JPH03100404A - パターン残り検査装置 - Google Patents
パターン残り検査装置Info
- Publication number
- JPH03100404A JPH03100404A JP1238488A JP23848889A JPH03100404A JP H03100404 A JPH03100404 A JP H03100404A JP 1238488 A JP1238488 A JP 1238488A JP 23848889 A JP23848889 A JP 23848889A JP H03100404 A JPH03100404 A JP H03100404A
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- JP
- Japan
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- pattern
- mask
- inter
- remaining
- circuit
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- Pending
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はパターン残り検査装置に関する。
従来の技術としては、例えば、［武藤、安藤、“プリン
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、２９巻、２号
、８７〜９６頁、１９８２年］に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン残り検査装置がある。
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、２９巻、２号
、８７〜９６頁、１９８２年］に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン残り検査装置がある。
従来のパターン残り検査装置について図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第５図は従来の一例を示す模式図である。
第５図に示すパターン残り検査装置は、放射状伸びた８
つの測長センサＭＯ〜Ｍ７によりパターン部が途切れる
までの画素数を数えて、それぞれの測長値とし、対向す
る測長センサの測長値の和（ＭＯ＋Ｍ４．Ｍ１＋Ｍ５．
Ｍ２＋Ｍ６．Ｍ３＋Ｍ７）がすべてパターン幅許容値よ
り小さい場合にパターン残り不良として検出する。
つの測長センサＭＯ〜Ｍ７によりパターン部が途切れる
までの画素数を数えて、それぞれの測長値とし、対向す
る測長センサの測長値の和（ＭＯ＋Ｍ４．Ｍ１＋Ｍ５．
Ｍ２＋Ｍ６．Ｍ３＋Ｍ７）がすべてパターン幅許容値よ
り小さい場合にパターン残り不良として検出する。
上述した従来のパターン残り検査装置は、パターン間隔
の狭い位置でのパターン残りを不良として検出し、パタ
ーン間隔の広い位置ではパターン残り不良として検出せ
ず、すべてのパターン残りを検出するため、検出した不
良箇所が膨大になるので作業者による再確認が必要とな
るという欠点があった。
の狭い位置でのパターン残りを不良として検出し、パタ
ーン間隔の広い位置ではパターン残り不良として検出せ
ず、すべてのパターン残りを検出するため、検出した不
良箇所が膨大になるので作業者による再確認が必要とな
るという欠点があった。
本発明のパターン残り検査装置は、
（Ａ）検査対象パターンを光電変換スキャナで走査し、
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像にあら
かじめ設定された寸法のパターン残り検出マスクをラス
タースキャンに同期して走査し、前記パターン残り検出
マスクの中心部がパターン上にあり、かつ前記パターン
残り検出マスク上のすべての点がパターン上にない場合
にパターン残りとして検出するパターン残り検出回路、 （Ｃ）前記パターン残り検出回路で検出された位置で、
前記パターン残り検出マスクよりあらかじめ設定した寸
法だけ大きいパターン間距離測定マスクを走査して、前
記パターン間距離測定マスク上の対向する２点がパター
ン上にある場合に、パターン残り不良として検出するパ
ターン間距離検査回路、 とを含んで構成される。
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像にあら
かじめ設定された寸法のパターン残り検出マスクをラス
タースキャンに同期して走査し、前記パターン残り検出
マスクの中心部がパターン上にあり、かつ前記パターン
残り検出マスク上のすべての点がパターン上にない場合
にパターン残りとして検出するパターン残り検出回路、 （Ｃ）前記パターン残り検出回路で検出された位置で、
前記パターン残り検出マスクよりあらかじめ設定した寸
法だけ大きいパターン間距離測定マスクを走査して、前
記パターン間距離測定マスク上の対向する２点がパター
ン上にある場合に、パターン残り不良として検出するパ
ターン間距離検査回路、 とを含んで構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示すパターン残り検査装置は、（Ａ）検査対象
パターンを光電変換スキャナ１で走査し、読み出した入
力画像２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化回路３より出力される２値化画像４にあら
かじめ設定された寸法のパターン残り検出マスクをラス
タースキャンに同期して走査し、前記パターン残り検出
マスクの中心部がパターン上にあり、かつ前記パターン
残り検出マスク上のすべての点がパターン上にない場合
にパターン残り検出信号６と、して出力するパターン残
り検出回路５、 （Ｃ）パターン残り検出信号６により、前記パターン残
り検出マスクよりあらかじめ設定した寸法だけ大きいパ
ターン間距離測定マスクを走査して、前記パターン間距
離測定マスク上の対向する２点がパターン上にある場合
に、パターン残り不良信号８を出力するパターン間距離
検査回路７、 とを含んで構成される。
パターンを光電変換スキャナ１で走査し、読み出した入
力画像２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化回路３より出力される２値化画像４にあら
かじめ設定された寸法のパターン残り検出マスクをラス
タースキャンに同期して走査し、前記パターン残り検出
マスクの中心部がパターン上にあり、かつ前記パターン
残り検出マスク上のすべての点がパターン上にない場合
にパターン残り検出信号６と、して出力するパターン残
り検出回路５、 （Ｃ）パターン残り検出信号６により、前記パターン残
り検出マスクよりあらかじめ設定した寸法だけ大きいパ
ターン間距離測定マスクを走査して、前記パターン間距
離測定マスク上の対向する２点がパターン上にある場合
に、パターン残り不良信号８を出力するパターン間距離
検査回路７、 とを含んで構成される。
第２図は第１図に示すパターン残り検出回路の動作を説
