JPS6043657B2 - 物体状態検査方法 - Google Patents
物体状態検査方法Info
- Publication number
- JPS6043657B2 JPS6043657B2 JP50101208A JP10120875A JPS6043657B2 JP S6043657 B2 JPS6043657 B2 JP S6043657B2 JP 50101208 A JP50101208 A JP 50101208A JP 10120875 A JP10120875 A JP 10120875A JP S6043657 B2 JPS6043657 B2 JP S6043657B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- electrical signals
- converted
- defect
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は物体の平面でその欠陥状態を検査する方法に
関するもので、主として光学的エッチングの際にフォト
レジストの部分的露出に使用するフォトマスクの外観検
査装置を対象とする。
関するもので、主として光学的エッチングの際にフォト
レジストの部分的露出に使用するフォトマスクの外観検
査装置を対象とする。
上記フォトマスクは一般にガラス板の一主面にクロム
等によるマスクパターンを形成したものであるが、かか
るフォトマスクの欠陥を検出する方法として、２枚の同
じ形のマスクパターンをならべてそれらの明暗をフォト
ダイオードアレーでそれぞれ電気信号に変換し、２次元
的な““１’’（明）、゛’０’’（暗）の画像として
電気的メモリ上に再現し、それぞれのメモリ画像を処理
し得る結果を比較し、両者間にパターンの不一致があれ
ばパターンに欠陥があると判定する方法がある。
等によるマスクパターンを形成したものであるが、かか
るフォトマスクの欠陥を検出する方法として、２枚の同
じ形のマスクパターンをならべてそれらの明暗をフォト
ダイオードアレーでそれぞれ電気信号に変換し、２次元
的な““１’’（明）、゛’０’’（暗）の画像として
電気的メモリ上に再現し、それぞれのメモリ画像を処理
し得る結果を比較し、両者間にパターンの不一致があれ
ばパターンに欠陥があると判定する方法がある。
この方法は、１方のマスクのある部分を検出している
ときは、必ずその部分に対応した他方のマスクの部分を
同時に検出することが必要で、２つのマスク相互間の位
置関係にずれがあると、欠陥がないにも拘らず不一致信
号が出て欠陥と誤判定されることになる。 そのために
は、２枚のマスクの位置合せを正確にして行わなければ
ならないが、しカルこれは極めて困難で、どうしても２
μ程度の位置ずれが生じ、そのため欠陥がないのに欠陥
があると判定されるのを防止することができなかつた。
ときは、必ずその部分に対応した他方のマスクの部分を
同時に検出することが必要で、２つのマスク相互間の位
置関係にずれがあると、欠陥がないにも拘らず不一致信
号が出て欠陥と誤判定されることになる。 そのために
は、２枚のマスクの位置合せを正確にして行わなければ
ならないが、しカルこれは極めて困難で、どうしても２
μ程度の位置ずれが生じ、そのため欠陥がないのに欠陥
があると判定されるのを防止することができなかつた。
従つて本発明の目的は位置ずれのない状態で欠陥の検
出を行うようにすることにある。
出を行うようにすることにある。
上記目的を達成するための本発明の要旨は、同一形状
を有する第１のパターンとの対応する所定箇所を電気信
号に変換し、これら変換された電気信号を比較すること
により第１のパターン又は、第２のパターンの欠陥を検
出する物体状態検査方法であつて、第１のパターンの複
数箇所をそれぞれ第１の電気信号に変換し、上記第１の
パターンの複数箇所に対応する第２のパターンの複数箇
所をそれぞれ第２の電気信号に変換し、上記変換された
第１のパターンの複数の第１の電気信号と第２のパター
ンの複数の第２の電気信号とを各々比較して複数の第３
の電気信号を得て、その後上記複数の第３の電気信号を
互いに比較することによつて上記第１のパターンと第２
のパターンの比較時の重ね合せエラーを検出し、上記重
ね合せエラーを修正した状態で上記第１のパターン又は
第２のパターンの欠陥を検出することを特徴とする物体
状態検査方法にある。
を有する第１のパターンとの対応する所定箇所を電気信
号に変換し、これら変換された電気信号を比較すること
により第１のパターン又は、第２のパターンの欠陥を検
出する物体状態検査方法であつて、第１のパターンの複
数箇所をそれぞれ第１の電気信号に変換し、上記第１の
パターンの複数箇所に対応する第２のパターンの複数箇
所をそれぞれ第２の電気信号に変換し、上記変換された
第１のパターンの複数の第１の電気信号と第２のパター
ンの複数の第２の電気信号とを各々比較して複数の第３
の電気信号を得て、その後上記複数の第３の電気信号を
互いに比較することによつて上記第１のパターンと第２
のパターンの比較時の重ね合せエラーを検出し、上記重
ね合せエラーを修正した状態で上記第１のパターン又は
第２のパターンの欠陥を検出することを特徴とする物体
状態検査方法にある。
以下本発明を図示した実施例により説明する。
第１図を参照し、台１上にマスクＭ，Ｎを載置した状態
で、そのマスクの下方から水銀灯による光を照射し、そ
の明暗像を上方から拡大レンズ２を介してフォトダイオ
ードアレイＰＤＡ（Ｍ），（Ｎ）上に結像する。ＰＤＡ
にはマスクパターンのない部分力じ明ョに、ある部分が
１暗ョとして結像される。
