JPH03100402A - 最小パターン幅検査装置 - Google Patents
最小パターン幅検査装置Info
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- JPH03100402A JPH03100402A JP1238490A JP23849089A JPH03100402A JP H03100402 A JPH03100402 A JP H03100402A JP 1238490 A JP1238490 A JP 1238490A JP 23849089 A JP23849089 A JP 23849089A JP H03100402 A JPH03100402 A JP H03100402A
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
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- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は最小パターン幅検査装置に関する。
従来の技術としては、例えば、「中島、稲垣。
“レーザー光によるプリント配線板用マスク自動検査シ
ステム”、精機学会自動組立専門委員会。
ステム”、精機学会自動組立専門委員会。
研究例会、Ｎｏ、８２−１講演前刷、７〜１１頁、１９
８２年」に示されるように、限定された方向の最小パタ
ーン幅検査装置がある。
８２年」に示されるように、限定された方向の最小パタ
ーン幅検査装置がある。
従来の最小パターン幅検査装置について図面を参照して
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第３図は従来の一例を示すブロック図である。
第３図に示す最小パターン幅検査装置は、検査対象パタ
ーンに対して、０．４５．９５，１３５度の各方向のパ
ターンエツジを検出し、この検出されたパターンエツジ
間の距離を求めてパターン幅不良を検出する。
ーンに対して、０．４５．９５，１３５度の各方向のパ
ターンエツジを検出し、この検出されたパターンエツジ
間の距離を求めてパターン幅不良を検出する。
上述した従来の最小パターン幅検査装置は、あらかじめ
指定した方向のみのパターン幅検査が可能であるが、こ
のためには、高精度のテーブルを使用して検査対象パタ
ーンの傾きを補正しなければならないという欠点があっ
た。
指定した方向のみのパターン幅検査が可能であるが、こ
のためには、高精度のテーブルを使用して検査対象パタ
ーンの傾きを補正しなければならないという欠点があっ
た。
本発明の最小パターン幅検査装置は、
（Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にあるかどうかを判定する円形マスク走査回
路、 （Ｃ）前記円形マスク走査回路で検出した位置で、前記
円形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、
かつ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最
小パターン幅不良として検出するパターン幅検査回路、 とを含んで構成される。
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にあるかどうかを判定する円形マスク走査回
路、 （Ｃ）前記円形マスク走査回路で検出した位置で、前記
円形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、
かつ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最
小パターン幅不良として検出するパターン幅検査回路、 とを含んで構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示す最小パターン幅検査装置は、（Ａ）測定対
象パターンを光電変換スキャナ１で走査して読み出した
入力画像２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化回路３より出力される２値化画像４に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にある場合に検査位置検出信号６を出力する
円形マスク走査回路５、 （Ｃ）円形マスク走査回路５で検出した位置で、前記円
形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、か
つ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最小
パターン幅不良として検出信号８を出力するパターン幅
検査回路７、とを含んで構成される。
象パターンを光電変換スキャナ１で走査して読み出した
入力画像２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化回路３より出力される２値化画像４に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にある場合に検査位置検出信号６を出力する
円形マスク走査回路５、 （Ｃ）円形マスク走査回路５で検出した位置で、前記円
形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、か
つ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最小
パターン幅不良として検出信号８を出力するパターン幅
検査回路７、とを含んで構成される。
第２図は第１図に示すパターン幅検査回路の動作を説明
するための模式図である。
するための模式図である。
検査位置Ａ１２でパターン１１に対して、あらかじめ設
定した直径の円形マスク１３を走査すると、円形マスク
１３の向い合う２点ａ、ｂがともにパターン１１上にあ
り、かつ、これに直交する２点ｄ、ｅもパターン１１上
にあるので、パターン幅不良として検出しない。
定した直径の円形マスク１３を走査すると、円形マスク
１３の向い合う２点ａ、ｂがともにパターン１１上にあ
り、かつ、これに直交する２点ｄ、ｅもパターン１１上
にあるので、パターン幅不良として検出しない。
しかしながら、検査位置Ｂ１４ではパターン１１に対し
て円形マスク１５を走査すると、円形マスク１５の向い
合う２点ｇ、ｈがともにパターン１１上にあり、かつ、
これに直交する２点ｊ、にはパターン１１上にないので
、パターン幅不良として検出する。
て円形マスク１５を走査すると、円形マスク１５の向い
合う２点ｇ、ｈがともにパターン１１上にあり、かつ、
これに直交する２点ｊ、にはパターン１１上にないので
、パターン幅不良として検出する。
本発明の最小パターン幅検査装置は、限定された方向に
対するパターン幅を算出する代りに、あらかしめ設定し
た直径の円形マスクを走査してパターン幅検査を行なっ
ているので、検査対象パターンの傾きを補正することな
く検査ができるという効果がある。
対するパターン幅を算出する代りに、あらかしめ設定し
た直径の円形マスクを走査してパターン幅検査を行なっ
ているので、検査対象パターンの傾きを補正することな
く検査ができるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１図に示すパターン幅検査回路の動作を説明するため
の模式図、第３図は従来の一例を示すブロック図である
。 １・・・・・・光電変換スキャナ、２・−・・・・入力
画像信号、３・・・・・・２値化回路、４・・・・・・
２値化画像、５・・・・・・円形マスク走査回路、６・
・・・・・位置検出信号、７・・・・・・パターン幅検
査回路、８・・・・・・欠陥信号、１１・・・・・・パ
ターン、１２・・・・・・検査位ＷＡ、１３・・・・・
−円形マスク、１４・・・・・・検査位置Ｂ、１５・・
・・・・円形マスク。
第１図に示すパターン幅検査回路の動作を説明するため
の模式図、第３図は従来の一例を示すブロック図である
。 １・・・・・・光電変換スキャナ、２・−・・・・入力
画像信号、３・・・・・・２値化回路、４・・・・・・
２値化画像、５・・・・・・円形マスク走査回路、６・
・・・・・位置検出信号、７・・・・・・パターン幅検
査回路、８・・・・・・欠陥信号、１１・・・・・・パ
ターン、１２・・・・・・検査位ＷＡ、１３・・・・・
−円形マスク、１４・・・・・・検査位置Ｂ、１５・・
・・・・円形マスク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にあるかどうかを判定する円形マスク走査回
路、 （Ｃ）前記円形マスク走査回路で検出した位置で、前記
円形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、
かつ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最
小パターン幅不良として検出するパターン幅検査回路、 とを含むことを特徴とする最小パターン幅検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238490A JPH0726812B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 最小パターン幅検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238490A JPH0726812B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 最小パターン幅検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100402A true JPH03100402A (ja) | 1991-04-25 |
| JPH0726812B2 JPH0726812B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=17031022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238490A Expired - Lifetime JPH0726812B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 最小パターン幅検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726812B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62102104A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-12 | Fujitsu Ltd | 印刷パタ−ンの欠陥検出方法 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238490A patent/JPH0726812B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62102104A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-12 | Fujitsu Ltd | 印刷パタ−ンの欠陥検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0726812B2 (ja) | 1995-03-29 |
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Legal Events
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