は水素原
   子、アルキル基又はハロアルキル基を表す。）を表し、
   Ｄは窒素原子又は式−ＣＲ^５（式中、Ｒ^５は水素原子、
   ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルス
   ルホニル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、ア
   シル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチ
   ルアミノ基を表す。）を表す。］を表し、Ｒ^３はアルキ
   ル基、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ヒドロキシ
   基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル
   基、アルキニル基、シクロアルキル基（該基はハロゲン
   原子もしくはアルキル基で置換されていても良い）、シ
   クロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキルアルキル
   基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキル基又は式
   −Ｒ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一の意味を表す。）を表
   す。］を表す。但し、−Ａ−Ｂ−が基−Ｃ＝Ｃ（Ｃ
   Ｈ_３）−又は基−Ｎ−ＣＨ_２−を表す場合、Ｒ^１は式 【化４】 ［式中、Ｙ、ｋ及びＲ^２は前記と同一の意味を表す。但
   し、Ｒ^１がＹｋ（Ｙ及びｋは前記と同一の意味を表
   す。）の置換基を持つフェニル基の場合、ｎは整数３を
   表す。Ｒ^３はハロアルキル基、アルケニル基、ハロアル
   ケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基（該基はハ
   ロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていても良
   い）、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキル
   アルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキル
   基又は式−Ｒ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一の意味を表
   す。）を表す。］を表し、−Ａ−Ｂ−が基−Ｃ＝Ｃ（Ｃ
   Ｈ_３）−Ｏ−を表す場合、ｍ及びｎは共に整数１を表
   し、Ｒ^１は式−ＣＯＮＨＲ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一
   の意味を表す。）を表す。｝で示される環状アミド誘導
   体。
2. 【請求項２】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｎ−ＣＨ（ＣＨ_３）−、基−Ｎ−Ｎ（ＣＨ_３）−又は基
   −Ｎ−Ｏ−を表す請求項１記載の環状アミド誘導体。
3. 【請求項３】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−又は基−Ｎ−ＣＨ_２−を表し、Ｒ^１
   が式 【化５】 ［式中、Ｙ、ｋ及びＲ^２は請求項１記載と同一の意味を
   表す。但し、Ｒ^１がＹｋ（Ｙ及びｋは前記と同一の意味
   を表す。）の置換基を持つフェニル基の場合、ｎは整数
   ３を表す。Ｒ^３はハロアルキル基、アルケニル基、ハロ
   アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基（該基
   はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていても
   良い）、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキ
   ルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキ
   ル基又は式−Ｒ^２（式中、Ｒ^２は前記と同一の意味を表
   す。）を表す。］を表す請求項１記載の環状アミド誘導
   体。
4. 【請求項４】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｎ−ＣＨ（ＣＨ_３）−を表し、Ｘが水素原子、ハロゲン
   原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロアルキル基を
   表し、ｍが整数１を表し、ｎが整数２を表し、Ｒ^１が式 【化６】 ［式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はハ
   ロアルコキシ基を表し、ｋは１〜５の整数を表し、Ｒ^２
   は式 【化７】 （式中、Ｙ及びｋは前記と同一の意味を表す。）を表
   し、Ｒ^３はアルコキシ基を表す。］を表す請求項２記載
   の環状アミド誘導体。
5. 【請求項５】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｎ−Ｎ（ＣＨ_３）−を表し、Ｘが水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はア
   ルキルチオ基を表し、ｍが整数１を表し、ｎが整数２を
   表し、Ｒ^１が式 【化８】 （式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハ
   ロアルキル基を表し、ｋは１〜５の整数を表す。）を表
   す請求項２記載の環状アミド誘導体。
6. 【請求項６】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｎ−Ｏ−を表し、Ｘが水素原子、ハロゲン原子、アルキ
   ル基、ハロアルキル基又はアルコキシ基を表し、ｍが整
   数１を表し、ｎが１又は２の整数を表し、Ｒ^１が式 【化９】 （式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基又はアルコキシ基を表
   し、ｋは１〜５の整数を表す。）を表す請求項２記載の
   環状アミド誘導体。
7. 【請求項７】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−を表し、ｎが整数１を表し、Ｒ^１が
   式−ＣＯＮＨＲ^２｛式中、Ｒ^２は式 【化１０】 ［式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、フェ
   ニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロアルコキシ基、アル
   コキシカルボニル基又はアルコキシカルボニルアルキル
   基を表し、ｋは１〜４の整数を表し、Ｚは硫黄原子、酸
   素原子又は式−ＮＲ^４（式中、Ｒ^４は水素原子又はアル
   キル基を表す。）を表し、Ｄは窒素原子又は式−ＣＲ^５
   （式中、Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基
   又はアルコキシカルボニル基を表す。）を表す。］を表
   す。｝を表す請求項３記載の環状アミド誘導体。
8. 【請求項８】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−を表し、ｎが整数１を表し、Ｒ^１が
   式−ＣＯＲ^３［式中、Ｒ^３はアルケニル基、ハロアルケ
   ニル基、シクロアルキル基（該基はハロゲン原子もしく
   はアルキル基で置換されていても良い）、シクロアルキ
   ルアルキル基、チエニル基又はチアゾール基を表す。］
   を表す請求項３記載の環状アミド誘導体。
9. 【請求項９】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基−
   Ｎ−ＣＨ_２−を表し、ｎが１〜３の整数を表す請求項３
   記載の環状アミド誘導体。但し、Ｒ^１がＹｋ（Ｙ及びｋ
   は請求項３記載と同一の意味を表す。）の置換基を持つ
   フェニル基の場合、ｎは整数３を表す。
10. 【請求項１０】一般式［Ｉ］において、Ｒ^１が式 【化１１】 （式中、Ｙ、ｋ及びＲ^３は請求項２記載と同一の意味を
    表す。）を表す請求項２記載の環状アミド誘導体。
11. 【請求項１１】一般式［Ｉ］において、Ｒ^１が式 【化１２】 （式中、Ｙ、ｋ及びＲ^３は請求項３記載と同一の意味を
    表す。）を表す請求項３記載の環状アミド誘導体。但
    し、Ｒ^１がＹｋ（Ｙ及びｋは請求項３記載と同一の意味
    を表す。）の置換基を持つフェニル基の場合、ｎは整数
    ３を表す。
12. 【請求項１２】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基
    −Ｎ−ＣＨ（ＣＨ_３）−を表し、Ｘが水素原子、ハロゲ
    ン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロアルキル基
    を表し、ｍが整数１を表し、ｎが整数２を表し、Ｒ^１が
    式 【化１３】 （式中、Ｙは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原
    子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はハ
    ロアルコキシ基を表し、ｋは１〜５の整数を表し、Ｒ^３
    がアルコキシ基を表す。）を表す請求項２記載の環状ア
    ミド誘導体。
13. 【請求項１３】一般式［Ｉ］において、−Ａ−Ｂ−が基
    −Ｃ＝Ｃ（ＣＨ_３）−Ｏ−を表し、ｍ及びｎが共に整数
    １を表し、Ｒ^１が式−ＣＯＮＨＲ^２（式中、Ｒ^２は請求
    項１記載と同一の意味を表す。）を表す請求項１記載の
    環状アミド誘導体。
14. 【請求項１４】請求項１、請求項２、請求項３、請求項
    ４、請求項５、請求項６、請求項７、請求項８、請求項
    ９、請求項１０、請求項１１、請求項１２又は請求項１
    ３に記載の環状アミド誘導体を有効成分として含有する
    除草剤。