明するための模式図である。
明するための模式図である。
入力２値化画像１０に対して、あらかじめ設定された寸
法のパターン残り検出マスク１６をラスタースキャンに
同期して走査し、パターン残り検出マスク１６の中心部
Ｐがパターンにあり、かつパターン残り検出マスク１６
上のすべての点がパターン上にない場合に、パターン残
りとして検出する。
法のパターン残り検出マスク１６をラスタースキャンに
同期して走査し、パターン残り検出マスク１６の中心部
Ｐがパターンにあり、かつパターン残り検出マスク１６
上のすべての点がパターン上にない場合に、パターン残
りとして検出する。
第３図は第１図に示すパターン間距離検査回路の動作を
説明するための模式図である。
説明するための模式図である。
パターン残り検出回路５で検出された位置で、パターン
残り検出マスク１６よりあらかじめ設定した寸法だけ大
きいパターン間距離測定マスク１７ （Ｃ１，Ｃ２，・
・・・・・・・・Ｃｎ）を走査して、パターン間距離測
定マスク１７上の２点ａ、ｂがともにパターン上にある
場合に、不良として検出する。
残り検出マスク１６よりあらかじめ設定した寸法だけ大
きいパターン間距離測定マスク１７ （Ｃ１，Ｃ２，・
・・・・・・・・Ｃｎ）を走査して、パターン間距離測
定マスク１７上の２点ａ、ｂがともにパターン上にある
場合に、不良として検出する。
第４図（ａ）、（ｂ）は第１図に示すパターン残り検査
装置の機能を説明するための模式図である。
装置の機能を説明するための模式図である。
第４図（ａ）において、パターン１１に挟まれたパター
ン間隔の狭い位置でのパターン残りＡ１２は、パターン
間距離測定マスクド１７上の２点ａ、ｂがともにパター
ン上にあるので不良として検出する。
ン間隔の狭い位置でのパターン残りＡ１２は、パターン
間距離測定マスクド１７上の２点ａ、ｂがともにパター
ン上にあるので不良として検出する。
第４図（ｂ）において、パターン間隔の広い位置でのパ
ターン残り８１３は、パターン間距離測定マスク１７上
の２点ａ、ｂがともにパターン上にないため不良として
検出しない。
ターン残り８１３は、パターン間距離測定マスク１７上
の２点ａ、ｂがともにパターン上にないため不良として
検出しない。
本発明のパターン残り検査装置は、真の不良のみを検出
し、不良箇所が大幅に削減され、作業者による再確認が
不要であるという効果がある。
し、不良箇所が大幅に削減され、作業者による再確認が
不要であるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１図に示すパターン残り検出回路の動作を説明するた
めの模式図、第３図は第１図に示すパターン間距離検査
回路の動作を説明するための模式図、第４図（ａ）、（
ｂ）は第１図に示すパターン残り検査装置の機能を説明
するための模式図、第５図は従来の一例を示す模式図で
ある。 １・・・・・−光電変換スキャナ、２・・−・・・入力
画像、３・・・・・・２値化回路、４・・・・・・２値
化画像、５・・・・・・パターン残り検出回路、６・・
・・・−パターン残り検出信号、７−・・・・パターン
間距離検査回路、８・・・・・・パターン残り不良信号
、１０・・−・・・２値化画像、１１・・・・・・パタ
ーン、１２・・・・・・パターン残りＡ、１３・・・・
・・パターン残りＢ、１４・・・・・・パターン残り、
１５・・・・・・中心Ｐ、１６−・−・・・パターン残
り検出マスク、１７・・・・・・パターン間距離測定マ
スク、２０・・・・−・パターン残り。
第１図に示すパターン残り検出回路の動作を説明するた
めの模式図、第３図は第１図に示すパターン間距離検査
回路の動作を説明するための模式図、第４図（ａ）、（
ｂ）は第１図に示すパターン残り検査装置の機能を説明
するための模式図、第５図は従来の一例を示す模式図で
ある。 １・・・・・−光電変換スキャナ、２・・−・・・入力
画像、３・・・・・・２値化回路、４・・・・・・２値
化画像、５・・・・・・パターン残り検出回路、６・・
・・・−パターン残り検出信号、７−・・・・パターン
間距離検査回路、８・・・・・・パターン残り不良信号
、１０・・−・・・２値化画像、１１・・・・・・パタ
ーン、１２・・・・・・パターン残りＡ、１３・・・・
・・パターン残りＢ、１４・・・・・・パターン残り、
１５・・・・・・中心Ｐ、１６−・−・・・パターン残
り検出マスク、１７・・・・・・パターン間距離測定マ
スク、２０・・・・−・パターン残り。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ａ）検査対象パターンを光電変換スキャナで走査し、
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像にあら
かじめ設定された寸法のパターン残り検出マスクをラス
タースキャンに同期して走査し、前記パターン残り検出
マスクの中心部がパターン上にあり、かつ前記パターン
残り検出マスク上のすべての点がパターン上にない場合
にパターン残りとして検出するパターン残り検出回路、 （Ｃ）前記パターン残り検出回路で検出された位置で、
前記パターン残り検出マスクよりあらかじめ設定した寸
法だけ大きいパターン間距離測定マスクを走査して、前
記パターン間距離測定マスク上の対向する２点がパター
ン上にある場合に、パターン残り不良として検出するパ
ターン間距離検査回路、 とを含むことを特徴とするパターン残り検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238488A JPH03100404A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン残り検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238488A JPH03100404A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン残り検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100404A true JPH03100404A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17030992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238488A Pending JPH03100404A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン残り検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100404A (ja) |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238488A patent/JPH03100404A/ja active Pending
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