で、そのマスクの下方から水銀灯による光を照射し、そ
の明暗像を上方から拡大レンズ２を介してフォトダイオ
ードアレイＰＤＡ（Ｍ），（Ｎ）上に結像する。ＰＤＡ
にはマスクパターンのない部分力じ明ョに、ある部分が
１暗ョとして結像される。
そしてこの光学的な明と暗とをＰＤＡにおいて電気信号
に変換し、さらに明に相当する信号を゜゜１゛に、暗に
相当する信号を“゜０゛になるように信号を２値化し、
メモリに順次記憶する。第２図はパターン部（黒く塗り
つぶした部分）附近と、その部分に対応する信号状態及
び、同時に検出した検出結果を比較回路３で比較して欠
陥を検出せんとするところを示すものである。
に変換し、さらに明に相当する信号を゜゜１゛に、暗に
相当する信号を“゜０゛になるように信号を２値化し、
メモリに順次記憶する。第２図はパターン部（黒く塗り
つぶした部分）附近と、その部分に対応する信号状態及
び、同時に検出した検出結果を比較回路３で比較して欠
陥を検出せんとするところを示すものである。
しかるに、マスクＭとマスクＮの位置関係が２ビット分
ずれているので、かかる位置ずれ（比較する段階での重
ね合せエラー）に基づいて不一致信号が生じている。こ
の信号を処理し、第３図に示すように一方のＰＤＡを保
持する保持部５のｘ（又はＹ方向）移動用パルスモータ
ＰＭにフィードバックしずれを修正するようにする。こ
のように、位置ずれを修正した状態で本来の欠陥の測定
を行えば、位置ずれによる誤判定をなくすことができる
。なお、不一致信号が検出された場合、その不一致信号
が位置ずれに基づくのか、あるいは欠陥５に基づくかを
判断する必要がある。
ずれているので、かかる位置ずれ（比較する段階での重
ね合せエラー）に基づいて不一致信号が生じている。こ
の信号を処理し、第３図に示すように一方のＰＤＡを保
持する保持部５のｘ（又はＹ方向）移動用パルスモータ
ＰＭにフィードバックしずれを修正するようにする。こ
のように、位置ずれを修正した状態で本来の欠陥の測定
を行えば、位置ずれによる誤判定をなくすことができる
。なお、不一致信号が検出された場合、その不一致信号
が位置ずれに基づくのか、あるいは欠陥５に基づくかを
判断する必要がある。
元来、欠陥の大きさは本体２乃至３μ程度であり、それ
以上のものはほとんどない。
以上のものはほとんどない。
したがつて、もし、不一致信号が生じた場合測定した部
分と上方に１〜３μ程度離れた部分と下方に１〜３μ程
度離れた部分を測定するようにし、その３回の検出結果
を比較し、もし、結果に相違がなかつた場合は、欠陥に
よらず位置ずれによると判断し、位置修正機構を動作さ
せる。また、検出結果に相違があつた場合は、それは欠
陥があることと判定することができる。第４図はパター
ンと該部における検出信号の比較結果を示すものでａは
位置ずれがあつた場合を、ｂは欠陥５があつた場合をそ
れぞれ示す。
分と上方に１〜３μ程度離れた部分と下方に１〜３μ程
度離れた部分を測定するようにし、その３回の検出結果
を比較し、もし、結果に相違がなかつた場合は、欠陥に
よらず位置ずれによると判断し、位置修正機構を動作さ
せる。また、検出結果に相違があつた場合は、それは欠
陥があることと判定することができる。第４図はパター
ンと該部における検出信号の比較結果を示すものでａは
位置ずれがあつた場合を、ｂは欠陥５があつた場合をそ
れぞれ示す。
このように本発明によれば、常に位置ずれを検出し、修
正した状態で測定できるので、位置ずれによる誤判定を
生じることを防止することができるのである。なお、本
発明は前記実施例に限定されず、例えば位置ずれ信号を
フィードバックして修正する方法として、一方のフォト
ダイオードアレイを動かす方法、あるいは一方の被測定
マスクを動かす方法のほか、機械的手段を用いず画像記
憶メモリそのものをシフトして重ね合せエラーをなくす
ことも考えられる。
正した状態で測定できるので、位置ずれによる誤判定を
生じることを防止することができるのである。なお、本
発明は前記実施例に限定されず、例えば位置ずれ信号を
フィードバックして修正する方法として、一方のフォト
ダイオードアレイを動かす方法、あるいは一方の被測定
マスクを動かす方法のほか、機械的手段を用いず画像記
憶メモリそのものをシフトして重ね合せエラーをなくす
ことも考えられる。
本発明はパターン認識をする物体状態検査一般に適用す
ることができる。
ることができる。
第１図はマスクからの光をフォトダイオードアレイ上に
結像している状態を示す説明図、第２図はパターンとそ
の部分に対応する信号状態及び信号の比較結果について
の説明図、第３図は一方の検出部における被検査マスク
とフォトダイオードアレイ保持を示す斜視図、第４図Ａ
，ｂはパターン部とそれに対応する検出信号の比較結果
を示す説明図で、ａは位置ずれのある場合、ｂは欠陥の
ある場合を示す。 １・・・・・・マスク保持台、２・・・・・・拡大用レ
ンズ、３・・・・比較部、４・・・・・・ＰＤＡ保持部
、５・・・・・・欠陥、ＰＤＡ・・・・・・フォトダイ
オードアレイ、Ｍ，Ｎ・・・・マスク、Ｘ（Ｙ）−ＰＭ
・・・・・・Ｘ（Ｙ）方向移動用パルスモータ。
結像している状態を示す説明図、第２図はパターンとそ
の部分に対応する信号状態及び信号の比較結果について
の説明図、第３図は一方の検出部における被検査マスク
とフォトダイオードアレイ保持を示す斜視図、第４図Ａ
，ｂはパターン部とそれに対応する検出信号の比較結果
を示す説明図で、ａは位置ずれのある場合、ｂは欠陥の
ある場合を示す。 １・・・・・・マスク保持台、２・・・・・・拡大用レ
ンズ、３・・・・比較部、４・・・・・・ＰＤＡ保持部
、５・・・・・・欠陥、ＰＤＡ・・・・・・フォトダイ
オードアレイ、Ｍ，Ｎ・・・・マスク、Ｘ（Ｙ）−ＰＭ
・・・・・・Ｘ（Ｙ）方向移動用パルスモータ。
Claims (1)
- １ 同一形状を有する第１のパターンと第２のパターン
との対応する所定箇所を電気信号に変換し、これら変換
された電気信号を比較することにより第１のパターン又
は、第２のパターンの欠陥を検出する物体状態検査方法
であつて、第１のパターンの複数箇所をそれぞれ第１の
電気信号に変換し、上記第１のパターンの複数箇所に対
応する第２のパターンの複数箇所をそれぞれ第２の電気
信号に変換し、上記変換された第１のパターンの複数の
第１の電気信号と第２のパターンの複数の第２の電気信
号とを各々比較して複数の第３の電気信号を得て、その
後上記複数の第３の電気信号を互いに比較することによ
つて上記第１のパターンと第２のパターンの比較時の重
ね合せエラーを検出し、上記重ね合せエラーを修正した
状態で上記第１のパターン又は第２のパターンの欠陥を
検出することを特徴とする物体状態検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50101208A JPS6043657B2 (ja) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | 物体状態検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50101208A JPS6043657B2 (ja) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | 物体状態検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5225575A JPS5225575A (en) | 1977-02-25 |
| JPS6043657B2 true JPS6043657B2 (ja) | 1985-09-30 |
Family
ID=14294493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50101208A Expired JPS6043657B2 (ja) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | 物体状態検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6043657B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS542074A (en) * | 1977-06-07 | 1979-01-09 | Canon Inc | Alignment unit |
| JPS54111774A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-01 | Hitachi Ltd | Inspection method of mask and its unit |
| JPS5648631A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Hitachi Ltd | Photomask inspecting apparatus |
| JPS57194304A (en) * | 1981-05-27 | 1982-11-29 | Hitachi Ltd | Inspecting method for circuit pattern |
| JPS5821111A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-07 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | パタ−ン検査用の位置合わせ装置 |
| JPS5860538A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-04-11 | Fujitsu Ltd | パタ−ン検査方法 |
| JPS5987607U (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-13 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | 相互比較方式パタ−ン検査機の位置合せ装置 |
| JPS59132129A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-07-30 | Hitachi Ltd | 欠陥検査装置 |
| JPS59157505A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-06 | Hitachi Ltd | パタ−ン検査装置 |
| JPS59171808A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Takaharu Miyazaki | 輝度信号比較判別方法 |
| JPH0448454Y2 (ja) * | 1986-03-19 | 1992-11-16 |
-
1975
- 1975-08-22 JP JP50101208A patent/JPS6043657B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5225575A (en) | 1977-02-25 |
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